JP6134145B2 - 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法 - Google Patents

荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6134145B2
JP6134145B2 JP2013011241A JP2013011241A JP6134145B2 JP 6134145 B2 JP6134145 B2 JP 6134145B2 JP 2013011241 A JP2013011241 A JP 2013011241A JP 2013011241 A JP2013011241 A JP 2013011241A JP 6134145 B2 JP6134145 B2 JP 6134145B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
charged particle
particle beam
trajectory
deflector
optical element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013011241A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2014143096A (ja
Inventor
英登 土肥
英登 土肥
明 池上
明 池上
秀之 数見
秀之 数見
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi High Technologies Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi High Technologies Corp filed Critical Hitachi High Technologies Corp
Priority to JP2013011241A priority Critical patent/JP6134145B2/ja
Priority to US14/760,053 priority patent/US9484181B2/en
Priority to PCT/JP2014/051070 priority patent/WO2014115708A1/ja
Publication of JP2014143096A publication Critical patent/JP2014143096A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6134145B2 publication Critical patent/JP6134145B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/147Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
    • H01J37/1478Beam tilting means, i.e. for stereoscopy or for beam channelling
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/147Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/153Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/15Means for deflecting or directing discharge
    • H01J2237/1506Tilting or rocking beam around an axis substantially at an angle to optical axis
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/15Means for deflecting or directing discharge
    • H01J2237/1506Tilting or rocking beam around an axis substantially at an angle to optical axis
    • H01J2237/1507Tilting or rocking beam around an axis substantially at an angle to optical axis dynamically, e.g. to obtain same impinging angle on whole area
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/22Treatment of data
    • H01J2237/221Image processing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/26Electron or ion microscopes
    • H01J2237/28Scanning microscopes
    • H01J2237/2803Scanning microscopes characterised by the imaging method
    • H01J2237/2806Secondary charged particle
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/22Optical or photographic arrangements associated with the tube
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/22Optical or photographic arrangements associated with the tube
    • H01J37/222Image processing arrangements associated with the tube

Description

本発明は、荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法に関する。
走査電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope:SEM)に代表される荷電粒子線装置は、試料に対する電子ビーム等の荷電粒子線の走査によって得られる荷電粒子(二次電子等)を検出し、画像を形成する装置である。特に半導体を測定あるいは検査するSEMでは、電子線照射によって試料から発生する電子を検出することによって、試料の形状や組成を測定もしくはLSIの欠陥を検査する。
三次元デバイスの歩留まり向上のため、電子線を用いた検査装置及び測定装置では三次元観察が重要な機能として求められる。SEMでの三次元観察には、ステージを傾斜して画像を取得する方法が用いられてきた。しかしながら、試料ステージやカラムを傾斜させるには機械的動作が必要であり、スループットや傾斜角度の再現性が劣化する課題がある。
ここで、機械的に傾斜させずに三次元観察を行うには、偏向器を用いてビームを傾斜する方法が考えられる。しかし、偏向器でビームを傾斜(偏向)させると、レンズの軸外収差が発生してビーム径が増大し、特に軸外色収差と偏向コマ収差により分解能が劣化する。ビーム傾斜時に発生する軸外収差を補正するには、対物レンズで発生する各収差に対して同量の逆符号の収差を別の光学要素で作り出す必要があり、以下の方法が知られている。
特許文献1では、各レンズの印加電圧、励磁電流を変化させた時の画像上の位置ずれが0になるよう光学条件を設定することで対物レンズの軸外色収差を補正する調整方法が示されている。
また、特許文献2では、ビームを傾斜しても試料での位置ずれが生じないステレオ観察を目的とした走査型電子顕微鏡が開示されている。特許文献2では、偏向器によって曲げられる中心軌道(偏向軌道)の偏向支点とレンズの物面位置を一致させることの有効性が示されている。
また、特許文献3では、電磁多極子を用いて色分散を発生させることで、ビーム傾斜時に発生する軸外色収差を補正する方法について示されている。さらに、特許文献4では、対物レンズよりも電子源側に設置された収差補正器の物点を動かすことなくビームを傾斜することで、ビーム傾斜時に発生する色収差および球面収差を収差補正器で補正することが記載されている。
特開2006−12664号公報 特開平02−33843号公報 特開2001−15055号公報 特開2006−54074号公報 特開2002−352758号公報
特許文献1では、対物レンズ軸外でのレンズ作用を利用してビームを試料に対して傾斜させたときの軸外色収差を、対物レンズの上に配置される収差補正用レンズの軸外にビームを通過させて発生させる同量逆符号の軸外色収差で補正し、これにより、ビーム傾斜に伴う分解能劣化を抑制する。しかしながら、例えば、10度を超える大角度で高い分解能のビーム傾斜画像を取得するには、軸外色収差と偏向コマ収差を同時に補正する必要がある。
ここで、対物レンズの偏向コマ収差を補正できる偏向コマ収差を発生させるためには大きな球面収差を有する収差補正用レンズが必要となる。その収差補正用レンズの軸外にビームを通過させると偏向コマ収差が発生する。しかしながら、球面収差により、ビームの軌道が近軸軌道から変化し、対物レンズへの入射角度と通過位置が変化する。その変化は傾斜角に対して非線形に発生し、それに伴って対物レンズでの発生収差量が非線形に変化する。したがって、傾斜角毎の収差量を制御するためには、対物レンズへ入射する角度と通過位置を管理する必要があり、そのためにビーム軌道の通過位置と入射角度の管理が必要となる。なお、上述では10度を超える大角度におけるビーム傾斜について述べたが、これより小さい角度の傾斜でも、ビーム軌道のモニタ機能は、傾斜角度や分解能の再現性を高めるのに有用である。
また、特許文献2に示されるビーム傾斜時の位置ずれの低減を同時に実現するためには、対物レンズの物点が偏向支点となる傾斜軌道を実現するための軌道修正手段が必要となる。
本発明は、レンズに入射するビーム軌道のモニタ機能と、ビーム軌道の修正技術を提供する。
上記課題を解決するために、例えば特許請求の範囲に記載の構成を採用する。本願は上記課題を解決する手段を複数含んでいるが、その一例を挙げるならば、一次荷電粒子線を供給するための荷電粒子源と、前記一次荷電粒子線の集束角度と集束位置を制御するためのコンデンサレンズと、前記一次荷電粒子線を試料上に集束させるための対物レンズと、前記一次荷電粒子線を前記試料上において走査させるための走査手段と、前記試料から発生する荷電粒子を検出する検出手段と、前記検出手段からの信号に基づいて試料像を生成する画像処理手段と、前記対物レンズの上方に配置され、レンズ作用を有する光学要素と軌道修正用偏向器とを備える軌道モニタユニットと、を備え、前記光学要素の印加電圧及び励磁電流は、前記一次荷電粒子線の軌道修正後に0に設定されることを特徴とする荷電粒子線装置が提供される。
また、他の例によれば、一次荷電粒子線を供給するための荷電粒子源と、前記一次荷電粒子線の集束角度と集束位置を制御するためのコンデンサレンズと、前記一次荷電粒子線を試料上に集束させるための対物レンズと、前記一次荷電粒子線を前記試料上において走査させるための走査手段と、前記試料から発生する荷電粒子を検出する検出手段と、前記検出手段からの信号に基づいて試料像を生成する画像処理手段と、前記対物レンズの上方に配置され、レンズ作用を有する光学要素と軌道修正用偏向器とを備える軌道モニタユニットと、を備える荷電粒子線装置の軌道修正方法が提供される。当該荷電粒子線装置の軌道修正方法は、前記光学要素の印加電圧及び励磁電流を各々時間的に変化させる第1制御モードにおいて前記試料像の画像移動量が0になるように前記軌道修正用偏向器の印加電圧及び励磁電流を調整するステップと、前記光学要素の印加電圧及び励磁電流を0に設定するステップと、前記対物レンズの励磁電流を時間的に変化させる第2制御モードにおいて前記試料像の画像移動量が0になるように前記軌道修正用偏向器の印加電圧及び励磁電流を調整するステップと、を備える。
本発明によれば、レンズに入射するビーム軌道をモニタし、ビーム軌道を修正することが可能となる。
本発明に関連する更なる特徴は、本明細書の記述、添付図面から明らかになるものである。また、上記した以外の、課題、構成および効果は、以下の実施例の説明により明らかにされる。
第1実施例に係る荷電粒子線装置の光学系の構成概略図である。 第2実施例に係る荷電粒子線装置の光学系の構成概略図である。 第3実施例に係る軌道モニタユニットの構成概略図である。 第4実施例に係る軌道モニタユニットの構成概略図である。 第1実施例における軌道修正のフローチャートである。 図5のS005において画像移動量が0になった場合の一次電子の軌道を示す図である。 図5のS009において画像移動量が0になった場合の一次電子の軌道を示す図である。 第4実施例における軌道修正のフローチャートである。 光学系制御部の構成を示す図である。
以下、添付図面を参照して本発明の実施例について説明する。なお、添付図面は本発明の原理に則った具体的な実施例を示しているが、これらは本発明の理解のためのものであり、決して本発明を限定的に解釈するために用いられるものではない。
荷電粒子線装置は、電子や陽イオンなどの電荷をもつ粒子(荷電粒子)を電界で加速し、荷電粒子線を試料に照射する装置である。荷電粒子線装置は、試料と荷電粒子との相互作用を利用して、試料の観察、分析、加工などを行う。荷電粒子線装置の例として、電子顕微鏡、電子線描画装置、イオン加工装置、イオン顕微鏡などが挙げられる。本発明は、これらの荷電粒子線装置に適用可能である。
<第1実施例>
図1は、第1実施例に係る荷電粒子線装置の光学系の構成概略図である。まず、一次電子が試料に対して垂直に入射する際の動作を説明する。
陰極01と第1陽極02との間には高圧制御部100により電圧が印加され、所定のエミッション電流で一次電子(一次荷電粒子線)30が放出される。また、陰極01と第2陽極03との間には高圧制御部100により加速電圧が印加され、一次電子30は加速されて後段のレンズへ入射する。
荷電粒子線装置は、一次電子30の集束角度と集束位置を制御するための複数のコンデンサレンズ04、06を備える。一次電子30は、コンデンサレンズ制御部101により制御されるコンデンサレンズ04で光軸16上の点P1に収束され、その後、一次電子30は、対物絞り05を通過して不要な電子が除去される。その後、一次電子30は、コンデンサレンズ制御部101で制御されるコンデンサレンズ06で光軸16上の点P2に収束される。
次に、一次電子30は、収差補正用レンズ制御部103で制御される収差補正用レンズ09に入射し、光軸16上の点P3に収束される。このとき、一次電子30は、対物レンズ制御部109で制御される対物レンズ14に入射し、試料15上で収束して微小スポットを形成する。
一次電子30は、走査偏向器制御部107により制御される走査偏向器13で試料15上を平面的に走査される。一次電子30により試料15から発生する二次電子50は、対物レンズ14の上方に進行した後、二次電子分離用の直交電磁界発生装置(EXB)40により一次電子30と分離されて、反射板41に入射する。反射板41では、二次電子50から三次電子51が発生する。三次電子51は、検出器42で検出される。検出器42で検出された信号が、図示しない画像処理装置に送信され、画像処理装置は、検出器42で検出された信号に基づいて一次電子30の照射領域に対応する試料像を生成する。生成された試料像は、光学系制御部111を介して画像表示部112に表示される。なお、ステージ制御部110によって制御される図示しない試料ステージを制御して、試料15の位置を制御してもよい。
図9は、光学系制御部111の構成を示す図である。光学系制御部111は、例えば、ワークステーションやパーソナルコンピュータなどの情報処理装置である。光学系制御部111は、中央演算処理装置と、補助記憶装置と、主記憶装置と、入出力装置とを備えている。例えば、中央演算処理装置は、CPU(Central Processing Unit)などのプロセッサ(又は演算部ともいう)で構成されている。例えば、補助記憶装置はハードディスクであり、主記憶装置はメモリであり、入出力装置は、キーボード及びポインティングデバイス(マウスなど)やディスプレイ(画像表示部112)である。なお、図2では、簡単のためこれらの構成要素の描画を省略している。
光学系制御部111は、高圧条件設定部201と、レンズ条件設定部202と、偏向器条件設定部203と、偏向器動作条件記録部113と、レンズ動作条件記録部114と、軌道演算部115と、電圧/電流制御部116とを備える。ここで、各設定部201、202、203、軌道演算部115、及び、電圧/電流制御部116は、コンピュータ上で実行されるプログラムの機能として実現してもよい。すなわち、これらの構成要素で実行される処理を、プログラムコードとしてメモリに格納して、CPUが各プログラムコードを実行することによって実現されてもよい。また、これらの構成要素を例えば、集積回路で設計する等によりハードウェアで実現してもよい。なお、偏向器動作条件記録部113及びレンズ動作条件記録部114は、上述した記憶装置で実現される。
陰極01、第1陽極02及び第2陽極03への高電圧、並びに、各レンズ、各偏向器の印加電圧及び励磁電流は、それぞれ、高圧条件設定部201、レンズ条件設定部202、偏向器条件設定部203で設定される。高圧条件設定部201、レンズ条件設定部202、偏向器条件設定部203で設定された条件に従って、各制御部100〜109の動作が制御される。
次に、特許文献1に示される方法で軸外色収差を補正してビームを傾斜させる際の光学要素の動作を説明する。
偏向器制御部102で制御される収差制御用偏向器08は、その中心が点P2となるように配置されている。また、偏向器制御部106で制御される傾斜用偏向器11は、その中心が点P3と同じとなるように配置されている。このとき、収差補正用レンズ09として、大きな色収差を発生させるが、球面収差は十分小さいレンズを用いる。
一次電子は、収差制御用偏向器08で偏向され、収差補正用レンズ09の軸外を通過する。さらに、一次電子は、傾斜用偏向器11で逆方向に偏向することで対物レンズ14の軸外を通過し、試料15に対して傾斜して照射される。このとき一次電子は、軌道31をとる(なお、点P3より下の軌道は一次電子30の軌道と同様である)。この軌道31は、近軸軌道と一致する。
一方、軸外色収差に加えて偏向コマ収差を補正するために、収差補正用レンズ09として、色収差に加えて、十分大きな球面収差を持つレンズを用いた場合、一次電子は軌道32をとる。軌道32の場合、対物レンズ14の物面Z3で点P3から大きく離れた位置を通過する。以下では、この軌道31から軌道32への変化をモニタするための軌道モニタユニットの構成とそれを用いた軌道の修正方法について説明する。
本実施例の荷電粒子線装置は、軌道モニタユニットとして、軌道修正用偏向器10と、傾斜用偏向器11と、軌道モニタ用レンズ(レンズ作用を有する光学要素)12とを備える。上述したように、傾斜用偏向器11は、傾斜用偏向器11の中心が対物レンズ14の物点P3と一致するように配置される。また、軌道モニタ用レンズ12は、傾斜用偏向器11の近傍に光軸16を中心軸とするように配置される。また、軌道修正用偏向器10は、傾斜用偏向器11及び軌道モニタ用レンズ12の双方の上方に配置される。なお、軌道修正用偏向器10の印加電圧及び励磁電流は偏向器制御部104で制御され、軌道モニタ用レンズ12の印加電圧及び励磁電流はモニタ用レンズ制御部105で制御される。また、本実施例の特徴として、軌道モニタ用レンズ12の印加電圧及び励磁電流は、軌道のモニタ及び修正を行わないときには0とする。
次に軌道の修正方法について説明する。一次電子を収差制御用偏向器08で所定の角度だけ偏向して収差補正用レンズ09を通過させると、上述した通り、球面収差により一次電子が点P3を通過しない。この軌道の変化を修正するために、軌道修正用偏向器10により一次電子が軌道モニタ用レンズ12のレンズ界分布の中心である点Pを通過するように制御され、更に、軌道修正用偏向器10と傾斜用偏向器11とを用いて一次電子が対物レンズ14の中心を通過するように制御される。
その後、傾斜用偏向器11に所定の角度だけ一次電子のビームを偏向するように印加電圧及び励磁電流を重畳すると、一次電子は軌道30をとる。これにより、軌道32から軌道30へと修正され、軌道30は点P3を通過する。
次に、軌道モニタ用レンズ12の中心である点Pに一次電子を通過させる方法を説明する。まず、軌道32の状態で、軌道モニタ用レンズ12にモニタ用レンズ制御部105で制御される印加電圧及び励磁電流を与え、周期的に時間変化させる。このとき、一次電子が軌道モニタ用レンズ12の中心である点Pを通過しないため、軌道モニタ用レンズ12の軸外色収差が発生する。この収差は試料15上での一次電子到着位置を変化させる。ここで、印加電圧及び励磁電流の変化とともにその収差量が変化するため、画像表示部112に表示される試料15の画像が時間とともに移動する。
その後、偏向器制御部104で制御される軌道修正用偏向器10に印加電圧及び励磁電流を与え、一次電子の軌道を偏向して一次電子の軌道モニタ用レンズ12への入射位置を変える。ここで、画像表示部112に表示される試料15の画像の移動量が0になるように、軌道修正用偏向器10の印加電圧及び励磁電流量を調整する。この調整によって、一次電子に点Pを通過させることができる(図6の軌道33)。
次に、対物レンズ14の中心へ入射させる方法を説明する。上述の調整後に、点Pを一次電子が通過する印加電圧及び励磁電流を軌道修正用偏向器10に設定したまま、軌道モニタ用レンズ12の印加電圧及び励磁電流を0にする。その後、対物レンズ14の励磁電流を周期的に時間変化させる。一次電子が点Pから傾斜して入射するため、一次電子が対物レンズ14の軸外を通過し、軸外色収差が発生する。これにより、画像表示部112に表示される試料15の画像が時間的に移動する。
ここで、軌道修正用偏向器10と傾斜用偏向器11を2段偏向器として動作させ、その仮想偏向支点を点Pに一致させる。更に、画像移動量が0になるように軌道修正用偏向器10及び傾斜用偏向器11の印加電圧及び励磁電流を調整する。これにより、傾斜用偏向器11の中心点P3から対物レンズ14の中心に対して一次電子が入射する軌道が実現する(図7の軌道34)。その後、傾斜用偏向器11に所定の角度だけ一次電子を偏向させる印加電圧及び励磁電流を重畳させると、点P3より下方で軌道32は軌道30になる。
本実施例によれば、収差補正用レンズ09の球面収差による軌道の変化を修正し、対物レンズ14の物点P3を偏向支点として対物レンズ14へ入射する軌道が実現できる。これにより、観察位置ずれが少なく、高分解能の傾斜画像が取得できる。
また、本実施例の特徴は、軌道モニタ用レンズ12及び対物レンズ14の励磁電流変化時の画像移動量が0になるように各偏向器の印加電圧及び励磁電流を調整することにより、一次電子の軌道を対物レンズ14の物点P3と対物レンズ14の中心の2点を結ぶ軌道にすることができる点にある。この構成によれば、収差補正用レンズ09の球面収差による軌道の変化を消すことができ、軸外色収差、偏向コマ収差及び傾斜角度を自由に制御することができる。その結果、大角度傾斜に不可欠な軸外色収差と偏向コマ収差の補正が実現でき、ビーム傾斜時の位置ずれを低減することもできる。また、本実施例における軌道モニタ用レンズ12に関しては、一次電子の軌道をモニタする際にのみ動作し(ONとなる)、傾斜画像を取得する際には、印加電圧及び励磁電流を0(すなわち、OFFとなる)にするため、そのレンズ作用及び収差は分解能に影響しない。
また、本実施例によれば、ビーム軌道をモニタすることにより、小さな角度の傾斜でも傾斜角度や分解能の再現性を高めることができる。
<第2実施例>
図2は、本発明の第2実施例に係る荷電粒子線装置の構成概略図である。図2において、図1と同じ要素には同じ番号を付しており、以下で説明される構成要素以外の構成要素は、図1と同様の構成である。
本実施例では、傾斜用偏向器11及び軌道モニタ用レンズ12は、同じ高さに配置される。また、傾斜用偏向器11及び軌道モニタ用レンズ12は、対物レンズ14の物点P3に傾斜用偏向器11の偏向界分布の中心が配置され、且つ対物レンズ14の物点P3に軌道モニタ用レンズ12のレンズ界分布の中心Pが一致するように、配置される。
第1実施例の方法で軌道を修正した後に一次電子のビームを傾斜させると、一次電子は軌道35をとる。第1実施例では、軌道修正用偏向器10と傾斜用偏向器11の仮想偏向支点と軌道モニタ用レンズ12のレンズ界中心点Pの一致の精度が、軌道修正の精度を決定する。本実施例の場合は、対物レンズ14の物点P3から対物レンズ14の中心へ一次電子を入射させる際に、傾斜用偏向器11のみを使用するため、最も高精度で軌道を修正でき、一次電子のビームの傾斜時の位置ずれを防ぎつつ、収差を補正することができる。
<第3実施例>
図3は、本発明の第3実施例に係る軌道モニタユニットの構成概略図である。本実施例では、第2実施例で示した構成を実現する最も好適な例を説明する。
本実施例では、傾斜用偏向器11及び軌道モニタ用レンズ12を、4つの磁極からなる偏向ユニット220として構成する。偏向ユニット220は、4つの偏向器211a、211b、211c、211dを備える。4つの偏向器211a、211b、211c、211dのそれぞれは、コイルが巻かれた極子を備える。
本実施例では、4つの偏向器211a、211b、211c、211dの極子に巻かれるコイルに対して同じ大きさの電流を流し、且つ、互いに向かい合う偏向器のコイルでは電流を逆方向に流す。このとき、例えば、偏向器211aと偏向器211cがN極、偏向器211bと偏向器211dがS極として作用し、偏向ユニット220は、磁界型の4極子レンズとして作用する。また、互いに向かい合う偏向器のコイルに同じ向きで同じ大きさの電流を流す。このとき、例えば、偏向器211aがN極、偏向器211cがS極として作用し、偏向ユニット220は偏向器として作用する。これにより、偏向ユニット220は4極子レンズと偏向器の両方を兼ね備えたものとなる。しかも、同じ磁極、コイルを用いているため4極子界と偏向界の磁界分布の中心位置が同じとなる。
また、代替の例として、磁極の無い偏向器を用いても良い。この場合、コイルを直交する4つのブロックに分割して巻き、各ブロックに前記のように電流を加えれば同じく4極子レンズ作用が得られる。この場合、偏向器として使用する際の収差を抑制するためにコイルを鞍形に巻くことが望ましい。また、上述した磁界型の偏向ユニットに代えて、4つの電極からなる電界型の偏向ユニットを用いても良い。
本実施例では、4つの極子あるいはブロックに加える電流の方向及び電圧の極性を変えると、4極子レンズ作用と偏向作用の切り替えができる点に特徴がある。そのため、必要な電源はX方向とY方向の偏向器を動作させる2つで十分である。
<第4実施例>
図4は、本発明の第4実施例に係る軌道モニタユニットの構成概略図である。本実施例では、軌道モニタユニットを従来の収差補正器(例えば、特許文献3及び特許文献4)に適用する場合を説明する。
収差補正器に入射する電子軌道が変化した場合には補正器の調整を再度行う必要がある。特に電子銃部の真空度が低下した際に、電子銃部のベーキング処理を行う必要があり、処理の前後で電子軌道が変化することは避けられない。このような場合の調整手順を簡略化するために本発明を適用することができる。
収差補正器305は、荷電粒子線装置の光学系で生じる収差を補正するためのものである。収差補正器305の上方に2段の軌道モニタ用レンズ302、304が配置されている。更に、収差補正器305の上方に2段の軌道修正用偏向器301、303が配置されている。下段側の軌道修正用偏向器303は、上段側の軌道モニタ用レンズ302と同じ高さで、且つ上段側の軌道モニタ用レンズ302と共通の中心を有するように配置される。また、上段側の軌道修正用偏向器301は、下段側の軌道修正用偏向器303及び上段側の軌道モニタ用レンズ302の上方に配置される。
本実施例では、まず、第1実施例で示した手順に従って、一次電子306を上段側の軌道修正用偏向器301を用いて上段側の軌道モニタ用レンズ302の中心を通過させ、更に、下段側の軌道修正用偏向器303を用いて下段側の軌道モニタ用レンズ304の中心を通過させる。これにより、一次電子は軌道306をとる。その結果、上段側の軌道モニタ用レンズ302と下段側の軌道モニタ用レンズ304の中心の2点を結ぶ軌道で収差補正器305へ入射する。
本実施例によれば、上段側の軌道修正用偏向器301に入射する一次電子の軌道が変化しても、収差補正器305へ入射する軌道を修正することができる。そのため、一度収差補正器305を調整しておけば、入射軌道の変化に対して前記の軌道修正作業を行うだけでよく、収差補正器305の再調整が不要となる。したがって、収差補正器に入射する電子軌道が変化した場合の調整手順を簡略化することができる。また、本実施例で示した2段の軌道モニタ用レンズ302、304と2段の軌道修正用偏向器301、303を任意の光学要素の上に配置することで入射軌道を修正できることは言うまでもない。
<第1実施例における軌道修正処理の流れ>
次に、第1実施例における軌道修正の流れを説明する。図5は、第1実施例における軌道修正のフローチャートである。
まず、ステップS001において、コンデンサレンズ04、コンデンサレンズ06、収差補正用レンズ09、及び対物レンズ14に所定の電流及び電圧を印加し、光学条件を設定する。このとき、光学系制御部111のレンズ条件設定部202によって各レンズが制御される。
次に、ステップS002において、一次電子のビームの傾斜角度を決定し、補正用の収差を発生させる。そのため、収差制御用偏向器08の印加電圧及び励磁電流を設定し、一次電子のビームを所定の角度だけ偏向し、収差補正用レンズ09を通過させる。なお、光学系制御部111の偏向器条件設定部203によって収差制御用偏向器08が制御される。
次に、ステップS003において、軌道モニタ用レンズ12に電流及び電圧を印加し、軌道モニタ用レンズ12の印加電圧及び励磁電流を時間変化させる(第1制御モード)。このとき、光学系制御部111のレンズ条件設定部202が、モニタ用レンズ制御部105を介して軌道モニタ用レンズ12を制御する。
次に、ステップS004において、軌道修正用偏向器10の印加電圧及び励磁電流を設定し、一次電子の軌道を偏向する。このとき、光学系制御部111の偏向器条件設定部203が、偏向器制御部104を介して軌道修正用偏向器10を制御する。
次に、ステップS005において、試料15の画像の画像移動量が0になるかを判定する。画像移動量が0でなければ、ステップS004に戻り、軌道修正用偏向器10の印加電圧及び励磁電流量を変更する。画像移動量が0の場合は、画像移動量が0になる軌道修正用偏向器10の印加電圧及び励磁電流量を設定し、一次電子に点Pを通過させる。このとき一次電子は図6の軌道33をとる。なお、光学系制御部111は、画像移動量が0になる軌道修正用偏向器10の印加電圧及び励磁電流量を偏向器動作条件記録部113に記録する。
ステップS004における軌道修正用偏向器10の印加電圧及び励磁電流量の設定と、ステップS005における画像移動量が0であるかの判定は、オペレータを介して実行されてもよいし、光学系制御部111によって自動化されてもよい。例えば、光学系制御部111の電圧/電流制御部116は、画像移動量を自動的に算出し、画像移動量が0になるように軌道修正用偏向器10の印加電圧及び励磁電流量を変更する。例えば、電圧/電流制御部116に特許文献5に記載の技術を適用することにより、画像移動量が0になるように軌道修正用偏向器10の印加電圧及び励磁電流量を自動的に変更する処理が可能となる。
次に、ステップS006において、軌道モニタ用レンズ12の印加電圧及び励磁電流を0にする。次に、ステップS007において、対物レンズ14に流す励磁電流を時間変化させる(第2制御モード)。これらの処理は、光学系制御部111のレンズ条件設定部202によって制御される。
次に、ステップS008において、偏向器制御部104、106により制御される軌道修正用偏向器10と傾斜用偏向器11を2段偏向器として動作させ、仮想偏向支点を点Pとして軌道修正用偏向器10と傾斜用偏向器11の印加電圧及び励磁電流を設定する。このとき、軌道修正用偏向器10には、ステップS005で調整した印加電圧及び励磁電流を重畳する。
次に、ステップS009において、試料15の画像の画像移動量が0になるか判定する。画像移動量が0でなければ、ステップS008に戻り、軌道修正用偏向器10及び傾斜用偏向器11の印加電圧及び励磁電流を変更する。画像移動量が0の場合は、光学系制御部111は、画像移動量が0になる軌道修正用偏向器10及び傾斜用偏向器11の印加電圧及び励磁電流量を偏向器動作条件記録部113に記録する。このとき一次電子は図7の軌道34をとり、点P3から対物レンズ14の中心へ入射する。
ステップS008における軌道修正用偏向器10と傾斜用偏向器11の印加電圧及び励磁電流の設定と、ステップS009における画像移動量が0であるかの判定は、オペレータを介して実行されてもよいし、光学系制御部111によって自動化されてもよい。例えば、光学系制御部111の電圧/電流制御部116は、画像移動量を自動的に算出し、画像移動量が0になるように軌道修正用偏向器10と傾斜用偏向器11の印加電圧及び励磁電流量を変更する。上述したように、電圧/電流制御部116に特許文献5に記載の技術を適用することにより、画像移動量が0になるように軌道修正用偏向器10と傾斜用偏向器11の印加電圧及び励磁電流量を自動的に変更する処理が可能となる。
次に、ステップS010において、傾斜用偏向器11にステップS009において求めた軌道修正用の印加電圧及び励磁電流量に加えて、所定の角度だけ一次電子を偏向するための印加電圧及び励磁電流量を重畳し、一次電子を傾斜させる。
次に、ステップS011において、ステップS010で発生した像面湾曲と非点収差を対物レンズ14と非点補正器07に流す励磁電流を調整することで補正する。なお、非点補正器07の励磁電流は非点補正器制御部108で制御される。光学系制御部111は、ここでの各調整量をレンズ動作条件記録部114に記録する。
次に、ステップS012で、ステップS011までで設定された撮像条件で荷電粒子線装置は傾斜画像を取得する。その後、ステップS013において、傾斜角度及び傾斜方向の変更を行うか否かを判定し、変更する場合は、ステップS002に戻る。ステップS002に戻った場合には、新たに収差制御用偏向器08の印加電圧及び励磁電流を設定する。以上の流れで軌道修正後に傾斜画像を取得することができる。
なお、第2実施例の場合についても同様のフローで軌道修正が可能である。この場合、図5のステップS008、ステップS009において、傾斜用偏向器11のみを用いて一次電子を偏向して、画像移動量を0にするよう印加電圧及び励磁電流を調整すれば良い。
光学系制御部111内の偏向器動作条件記録部113とレンズ動作条件記録部114に記録された印加電圧及び励磁電流量をテーブル化してもよい。例えば、レンズの光学条件、傾斜角、傾斜方向毎に偏向器動作条件記録部113とレンズ動作条件記録部114に記録された印加電圧及び励磁電流量の情報を所定の記録部にテーブル構造として記録する。このテーブル構造の情報を用いることで一次電子ビームの傾斜時の調整を簡略化することができる。
また、特許文献1では、収差補正レンズと対物レンズの印加電圧及び励磁電流量を同期させて時間変化させた際に、画像移動量を0にするように収差制御用偏向器と傾斜用偏向器の印加電圧及び励磁電流量を調整して傾斜時の軸外色収差を0にする条件を自動調整する。この方法もしくはレンズの印加電圧及び励磁電流の代わりに加速電圧を変化させる方法を組み合わせることで、軌道修正及び傾斜時の軸外色収差を0にする条件の自動調整が可能である。
また、偏向器動作条件記録部113とレンズ動作条件記録部114に記録された印加電圧及び励磁電流量を軌道演算部115に引き渡して、軌道計算を行ってもよい。軌道演算部115は、一次電子が軌道修正用偏向器10の中心を通過する際の光軸16からの離軸量と入射角度をレンズ条件毎に演算する。例えば、予め装置性能を満たす離軸量と入射角度の許容量を設定しておく。軌道演算部115によって計算された値が、その許容量を逸脱する場合に、レンズの光学条件の設定や収差制御用偏向器08の印加電圧及び励磁電流量の設定、レンズの光軸調整の異常を判定することができる。
<第4実施例における軌道修正処理の流れ>
次に、第4実施例における軌道修正の流れを説明する。図8は、第4実施例における軌道修正のフローチャートである。
まず、収差補正器305は、光軸に沿って垂直入射する一次電子に対して調整済みであるとする。ベーキング処理などにより一次電子の入射軌道が変化した場合には、ステップS101において、上段側の軌道モニタ用レンズ302に印加電圧及び励磁電流を設定し、その印加電圧及び励磁電流量を時間的に変化させる(第3制御モード)。
次に、ステップS102において、上段側の軌道修正用偏向器301の印加電圧及び励磁電流を設定し、一次電子を偏向する。
次に、ステップS103において、試料15の画像の画像移動量が0になるかを判定する。画像移動量が0でなければ、ステップS102に戻り、上段側の軌道修正用偏向器301の印加電圧及び励磁電流を変更する。画像移動量が0の場合はステップS104へ進む。
次に、ステップS104において、上段側の軌道モニタ用レンズ302の印加電圧及び励磁電流を0にする。次に、ステップS105において、下段側の軌道モニタ用レンズ304の印加電圧及び励磁電流を設定し、その印加電圧及び励磁電流量を時間的に変化させる(第4制御モード)。
次に、ステップS106において、下段側の軌道修正用偏向器303の印加電圧及び励磁電流を設定する。次に、ステップS107において、試料15の画像の画像移動量が0になるかを判定する。画像移動量が0でなければ、ステップS106に戻り、下段側の軌道修正用偏向器303の印加電圧及び励磁電流を変更する。画像移動量が0の場合はステップS108へ進む。
最後に、ステップS108において、下段側の軌道モニタ用レンズ304の印加電圧及び励磁電流を0とすれば、第4実施例における軌道修正が終了する。一次電子の軌道修正後の軌道は図4に示した軌道306となる。すなわち、一次電子は、上段側の軌道モニタ用レンズ302と下段側の軌道モニタ用レンズ304の中心の2点を結ぶ軌道で収差補正器305へ入射する。
第2実施例乃至第4実施例の場合においても、実施例1の場合と同様に軌道修正の自動化が可能である。また、軌道修正用偏向器へ入射する軌道の光軸からの離軸量と入射角度の演算が可能であることは言うまでもない。
また、図8のステップS102、S103、S106、S107の処理を自動化してもよい。例えば、電圧/電流制御部116は、第3制御モードにおいて試料像の画像移動量が0になるように上段側の軌道修正用偏向器301の印加電圧及び励磁電流を調整し、第4制御モードにおいて試料像の画像移動量が0になるように下段側の軌道修正用偏向器303の印加電圧及び励磁電流を調整する。
なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上述した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることがあり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
また、図面における制御線や情報線は、説明上必要と考えられるものを示しており、製品上必ずしも全ての制御線や情報線を示しているとは限らない。全ての構成が相互に接続されていてもよい。
01 陰極
02 第1陽極
03 第2陽極
04 コンデンサレンズ
05 対物可動絞り
06 コンデンサレンズ
07 非点補正器
08 収差制御用偏向器
09 収差補正用レンズ
10 軌道修正用偏向器
11 傾斜用偏向器
12 軌道モニタ用レンズ
13 走査用偏向器
14 対物レンズ
15 試料
16 光軸
30 軌道
31 軌道
32 軌道
33 軌道
34 軌道
35 軌道
40 直交電磁界発生装置(EXB)
41 反射板
42 検出器
100 高圧制御部
101 コンデンサレンズ制御部
102 偏向器制御部
103 収差補正用レンズ制御部
104 偏向器制御部
105 モニタ用レンズ制御部
106 偏向器制御部
107 偏向器制御部
108 非点補正器制御部
109 対物レンズ制御部
110 ステージ制御部
111 光学系制御部
112 画像表示部
113 偏向器動作記録部
114 レンズ動作記録部
115 軌道演算部
116 電圧/電流制御部
201 高圧条件設定部
202 レンズ条件設定部
203 偏向器条件設定部
211a 偏向器
211b 偏向器
211c 偏向器
211d 偏向器
220 偏向ユニット
301 上段側軌道修正用偏向器
302 上段側軌道モニタ用レンズ
303 下段側軌道修正用偏向器
304 下段側軌道モニタ用レンズ
305 収差補正器
306 軌道

Claims (11)

  1. 一次荷電粒子線を供給するための荷電粒子源と、
    前記一次荷電粒子線の集束角度と集束位置を制御するためのコンデンサレンズと、
    前記一次荷電粒子線を試料上に集束させるための対物レンズと、
    前記一次荷電粒子線を前記試料上において走査させるための走査手段と、
    前記試料から発生する荷電粒子を検出する検出手段と、
    前記検出手段からの信号に基づいて試料像を生成する画像処理手段と、
    前記対物レンズの上方に配置され、レンズ作用を有する光学要素と、前記光学要素の上方に配置された軌道修正用偏向器とを備える軌道モニタユニットと、
    前記光学要素の印加電圧及び励磁電流を各々時間的に変化させる第1制御モードと、前記対物レンズの励磁電流を時間的に変化させる第2制御モードとを備える制御部と、
    前記第1制御モード及び前記第2制御モードにおいて前記試料像の画像移動量が0になるように前記軌道修正用偏向器の印加電圧及び励磁電流を調整する電圧/電流制御部と
    を備え、
    前記第1制御モードにおける前記画像移動量は、前記光学要素の前記印加電圧及び前記励磁電流の時間的変化により生じる画像の移動量であり、
    前記第2制御モードにおける前記画像移動量は、前記対物レンズの前記励磁電流の時間的変化により生じる画像の移動量であり、
    前記光学要素の前記印加電圧及び前記励磁電流は、前記一次荷電粒子線の軌道修正後に0に設定されることを特徴とする荷電粒子線装置。
  2. 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
    前記光学要素は、レンズ作用を有する1つの光学要素であり、前記軌道修正用偏向器は、2つの偏向器から構成され、
    前記2つの偏向器のうち一方の偏向器と前記光学要素は、同じ高さに配置され且つ前記一方の偏向器の中心と前記光学要素の中心とが一致するように配置され、
    前記2つの偏向器のうち他方の偏向器が、前記一方の偏向器及び前記光学要素の上方に配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
  3. 請求項2に記載の荷電粒子線装置において、
    前記光学要素は、磁界型もしくは電界型の4つの極子を備え、前記一方の偏向器の軌道修正機能も兼ね備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
  4. 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
    前記光学要素の前記印加電圧及び前記励磁電流は、前記軌道修正用偏向器により前記一次荷電粒子線が前記光学要素の中心を通過する軌道に修正された後に0に設定されることを特徴とする荷電粒子線装置。
  5. 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
    前記一次荷電粒子線の傾斜時の前記対物レンズの収差を補正するための収差補正用レンズと、
    前記収差補正用レンズの軸外に前記一次荷電粒子線を通過させるための偏向器と、
    を更に備え、
    前記光学要素は、前記光学要素の中心が前記対物レンズの物点と一致するように配置され、
    前記軌道モニタユニットが、前記収差補正用レンズの球面収差による軌道の変化を修正することを特徴とする荷電粒子線装置。
  6. 請求項5に記載の荷電粒子線装置において、
    前記軌道モニタユニットは、前記一次荷電粒子線の軌道を前記対物レンズの前記物点と前記対物レンズの中心の2点を結ぶ軌道にすることを特徴とする荷電粒子線装置。
  7. 請求項に記載の荷電粒子線装置において、
    前記電圧/電流制御部によって調整された前記軌道修正用偏向器の前記印加電圧及び前記励磁電流を記録する記録部と、
    前記記録部に記録された前記軌道修正用偏向器の前記印加電圧及び前記励磁電流を用いて前記一次荷電粒子線の軌道を演算する軌道演算部と、
    を更に備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
  8. 一次荷電粒子線を供給するための荷電粒子源と、
    前記一次荷電粒子線の集束角度と集束位置を制御するためのコンデンサレンズと、
    前記一次荷電粒子線を試料上に集束させるための対物レンズと、
    前記一次荷電粒子線を前記試料上において走査させるための走査手段と、
    前記試料から発生する荷電粒子を検出する検出手段と、
    前記検出手段からの信号に基づいて試料像を生成する画像処理手段とを備える荷電粒子線装置において、
    前記荷電粒子線装置の光学系の収差を補正するための収差補正器と、
    記収差補正器の上方に配置された、軌道修正用偏向器としての上側偏向器及び下側偏向器と、
    前記収差補正器の上方に配置された、上側光学要素及び下側光学要素と、
    前記上側光学要素の印加電圧及び励磁電流を各々時間的に変化させる第3制御モードと、前記下側光学要素の印加電圧及び励磁電流を各々時間的に変化させる第4制御モードとを備える制御部と、
    前記第3制御モードにおいて前記試料像の画像移動量が0になるように前記上側偏向器の前記印加電圧及び前記励磁電流を調整し、前記第4制御モードにおいて前記試料像の画像移動量が0になるように前記下側偏向器の前記印加電圧及び前記励磁電流を調整する電圧/電流制御部と
    を備え、
    前記下側偏向器と前記上側光学要素は、同じ高さに配置され且つ前記下側偏向器の中心と前記上側光学要素の中心が一致するように配置されており、
    前記第3制御モードにおける前記画像移動量は、前記上側光学要素の前記印加電圧及び前記励磁電流の時間的変化により生じる画像の移動量であり、
    前記第4制御モードにおける前記画像移動量は、前記下側光学要素の前記印加電圧及び前記励磁電流の時間的変化により生じる画像の移動量であることを特徴とする荷電粒子線装置。
  9. 請求項に記載の荷電粒子線装置において、
    前記上側光学要素の前記印加電圧及び前記励磁電流が、前記一次荷電粒子線の軌道修正後に0に設定されることを特徴とする荷電粒子線装置。
  10. 請求項に記載の荷電粒子線装置において、
    記上側光学要素の中心と前記下側光学要素の中心の2点を結ぶ軌道に修正することを特徴とする荷電粒子線装置。
  11. 一次荷電粒子線を供給するための荷電粒子源と、
    前記一次荷電粒子線の集束角度と集束位置を制御するためのコンデンサレンズと、
    前記一次荷電粒子線を試料上に集束させるための対物レンズと、
    前記一次荷電粒子線を前記試料上において走査させるための走査手段と、
    前記試料から発生する荷電粒子を検出する検出手段と、
    前記検出手段からの信号に基づいて試料像を生成する画像処理手段と、
    前記対物レンズの上方に配置され、レンズ作用を有する光学要素と、前記光学要素の上方に配置された軌道修正用偏向器とを備える軌道モニタユニットと、を備える荷電粒子線装置における軌道修正方法であって、
    前記光学要素の印加電圧及び励磁電流を各々時間的に変化させる第1制御モードにおいて前記試料像の画像移動量が0になるように前記軌道修正用偏向器の印加電圧及び励磁電流を調整するステップと、
    前記光学要素の印加電圧及び励磁電流を0に設定するステップと、
    前記対物レンズの励磁電流を時間的に変化させる第2制御モードにおいて前記試料像の画像移動量が0になるように前記軌道修正用偏向器の印加電圧及び励磁電流を調整するステップと、
    を備え
    前記第1制御モードにおける前記画像移動量は、前記光学要素の前記印加電圧及び前記励磁電流の時間的変化により生じる画像の移動量であり、
    前記第2制御モードにおける前記画像移動量は、前記対物レンズの前記励磁電流の時間的変化により生じる画像の移動量であることを特徴とする荷電粒子線装置の軌道修正方法。
JP2013011241A 2013-01-24 2013-01-24 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法 Active JP6134145B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013011241A JP6134145B2 (ja) 2013-01-24 2013-01-24 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法
US14/760,053 US9484181B2 (en) 2013-01-24 2014-01-21 Charged particle beam apparatus and trajectory correction method in charged particle beam apparatus
PCT/JP2014/051070 WO2014115708A1 (ja) 2013-01-24 2014-01-21 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013011241A JP6134145B2 (ja) 2013-01-24 2013-01-24 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014143096A JP2014143096A (ja) 2014-08-07
JP6134145B2 true JP6134145B2 (ja) 2017-05-24

Family

ID=51227499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013011241A Active JP6134145B2 (ja) 2013-01-24 2013-01-24 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9484181B2 (ja)
JP (1) JP6134145B2 (ja)
WO (1) WO2014115708A1 (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6438780B2 (ja) * 2015-02-02 2018-12-19 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置および収差補正方法
US11861716B1 (en) 2016-10-27 2024-01-02 State Farm Mutual Automobile Insurance Company Systems and methods for utilizing electricity monitoring devices to reconstruct an electrical event
US10157727B2 (en) * 2017-03-02 2018-12-18 Fei Company Aberration measurement in a charged particle microscope
KR102288146B1 (ko) 2017-03-06 2021-08-11 주식회사 히타치하이테크 하전입자선 장치
JP6932050B2 (ja) * 2017-09-01 2021-09-08 株式会社日立ハイテク 走査電子顕微鏡
DE102017220398B3 (de) * 2017-11-15 2019-02-28 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Justieren eines Teilchenstrahlmikroskops
US11508551B2 (en) 2018-12-14 2022-11-22 Kla Corporation Detection and correction of system responses in real-time
JP6737539B2 (ja) * 2019-02-25 2020-08-12 株式会社日立ハイテク 荷電粒子線装置
JP2020149767A (ja) 2019-03-11 2020-09-17 株式会社日立ハイテク 荷電粒子線装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0233843A (ja) 1988-07-25 1990-02-05 Hitachi Ltd 走査電子顕微鏡
JP3985057B2 (ja) * 1996-05-21 2007-10-03 エフ イー アイ カンパニ 粒子光学機器のレンズ収差補正用補正装置
DE69939309D1 (de) * 1999-03-31 2008-09-25 Advantest Corp Teilchenstrahlgerät zur schrägen Beobachtung einer Probe
US6614026B1 (en) 1999-04-15 2003-09-02 Applied Materials, Inc. Charged particle beam column
US6864493B2 (en) 2001-05-30 2005-03-08 Hitachi, Ltd. Charged particle beam alignment method and charged particle beam apparatus
JP4752138B2 (ja) 2001-05-30 2011-08-17 株式会社日立製作所 荷電粒子線調整方法及び荷電粒子線装置
JP4383950B2 (ja) * 2004-04-23 2009-12-16 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線調整方法、及び荷電粒子線装置
JP4299195B2 (ja) * 2004-06-28 2009-07-22 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置及びその光軸調整方法
JP4620981B2 (ja) 2004-08-10 2011-01-26 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子ビーム装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2014115708A1 (ja) 2014-07-31
JP2014143096A (ja) 2014-08-07
US9484181B2 (en) 2016-11-01
US20150357155A1 (en) 2015-12-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6134145B2 (ja) 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における軌道修正方法
TWI751556B (zh) 用於以初級帶電粒子小束陣列檢查樣本的帶電粒子束裝置
JP4620981B2 (ja) 荷電粒子ビーム装置
US7619218B2 (en) Charged particle optical apparatus with aberration corrector
JP4275441B2 (ja) 収差補正器付電子線装置
JP6554288B2 (ja) 荷電粒子線装置
WO2017002243A1 (ja) 収差補正方法、収差補正システムおよび荷電粒子線装置
WO2017018432A1 (ja) 荷電粒子線装置
US8269188B2 (en) Charged particle beam apparatus and sample processing method
JP5715866B2 (ja) 多極子およびそれを用いた収差補正器または荷電粒子線装置
JP6037693B2 (ja) 荷電粒子線装置
CN108463869B (zh) 带电粒子束装置及其光轴调整方法
US9653256B2 (en) Charged particle-beam device
JP4291827B2 (ja) 走査電子顕微鏡又は測長semの調整方法
JP4851268B2 (ja) 収差補正方法および電子線装置
JP5331893B2 (ja) 走査荷電粒子線装置、及び色球面収差補正方法
US20210027976A1 (en) Beam Irradiation Device
NL2031161B1 (en) Multiple particle beam microscope and associated method with fast autofocus with special embodiments
WO2021100172A1 (ja) 荷電粒子線装置及び収差補正方法
US20230245852A1 (en) Multiple particle beam microscope and associated method with fast autofocus around an adjustable working distance
JP7051655B2 (ja) 荷電粒子線装置
JP6737539B2 (ja) 荷電粒子線装置
JP2010251218A (ja) 荷電粒子線装置
JP2009135119A (ja) 荷電粒子線装置の光軸調整方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20151019

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161004

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161130

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170328

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170421

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6134145

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350