JP4845452B2 - 試料観察方法、及び荷電粒子線装置 - Google Patents
試料観察方法、及び荷電粒子線装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4845452B2 JP4845452B2 JP2005246984A JP2005246984A JP4845452B2 JP 4845452 B2 JP4845452 B2 JP 4845452B2 JP 2005246984 A JP2005246984 A JP 2005246984A JP 2005246984 A JP2005246984 A JP 2005246984A JP 4845452 B2 JP4845452 B2 JP 4845452B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- charged particle
- particle beam
- image
- observation method
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
(b)次に、試料片の一部を階段状または斜めに加工し、試料厚さの異なる部位を作製する。(c)次に、試料表面または試料内部の構造を観察し、連続する構造体が同一直線状に並ぶように試料を傾斜または回転する。(d)その結果、試料加工装置または試料観察装置において試料を正確に水平度調整することが可能になる。
L2を最小の値L1に近づけるように試料を回転または傾斜することで、試料の水平度調整が可能である。また、連続的な構造体の他に、規則的に点在した構造体3を持つ試料でも同様の調整が可能である。
23が備えられ、イオンビーム24をコントロールするように制御される。電子ビーム光学系61にも同様に、電子源27,集束レンズ29、及び走査偏向器30が備えられ、電子ビーム38をコントロールするよう制御される。
(S0007)にとって最適な角度となる。なお、本例の場合、プローブを必要以上に、回転させると、連続的な構造体8の奥行き部分が、試料1の下部に隠れてしまうため、一旦最小値を確認した後、傾斜角を戻すことによって、回転角の変化に対する寸法値の変化が止まった角度(電子ビームと連続的な構造体の長手方向がちょうど並行になる角度)を正確に把握するようにしても良い。
44とは別のステージを設け、切り出した微小試料をその別のステージに載せ、当該別のステージを傾斜させることによって、上記のような水平度調整を行うようにしても良い。また、試料台44に傾斜機構を設け、同様のことをしても良い。
Claims (2)
- 荷電粒子線を走査して得られた画像に基づいて試料の観察を行う試料観察方法において、
前記試料が連続する構造体を持ち、前記試料の透過像を観察した場合、前記荷電粒子線を発生する荷電粒子源から見て、前記試料の厚さの異なる部位を作製し、前記厚さの厚い領域の手前の部分から奥行き部分まで、跨って形成される前記構造体の幅を最小の値に近づけるように、前記試料を傾斜又は回転することを特徴とする試料観察方法。 - 荷電粒子源と、当該荷電粒子源から放出される荷電粒子線を走査する走査偏向器と、前記荷電粒子線に対して試料を傾斜させる試料傾斜機構、あるいは前記試料を回転させる試料回転機構の少なくともいずれかと、前記試料から放出された荷電粒子に基づいて、前記試料の透過像を形成する制御装置を備えた荷電粒子線装置において、
前記試料が連続する構造体を持ち、前記試料の透過像を観察した場合、前記制御装置は、前記荷電粒子源側から見て、前記試料の厚さの異なる部位を作製し、前記厚さの厚い領域の手前の部位から奥行き部分に跨って形成される前記構造体の幅を最小の値に近づけるように、前記試料傾斜機構、或いは前記試料回転機構を制御することを特徴とする荷電粒子線装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005246984A JP4845452B2 (ja) | 2005-08-29 | 2005-08-29 | 試料観察方法、及び荷電粒子線装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005246984A JP4845452B2 (ja) | 2005-08-29 | 2005-08-29 | 試料観察方法、及び荷電粒子線装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007066527A JP2007066527A (ja) | 2007-03-15 |
JP4845452B2 true JP4845452B2 (ja) | 2011-12-28 |
Family
ID=37928504
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005246984A Active JP4845452B2 (ja) | 2005-08-29 | 2005-08-29 | 試料観察方法、及び荷電粒子線装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4845452B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5098926B2 (ja) * | 2008-09-24 | 2012-12-12 | 富士通株式会社 | 顕微鏡用試料、その作製方法及び顕微鏡観察方法 |
JP5981744B2 (ja) | 2012-03-21 | 2016-08-31 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 試料観察方法、試料作製方法及び荷電粒子ビーム装置 |
CN110031403B (zh) * | 2019-04-04 | 2020-03-31 | 山东大学 | 一种全自动岩石标本图像采集装置及方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS588721B2 (ja) * | 1978-07-24 | 1983-02-17 | 日本電子株式会社 | 試料の膜厚測定方法 |
JP2748294B2 (ja) * | 1992-09-29 | 1998-05-06 | 株式会社日立製作所 | 走査形荷電粒子顕微鏡 |
JPH08124507A (ja) * | 1994-10-25 | 1996-05-17 | Hitachi Ltd | 試料台およびこれを用いた装置 |
JP4087243B2 (ja) * | 2002-12-19 | 2008-05-21 | 日本電子株式会社 | 透過電子顕微鏡用試料の作製方法 |
-
2005
- 2005-08-29 JP JP2005246984A patent/JP4845452B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007066527A (ja) | 2007-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9733164B2 (en) | Lamella creation method and device using fixed-angle beam and rotating sample stage | |
JP6224612B2 (ja) | 断面観察薄片の裏側薄化用の高スループットtem調製プロセスおよびハードウェア | |
KR102221931B1 (ko) | 시료에 따른 전자 회절 패턴 분석을 수행하는 방법 | |
US8642958B2 (en) | Composite charged particle beam apparatus and sample processing and observing method | |
US20170309441A1 (en) | System for orienting a sample using a diffraction pattern | |
JP2013257317A5 (ja) | ||
CN110021513B (zh) | 用于tem薄片制备的样品取向的方法 | |
US8227781B2 (en) | Variable-tilt specimen holder and method and for monitoring milling in a charged-particle instrument | |
JP6529264B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置および試料観察方法 | |
JP5309552B2 (ja) | 電子線トモグラフィ法及び電子線トモグラフィ装置 | |
JP5378185B2 (ja) | 集束イオンビーム装置、及び集束イオンビーム加工方法 | |
JP2007108105A (ja) | 電子顕微鏡用試料作製方法、集束イオンビーム装置および試料支持台 | |
JP5560246B2 (ja) | 荷電粒子線装置に用いられる標準試料,及び荷電粒子線装置に用いられる標準試料の製造方法 | |
JP6207081B2 (ja) | 集束イオンビーム装置 | |
JP2015533255A (ja) | 荷電粒子ビーム試料作製におけるカーテニングを低減させる方法およびシステム | |
JP4845452B2 (ja) | 試料観察方法、及び荷電粒子線装置 | |
US11087953B2 (en) | Moveable detector | |
CN111065907B (zh) | 试样制造装置以及试样片的制造方法 | |
JP3106846U (ja) | 荷電粒子線装置用試料ホールダ | |
JP3684943B2 (ja) | ビーム走査形検査装置 | |
JP6487294B2 (ja) | 複合荷電粒子ビーム装置 | |
JP5500868B2 (ja) | 走査電子顕微鏡、および走査電子顕微鏡における像表示方法 | |
JP2008262921A (ja) | 3次元構造観察用試料作製装置、電子顕微鏡及びその方法 | |
JP2006250630A (ja) | 光電子顕微鏡 | |
JPH01206551A (ja) | 表面分析装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080421 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080421 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101028 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101102 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101228 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110913 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111011 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141021 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4845452 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |