JP6134145B2 - 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法 - Google Patents
荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6134145B2 JP6134145B2 JP2013011241A JP2013011241A JP6134145B2 JP 6134145 B2 JP6134145 B2 JP 6134145B2 JP 2013011241 A JP2013011241 A JP 2013011241A JP 2013011241 A JP2013011241 A JP 2013011241A JP 6134145 B2 JP6134145 B2 JP 6134145B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charged particle
- particle beam
- trajectory
- deflector
- optical element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
- H01J37/1478—Beam tilting means, i.e. for stereoscopy or for beam channelling
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
- H01J2237/1506—Tilting or rocking beam around an axis substantially at an angle to optical axis
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
- H01J2237/1506—Tilting or rocking beam around an axis substantially at an angle to optical axis
- H01J2237/1507—Tilting or rocking beam around an axis substantially at an angle to optical axis dynamically, e.g. to obtain same impinging angle on whole area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/22—Treatment of data
- H01J2237/221—Image processing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/28—Scanning microscopes
- H01J2237/2803—Scanning microscopes characterised by the imaging method
- H01J2237/2806—Secondary charged particle
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/22—Optical or photographic arrangements associated with the tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/22—Optical or photographic arrangements associated with the tube
- H01J37/222—Image processing arrangements associated with the tube
Description
図1は、第1実施例に係る荷電粒子線装置の光学系の構成概略図である。まず、一次電子が試料に対して垂直に入射する際の動作を説明する。
図2は、本発明の第2実施例に係る荷電粒子線装置の構成概略図である。図2において、図1と同じ要素には同じ番号を付しており、以下で説明される構成要素以外の構成要素は、図1と同様の構成である。
図3は、本発明の第3実施例に係る軌道モニタユニットの構成概略図である。本実施例では、第2実施例で示した構成を実現する最も好適な例を説明する。
図4は、本発明の第4実施例に係る軌道モニタユニットの構成概略図である。本実施例では、軌道モニタユニットを従来の収差補正器(例えば、特許文献3及び特許文献4)に適用する場合を説明する。
次に、第1実施例における軌道修正の流れを説明する。図5は、第1実施例における軌道修正のフローチャートである。
次に、第4実施例における軌道修正の流れを説明する。図8は、第4実施例における軌道修正のフローチャートである。
02 第1陽極
03 第2陽極
04 コンデンサレンズ
05 対物可動絞り
06 コンデンサレンズ
07 非点補正器
08 収差制御用偏向器
09 収差補正用レンズ
10 軌道修正用偏向器
11 傾斜用偏向器
12 軌道モニタ用レンズ
13 走査用偏向器
14 対物レンズ
15 試料
16 光軸
30 軌道
31 軌道
32 軌道
33 軌道
34 軌道
35 軌道
40 直交電磁界発生装置(EXB)
41 反射板
42 検出器
100 高圧制御部
101 コンデンサレンズ制御部
102 偏向器制御部
103 収差補正用レンズ制御部
104 偏向器制御部
105 モニタ用レンズ制御部
106 偏向器制御部
107 偏向器制御部
108 非点補正器制御部
109 対物レンズ制御部
110 ステージ制御部
111 光学系制御部
112 画像表示部
113 偏向器動作記録部
114 レンズ動作記録部
115 軌道演算部
116 電圧/電流制御部
201 高圧条件設定部
202 レンズ条件設定部
203 偏向器条件設定部
211a 偏向器
211b 偏向器
211c 偏向器
211d 偏向器
220 偏向ユニット
301 上段側軌道修正用偏向器
302 上段側軌道モニタ用レンズ
303 下段側軌道修正用偏向器
304 下段側軌道モニタ用レンズ
305 収差補正器
306 軌道
Claims (11)
- 一次荷電粒子線を供給するための荷電粒子源と、
前記一次荷電粒子線の集束角度と集束位置を制御するためのコンデンサレンズと、
前記一次荷電粒子線を試料上に集束させるための対物レンズと、
前記一次荷電粒子線を前記試料上において走査させるための走査手段と、
前記試料から発生する荷電粒子を検出する検出手段と、
前記検出手段からの信号に基づいて試料像を生成する画像処理手段と、
前記対物レンズの上方に配置され、レンズ作用を有する光学要素と、前記光学要素の上方に配置された軌道修正用偏向器とを備える軌道モニタユニットと、
前記光学要素の印加電圧及び励磁電流を各々時間的に変化させる第1制御モードと、前記対物レンズの励磁電流を時間的に変化させる第2制御モードとを備える制御部と、
前記第1制御モード及び前記第2制御モードにおいて前記試料像の画像移動量が0になるように前記軌道修正用偏向器の印加電圧及び励磁電流を調整する電圧/電流制御部と
を備え、
前記第1制御モードにおける前記画像移動量は、前記光学要素の前記印加電圧及び前記励磁電流の時間的変化により生じる画像の移動量であり、
前記第2制御モードにおける前記画像移動量は、前記対物レンズの前記励磁電流の時間的変化により生じる画像の移動量であり、
前記光学要素の前記印加電圧及び前記励磁電流は、前記一次荷電粒子線の軌道修正後に0に設定されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記光学要素は、レンズ作用を有する1つの光学要素であり、前記軌道修正用偏向器は、2つの偏向器から構成され、
前記2つの偏向器のうち一方の偏向器と前記光学要素は、同じ高さに配置され且つ前記一方の偏向器の中心と前記光学要素の中心とが一致するように配置され、
前記2つの偏向器のうち他方の偏向器が、前記一方の偏向器及び前記光学要素の上方に配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項2に記載の荷電粒子線装置において、
前記光学要素は、磁界型もしくは電界型の4つの極子を備え、前記一方の偏向器の軌道修正機能も兼ね備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記光学要素の前記印加電圧及び前記励磁電流は、前記軌道修正用偏向器により前記一次荷電粒子線が前記光学要素の中心を通過する軌道に修正された後に0に設定されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記一次荷電粒子線の傾斜時の前記対物レンズの収差を補正するための収差補正用レンズと、
前記収差補正用レンズの軸外に前記一次荷電粒子線を通過させるための偏向器と、
を更に備え、
前記光学要素は、前記光学要素の中心が前記対物レンズの物点と一致するように配置され、
前記軌道モニタユニットが、前記収差補正用レンズの球面収差による軌道の変化を修正することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項5に記載の荷電粒子線装置において、
前記軌道モニタユニットは、前記一次荷電粒子線の軌道を前記対物レンズの前記物点と前記対物レンズの中心の2点を結ぶ軌道にすることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記電圧/電流制御部によって調整された前記軌道修正用偏向器の前記印加電圧及び前記励磁電流を記録する記録部と、
前記記録部に記録された前記軌道修正用偏向器の前記印加電圧及び前記励磁電流を用いて前記一次荷電粒子線の軌道を演算する軌道演算部と、
を更に備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 一次荷電粒子線を供給するための荷電粒子源と、
前記一次荷電粒子線の集束角度と集束位置を制御するためのコンデンサレンズと、
前記一次荷電粒子線を試料上に集束させるための対物レンズと、
前記一次荷電粒子線を前記試料上において走査させるための走査手段と、
前記試料から発生する荷電粒子を検出する検出手段と、
前記検出手段からの信号に基づいて試料像を生成する画像処理手段とを備える荷電粒子線装置において、
前記荷電粒子線装置の光学系の収差を補正するための収差補正器と、
前記収差補正器の上方に配置された、軌道修正用偏向器としての上側偏向器及び下側偏向器と、
前記収差補正器の上方に配置された、上側光学要素及び下側光学要素と、
前記上側光学要素の印加電圧及び励磁電流を各々時間的に変化させる第3制御モードと、前記下側光学要素の印加電圧及び励磁電流を各々時間的に変化させる第4制御モードとを備える制御部と、
前記第3制御モードにおいて前記試料像の画像移動量が0になるように前記上側偏向器の前記印加電圧及び前記励磁電流を調整し、前記第4制御モードにおいて前記試料像の画像移動量が0になるように前記下側偏向器の前記印加電圧及び前記励磁電流を調整する電圧/電流制御部と
を備え、
前記下側偏向器と前記上側光学要素は、同じ高さに配置され且つ前記下側偏向器の中心と前記上側光学要素の中心が一致するように配置されており、
前記第3制御モードにおける前記画像移動量は、前記上側光学要素の前記印加電圧及び前記励磁電流の時間的変化により生じる画像の移動量であり、
前記第4制御モードにおける前記画像移動量は、前記下側光学要素の前記印加電圧及び前記励磁電流の時間的変化により生じる画像の移動量であることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項8に記載の荷電粒子線装置において、
前記上側光学要素の前記印加電圧及び前記励磁電流が、前記一次荷電粒子線の軌道修正後に0に設定されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項8に記載の荷電粒子線装置において、
前記上側光学要素の中心と前記下側光学要素の中心の2点を結ぶ軌道に修正することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 一次荷電粒子線を供給するための荷電粒子源と、
前記一次荷電粒子線の集束角度と集束位置を制御するためのコンデンサレンズと、
前記一次荷電粒子線を試料上に集束させるための対物レンズと、
前記一次荷電粒子線を前記試料上において走査させるための走査手段と、
前記試料から発生する荷電粒子を検出する検出手段と、
前記検出手段からの信号に基づいて試料像を生成する画像処理手段と、
前記対物レンズの上方に配置され、レンズ作用を有する光学要素と、前記光学要素の上方に配置された軌道修正用偏向器とを備える軌道モニタユニットと、を備える荷電粒子線装置における軌道修正方法であって、
前記光学要素の印加電圧及び励磁電流を各々時間的に変化させる第1制御モードにおいて前記試料像の画像移動量が0になるように前記軌道修正用偏向器の印加電圧及び励磁電流を調整するステップと、
前記光学要素の印加電圧及び励磁電流を0に設定するステップと、
前記対物レンズの励磁電流を時間的に変化させる第2制御モードにおいて前記試料像の画像移動量が0になるように前記軌道修正用偏向器の印加電圧及び励磁電流を調整するステップと、
を備え、
前記第1制御モードにおける前記画像移動量は、前記光学要素の前記印加電圧及び前記励磁電流の時間的変化により生じる画像の移動量であり、
前記第2制御モードにおける前記画像移動量は、前記対物レンズの前記励磁電流の時間的変化により生じる画像の移動量であることを特徴とする荷電粒子線装置の軌道修正方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013011241A JP6134145B2 (ja) | 2013-01-24 | 2013-01-24 | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法 |
US14/760,053 US9484181B2 (en) | 2013-01-24 | 2014-01-21 | Charged particle beam apparatus and trajectory correction method in charged particle beam apparatus |
PCT/JP2014/051070 WO2014115708A1 (ja) | 2013-01-24 | 2014-01-21 | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013011241A JP6134145B2 (ja) | 2013-01-24 | 2013-01-24 | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014143096A JP2014143096A (ja) | 2014-08-07 |
JP6134145B2 true JP6134145B2 (ja) | 2017-05-24 |
Family
ID=51227499
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013011241A Active JP6134145B2 (ja) | 2013-01-24 | 2013-01-24 | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9484181B2 (ja) |
JP (1) | JP6134145B2 (ja) |
WO (1) | WO2014115708A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6438780B2 (ja) * | 2015-02-02 | 2018-12-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置および収差補正方法 |
US11861716B1 (en) | 2016-10-27 | 2024-01-02 | State Farm Mutual Automobile Insurance Company | Systems and methods for utilizing electricity monitoring devices to reconstruct an electrical event |
US10157727B2 (en) * | 2017-03-02 | 2018-12-18 | Fei Company | Aberration measurement in a charged particle microscope |
KR102288146B1 (ko) | 2017-03-06 | 2021-08-11 | 주식회사 히타치하이테크 | 하전입자선 장치 |
JP6932050B2 (ja) * | 2017-09-01 | 2021-09-08 | 株式会社日立ハイテク | 走査電子顕微鏡 |
DE102017220398B3 (de) * | 2017-11-15 | 2019-02-28 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Verfahren zum Justieren eines Teilchenstrahlmikroskops |
US11508551B2 (en) | 2018-12-14 | 2022-11-22 | Kla Corporation | Detection and correction of system responses in real-time |
JP6737539B2 (ja) * | 2019-02-25 | 2020-08-12 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置 |
JP2020149767A (ja) | 2019-03-11 | 2020-09-17 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0233843A (ja) | 1988-07-25 | 1990-02-05 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JP3985057B2 (ja) * | 1996-05-21 | 2007-10-03 | エフ イー アイ カンパニ | 粒子光学機器のレンズ収差補正用補正装置 |
DE69939309D1 (de) * | 1999-03-31 | 2008-09-25 | Advantest Corp | Teilchenstrahlgerät zur schrägen Beobachtung einer Probe |
US6614026B1 (en) | 1999-04-15 | 2003-09-02 | Applied Materials, Inc. | Charged particle beam column |
US6864493B2 (en) | 2001-05-30 | 2005-03-08 | Hitachi, Ltd. | Charged particle beam alignment method and charged particle beam apparatus |
JP4752138B2 (ja) | 2001-05-30 | 2011-08-17 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線調整方法及び荷電粒子線装置 |
JP4383950B2 (ja) * | 2004-04-23 | 2009-12-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線調整方法、及び荷電粒子線装置 |
JP4299195B2 (ja) * | 2004-06-28 | 2009-07-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及びその光軸調整方法 |
JP4620981B2 (ja) | 2004-08-10 | 2011-01-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム装置 |
-
2013
- 2013-01-24 JP JP2013011241A patent/JP6134145B2/ja active Active
-
2014
- 2014-01-21 US US14/760,053 patent/US9484181B2/en active Active
- 2014-01-21 WO PCT/JP2014/051070 patent/WO2014115708A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2014115708A1 (ja) | 2014-07-31 |
JP2014143096A (ja) | 2014-08-07 |
US9484181B2 (en) | 2016-11-01 |
US20150357155A1 (en) | 2015-12-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6134145B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法 | |
TWI751556B (zh) | 用於以初級帶電粒子小束陣列檢查樣本的帶電粒子束裝置 | |
JP4620981B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
US7619218B2 (en) | Charged particle optical apparatus with aberration corrector | |
JP4275441B2 (ja) | 収差補正器付電子線装置 | |
JP6554288B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
WO2017002243A1 (ja) | 収差補正方法、収差補正システムおよび荷電粒子線装置 | |
WO2017018432A1 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
US8269188B2 (en) | Charged particle beam apparatus and sample processing method | |
JP5715866B2 (ja) | 多極子およびそれを用いた収差補正器または荷電粒子線装置 | |
JP6037693B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
CN108463869B (zh) | 带电粒子束装置及其光轴调整方法 | |
US9653256B2 (en) | Charged particle-beam device | |
JP4291827B2 (ja) | 走査電子顕微鏡又は測長semの調整方法 | |
JP4851268B2 (ja) | 収差補正方法および電子線装置 | |
JP5331893B2 (ja) | 走査荷電粒子線装置、及び色球面収差補正方法 | |
US20210027976A1 (en) | Beam Irradiation Device | |
NL2031161B1 (en) | Multiple particle beam microscope and associated method with fast autofocus with special embodiments | |
WO2021100172A1 (ja) | 荷電粒子線装置及び収差補正方法 | |
US20230245852A1 (en) | Multiple particle beam microscope and associated method with fast autofocus around an adjustable working distance | |
JP7051655B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP6737539B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2010251218A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2009135119A (ja) | 荷電粒子線装置の光軸調整方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151019 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161004 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161130 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170328 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170421 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6134145 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |