DE3881710T2 - Druckplattenvorläufer. - Google Patents

Druckplattenvorläufer.

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DE3881710T2 DE88300083T DE3881710T DE3881710T2 DE 3881710 T2 DE3881710 T2 DE 3881710T2 DE 88300083 T DE88300083 T DE 88300083T DE 3881710 T DE3881710 T DE 3881710T DE 3881710 T2 DE3881710 T2 DE 3881710T2
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Description

  • Diese Erfindung bezieht sich auf Druckplattenvorläufer (Druckformenmaterialien), welche ein mit einer strahlungsempfindlichen Mischung beschichtetes Substrat aufweisen und für den lithographischen Druck oder flexographischen Druck zu verwenden sind.
  • Es ist hinlänglich bekannt, daß Druckplattenvorläufer (Druckformenmaterialien) und ähnliche strahlungsempfindliche Gegenstände je nach dem durch die aktive Strahlung auf die strahlungsempfindliche Mischung ausgeübten Effekt entweder negativ arbeitend oder positiv arbeitend sind. Bisher wurden die meisten negativ arbeitenden Mischungen unter Verwendung von Diazo- oder Azidoverbindungen oder unter Verwendung von bei Belichtung quervernetzbaren Materialien wie polymeren Zimtsäureestern hergestellt, deren photochemische Eigenschaften durchwegs gut bekannt sind.
  • Auf der Suche nach Druckformenmaterialien mit beträchtlich verbesserten Verarbeitungseigenschaften und verbessertem Druckverhalten wurde in jüngster Zeit die Aufmerksamkeit auf photopolymerisierbare Systeme gerichtet, die auf äthylenisch ungesättigten Verbindungen beruhen. Bei diesen Systemen stützt man sich auf die durch Bestrahlung bewirkte Zersetzung von photosensiblen Materialien und die damit einhergehende Bildung stark reaktionsfähiger Radikale, welche die Polymerisation der äthylenisch ungesättigten Verbindungen inätiieren. Die Polymerisation kann dann in einer sich selbst ausbreitenden Kettenreaktion weiter fortschreiten, womit Polymere hohen Molekulargewichts entstehen. Bei Verwendung multifunktioneller äthylenisch ungesättigter Verbindungen folgt auf das Entstehen freier Radikale die rasche Ausbildung eines dreidimensionalen Netzwerks aus photopolymerisiertem Material, welches in Entwicklerlösungen unlöslich ist und in der Druckpresse erhöhte Verschleißfestigkeit besitzt.
  • Die Weiterentwicklung dieser Technologie wurde dadurch gehemmt, daß beim Exponieren des Druckformenmaterials in Anwesenheit von Sauerstoff die Polymerisation äußerst stark gehemmt wird. Bei Abwesenheit von Sauerstoff verläuft die Polymerisationsreaktion so wirkungsvoll, daß die Druckformenmaterialien in manchen Fällen weniger als 1 % der in üblichen Systemen erzielbaren Belichtungszeit benötigen. Allerdings reicht eine bereits niedrige Sauerstoffkonzentration dazu aus derartige Systeme für die Praxis unbrauchbar zu machen.
  • Es sind bereits mehrere Verfahren zum Verringern bzw. zum Ausschalten des von Sauerstoff ausgeübten Inhibitionseffekts angegeben worden. Ein Beispiel hiefür ist das Belichten des Druckformenmaterials in einer inerten Atmosphäre (z.B. in Stickstoff- oder Argonatmosphäre). Hiezu ist allerdings eine sehr teure Einrichtung erforderlich, welche das Verfahren für Druckformenmaterialien in der Praxis unbrauchbar macht. Es ist auch vorgeschlagen worden; in die strahungsempfindliche Mischung eine Diazoverbindung einzubauen, jedoch werden hiedurch die Verschleißeigenschaften der exponierten Mischung beeinträchtigt. Gemäß einem weiteren Vorschlag werden in die strahlungsempfindliche Mischung gewisse Mittel, z.B. Triphenylphosphin, eingebaut, jedoch zeigte sich, daß hiedurch eine nur unbedeutende Wirkung erzielt wird.
  • Die wirksamste Art einer Abhilfe besteht darin, auf die strahlungsempfindliche Mischung eine für Strahlung durchlässige, jedoch für Sauerstoff nur wenig durchlässige Sperrschicht aufzubringen. Die für diesen Zweck am wirkungsvollsten befundenen Materialien sind wasserlösliche Polymere wie Poly(vinylalkohol), Poly(acrylamid), Poly(vinylpyrrolidon), Gummi arabicum und Dextrin. Die derart zusätzlich beschichteten Druckformenmaterialien besitzen jedoch in der Regel im Vergleich zu Druckformen mit üblichen photosensiblen Beschichtungen eine schlechtere Lagerbeständigkeit und Handhabbarkeit. Es wird angenommen, daß hiefür die Anwesenheit von Feuchtigkeit in der Sperrschicht verantwortlich ist. Diese Feuchtigkeit, welche Restfeuchtigkeit sein kann oder die Folge einer Feuchtigkeitsaufnahme während des Lagerns unter hoher Luftfeuchtigkeit sein kann, scheint die Ursache für das Entstehen von statistisch verteilten Schadstellen in der Sperrschicht selbst, in der strahlungsempfindlichen Mischung und selbst im Substrat zu sein. Schadstellen in der strahlungsempfindlichen Mischung können eine Verringerung der Haltbarkeit des Bildes verursachen und Schadstellen im Substrat können, im Falle eines Substrats aus aufgerauhtem und anodisiertem Aluminium wie es für lithographische Druckplatten üblicherweise verwendet wird, zu einer Verringerung der hydrophilen Eigenschaften der bildfreien Bereiche führen.
  • Eine weitere Folge des Vorhandenseins von Feuchtigkeit besteht in einem verringerten Widerstand gegenüber einer Beschädigung der Beschichtung während der Handhabung und insbesondere in einer verstärkten Anfälligkeit gegenüber Fingerabdrücken. Obzwar diese Nachteile bis zu einem gewissen Ausmaß durch den Einbau von dispergierten Polymerteilchen, welche beim Trocknen der zum Herstellen der Sperrschicht in der in der US-Patentschrift Nr. 4072527 und 4072528 beschriebenen Weise zusammenbacken, vermieden werden können, besitzt dann die erhaltene Sperrschicht eine verringerte Löslichkeit in den bevorzugten wässerigen Entwicklerlösungen, wozu noch kommt, daß das entwickelte Bild wolkig wird und in den Entwicklerbehältern automatischer Entwicklungsmaschinen unerwünschte Stoffe in unerwünschter Konzentration angereichert werden. Darüber hinaus wird dieses Problem beim Entwickeln mit zunehmender Lagerungszeit noch verstärkt.
  • Das wirkungsvolle Verhalten der Sperrschicht hinsichtlich einer von Sauerstoff ausgeübten Inhibitionswirkung hängt von der Aufrechterhaltung eines innigen Kontakts zwische der Sperrschicht und der strahlungsempfindlichen Mischung ab. Ein Abschälen der Sperrschicht kann während der Handhabung durch Kratz- oder Scheuerwirkung aber auch beim Lagern des Druckformenmaterials, insbesondere bei erhöhten Temperaturen, verursacht werden.
  • In der GB-1 188 921 ist die Verwendung einer eine Inhibition durch Sauerstoff verhindernden Sperrschicht für strahlungsempfindliche Mischungen beschrieben. Die Sperrschicht wird aus einem makromolekularen organischen Polymer mit gewissen physikalischen Eigenschaften gebildet. Als Beispiele werden verschiedene geeignete Polymere, darunter Gelatine, genannt, welche als eine polymere amphotere Verbindung angesehen werden kann. Weiters kann in das Polymer ein oberflächenaktiver Stoff eingebracht werden, um eine einheitlichere Beschichtung zu ergeben. Es werden zahlreiche Beispiele für verschiedene Arten von geeigneten oberflächenaktiven Stoffen genannt. Darunter finden sich N-Cetyl- und C-Cetyl-betaine, welche amphotere Verbindungen sind.
  • Entsprechend der vorliegenden Erfindung wird ein Druckplattenvorläufer (Druckformenmaterial) geschaffen, welcher ein Substrat, auf dem Substrat eine eine äthylenisch ungesättigte Verbindung und einen Photoinitiator enthaltende strahlungsempfindliche Mischung und über der strahlungsempfindlichen Schicht eine eine Inhibition durch Sauerstoff verhindernde Sperrschicht aufweist, und dieser Druckplattenvorläufer ist dadurch gekennzeichnet, daß die Sperrschicht ein Polymer und eine amphotere Verbindung enthält, welche ein Copolymer eines saure Gruppen enthaltenden Monomers und eines basische Gruppen enthaltenden Monomers ist.
  • Das Polymer sollte gegenüber jener Strahlung durchlässig sein, für welche die strahlungsempfindliche Verbindung empfindlich ist, wobei ein besonders bevorzugtes Polymer Poly(vinylalkohol) ist.
  • Die amphotere Verbindung sollte in einer Menge vorliegen, die dazu ausreicht das Auftreten der oben genannten Mängel weitgehend zu verringern.
  • Beispiele für basische Gruppen sind Amin-, Amid-, Imin-, Hydrazon-, Hydrazingruppen und stickstoffhaltige heterocyclische Gruppen, welche in ihrer quarternisierten Form vorliegen können, und Beispiele für saure Gruppen sind Carbonsäure-, Phosphonsäure-, Phosphinsäure-, Phosphat-, Phosphit- , Phosphonat- , Phosphinat- Sulfonsäure- , Sulfinsäure-, Sulfat- und Sulfitgruppen.
  • Geeignete, basische Gruppen enthaltende Monomere sind Acrylamid, N-n-Octylacrylamid, N-t-Octylacrylamid, N-t-Butylacrylamid, t-Butylaminoäthylmethacrylat, Dimethylaminomethylmethacrylat, Vinylimidazol und Allylamin. Geeignete, saure Gruppen enthaltende Monomere sind Acrylsäure, Methacrylsäure, Vinylphosphonsäure und 2-Acrylamido-2-methyl-1- -propansulfonsäure.
  • Die polymeren amphoteren Verbindungen können eines oder mehrere von neutralen Monomeren wie Methylmethacrylat oder Hydroxypropylmethacrylat enthalten. Besonders brauchbar sind von N-Alkyl-(meth)acrylamid, von einem sauren Monomer und zumindest einem anderen Monomer abgeleitete Interpolymere, wie sie in der US-Patentschrift Nr. 3927199 angegeben sind. Solche polymere Verbindungen können in einer Menge von etwa 5 bis 90 Gew.-% der Sperrschicht vorliegen. Da jedoch die Sauerstoffdurchlässigkeit mit zunehmenden Mengen an solchen Verbindungen zunimmt, liegt der bevorzugte Mengenanteil derselben bei 5 bis 50 Gew.-% der Sperrschicht.
  • Das Ausmaß der Brauchbarkeit der verschiedenen amphoteren Verbindungen hängt zum Teil von ihrer Löslichkeit im zum Lösen des Polymers beim Aufbringen der Sperrschicht verwendeten Lösungsmittel ab. In einigen Fällen kann diese Löslichkeit durch Neutralisieren einiger oder aller sauren Gruppen mittels einer Base erhöht werden. Durch die bevorzugte Verwendung von flüchtigen Basen kann die Base aus der Sperrschicht im Zuge der anschließenden Trockungsstufe wirkungsvoll entfernt werden. Die Base kann eine anorganische Base, z.B. Ammoniak, Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid oder Natriummetasilicat, oder eine organische Base, z.B. Triäthylamin, Äthanolämin; N-Methylmorpholin, L-Arginin, L-Lysin, 2-Dimethylaminoäthanol, N-Methyldiäthanolamin, Tetramethylammoniumhydroxid, 2-Amino-2-methyl-1,3-propandiol oder Trishydroxymethylaminomethan sein.
  • Allgemein gesagt soll zwecks Erzielung der gewünschten Wirkung das Beschichtungsgewicht der Sperrschicht zumindest 0,1 g/m² betragen. Je dicker die Sperrschicht ist, umso größer ist der Schutz gegen eine Polymerisationsinhibition durch Sauerstoff. Dickere Sperrschichten sind jedoch bei der späteren Behandlung des Druckformenmaterials schwieriger zu entfernen. Es wird daher ein Beschichtungsgewicht von 0,5 bis 5,0 g/m² bevorzugt.
  • Besonders geeignete äthylenisch ungesättigte Verbindundungen für die strahlungsempfindliche Mischung sind durch Additionspolymerisyation polymerisierbare Verbindungen. Bevorzugt werden einfache Verbindungen, oder gelegentlich als Monomere bezeichnete Verbindungen, welche äthylenisch ungesättigt sind, aber auch Polymere, welche Endgruppen oder endständige Gruppen aufweisen, die an ihrem Ende äthylenisch ungesättigt sind. Beispielsweise soll der Ausdruck "durch Additionspolymerisation polymerisierbare Verbindung" Polymere umfassen, welche sich wiederholende Einheiten der Struktur:
  • (T) - O - - CR = CH&sub2;
  • enthalten, in welcher T irgendeine zum Ausbilden des Gerüsts eines Polymers geeignete Gruppe darstellt und R für Wasserstoff oder Methyl steht.
  • Weitere Beispiele für durch Additionspolymerisation polymerisierbare und äthylenisch ungesättigte Verbindungen sind monomere (Meth)acrylate, (Meth)acrylamide, Allylverbindungen, Vinyläther, Vinylester, N-Vinyl-verbindungen, Styrole, Acrylnitrile und Crotonate. Zahlreiche Beispiele für jede dieser Verbindungsklassen sind hinreichend bekannt und beispielsweise in der Britischen Patentschrift Nr. 1534137 angegeben.
  • Eine besonders bevorzugte Klasse von durch Additionspolymerisation polymerisierbaren und äthylenisch ungesättigten Verbindungen sind die (Meth)acrylatverbindungen. Beispiele für besonders brauchbare Verbindungen sind Alkyl(meth)acrylate mit 1 bis 30, insbesondere 1 bis 5, Kohlenstoffatomen im Alkylteil wie Methyl- und Äthyl(meth)acrylat, Tri- und Tetra(meth)acrylate von Pentyerythrit, Ester von Polyolen einschließlich Glykoldi(meth)acrylaten wie Tripropylenglykoldiacrylat, Tetraäthylenglykoldiacrylat und Triäthylenglykoldimethacrylat, Alkandioldi(meth)acrylate wie Hexandiol, Di(meth)acrylate, Polyäther-di(meth)acrylate, Urethan(meth)acrylate wie die Reaktionsprodukte von Hydroxygruppen enthaltenden (Meth)acrylaten mit Di- oder Polyisocyanaten, Epoxy(meth)acrylaten und Mischungen der oben genannten Verbindungen.
  • Zu den bevorzugten Photoinitiatoren gehören die im folgenden genannten Beispiele, jedoch sind die Photoinitiatoren nicht auf diese Beispiele eingeschränkt. Die Klasse von von substituierten Benzoinen oder Acetophenonen abgeleitetenhomolytischen Photoinitiatoren, Acetophenon, Dimethoxyacetophenon, Diäthoxyacetophenon, Bis(2-propoxyacetophenon), α,α-Dimethyl-α-hydroxyacetophenon, 1-Benzoylcyclohexanol, Benzoin, Benzoinacetat, Benzoinmethyläther, Benzoinäthyläther, α,α-Dimethoxy-α-phenyl-acetophenon. Weitere homolytische Photoinitiatoren sind unter anderen Acyloximester, Acylphosphinoxide wie 2,4,6-Trimethylbenzoyl-diphenylphosphinoxid, Acrylphosphonate wie Diäthylbenzoylphosphonat und 2-Methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholino-propan-1-on. Photoreduzierbare aromatische Ketone bilden eine weitere verwendbare Klasse von Photoinitiatoren, zu welchen als Beispiele unter anderem Benzophenon, 4,4'-Bis(N,N-dimethylamino)benzophenon, 4,4'-Bis(N,N-diäthylamino)benzophenon Fluorenon, Benzil, Thioxanthon, 2-Chlorthioxanthon und 2-Isopropylthioxanthon zählen. Diese photoreduzierbaren aromatischen Ketone erweisen sich als am wirksamsten dann, wenn sie in Anwesenheit von Wasserstoffdonatormolekülen wie Alkoholen, Äthern, Aminen, Thiolen, Sulfiden und Phenolen verwendet werden.
  • Brauchbar sind auch bei Bestrahlung Radikale und Kationen und/oder Kationenradikale bildende Oniumsalze wie unter anderen Aryldiazoniumsalze, quarternäre Ammoniumsalze, Diaryljodoniumsalze, Triarylsulfoniumsalze, Triarylselenoniumsalze, Tetraarylphosphoniumsalze, 0xosulfoniumsalze und Ferroceniumsalze. Diese Salze können zusammen mit als Sensibilisatoren dienenden Farbstoffen wie Acridinorange, Acridingelb, Benzoflavin und Setoflavin T verwendet werden.
  • Insbesondere werden als Photoinitiatoren Triazine wie 2,4,6-Tris-trichlormethyl-s-triazin, welches zusammen mit synergistisch wirkenden Stoffen wie 4,4'-Bis(N,N-dimethylamino)benzophenon, N-Methyl-2-benzoyl-ß-naphtothiazolin und 7,7'-Bis(N,N-diäthylamino)-3-ketocumarinen verwendet werden können. Weiters werden Perester der in der EP-125140 genannten Art und Trichlormethyl-phenacylidene der in der EP-135348 genannten Art bevorzugt.
  • Die strahlungsempfindliche Mischung kann eine Substanz enthalten, welche beim Bestrahlen der Mischung ihre Farbe verändert. Diese Substanz kann ein Farbstoff, eine Farbstoffvorstufe oder ein Indikator sein, welcher bzw. welche bei Vorliegen von sauren Photolyseprodukten ausgebleicht wird oder in anderer Weise seine Farbe verändert oder welcher bzw. welche beim Bestrahlen der Mischung durch Oxydation verfärbt wird. Solche Farbveränderungen sind insbesondere bei der Herstellung von litographischen Druckformen aus strahlungsempfindlichen Druckformenmaterialien wichtig, da sie nach dem bildgerechten Exponieren eine sichtbare Unterscheidung zwischen den Bildbereichen und den bildfreien Bereichen ermöglichen. Bei Vorliegen eines solchen, seine Farbe verändernden Materials werden die zuvor erwähnten Mängel in der Regel dadurch leichter erkennbar, daß im schadhaften Bereich die Farbveränderung zuvor durch Unterschiede erkennbar wird. Beispiele für geeignete, ihre Farbe verändernde Materialien sind 4-Dimethylamino-azobenzol und Leucomalachitgrün.
  • Das Substrat kann irgendein üblicherweise für Photomasken oder bei der Herstellung von litographischen Druckformen verwendetes Material sein, wobei ein aus aufgerauhtem und anodisiertem Aluminium bestehendes Substrat besonders bevorzugt wird.
  • Gewünschtenfalls kann in die strahlungsempfindliche Mischung als Bindemittel ein Polymer eingebaut werden, um die Mischung zu verstärken und um die Haftfestigkeit der Mischung auf dem Substrat zu verbessern. Typische Bindemittel sind Acrylpolymere, Vinylacetatpolymere und Novolake. In der Patentliteratur sind zahlreiche Beispiele für geeignete Polymere angegeben und in diesem Zusammenhang kann beispielsweise auf die US-Patentschriften Nr. 3652275 und 4268667 und auf die veröffentlichte Britische Patentanmeldung Nr. 2006775 verwiesen werden.
  • Mit den folgenden Beispielen wird die Erfindung erläutert.
    • Beispiel 1
  • Ein elektrolytisch aufgerauhtes und anodisiertes Aluminiumblech wurde mit einer Lösung einer
  • 3 Gew.-tle. des Dimethacrylatesters des Glycidyläthers von Bisphenol A,
  • 1 Gew.-tl. eines Vinylacetat/Crotonsäure-Copolymers, 0,15 Gew.-tle. 1,3,3-Trimethyl-2-(4'-trichlormethylbenzoyl)methylen-5-chlorindol und
  • 0,15 Gew.-tle.4 Dimethylaminoazobenzol enthaltenden strahlungsempfindlichen Mischung in Äthyl-methylketon beschichtet.
  • Das Beschichtungsgewicht betrug 1 g/m². Nach dem Trocknen wurde die strahlungsempfindliche Mischung mit einer 20 % Feststoffe enthaltenden Lösung von Poly(vinylalkohol) in Wasser beschichtet, worauf die zusätzliche Beschichtung getrocknet wurde, um auf der strahlungsempfindlichen Beschichtung eine Sperrschicht auszubilden.
  • In der gleichen Weise wurden weitere Druckformenmaterialien (Druckplattenvorstufen) unter Zusatz von amphoteren Polymeren zur Lösung von Poly(vinylalkohol) hergestellt. Die zum Aufbringen der zusätzlichen Beschichtung verwendete Lösung wurde dadurch hergestellt, daß zunächst die polymere amphotere Verbindung unter Ausbildung einer Suspension in Wasser eingebracht wurde, durch Zusetzen einer ausreichenden Menge an Ammoniak (zwecks Erhöhung der Löslichkeit des amphoteren Polymers) eine klare Lösung erzeugt wurde und schließlich der Poly(vinylalkohol) zugesetzt wurde. Alle Druckformenmaterialien wurden durch Lagern bei 30ºC bei 95% relativer Luftfeuchtigkeit beschleunigt gealtert und dann in einem Druckrahmen einer UV-Strahlung ausgesetzt. Die hiebei erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt. Die Messungen wurden an Druckformenmaterialien mit einer Fläche von 200 cm² durchgeführt. Die Schadstellen zeigten sich als dunkle Flecke auf blassem Hintergrund. Tabelle 1 Amphoterer Zusatz Gew.-% bezogen auf PVA Anzahl der nach Tagen sichtbaren Schadstellen Keiner
  • Die amphoteren Polymere A bis J in Tabelle 1 besaßen die folgende Zusammensetzung: Monomer Gew.-% im Polymer N-t-0ctylacrylamid Acrylsäure Methylmethacrylat Hydroxypropylmethacrylat t-Butylaminoäthylmethacrylat N-t-Butylacrylamid Methacrylsäure N-n-Octylacrylamid Dimethylaminomethylmethacrylat 1-Vinylimidazol Allylamin Acrylamid
  • Das Polymer K ist ein Beispiel für eine im Handel erhältliche amphotere polymere Verbindung (von National Starch and Chemical Co unter der Bezeichnung Amphomer in den Handel gebracht), von welcher angenommen wird, daß sie eine ähnliche Zusammensetzung besitzt wie das Polymer A. Das Polymer L ist ein Interpolymer aus Acrylamid (20%) Vinylphosphonsäure (50%) und Methylmethacrylat (30%) und das Polymer M ist ein Interpolymer aus N-t-Octylacrylamid (25%), 2-Acrylamido-2-methyl-1-propansulfonsäure (40%) und Methylmethacrylat (35%). Die Polymere N und O sind nicht-amphotere Materialien (Vinylacetat/Crotonsäure-Copolymer bzw. Vinylacetat/Vinylversatat/Crotonsäure-Copolymer), die zum Zwecke der Bezugnahme aufgenommen wurden.
  • Die Druckplattenmaterialien wurden dann in einem wässerig-alkalischen Entwickler entwickelt.
  • Die Anwesenheit des amphoteren Mittels besaß keinen Einfluß auf die Belichtungszeit des Druckformenmaterials, die Farbveränderung beim Exponieren des Druckformenmaterials und die Lebensdauer der Druckform beim Drucken.
    • Beispiel 2
  • Beispiel 1 wurde mit der Abänderung wiederholt, daß der Poly(vinylalkohol) in der Sperrschicht durch Poly(acrylamid) und Poly(vinylpyrrolidon) ersetzt wurde. Es wurden ähnliche Ergebnisse erhalten.
    • Beispiel 3
  • Beispiel 1 wurde unter Verwendung verschiedener Kombinationen aus ungesättigter Verbindung, Initiator und Binderharz wiederholt wie sie in den Beispielen 1 und 2 und in den Tabellen I und II der Europäischen Patentanmeldung Nr. 87307437.1 angegeben sind
  • Diese Abänderungen waren ohne Einfluß auf die Verringerung von Mängeln in der Sperrschicht.
    • Beispiel 4
  • Beispiel 1 wurde mit der Abänderung wiederholt, daß an Stelle von Ammoniak zum Neutralisieren Natriumhydroxid, Natriummetasilicat, Äthanolamin und L-Lysin verwendet wurde.
  • Obzwar der Einfluß auf Mängel ähnlich war wie bei der Verwendung von Ammoniak, war doch die Farbveränderung beim Exponieren des Flachdruckformenmaterials nach dem Altern weniger kontrastreich.
    • Beispiel 5
  • Die obigen Beispiele wurden unter Verwendung von Sperrschichten wiederholt, deren Dicke einem Beschichtungsgewicht von ≥0,1g/m² entsprach. In jedem Falle ergab sich eine ähnliche Verringerung von Mängeln.
    • Beispiel 6
  • Beispiel 1 wurde zweimal mit der Abänderung wiederholt, daß das Verhältnis des Dimethylacrylatesters zum als Bindemittel dienenden Copolymer 1:1 betrug, wobei in einem Falle als amphotere Verbindung das Polymer K (Tabelle 1) in einer Menge von 5% verwendet wurde und im anderen Falle keine amphotere Verbindung eingesetzt wurde. Jedes Druckformenmaterial (jeder Druckplattenvorläufer) wurde in Stücke mit der Abmessung 5 cm x 5 cm zerschnitten, worauf jedes Stück mit einem scharfen Messer eingeritzt wurde, um Quadrate mit den Abmessungen 0,4 cm x 0,4 cm zu bilden. Jedes Stück wurde mit einem Klebeband bedeckt, welches sodann rasch abgezogen wurde. Im Falle des Druckformenmaterials ohne dem Polymer K blieben nur 10 bis 20% der Sperrschicht zurück, wogegen im Falle des Druckformenmaterials mit dem Polymer K 75 bis 85% der Sperrschicht zurückblieben.

Claims (7)

1. Druckplattenvorläufer, welcher ein Substrat, auf dem Substrat eine eine äthylenisch ungesättigte Verbindung und einen Photoinitiator enthaltende strahlungsempfindliche Mischung und über der strahlungsempfindlichen Schicht eine eine Inhibition durch Sauerstoff verhindernde Sperrschicht aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß die Sperrschicht ein Polymer und eine amphotere Verbindung enthält, welche ein Copolymer eines Monomers mit saurer Gruppe und eines Monomers mit basischer Gruppe ist.
2. Vorläufer nach Anspruch 1, worin das Monomer mit basischer Gruppe ein N-Alkyl-(meth)acrylamid ist und die amphotere Verbindung ein Interpolymer des N-Alkyl-(meth)- acrylamids, des Monomers mit saurer Gruppe und zumindest eines weiteren Monomers ist.
3. Vorläufer nach Anspruch 1, worin das Monomer mit basischer Gruppe Acrylamid, N-n-Octylacrylamid,. N-t-Octyl-acrylamid, N-t-Butyl-acrylamid, t-Butylaminoäthyl-methacrylat, Dimethylaminomethyl-methacrylat, Vinylimidazol oder Allylamid ist.
4. Vorläufer nach irgendeinem der Ansprüche 1 bis 3, worin das Monomer mit saurer Gruppe Acrylsäure, Methacrylsäure, Vinylphosphonsäure oder 2-Acrylamido-2-methyl-1-propansulfonsäure ist.
5. Vorläufer nach irgendeinem der vorhergehenden Ansprüche, worin einige oder alle der sauren Gruppen mit einer Base neutralisiert worden sind.
6. Vorläufer nach irgendeinem der vorhergehenden Ansprüche, worin die amphotere Verbindung in einer Menge von-5 bis 90 Gew.-% der Sperrschicht vorliegt.
7. Vorläufer nach irgendeinem der vorhergehenden Ansprüche, worin die Sperrschicht mit einem Beschichtungsgewicht von 0,5 bis 5,0 g/m² vorliegt.
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