DE3806943A1 - Verfahren und herstellung einer nickelhydroxid-elektrode fuer alkalische speicherzellen - Google Patents

Verfahren und herstellung einer nickelhydroxid-elektrode fuer alkalische speicherzellen

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Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Nickelhydroxid-Elektrode der gesinterten Art zum Gebrauch in alkalischen Speicherzellen, in denen eine poröse, ge­ sinterte Nickelplatte mit einem aktiven Material gefüllt wird durch Imprägnieren der gesinterten Platte mit einem sauren Nickelsalz wie Nickelnitrat, wobei sie anschließend einer alkalischen Behandlung ausgesetzt wird.
Bei einem konventionellen Verfahren zur Herstellung einer Nickelhydroxid-Elektrode der gesinterten Art zum Gebrauch in alkalischen Speicherzellen wird ein Vorgang zum Ein­ füllen eines aktiven Materials durchgeführt. Bei diesem Vorgang wird die poröse, gesinterte Nickelplatte, die als Träger für ein aktives Material dient, in eine Lösung eines sauren Nickelsalzes wie Nickelnitrat eingetaucht, um die Poren der gesinterten Platte mit dem Nickelsalz zu imprä­ gnieren, und anschließend wird das Nickelsalz durch Um­ wandlung in Nickelhydroxid durch Kontakt mit einer alka­ lischen Lösung aktiviert. Durch einen derartigen Einfüll­ vorgang für das aktive Material kann jedoch die gesinterte Nickelplatte nicht mit einem ausreichenden Anteil von aktivem Material versehen werden. Dieser Vorgang muß einige Male wiederholt werden, um die gesinterte Platte mit einem ausreichenden Anteil von aktivem Material zu füllen, was zu einer geringen Effektivität bei der Einfüllarbeit für das aktive Material führt.
Um die Effizienz beim Einfüllen des aktiven Materials zu verbessern und den Herstellungsvorgang zu vereinfachen wird eine Salzlösung wie eine wässrige Lösung von Nickel­ nitrat mit hoher Temperatur und hoher Konzentration ver­ wendet, um während einer reduzierten Anzahl von Imprä­ gnierungsschritten einen ausreichenden Anteil von aktivem Material zu erhalten. In diesem Fall ist jedoch die Imprä­ gnierlösung naturgemäß hochkorrosiv und die gesinterte Platte wird dabei korrodiert. Folglich wird das die ge­ sinterte Platte bildende Nickel aufgelöst, so daß die Elektrode spröde bzw. brüchig wird. Eine eine derartige Elektrode verwendende Zelle zeigt deshalb eine reduzierte Zykluslebensdauer.
Andererseits wird in den japanischen Patentveröffent­ lichungen Nr. 59-78 457 und 59-96 659 ein Verfahren zur Ver­ hinderung der Korrosion der gesinterten Platte vorge­ schlagen, in dem bei Anwesenheit von Sauerstoff und bei hoher Temperatur ein oxidationsresistentes Nickeloxid auf den Oberflächen der gesinterten Nickelplatte ausge­ bildet wird. Entsprechend diesem Verfahren kann jedoch die Korrosion der gesinterten Platte nicht ausreichend verhindert werden, falls das Nickeloxid nur zu einem kleinen Betrag gebildet wird. Andererseits, wenn bei dem Versuch zufriedenstellende Ergebnisse zu erhalten, ein erhöhter Anteil von Nickeloxid ausgebildet wird, wird die Leitfähigkeit zwischen der im aktiven Material der ge­ sinterten Platte ernstlich verschlechtert, da Nickel­ oxid eine schlechte Leitfähigkeit aufweist. Dies gibt Anlaß zu dem Problem der Verringerung des Wirkungsgrades des aktiven Materials.
Demgemäß liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde ein Verfahren zur Herstellung einer Nickelhydroxid-Elektrode zum Gebrauch in alkalischen Speicherzellen anzugeben, bei dem die Korrosion einer gesinterten Nickelplatte in einer heißen Imprägnierungs-Säurelösung wirksam verhindert wird und bei dem gleichzeitig die Leitfähigkeit zwischen dem aktiven Material und der gesinterten Platte aufrecht er­ halten wird.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein Ver­ fahren zur Herstellung einer Nickelhydroxid-Elektrode mit einem ersten Schritt zur Ausbildung von Kobalthydroxid auf den Oberflächen auf einer porösen, gesinterten Nickel­ platte, einem zweiten Schritt zur Wärmebehandlung der gesinterten Platte, die mit Kobalthydroxid versehen ist, in der Anwesenheit einer alkalischen Lösung und Sauer­ stoff und einem dritten Schritt zur Ausführung eines Ein­ füllvorganges für aktives Material zum Imprägnieren der wärmebehandelten gesinterten Platte mit einem sauren Nickel­ salz.
Das Kobalthydroxid kann im ersten Schritt durch Eintauchen der gesinterten Platte in eine wässrige Lösung von Kobalt­ nitrat und anschließendes Eintauchen der gesinterten Platte in heißes Atznatron durchgeführt werden.
In einer bevorzugten Ausführungsform wird der Einfüllvor­ gang für das aktive Material im dritten Schritt durchge­ führt durch Imprägnieren der porösen, gesinterten Nickel­ platte und anschließendes Durchführen einer Alkalibehand­ lung an der gesinterten Nickelplatte.
In anderer Weise kann der Einfüllvorgang für das aktive Material durchgeführt werden durch Eintauchen der gesin­ terten Platte in eine geheizte wässrige Lösung von Nickel­ nitrat und anschließendes Eintauchen der gesinterten Platte in eine Ätznatronlösung bzw. Natronlauge.
Die Aufgabe der Erfindung wird ferner durch ein Her­ stellungsverfahren gelöst mit einem ersten Schritt zur Ausbildung von Kobalthydroxid auf den Oberflächen einer porösen gesinterten Nickelplatte, einem zweiten Schritt zur Umwandlung des Kobalthydroxids, das auf den Ober­ flächen der gesinterten Nickelplatte ausgebildet ist, in Kobaltoxidhydroxid oder Kobaltoxihydroxid und Kobaltoxid (Zo3O4) mit einer reduzierten Kristallbildung und einem dritten Schritt zur Durchführung eines Einfüllvorganges für das aktive Material für die gesinterte Platte, die mit Kobaltoxidhydroxid versehen ist.
Bei diesem Verfahren kann das Kobalthydroxid ebenfalls im ersten Schritt durch Eintauchen der gesinterten Platte in eine wässrige Lösung von Kobaltnitrat und anschließendes Eintauchen der gesinterten Platte in geheiztes Ätznatron ausgebildet werden.
Vorzugsweise wird im zweiten Schritt das Kobaltoxidhydroxid durch Durchführung einer Wärmebehandlung ohne Entfernen der im ersten Schritt aufgebrachten Alkalilösung von der gesinterten Platte durchgeführt.
Der Einfüllvorgang für das aktive Material im dritten Schritt kann durch Imprägnieren der porösen gesinterten Nickelplatte mit einem sauren Nickelsalz und anschließende Durchführung einer Alkalibehandlung an der gesinterten Platte durchgeführt werden.
In anderer Weise kann der Einfüllvorgang für das aktive Material im dritten Schritt durch Eintauchen der gesinterten Platte in eine geheizte wässrige Lösung von Nickelnitrat und anschließendes Eintauchen der gesinterten Platte in eine Ätznatronlösung durchgeführt werden.
Das im zweiten Schritt ausgebildete Kobaltoxihydroxid ist eine Verbindung, die eine größere Oxidationszahl aufweist und weniger anfällig für Korrosion ist als Kobalthydroxid. Die Kobaltoxihydroxidschicht auf der Oberfläche der ge­ sinterten Platte wirkt als passivierende Schicht zum Schutz der gesinterten Platte in saurem Nickelsalz. Eine derartige Schicht zeigt folglich eine zuverlässige Wirkung zur Ver­ hinderung der Korrosion oder Abtragung der gesinterten Nickelplatte, selbst wenn sie in ein hochkonzentriertes Imprägniermittel mit hoher Temperatur aus saurem Nickel­ salz eingetaucht wird. Des weiteren zeigt das Kobaltoxi­ hydroxid eine gute Leitfähigkeit verglichen mit Nickel­ oxid, wodurch eine zufriedenstellende Leitfähigkeit zwischen dem aktiven Material und der gesinterten Platte geschaffen wird. Diese Merkmale tragen bei dem oben genannten Ver­ fahren dazu bei die Aufgabe der Erfindung zu lösen.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung wird die Wärmebehandlung im zweiten Schritt bei einer Tempe­ ratur von 50°C oder größer durchgeführt. Dies beschleunigt in großem Maße die Ausbildung von Kobaltoxihydroxid, wodurch eine drastische Reduktion in den Herstellungskosten der Elektroden erreicht wird.
Vorteilhafterweise wird diese Wärmebehandlung bei einer Temperatur durchgeführt, die 250°C nicht überschreitet. Dies verhindert wirksam, daß das Nickel der gesinterten Platte in Nickeloxid oxidiert.
Ausführungsformen der Erfindung werden anhand der beige­ fügten Zeichnungen erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 Röntgenbeugungsmuster von Hauptoberflächenbe­ reichen einer gesinterten Nickelplatte, wobei (a) das Röntgenbeugungsspektrum nach einer Wärmebehandlung (b) das Röntgenbeugungsspektrum vor einer Wärmebehandlung zeigen,
Fig. 2 einen Graphen zur Erläuterung der Beziehungen zwischen dem Potential der gesinterten Platte und Eintauchdauern bei einem ersten Eintauchen in eine wässrige Lösung von Nickelnitrat während des Einfüllvorganges für aktives Material für eine Elektrode A, die gemäß einem Verfahren der Erfindung hergestellt wurde, und Elektroden B und C, die durch Vergleichsverfahren herge­ stellt wurden
Fig. 3 einen Graphen zur Erläuterung der Beziehungen zwischen den Potentialen einer gesinterten Platte und Eintauchdauern bei einem zweiten bis fünften Eintauchen in eine wässrige Lösung von Nickelnitrat für die Elektroden A und C,
Fig. 4 einen Graphen zur Erläuterung der Zykluseigen­ schaften einer die Elektrode A verwendenden Zelle a, einer die Elektrode B verwendenden Zelle b und einer die Elektrode C verwendenden Zelle c und
Fig. 5 Röntgenbeugungsspektren in denen die Wärmebe­ dingungen zum Umwandeln des Kobalthydroxids in Kobaltoxihydroxid und Kobaltoxid verändert sind, wobei (a) ein Röntgenbeugungsmuster zeigt, bei dem die Wärmebehandlung bei 80°C unter An­ wesenheit von einer alkalischen Lösung und Sauer­ stoff durchgeführt wurde, (b) ein Röntgenbeu­ gungsspektrum zeigt, in dem die Wärmebehandlung bei 200°C in Anwesenheit von einer alkalischen Lösung und Sauerstoff durchgeführt wurde, und (c) ein Röntgenbeugungsspektrum zeigt, wobei die Wärmebehandlung bei 200°C unter Anwesenheit von Sauerstoff durchgeführt wurde.
Zunächst wurde eine gesinterte Platte mit etwa 80% Porösi­ tät, die durch Sintern von Nickel in einer reduzierenden Atmosphäre hergestellt wurde, in eine wässrige Lösung von Kobaltnitrat mit einem spezifischen Gewicht von 1,2 einge­ taucht. Anschließend wird die gesinterte Platte in 25%iges Ätznatron mit 80°C eingetaucht, um eine Kobalthydroxid­ schicht auf den Oberflächen der gesinterten Platte auszu­ bilden. Dann wird die gesinterte Platte in Luft von 80% Feuchtigkeit bei 90°C ohne Entfernen der alkalischen Lösung, die in der gesinterten Platte enthalten ist, aufgeheizt, um das Kobalthydroxid in Kobaltdoxihydroxid umzuwandeln, das die Oberflächen der gesinterten Platte abdeckt. An­ schließend wird die gesinterte Platte in ausreichender Weise mit Wasser gespült, um die alkalische Lösung von der gesinterten Platte zu entfernen. Darauffolgend wird die mit einer Kobaltoxihydroxidschicht bedeckte gesinterte Platte in eine wässrige Lösung von Nickelnitrat mit einer Temperatur von 80°C und einem spezifischen Gewicht von 1,75 eingetaucht. Eine Nickelhydroxid-Elektrode gemäß der Er­ findung wurde hergestellt durch fünfmalige Wiederholung des Einfüllvorganges für aktives Material, um das Nickel­ nitrat in der 25%igen Ätznatronlösung in Nickelhydroxid umzuwandeln. Die auf diese Weise hergestellte Elektrode wird im folgenden als erfindungsgemäße Elektrode A be­ zeichnet.
(Vergleichsbeispiele)
Eine Elektrode wurde hergestellt durch Durchführung des oben genannten Einfüllvorganges für aktives Material an der gesinterten Platte, die, wie oben, durch Sintern von Nickel in einer reduzierenden Atmosphäre hergestellt wurde, aber ohne die anschließende Wärmebehandlung. Die auf diese Weise hergestellte Elektrode wird im folgenden als Vergleichselektrode B bezeichnet.
Eine Elektrode wurde hergestellt durch Durchführung des oben genannten Einfüllvorganges für aktives Material an der gesinterten Platte, die durch Sintern von Nickel hergestellt wurde und Kobalthydroxid auf ihrer Ober­ fläche trägt, aber ohne sie anschließend einer Sauerstoff­ behandlung auszusetzen. Die auf diese Weise hergestellte Elektrode wird als Vergleichselektrode C bezeichnet.
Die Hauptoberflächenbereiche der gesinterten Nickelplatte wurden mit Röntgenbeugung nach der Wärmebehandlung und vor der Wärmebehandlung geprüft. Die Ergebnisse sind als (a) bzw. (b) in Fig. 1 angegeben. Wie aus Fig. 1a er­ sichtlich ist, zeigt 2ϕ nach der Wärmebehandlung Linien bei 20,2° und bei 38,8°. Dies zeigt an, daß Kobaltoxihydroxid nach der Wärmebehandlung auf den Oberflächen der gesinterten Platte gebildet ist. Andererseits ist aus Fig. lb ersichtlich, daß 2ϕ vor der Wärmebehandlung Linien bei 19,0°, 32,4° und 37,9° zeigt. Dies zeigt an, daß Kobalthydroxid auf den Oberflächen der gesinterten Platte vor der Wärmebe­ handlung ausgebildet ist.
Des weiteren wurden die erfindungsgemäße Elektrode A und die Vergleichselektroden B und C hinsichtlich der Be­ ziehungen zwischen dem Potential der gesinterten Platte und der Eintauchdauer bei dem ersten Eintauchen in die wässrige Lösung von Nickelnitrat während des Einfüllvor­ ganges für das aktive Material geprüft. Die Ergebnisse sind in Fig. 2 dargestellt.
Wie aus Fig. 2 ersichtlich ist, fällt die gesinterte Platte der Vergleichselektrode B bei etwa fünfminütigem Eintauchen auf das Nickel-Auflösungspotential, während die gesinterte Platte der erfindungsgemäßen Elektrode A konstant ein Passiv­ potential zeigt, während sie in die Imprägnierlösung mit hoher Korrosivität eingetaucht ist. Dies zeigt an, daß die gesinterte Platte der Elektrode A einen exzellenten Korrosionswiderstand aufweist und nicht das Auflösepotential erreicht.
Die erfindungsgemäße Elektrode A die beim ersten Eintauchen exzellente Eigenschaften aufweist, und die Vergleichselek­ trode C, die in einem Vergleichsverfahren hergestellt wurde, würden bezüglich des Potentials der gesinterten Platte beim zweiten bis fünften Eintauchen geprüft. Die Ergebnisse sind in Fig. 3 angegeben. In dieser Darstellung ist das zweite Eintauchen durch die eingekreiste Ziffer 2 bezeichnet, daß dritte Eintauchen durch die eingekreiste Ziffer 3 usw.
Wie aus Fig. 3 ersichtlich ist, gelangt die Vergleichselek­ trode C zum Nickel-Auflösungspotential beim dritten Ein­ tauchen und den folgenden, während die erfindungsgemäße Elektrode A eine gesinterte Platte aufweist, die ein Passivpotential selbst bei dem fünften Eintauchen zeigt, d.h. einen exzellenten Korrosionswiderstand aufweist. Es wird angenommen, daß die auf den Oberflächen mit Kobalt­ oxihydroxid versehene gesinterte Platte einen exzellenten Korrosionswiderstand deshalb aufweist, weil Kobaltoxi­ hydroxyd (CoOOH) eine größere Oxidationszahl von +3 auf­ weist und korrosionsresistenter ist als Kobalthydroxid (Co(OH)2).
Nickel-Cadmium-Zellen mit einer Nominalkapazität von 1,2 Ah wurden hergestellt durch Kombinieren der oben genannten Elektroden A bis C mit unter gleichen Bedin­ gungen hergestellten Cadmiumelektroden. Diese Zellen werden im folgenden als Zellen a bis c bezeichnet. Die Zykluseigenschaften der Zellen a bis c wurden getestet, und die Resultate sind in Fig. 4 angegeben. Die Tests wurden unter Bedingungen durchgeführt, bei denen die Zellen mit 1,8 A für eine Stunde geladen und dann mit 1,2 A entladen wurden.
Wie aus Fig. 4 ersichtlich ist, zeigen die Zellen b und c, die die mit den Vergleichsverfahren hergestellten Elek­ troden aufweisen, einen deutlichen Abfall in der Rest­ kapazitätsrate nach dem hundertsten Zyklus, während die Zelle a, die die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren her­ gestellte Elektrode aufweist, eine Restkapazitätsrate auf­ weist, die sich auf einem konstanten Pegel selbst nach dem einhundertsten Zyklus fortsetzt. Der Grund dafür wird in dem folgenden gesehen. Die erfindungsgemäße Elektrode A hat eine Schicht aus Kobaltoxihydroxid auf der gesinterten Nickelplatte, die die Auflösung der gesinterten Nickel­ platte, die die Auflösung der gesinterten Platte verhindert, selbst wenn der Einfüllvorgang für das aktive Material in einer Imprägnierungslösung mit hoher Korrosivität durch­ geführt wird. Dadurch wird die Elektrode mit einer exzel­ lenten Widerstandsfähigkeit versehen, die ausreicht, daß ein Abfallen des aktiven Materials während des wiederholten Ladens und Entladens verhindert wird. Des weiteren tritt kein Ansteigen des Widerstandswerts auf, im Unterschied zu dem Fall, in dem ein großer Anteil Nickeloxid auf den Oberflächen der gesinterten Platte ausgebildet wird, da Kobaltoxihydroxid eine gute Leitfähigkeit aufweist.
Eine Röntgenbeugung wurde bei verschiedenen Wärmebedin­ gungen für das Umwandeln von Kobalthydroxid in Kobaltoxi­ hydroxid und Kobaltoxid durchgeführt. Die Resultate sind bei a bis c in Fig. 5 angegeben. Fig. 5a zeigt ein Beu­ gungsspektrum für den Fall, daß die Wärmebehandlung bei 80°C in Anwesenheit von alkalischer Lösung und Sauerstoff durchgeführt wurde. Fig. 5b zeigt ein Beugungsmuster für den Fall, daß die Wärmebehandlung bei 200°C unter Anwesen­ heit von alkalischer Lösung und Sauerstoff durchgeführt wurde. Fig. 5c zeigt ein Beugungsmuster für den Fall, daß die Wärmebehandlung bei 200°C unter Anwesenheit von Sauer­ stoff durchgeführt wurde.
Wie aus Fig. 5a zu ersehen ist, wird beobachtet, daß die bei 80°C unter Anwesenheit alkalischer Lösung und Sauer­ stoff durchgeführte Wärmebehandlung nicht nur Kobaltoxi­ hydroxid sondern auch Kobaltoxid (mit X gekennzeichnet) erzeugt. Es ist experimentell nachgewiesen, daß dieses Kobaltoxid bei einer Wärmebehandlung bei einer Temperatur von 80°C oder höher erzeugt wird. Es wurde ferner heraus­ gefunden, daß Kobaltoxid wie Kobaltoxihydroxid in der Lage ist, das Korrodieren der gesinterten Platte beim Imprägnieren zu verhindern. Verglichen mit dem Kobaltoxid (Fig. 2c), das einfach durch eine Wärmebehandlung bei einer Temperatur von 150°C oder mehr (d.h. unter Abwesenheit von alkalischer Lösung und Sauerstoff) erhalten wurde, zeigt das Kobaltoxid (Fig. 2b), daß durch Wärmebehandlung bei einer Temperatur von 150°C oder mehr unter Anwesenheit von alkalischer Lösung und Sauerstoff hergestellt wurde eine geringere Kristallisation. Dementsprechend verbessert daß durch das erfindungsgemäße Verfahren ausgebildete Kobalt­ oxid den Korrosionswiderstand der gesinterten Platte und die Leitfähigkeit zwischen der gesinterten Platte und dem aktiven Material. Diese Merkmale ermöglichen eine Verbesse­ rung im Wirkungsgrad des aktiven Materials und der Ladungs­ effektivität.
Das Kobaltoxihydroxid wird wie oben dargestellt in einfacher Weise bei relativ niedrigen Temperaturen hergestellt. Der Grund dafür wird darin gesehen, daß, da Sauerstoff eine hohe Löslichkeit in alkalischen Lösungen zeigt, der in der alkalischen Lösung gelöste Sauerstoff die Oxidation von Kobalthydroxid beschleunigt und das Kobalthydroxid Komplex­ ionen bildet, die in der alkalischen Lösung gelöst sind, wodurch die durch den gelösten Sauerstoff leicht beein­ flußt werden.
Des weiteren kann, wenn die Wärmebehandlung wie im oben­ stehenden Ausführungsbeispiel in Luft durchgeführt wird, die Luft feucht sein. Diese Bedingung ist wirksam zur Ver­ hinderung des Einflusses von Kohlendioxid und erlaubt eine ruhige Oxidation von Kobalthydroxid.
Zusätzlich besteht bei dem oben beschriebenen Herstellungs­ verfahren bei der Bildung von Kobaltoxihydroxid keine Mög­ lichkeit des Eindringens von Verunreinigungen, die sich schädlich auf die Elektrodeneigenschaften der alkalischen Zelle auswirken könnten, und die Reaktion und die Prozeß­ steuerung werden bei relativ geringen Temperaturen durchge­ führt. Aufgrund dessen kann das Herstellungsverfahren für eine Nickelhydroxid-Elektrode gemäß der Erfindung in ein­ facher Weise durchgeführt werden.

Claims (16)

1. Verfahren zur Herstellung einer Nickelhydroxid-Elek­ trode zum Gebrauch in alkalischen Speicherzellen mit einem ersten Schritt zur Ausbildung von Kobalthydroxid auf den Oberflächen einer porösen gesinterten Nickel­ platte,
einem zweiten Schritt zur Wärmebehandlung der gesinterten Platte, die Kobalthydroxid aufweist, unter Anwesenheit von einer alkalischen Lösung und Sauerstoff, und
einem dritten Schritt zur Durchführung eines Einbringungs­ vorganges für aktives Material zum Imprägnieren der wärme­ behandelten gesinterten Platte mit einem sauren Nickelsalz.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die im ersten Schritt verwendete poröse gesinterte Nickelplatte in einer reduzierenden Atmosphäre gesintert wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß im ersten Schritt das Kobalthydroxid durch Eintauchen der gesinterten Platte in eine wässrige Lösung von Kobaltnitrat und anschließendes Eintauchen der gesinterten Platte in geheiztes Atznatron ausgebildet wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Wärmebehandlung im zweiten Schritt bei einer Temperatur von zumindest 50°C durchgeführt wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Wärmebehandlung im zweiten Schritt bei einer 250°C nicht überschreitenden Temperatur durch­ geführt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Wärmebehandlung im zweiten Schritt in Luft bei einer Temperatur von 90°C und einer Feuchtig­ keit von 80% durchgeführt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Einbringungsvorgang für das aktive Material im dritten Schritt ausgeführt wird durch Imprägnieren der gesinterten porösen Nickelplatte mit einem sauren Nickelsalz und anschIießendes Durchführen einer alkalischen Behandlung an der gesinterten Platte.
8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Einbringungsvorgang für das aktive Material im dritten Schritt ausgeführt wird durch Ein­ tauchen der gesinterten Platte in eine geheizte wässrige Lösung von Nickelnitrat und anschließendes Eintauchen der gesinterten Platte in eine Ätznatronlösung.
9. Verfahren zur Herstellung einer Nickelhydroxid-Elek­ trode zum Gebrauch in alkalischen Speicherzellen mit
einem ersten Schritt zur Ausbildung von Kobalthydroxid auf den Oberflächen einer porösen gesinterten Nickelplatte,
einem zweiten Schritt zur Umwandlung des Kobalthydroxids, das auf den Oberflächen der gesinterten Platte ausgebildet ist, in Kobaltoxihydroxid oder Kobaltoxihydroxid und Kobalt­ oxid mit einer verminderten Kristallinität und
einem dritten Schritt zur Durchführung eines Einbringungs­ vorganges für aktives Material an der mit Kobaltoxihydroxid versehenden gesinterten Platte.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die im ersten Schritt verwendete poröse gesinterte Nickelplatte in einer reduzierten Atmo­ sphäre gesintert ist.
11. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Kobalthydroxid im ersten Schritt durch Eintauchen der gesinterten Platte in eine wässrige Lösung von Kobaltnitrat und anschließendes Eintauchen der gesinterten Platte in geheiztes Ätznatron ausgebildet wird.
12. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Kobaltoxihydroxid im zweiten Schritt ausgebildet wird durch Durchführung einer Wärme­ behandlung ohne Entfernung von alkalischer Lösung von der im ersten Schritt behandelten gesinterten Platte.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Wärmebehandlung im zweiten Schritt bei einer Temperatur von zumindest 50°C durchge­ führt wird.
14. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Wärmebehandlung im zweiten Schritt bei einer 250°C nicht überschreitenden Temperatur durchgeführt wird.
15. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Einbringvorgang für das aktive Material im dritten Schritt durchgeführt wird durch Imprä­ gnieren der porösen gesinterten Nickelplatte mit einem sauren Nickelsalz und anschließende Durchführung einer alkalischen Behandlung an der gesinterten Platte.
16. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Einbringvorgang für das aktive Material im dritten Schritt durchgeführt wird durch Ein­ tauchen der gesinterten Platte in eine geheizte wässrige Lösung von Nickelnitrat und anschließendes Eintauchen der gesinterten Platte in eine Ätznatronlösung.
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