JPS6064345A - 耐スクラツチ性向上用処理液および耐スクラツチ性画像複製材料の製造方法 - Google Patents
耐スクラツチ性向上用処理液および耐スクラツチ性画像複製材料の製造方法Info
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- JPS6064345A JPS6064345A JP17474783A JP17474783A JPS6064345A JP S6064345 A JPS6064345 A JP S6064345A JP 17474783 A JP17474783 A JP 17474783A JP 17474783 A JP17474783 A JP 17474783A JP S6064345 A JPS6064345 A JP S6064345A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/092—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means
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- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Printing Methods (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は１画像複製材料において形成された。
あるいは形成途中の画像の表面の耐スクラッチ性を向上
させる方法及びその方法に用いられる耐スクラッチ性向
上用処理液に関するものである。
させる方法及びその方法に用いられる耐スクラッチ性向
上用処理液に関するものである。
従来より画像複製材料は、情報記録、プリント基板作製
、製版、印刷など多くの分野で利用されており、それぞ
れの用途において基本的な要求性能（解像力、光感度な
ど）を満してはいるものの使用者側にとっての大きな不
満として１種々な使用条件での使用に際し、形成された
画像表面に引掻き傷が発生し、全作業を再度やり直す必
要があるだけでなく、美大な時間と資材のロスが発生す
る問題がある。かかる画像表面の耐スクラッチ性不足は
、画像担体が高分子で形成されたもの、即ち１画像複製
材料として感光性樹脂を利用するものに多く認められる
。
、製版、印刷など多くの分野で利用されており、それぞ
れの用途において基本的な要求性能（解像力、光感度な
ど）を満してはいるものの使用者側にとっての大きな不
満として１種々な使用条件での使用に際し、形成された
画像表面に引掻き傷が発生し、全作業を再度やり直す必
要があるだけでなく、美大な時間と資材のロスが発生す
る問題がある。かかる画像表面の耐スクラッチ性不足は
、画像担体が高分子で形成されたもの、即ち１画像複製
材料として感光性樹脂を利用するものに多く認められる
。
感光性樹脂を利用する画像複製材料は、光感度、解像力
、安全性およびコストの面で非常に有利なものであるだ
けに、かかる耐スクラッチ性不足の解消は永年の一大懸
案であり１画像形成後のアフターベーキングや樹脂コー
トなどの手間と時間のかかる技術によって凌いでいる状
況であり、より簡便で有効な耐スクラッチ性の向上方法
が氷められている。
、安全性およびコストの面で非常に有利なものであるだ
けに、かかる耐スクラッチ性不足の解消は永年の一大懸
案であり１画像形成後のアフターベーキングや樹脂コー
トなどの手間と時間のかかる技術によって凌いでいる状
況であり、より簡便で有効な耐スクラッチ性の向上方法
が氷められている。
本発明者らは、かかる状況に対し、形成された画像の耐
スクラッチ性を著しく向上させる方法、及びそのための
処理液を開発するべく鋭意検討を重ねた結果、遂に本発
明を完成するに到った。
スクラッチ性を著しく向上させる方法、及びそのための
処理液を開発するべく鋭意検討を重ねた結果、遂に本発
明を完成するに到った。
即ち本発明は１式Ａｍ−Ｂｎで示される化合物を含む溶
液であることを特徴とする耐スクラッチ性向上用処理液
および画像情報またはその潜像を保有する画像複製材料
の表面に１式Ａｍ−Ｂｎで示される化合物を含む溶液を
塗布、あるいけ該溶液に前記画像複製材料を含浸させる
ことによって、該画像複製材料の表面に耐スクラッチ層
を形成させることを特徴とする耐スクラッチ性画像複製
材料の製造方法。
液であることを特徴とする耐スクラッチ性向上用処理液
および画像情報またはその潜像を保有する画像複製材料
の表面に１式Ａｍ−Ｂｎで示される化合物を含む溶液を
塗布、あるいけ該溶液に前記画像複製材料を含浸させる
ことによって、該画像複製材料の表面に耐スクラッチ層
を形成させることを特徴とする耐スクラッチ性画像複製
材料の製造方法。
〔ただし前記式において、Ａは１価もしくは２価の分岐
していてもよい炭素数１１〜２０の脂肪族炭化水素、Ｂ
は水素、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトリル基、アル
デヒド基、カルボキシル基、カルボン基のアルキルアミ
ド、アルキルエステルもしくはアンモニウムまたは周期
律表第Ｉ〜ＩＶ族の金属の塩であり、ｍは１、２または
３、ｎは１または２を示す。〕 本発明における”画像情報またはその潜像を既に保有す
る画像複製材料″とは１画像露光後、現像前のあるいは
現像・定着等のプロ七シング途中の、いわゆる潜像を有
する画像複製材料もしくは全ての必要なプロセシングを
経て画像（＠像）形成後の画像複製材料を意味するもの
である。
していてもよい炭素数１１〜２０の脂肪族炭化水素、Ｂ
は水素、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトリル基、アル
デヒド基、カルボキシル基、カルボン基のアルキルアミ
ド、アルキルエステルもしくはアンモニウムまたは周期
律表第Ｉ〜ＩＶ族の金属の塩であり、ｍは１、２または
３、ｎは１または２を示す。〕 本発明における”画像情報またはその潜像を既に保有す
る画像複製材料″とは１画像露光後、現像前のあるいは
現像・定着等のプロ七シング途中の、いわゆる潜像を有
する画像複製材料もしくは全ての必要なプロセシングを
経て画像（＠像）形成後の画像複製材料を意味するもの
である。
本発明において、かかる潜像または顕像を形成し得る画
像複製材料としては、いかなるものをも利用できる。す
なわち、銀塩写真フィルム、ジアゾ写真フィルム、フリ
ーラジカル写真フィルム等の表面平滑なる薄層彩画像複
製材料、フォトポリマータイプやジアゾレジンタイプの
薄層彩画像複製材料であって、レジスト画像を形成する
もの。
像複製材料としては、いかなるものをも利用できる。す
なわち、銀塩写真フィルム、ジアゾ写真フィルム、フリ
ーラジカル写真フィルム等の表面平滑なる薄層彩画像複
製材料、フォトポリマータイプやジアゾレジンタイプの
薄層彩画像複製材料であって、レジスト画像を形成する
もの。
これらの中には、顔料内蔵型や後染めにより着色画像を
形成するもの、また遮光性向上のため下びき層として金
属蒸着膜を有するものなどがあり。
形成するもの、また遮光性向上のため下びき層として金
属蒸着膜を有するものなどがあり。
全てに対して有効である。他に７オトポリマーやジアゾ
レジンタイプの材料としては、平版印刷用のいわゆるＰ
Ｓ版、ワイボン版等がある。フォトポリマータイプでは
薄層ではなく数百μの厚みのあるレリーフ画像を形成す
る感光性樹脂凸版や紙型、母型どり用感光性樹脂凸版、
スクリーン印刷用感光性樹脂フィルム等もあり１本発明
は上記し ５− たあらゆる画像複製材料において、その潜像形成状態、
もしくは顕像形成後に適用できるものである。
レジンタイプの材料としては、平版印刷用のいわゆるＰ
Ｓ版、ワイボン版等がある。フォトポリマータイプでは
薄層ではなく数百μの厚みのあるレリーフ画像を形成す
る感光性樹脂凸版や紙型、母型どり用感光性樹脂凸版、
スクリーン印刷用感光性樹脂フィルム等もあり１本発明
は上記し ５− たあらゆる画像複製材料において、その潜像形成状態、
もしくは顕像形成後に適用できるものである。
本発明によ９１画像の耐スクラッチ性を向上させる次め
には下記に詳述する耐スクラッチ性向上剤を含有する処
理液を、あたかも写真製版工程で画像表面をクリーニン
グする時の如く、布等に含 浸させて画像表面をふいた
り、あるいは直接該処理液に含浸させたりして表面に耐
スクラッチ性向上剤の層を形成させる方法をとる。該処
理液を画像表面にスプレーして同様の効果を得ることは
本発明の一実施態様である。あるいは又特に潜像形成後
、顕像形成までの段階に有利な本発明の方法は、かかる
耐スクラッチ性向上剤を潜像を顕像化する過程での現像
液、定着液、あるいは水洗液のような通常用いられてい
る処理液に配合させることにより１通常のプロセシング
の途中に同時に耐スクラッチ性向上の処理を行なうこと
もできる。
には下記に詳述する耐スクラッチ性向上剤を含有する処
理液を、あたかも写真製版工程で画像表面をクリーニン
グする時の如く、布等に含 浸させて画像表面をふいた
り、あるいは直接該処理液に含浸させたりして表面に耐
スクラッチ性向上剤の層を形成させる方法をとる。該処
理液を画像表面にスプレーして同様の効果を得ることは
本発明の一実施態様である。あるいは又特に潜像形成後
、顕像形成までの段階に有利な本発明の方法は、かかる
耐スクラッチ性向上剤を潜像を顕像化する過程での現像
液、定着液、あるいは水洗液のような通常用いられてい
る処理液に配合させることにより１通常のプロセシング
の途中に同時に耐スクラッチ性向上の処理を行なうこと
もできる。
なお、プロセシングが画像複製材料の種類によっては完
全にドライプロセス（湿式処理を伴なわな ６− い）で行なわれる場合には、別にその途中に耐スクラッ
チ性向上処理液のウェットプロセスを追加する事で効果
を出すことができる。
全にドライプロセス（湿式処理を伴なわな ６− い）で行なわれる場合には、別にその途中に耐スクラッ
チ性向上処理液のウェットプロセスを追加する事で効果
を出すことができる。
次に本発明における耐スクラッチ性向上用処理液につい
て詳述する。かかる処理液は構造式Ａｍ−Ｂｎで示され
る化合物（以下耐スクラッチ性向上剤という）を含有し
、Ａけ１価もしくは２価の分岐していてもよい炭素数１
１〜２０の脂肪族炭化水素基、Ｂけヒドロキシル基、ア
ミノ基、ニドは周期律表第１〜■族の金属の塩であり１
ｍけ１゜２又Ｖｉ３．ｎは１又は２を表わしている。
て詳述する。かかる処理液は構造式Ａｍ−Ｂｎで示され
る化合物（以下耐スクラッチ性向上剤という）を含有し
、Ａけ１価もしくは２価の分岐していてもよい炭素数１
１〜２０の脂肪族炭化水素基、Ｂけヒドロキシル基、ア
ミノ基、ニドは周期律表第１〜■族の金属の塩であり１
ｍけ１゜２又Ｖｉ３．ｎは１又は２を表わしている。
かかる耐スクラッチ性向上剤の例としては、脂肪族炭化
水素のモノカルボン酸又はジカルボン酸として、ラウリ
ン酸ｔ ｎ−）リデシレン酸、ミリスチン酸ｈｎ−ペン
タデシレン酸、バルミチン酸。
水素のモノカルボン酸又はジカルボン酸として、ラウリ
ン酸ｔ ｎ−）リデシレン酸、ミリスチン酸ｈｎ−ペン
タデシレン酸、バルミチン酸。
ヘキサデシレン酸、ステアリン酸、オレイン酸。
リノール酸、エライジン酸％ｎ−ノナデシレン酸。
アラギン酸、バツキジン酸、エイコセン酸、トラｙス−
２−Ｆデセン酸、イソステアリン酸、２−ノナヘプチル
ウンデカン酸、１−１６．ヘキサデカンジオイックアシ
ッド、１−２０エイコサンジオイツクアンツド。ｔ−た
前記カルボン酸の誘導体としては周期律表第Ｔ〜■族の
金属との塩やエステグリ七リンの如き多価アルコールと
のエステルが挙げられ、具体的にはラウリン酸グリコー
ル、ラウリン酸グリセリンエステル、ミリスチン酸グリ
コール、ミリスチン酸グリセリンエステル、バルミチン
酸グリコール、バルミチン酸グリセリンエステル、ステ
アリン酸グリコール、ジステアリン酸クリコール、ステ
アリン酸グリセリンエステルなどが有効である。また、
ビニルエステルとしては、ステアリン酸ビニルが有効で
ある。
２−Ｆデセン酸、イソステアリン酸、２−ノナヘプチル
ウンデカン酸、１−１６．ヘキサデカンジオイックアシ
ッド、１−２０エイコサンジオイツクアンツド。ｔ−た
前記カルボン酸の誘導体としては周期律表第Ｔ〜■族の
金属との塩やエステグリ七リンの如き多価アルコールと
のエステルが挙げられ、具体的にはラウリン酸グリコー
ル、ラウリン酸グリセリンエステル、ミリスチン酸グリ
コール、ミリスチン酸グリセリンエステル、バルミチン
酸グリコール、バルミチン酸グリセリンエステル、ステ
アリン酸グリコール、ジステアリン酸クリコール、ステ
アリン酸グリセリンエステルなどが有効である。また、
ビニルエステルとしては、ステアリン酸ビニルが有効で
ある。
カルボン酸誘導体としては、またアミドが有効であり１
例えばラウリンアミド、トリデシルアミド、バルミチン
酸アミド、２−へブタデセン酸アミド、ステアリン酸ア
ミド、アヲＶン酸アミドである。
例えばラウリンアミド、トリデシルアミド、バルミチン
酸アミド、２−へブタデセン酸アミド、ステアリン酸ア
ミド、アヲＶン酸アミドである。
耐スクラッチ性向上剤の他の例は、脂肪族炭化水素ノア
ルツール、アルデヒド、アミン及びニトリルである。例
えびアルコールとしては、ラウリルアルコール、ドデシ
ルアルコール、ミリスチルアルコール、ペンタデシルア
ルコール、ヘプタデシルアルコール、ステアリルアルコ
ール、ノナデシルアルコール、アラキンアルコールナト
。
ルツール、アルデヒド、アミン及びニトリルである。例
えびアルコールとしては、ラウリルアルコール、ドデシ
ルアルコール、ミリスチルアルコール、ペンタデシルア
ルコール、ヘプタデシルアルコール、ステアリルアルコ
ール、ノナデシルアルコール、アラキンアルコールナト
。
また、アルデヒドとしては、ヲウリンアルデヒド、ドデ
シルアルデヒド、ミリスチンアルデヒド。
シルアルデヒド、ミリスチンアルデヒド。
ペンタデシルアルコールト、トリデシルアルデヒド。
ヘプタデシルアルデヒド、ステアリンアルデヒドなど。
アミンとしては、ラウリルアミン、ミリスチルアミン、
ペンタデシルアミン、ステアリルアミンなど。
ペンタデシルアミン、ステアリルアミンなど。
ニトリルとしては、ラウリロニトリル、トリテシルニト
リル、ミリストニトリル、パルミトニトリル、ステアロ
ニトリルなどである。
リル、ミリストニトリル、パルミトニトリル、ステアロ
ニトリルなどである。
９一
本発明の耐スクラッチ性向上用処理液としては、かかる
耐スクラッチ性向上剤を単独で用いてもよいが、又数種
混合して用いてもよい。なお１本発明において好ましい
耐スクラッチ性向上剤としてはステアリン酸、ラウリン
酸、ミリスチン酸、オレイン酸などの脂肪族カルボン酸
およびそのアルキルエステルである。
耐スクラッチ性向上剤を単独で用いてもよいが、又数種
混合して用いてもよい。なお１本発明において好ましい
耐スクラッチ性向上剤としてはステアリン酸、ラウリン
酸、ミリスチン酸、オレイン酸などの脂肪族カルボン酸
およびそのアルキルエステルである。
かかる耐スクラッチ性向上剤を用いて本発明耐スクラッ
チ性向上用処理液を調合するためには。
チ性向上用処理液を調合するためには。
該向上剤を溶剤に溶解して溶液にする。このために用い
ることのできる溶剤は、該向上剤を溶解させるものは何
でも用いられるが１例えば、水、アルカリ性水溶液、酸
性水溶液、メタノール、エタノール、プロピルアルコー
ル等のアルコール、エーテル、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、石油エーテル、アセトン、メチルエチルケトン
、 酢酸エチル、クロロホルム、１，１，１．− ）ジ
クロルエタン。
ることのできる溶剤は、該向上剤を溶解させるものは何
でも用いられるが１例えば、水、アルカリ性水溶液、酸
性水溶液、メタノール、エタノール、プロピルアルコー
ル等のアルコール、エーテル、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、石油エーテル、アセトン、メチルエチルケトン
、 酢酸エチル、クロロホルム、１，１，１．− ）ジ
クロルエタン。
ジクロルエタン、ジクロルエチレン、テトラクロルエタ
ン、四塩化炭素等が挙げられる。かかる処理液中の耐ス
クラッチ性向上剤の濃度は、特に指１０− 定するものではない。それは如何にしてかかる処理液を
利用するかの方法に依っており１例えば。
ン、四塩化炭素等が挙げられる。かかる処理液中の耐ス
クラッチ性向上剤の濃度は、特に指１０− 定するものではない。それは如何にしてかかる処理液を
利用するかの方法に依っており１例えば。
布に処理液を含浸させて複製画像表面をふくことによっ
て該向上剤を付与させる方法の場合、この作業を何度も
繰返すならば処理液濃度は極く薄いものでよいし、逆に
高濃度にしておけば１表面をふく作業は１回で充分であ
る。
て該向上剤を付与させる方法の場合、この作業を何度も
繰返すならば処理液濃度は極く薄いものでよいし、逆に
高濃度にしておけば１表面をふく作業は１回で充分であ
る。
以上のような構成からなる本発明は次の様な特長を有す
る。
る。
（１）取扱作業中に引掻き傷が生じる恐れがない。
（２） 潜像形成段階の画像複製材料にも適用できて且
その後のプロセシング工程での脱落が少ないタメ、プロ
セシング工程に組込んで十分な効果を発揮できる。
その後のプロセシング工程での脱落が少ないタメ、プロ
セシング工程に組込んで十分な効果を発揮できる。
（３） 画像表面に処理を施して十分な効果を発揮せし
めても、なお無色透明であるので画像のその後の利用に
悪い影響を及ぼさない。
めても、なお無色透明であるので画像のその後の利用に
悪い影響を及ぼさない。
（４）特に、銀塩フィルムや活性光線吸収剤を含有する
フォトポリマーフィルムの如き、いわゆる減力を施せる
画像複製材料の場合に適用しても減力効果への阻害が少
ない。
フォトポリマーフィルムの如き、いわゆる減力を施せる
画像複製材料の場合に適用しても減力効果への阻害が少
ない。
（５） 製版用途向は画像複製材料に適用した場合。
該用途において多用されるオペーク等のはじきが少ない
。
。
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
なお、実施例中１部とは重量部を指すものとする。
実施例１゜
以下に述べる方法によ５Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄの４種類の画像
複製材料を作製した。
複製材料を作製した。
画像複製材料Ａ
厚さ１００μのポリエステルフィルムに下記の組成物を
リバースコーターでコーティングし、乾燥することによ
り０．５μの下引層を存するポリエステルフィルムを作
製した。
リバースコーターでコーティングし、乾燥することによ
り０．５μの下引層を存するポリエステルフィルムを作
製した。
バ′
コロネートしく日本ポリウレタン工業製） ４部Ｕ−Ｃ
ａｔ ５Ａ−Ａ１０２（サンアボット社製）０．１部ト
ルエ ン ８０部 メチルエチルケトン ２０部 次に、下記組成物を混合分散させた感光性組成物を調整
し、リバースコーターにより上記下引き層を設けたポリ
エステルフィルム上にコーティングし、厚さ３μの感光
層を被覆した。
ａｔ ５Ａ−Ａ１０２（サンアボット社製）０．１部ト
ルエ ン ８０部 メチルエチルケトン ２０部 次に、下記組成物を混合分散させた感光性組成物を調整
し、リバースコーターにより上記下引き層を設けたポリ
エステルフィルム上にコーティングし、厚さ３μの感光
層を被覆した。
メタアクリル酸メチル（７７モル％）１メタアクリル酸
（２３モル％）共重合体 ４１部カーボンブラック １
２部 トリメチロールプロパントリアクリレート ３４部２−
（２−クロロ−１−ナフチル）４．５−ジフェニルイミ
ダゾール２量体 ８部 ハイドロキノン七ツメチルエーテル ０．０３部ジメド
ン ３部 ミヒヲーケトン ２．０部 メタノール １４０部 クロロホルム １２０部 酢酸エチル ８０部 酢酸ｎ−プロピル ４０部 イソプロピルアルコール ４０部 さらに、このフィルム上に下記の組成からなる保護層用
組成物を同様にコーティングし、厚さ１１３− μの保護層を有する感光性フィルムＡを作成した。
（２３モル％）共重合体 ４１部カーボンブラック １
２部 トリメチロールプロパントリアクリレート ３４部２−
（２−クロロ−１−ナフチル）４．５−ジフェニルイミ
ダゾール２量体 ８部 ハイドロキノン七ツメチルエーテル ０．０３部ジメド
ン ３部 ミヒヲーケトン ２．０部 メタノール １４０部 クロロホルム １２０部 酢酸エチル ８０部 酢酸ｎ−プロピル ４０部 イソプロピルアルコール ４０部 さらに、このフィルム上に下記の組成からなる保護層用
組成物を同様にコーティングし、厚さ１１３− μの保護層を有する感光性フィルムＡを作成した。
ポリビニルアルコール ５部
（ケン化度９８．５％、重合度５００）ノイゲシＥＡ−
１４０（第−工業製薬製）０．２部メタノール ５部 水 ９０部 得られた感光性フィルムに、２１段ステップガイド（大
日本スクリーン社製）と１５０１／ｉｒｂ。
１４０（第−工業製薬製）０．２部メタノール ５部 水 ９０部 得られた感光性フィルムに、２１段ステップガイド（大
日本スクリーン社製）と１５０１／ｉｒｂ。
網点面積率５０％の平網画像を組合わせたテスト用ネガ
フィルムを重ね、明室プリンター（ＯＲＣ社製）を用い
２画像露光を行なった。次に水洗で保護層を除いた後に
、３０℃に調節した０、７５チＮａ２ＣＯＢ水溶液中に
１０秒間浸漬後、水洗下、スポンジで擦りながら現像乾
燥することにより反転画像を得た。ステップガイドの５
段まで開化しており、網点はネガをよく再現している事
が’ｌ’ｌＪつた。
フィルムを重ね、明室プリンター（ＯＲＣ社製）を用い
２画像露光を行なった。次に水洗で保護層を除いた後に
、３０℃に調節した０、７５チＮａ２ＣＯＢ水溶液中に
１０秒間浸漬後、水洗下、スポンジで擦りながら現像乾
燥することにより反転画像を得た。ステップガイドの５
段まで開化しており、網点はネガをよく再現している事
が’ｌ’ｌＪつた。
次に同様にして作った複製網点画像を、３０℃に保っ九
九イドロキノンの５％水溶液に１５秒間浸漬後、水洗、
乾燥することにより画像複製材料を得た。
九イドロキノンの５％水溶液に１５秒間浸漬後、水洗、
乾燥することにより画像複製材料を得た。
１４−
画像複製材料Ｂ
厚さ１００μのポリエステルフィルムの表面を洗浄、乾
燥したのち、抵抗加熱方式の真空蒸着器により１Ｏ−６
Ｔｏｒｒ台の真空下でアルミニウムを厚さ５００人に蒸
着させた。
燥したのち、抵抗加熱方式の真空蒸着器により１Ｏ−６
Ｔｏｒｒ台の真空下でアルミニウムを厚さ５００人に蒸
着させた。
次に下記感光性組成物を調整しリバースコーターによシ
上記アルミニウム蒸着されたポリエステルフィルム上に
コーティングし、厚さ３μの感光層を被覆した。
上記アルミニウム蒸着されたポリエステルフィルム上に
コーティングし、厚さ３μの感光層を被覆した。
メチルメタアクリレート（２５モル％）。
メタアクリル酸（４５モル％）、ラウリルメタアクリレ
ート（３０モル％）共重合体 １５部トリメチロールプ
ロパントリアクリレート １２部ジメドン １部 クマリン ０．５部 ２−（２−クロロ−１−ナフチル） ４．５−ジフェニ
ルイミダゾール２量体 ２．８部ハイドロキノン七ツメ
チルエーテル ０．０２部アセトン １３４部 り７７ホルム １６部 メチルアルコール ２６部 さらに、このフィルム上に画像複製材料Ａの時と同様に
保護層を厚さ１μに設けて感光性フィルムＢを得た。
ート（３０モル％）共重合体 １５部トリメチロールプ
ロパントリアクリレート １２部ジメドン １部 クマリン ０．５部 ２−（２−クロロ−１−ナフチル） ４．５−ジフェニ
ルイミダゾール２量体 ２．８部ハイドロキノン七ツメ
チルエーテル ０．０２部アセトン １３４部 り７７ホルム １６部 メチルアルコール ２６部 さらに、このフィルム上に画像複製材料Ａの時と同様に
保護層を厚さ１μに設けて感光性フィルムＢを得た。
このフィルムを用い、画像複製材料へ作製時と同様に５
秒間画像露光を行なった。次に水洗で保護層を除いた後
に、３０℃に調節した０、７５％ＮａｚＣＯｓ水溶液中
に１０秒間浸漬後、水洗下、スポンジで擦りながら現像
して、感光性樹脂層の未露光部を除去し１次いで水酸化
カルシウム飽和水溶液（３０℃）の第２現像処理液に３
分間浸漬したのち水洗し、更にハイドロキノン５％水溶
液（３０℃）に１５秒間浸漬し、水洗、乾燥を経て画像
複製材料Ｂを得た。ステップガイドは５段まで硬化して
おり網点はネガをよく再現していた。
秒間画像露光を行なった。次に水洗で保護層を除いた後
に、３０℃に調節した０、７５％ＮａｚＣＯｓ水溶液中
に１０秒間浸漬後、水洗下、スポンジで擦りながら現像
して、感光性樹脂層の未露光部を除去し１次いで水酸化
カルシウム飽和水溶液（３０℃）の第２現像処理液に３
分間浸漬したのち水洗し、更にハイドロキノン５％水溶
液（３０℃）に１５秒間浸漬し、水洗、乾燥を経て画像
複製材料Ｂを得た。ステップガイドは５段まで硬化して
おり網点はネガをよく再現していた。
画像複製材料Ｃ
２−メチル−２−（Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）メチル１
．３−プロパンジオールとテレフタル酸とを、モル比が
１．１ ｉ １の割合で通常の方法に従い重縮合して得
られるポリエステル１００部ト、 ４．４’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート１部、３部。
．３−プロパンジオールとテレフタル酸とを、モル比が
１．１ ｉ １の割合で通常の方法に従い重縮合して得
られるポリエステル１００部ト、 ４．４’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート１部、３部。
５部、７部をそれぞれベンゼン５２５部に溶解し。
３０℃で４０分間攪拌した。次にトリブロモメチルフェ
ニルスルフォン６１部を溶解し、この溶液を画像複製材
料へ作製時に用いた。下びき層のあるポリエステルフィ
ルム上にツー）Ｌ、、厚す５μの感光層を有する感光性
フィルムＣを得た。このフィルムを用い画像複製材料へ
作成時と同様にして２０秒間画像露光した。
ニルスルフォン６１部を溶解し、この溶液を画像複製材
料へ作製時に用いた。下びき層のあるポリエステルフィ
ルム上にツー）Ｌ、、厚す５μの感光層を有する感光性
フィルムＣを得た。このフィルムを用い画像複製材料へ
作成時と同様にして２０秒間画像露光した。
このフィルムを、ブロムフェノールブルー０．００６６
部を水およびメタノールの混合溶液（水／メタノールー
４／６容積比）１０部に溶解した現像液に２０℃にて１
８０秒間浸漬して現像し、乾燥することにより画像複製
材料Ｃを得た。ステップガイドは４段まで十分な濃度で
着色しており網点はネガをよく再現していた。
部を水およびメタノールの混合溶液（水／メタノールー
４／６容積比）１０部に溶解した現像液に２０℃にて１
８０秒間浸漬して現像し、乾燥することにより画像複製
材料Ｃを得た。ステップガイドは４段まで十分な濃度で
着色しており網点はネガをよく再現していた。
画像複製材料り
感光性フィルムＤとしてフジリスコンタクトフィルム（
商品名：富士写真フィルムに／に製〕を用いる。画像複
製材料Ａ作製時と同様にして５秒間１７− 画像露光を行なった。次に、フジリスフィルム用標準現
像液ハイリソドール（商品名：富士写真フィルムＫｌＫ
製）を用い、２０℃にて連続攪拌しながら２分間現像し
て後、２０℃の酢酸３チ水溶液中に２０秒浸漬して停止
を行なった。次に、酸性硬膜定着剤フジフィックス（商
品名：富士写真フィルム■製）を用い、２０℃にて３分
間の定着を実施して後、水洗促進剤として２％の亜硫酸
ナトリウム溶液に２分浸漬後、流水にて５分水洗し最後
に５０℃の温風にて３０秒乾燥し１画像複製材料りを得
た。ステップガイドは３〜４段感光しており、網点はネ
ガをよく再現していた。
商品名：富士写真フィルムに／に製〕を用いる。画像複
製材料Ａ作製時と同様にして５秒間１７− 画像露光を行なった。次に、フジリスフィルム用標準現
像液ハイリソドール（商品名：富士写真フィルムＫｌＫ
製）を用い、２０℃にて連続攪拌しながら２分間現像し
て後、２０℃の酢酸３チ水溶液中に２０秒浸漬して停止
を行なった。次に、酸性硬膜定着剤フジフィックス（商
品名：富士写真フィルム■製）を用い、２０℃にて３分
間の定着を実施して後、水洗促進剤として２％の亜硫酸
ナトリウム溶液に２分浸漬後、流水にて５分水洗し最後
に５０℃の温風にて３０秒乾燥し１画像複製材料りを得
た。ステップガイドは３〜４段感光しており、網点はネ
ガをよく再現していた。
本発明の効果を検証するために表１に示す処理液を調合
した。
した。
１８−
表 １
これらの処理液を用い、先に得られた画像複製材料Ａ−
Ｄを１次の（Ｅ） 、（Ｆ） ２種類の方法で処理した
。（（Ｅ） 、（Ｆ）いずれの方法を用いたかを表１に
併記した） （Ｅ）処理液に１００チコツトンパツドであるＷｅｂｒ
ｉｌ Ｌｌｔｈｏ−Ｐａｄｓ （商品名： Ｋｅｎｄａ
ｌ Ｃｏ、製）を浸して後よくしぼり画像表面を５回な
でて風乾する。
Ｄを１次の（Ｅ） 、（Ｆ） ２種類の方法で処理した
。（（Ｅ） 、（Ｆ）いずれの方法を用いたかを表１に
併記した） （Ｅ）処理液に１００チコツトンパツドであるＷｅｂｒ
ｉｌ Ｌｌｔｈｏ−Ｐａｄｓ （商品名： Ｋｅｎｄａ
ｌ Ｃｏ、製）を浸して後よくしぼり画像表面を５回な
でて風乾する。
（Ｆ）画像複製材料を処理液に３０秒間２０℃にて浸漬
して後、ひき上げ風乾する。
して後、ひき上げ風乾する。
かくして得られた処理済の画像複製材料につき新東科学
蹄製表面性試験機タイプＨｅ１ｄｏｎ−１４を用い０．
１χφのサファイア針にて１００χ／分の速度で荷重下
、引掻テストを行なったところ表２に示す如き強度が得
られた。
蹄製表面性試験機タイプＨｅ１ｄｏｎ−１４を用い０．
１χφのサファイア針にて１００χ／分の速度で荷重下
、引掻テストを行なったところ表２に示す如き強度が得
られた。
以上の結果から明らかなように１本発明の耐スクラッチ
性向上用処理液を用い、本発明の方法を採用する事によ
り画像表面の耐スクラッチ性が非常に向上したことが判
明した。
性向上用処理液を用い、本発明の方法を採用する事によ
り画像表面の耐スクラッチ性が非常に向上したことが判
明した。
実施例２゜
実施例１における感光性フィルムＡにつき、実施例１の
如く画像露光し１次に水洗で保護層を除いた後にラウリ
ル硫酸ナトリウム０．５％を含む０．７５％Ｎａ２ＣＯ
３水溶液中に１０秒間浸漬後、水洗下、スポンジで擦り
ながら現像乾燥することによシ１反転画像を得に０ステ
ツプガイドは５段まで硬化しており、且網点はネガをよ
く再現していたが、この画像複製材料を用い、実施例１
の如くして引掻強度を測定したところ１５０２であった
。
如く画像露光し１次に水洗で保護層を除いた後にラウリ
ル硫酸ナトリウム０．５％を含む０．７５％Ｎａ２ＣＯ
３水溶液中に１０秒間浸漬後、水洗下、スポンジで擦り
ながら現像乾燥することによシ１反転画像を得に０ステ
ツプガイドは５段まで硬化しており、且網点はネガをよ
く再現していたが、この画像複製材料を用い、実施例１
の如くして引掻強度を測定したところ１５０２であった
。
ラウリル硫酸ナトリウムの入らない現像液による画像複
製材料Ａの引掻強度８ｆ！と比べ非常に耐スクラッチ性
の向上したことが判明した。
製材料Ａの引掻強度８ｆ！と比べ非常に耐スクラッチ性
の向上したことが判明した。
特許出願人 東洋紡績株式会社
２２−
Claims (1)
- （１）式Ａｍ−Ｂｎで示される化合物を含む溶液である
ことを特徴とする耐スクラッチ性向上用処理液。 〔ただし前記式において、Ａは１価もしくは２価の分岐
していてもよい炭素数１１〜２０の脂肪族炭化水素、Ｂ
は水素、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトリル基、アル
デヒド基、カルボキシル基、カルボン基のアルキルアミ
ド、アルキルエステルもしくはアンモニウムまたは周期
律表第Ｉ〜ＩＶ族の金属の塩であり、ｍは１、２または
３、ｎは１または２を示す。〕（２） 画像情報または
その潜像を保有する画像複製材料の表面に１式Ａｍ−Ｂ
ｎで示される化合物を含む溶液を塗布、あるいは該溶液
に前記画像複製材料を含浸させることによって、該画像
複製材料の表面に耐スクラッチ層を形成させることを特
徴とする耐スクラッチ性画像複製材料の製造方法。 〔ただし前記式において、Ａは１価もしくは２価の分岐
していてもよい炭素数１１〜２０の脂肪族炭化水素、Ｂ
は水素、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトリル基、アル
デヒド基、カルボキシル基、カルボン基のアルキルアミ
ド、アルキルエステルもしくはアンモニウムまたは周期
律表第Ｉ〜ＩＶ族の金属の塩であり、ｍは１、２または
３、ｎは１または２を示す。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17474783A JPS6064345A (ja) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | 耐スクラツチ性向上用処理液および耐スクラツチ性画像複製材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17474783A JPS6064345A (ja) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | 耐スクラツチ性向上用処理液および耐スクラツチ性画像複製材料の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6064345A true JPS6064345A (ja) | 1985-04-12 |
Family
ID=15983971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17474783A Pending JPS6064345A (ja) | 1983-09-20 | 1983-09-20 | 耐スクラツチ性向上用処理液および耐スクラツチ性画像複製材料の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6064345A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60191237A (ja) * | 1984-03-13 | 1985-09-28 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 露光硬化後非粘着性感光性樹脂組成物 |
| EP0275147A2 (en) * | 1987-01-12 | 1988-07-20 | E.I. du Pont de Nemours and Company | Improvements in or relating to printing plate precursors |
| EP0908786A3 (en) * | 1997-10-03 | 2000-06-28 | Eaton Corporation | Process for reducing shrinkage of features formed in a photoresist by treatment with an amine, an amide or an aldehyde |
-
1983
- 1983-09-20 JP JP17474783A patent/JPS6064345A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60191237A (ja) * | 1984-03-13 | 1985-09-28 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 露光硬化後非粘着性感光性樹脂組成物 |
| JPH0555857B2 (ja) * | 1984-03-13 | 1993-08-18 | Asahi Chemical Ind | |
| EP0275147A2 (en) * | 1987-01-12 | 1988-07-20 | E.I. du Pont de Nemours and Company | Improvements in or relating to printing plate precursors |
| EP0908786A3 (en) * | 1997-10-03 | 2000-06-28 | Eaton Corporation | Process for reducing shrinkage of features formed in a photoresist by treatment with an amine, an amide or an aldehyde |
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