DE3322390C2 - Niederdruck-Quecksilberdampfentladungslampe - Google Patents

Niederdruck-Quecksilberdampfentladungslampe

Info

Publication number
DE3322390C2
DE3322390C2 DE3322390A DE3322390A DE3322390C2 DE 3322390 C2 DE3322390 C2 DE 3322390C2 DE 3322390 A DE3322390 A DE 3322390A DE 3322390 A DE3322390 A DE 3322390A DE 3322390 C2 DE3322390 C2 DE 3322390C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
discharge
layer
lamp
low
pressure mercury
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE3322390A
Other languages
English (en)
Other versions
DE3322390A1 (de
Inventor
Antonius Maria Josephus Seuter
Den Boom Petrus Franciscus Van
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of DE3322390A1 publication Critical patent/DE3322390A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3322390C2 publication Critical patent/DE3322390C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/02Details
    • H01J61/30Vessels; Containers
    • H01J61/35Vessels; Containers provided with coatings on the walls thereof; Selection of materials for the coatings

Description

Die Erfindung betrifft eine Niederdruck-Quecksilberdampf­ entladungslampe mit einem Entladungskolben aus Glas, in dem sich Quecksilber und ein Edelgas befindet, wobei wenigstens ein Teil der Innenwand des Entladungskolbens mit einer dünnen, wenigstens nahezu homogenen, geschlossenen Transparentschicht versehen ist, die der Einwirkung der Entladung standhält, wobei die Wechsel­ wirkung von Quecksilber in der Entladung und dem Glas­ kolben vermieden ist.
Bekanntlich werden in Niederdruck-Quecksilberdampfent­ ladungslampen Maßnahmen getroffen, um die Grauverfärbung von Teilen der Innenwand des Entladungskolbens, die mit der Entladung in Kontakt stehen, zu unterbinden. Eine derartige Grauverfärbung, die durch eine Wechselwirkung zwischen dem Quecksilber und dem Glas entsteht, ist un­ erwünscht und verursacht nicht nur eine Reduzierung der Lichtausbeute, sondern gibt der Lampe außerdem ein unästhetisches Äußeres, insbesondere, wenn die Grauver­ färbung unregelmäßig auftritt, beispielsweise in Form von dunklen Flecken und Punkten.
In der US-PS 3 337 494 ist das Anbringen einer dünnen, nahezu homogenen, geschlossenen, durchsichtigen Schicht beispielsweise aus Titandioxid oder Zirkondioxid auf der Innenwand des Entladungskolbens beschrieben, welche die Grauverfärbung der Glasinnenwand verhindern soll.
Im Gegensatz zu einer körnigen Schutzschicht aus einem hitzefesten Metalloxid (wie Aluminiumoxid oder Silizium­ oxid), die aus einer Vielzahl von Partikeln zusammenge­ setzt ist und ziemlich dick sein soll, damit eine Wechsel­ wirkung zwischen dem Quecksilber und der Glaswand ver­ mieden wird, wird bei der Lampe nach der erwähnten US-Patentschrift durch die dünne, homogene, geschlossene, durchsichtige Schicht der direkte Kontakt zwischen der Glaswand und der Quecksilberentladung vermieden. Durch die durchsichtige Schicht kann eine verhältnismäßig dünne Leuchtstoffschicht ausreichen, wodurch im Vergleich zu Lampen ohne eine durchsichtige Schutzschicht eine erhebliche Einsparung der erforderlichen Menge an Leucht­ stoff erreicht wird.
Eine ähnliche Niederdruck-Quecksilberdampfentladungslampe geht aus dem US-Patent 3,141,990 hervor, die eine Schutz­ schicht aus Al₂O₃, TiO₂ oder SiO₂ aufweist.
Ferner ist in der DE-PS 17 64 126 eine Niederdruck­ natriumdampfentladungslampe mit einem Entladungskolben beschrieben, dessen Innenwand mit einer natriumlichtdurch­ lässigen, natriumdampfaushaltenden homogenen Schicht ver­ sehen ist, die aus einem der Oxide von Yttrium und/oder der Seltenerdmetalle bestehen kann. Eine derartige Lampe sendet jedoch nur Licht mit einer spezifischen Wellenlänge im sichtbaren Bereich aus. Besondere Probleme als Folge der Einwirkung kurzwelliger Ultraviolettstrahlung auf die Schicht, treten in dieser Lampe nicht auf.
Es hat sich gezeigt, daß insbesondere in einer durch­ sichtigen Schicht mit Titandioxid Ultraviolettstrahlung mit einer Wellenlänge bis zu etwa 350 nm stark absorbiert wird; weiter zeigt es sich, daß Resonanzstrahlung von Quecksilber mit einer Wellenlänge von 254 nm sogar nahezu vollständig absorbiert wurde. Dies ist insbesondere nach­ teilig bei Verwendung der Schicht im Lampen, die nahezu ausschließlich Strahlung mit den genannten Wellenlängen aussenden. Beispiele derartiger Lampen sind keimtötende Lampen und Lampen, die Ultraviolettstrahlung mit ver­ hältnismäßig langer Wellenlänge aussenden, wie Lampen für Bräunungsgeräte.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Lampe zu schaffen, bei der Grauverfärbung der Glaswand des Ent­ ladungskolbens auf ein Mindestmaß beschränkt wird, wobei die Licht- bzw. Strahlungsausbeute der Lampe während ihrer Lebensdauer auf einem möglichst hohen Pegel erhalten bleibt.
Diese Aufgabe wird bei einer Niederdruck-Quecksilberdampf­ entladungslampe eingangs erwähnter Art erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Transparentschicht wenigstens ein Oxid von Yttrium, Scandium, Lanthan, Gadolinium, Ytterbium und Lutetium enthält.
Die genannten Oxide lassen sich auf eine Weise als ganz dünne, geschlossene, ununterbrochene und homogene durch­ sichtige Schicht auf der Glaswand eines Entladungskolbens anbringen. Dies erfolgt beispielsweise durch Spülen des Entladungskolbens mit einer Lösung aus einer geeigneten metallorganischen Verbindung (wie bei einem Azetylazetonat) in einer organischen Lösung, wobei nach dem Trocknen und Sintern die gewünschte Schicht entsteht. Auch kann die Schicht in einem Verfahren angebracht werden, bei dem eine Metallverbindung mit Hilfe eines Trägergases (wie Luft) unter Erwärmung in einen Entladungskolben eingeführt wird und sich an dessen Wand ablagert. Es wurde gefunden, daß Schichten der genannten Oxide die Einwirkung der Queck­ silberedelgasatmosphäre sehr gut aushalten, die im Ent­ ladungskolben einer Niederdruck-Quecksilberdampfent­ ladungslampe herrscht. Auch erfüllen sie gut die Anforderungen der Licht- bzw. der Strahlungsdurchlässig­ keit.
Diese Oxide bilden eine Auswahl insbe­ sondere aus Oxiden Seltener Erdmetalle. Schichten mit Oxiden dieser Metalle eignen sich besonders für Verwendung in Niederdruck-Quecksilber­ dampfentladungslampen, weil sie farblos sind und kaum Absorption der Nutzstrahlung (wie der UV-Strahlung und des sichtbaren Lichts) aufweisen.
Es hat sich gezeigt, daß in einer derartigen durch­ sichtigen Schicht kaum Absorption der im Entladungskolben erzeugten Resonanzstrahlung von Quecksilber mit einer Wellenlänge von 254 nm auftritt. In Niederdruck-Queck­ silberdampfentladungslampen für Bestrahlungszwecke, bei denen vorwiegend Strahlung mit einer Wellenlänge von 254 nm ausgesandt wird (keimtötende Lampen) und bei denen die Innenwand des Entladungskolbens nur mit dieser durchsichtigen Schicht versehen ist, hat es sich gezeigt, daß sogar nach einer großen Anzahl von Brennstunden der Lampe kaum Grauverfärbung oder sonstige Verfärbung der Glaswand auftritt. Die Strahlungsausbeute der genannten Lampe behielt dabei im Vergleich zur bekannten Lampe einen hohen Pegel bei.
Die Erfindung läßt sich gleichfalls vorteilhaft in Lampen mit einem rohrförmigen Entladungskolben anwenden, dessen Innenwand mit einer Reflexionsschicht versehen ist, in der ein Längsschlitz angebracht ist. In derartigen Lampen ist wenigstens auf der Reflexionsschicht eine Leuchstoffschicht vorgesehen. Diese Leuchstoffschicht erstreckt sich in einer besonderen Ausführungsform über den ganzen Umfanng der Innenwand des Entladungskolbens. Bei diesen Lampen wurde überraschenderweise gefunden, daß bei der Verwendung einer durchsichtigen Schicht nach der Erfindung auf der Glaswand wenigstens an der Stelle des Längsschlitzes eine sehr hohe Licht- bzw. Strahlungsaus­ beute für eine lange Betriebszeit erhalten wird.
Auch in Lampen, deren ganze Innenwand mit Leucht­ stoff bedeckt ist, läßt sich die Erfindung vorteilhaft anwenden. Die durchsichtige Schicht befindet sich dabei zwischen der Leuchtstoffschicht und der Glaswand. Die Glaswand ist dabei auf wirksame Weise vor der Einwirkung der Entladung geschützt. Dies hat sich insbesondere bei Lampen herausgestellt, die mit einem gebogenen Entladungs­ kolben ausgerüstet sind (beispielsweise eine Lampe nach der DE-OS 31 11 836), wobei die Leuchtstoffschicht an der Stelle der gebogenen Teil des Entladungskolbens nicht ununterbrochen ist und bei der eine verhältnismäßig hohe Wandbelastung auftritt. Versuche haben bewiesen, daß die Lichtausbeute im Betrieb der Lampe einen hohen Pegel beibehielt.
Die durchsichtige Schicht in einer erfindungsge­ mäßen Niederdruckquecksilberdampfentladungslampe enthält vorzugsweise ein Oxid von Yttrium und/oder Gadolinium. Eine derartige Schicht hat einen verhältnismäßig hohen Übertragungskoeffizienten für Ultraviolettstrahlung und sichtbares Licht. Weiter hat es sich gezeigt, daß eine Schicht mit den erwähnten Oxiden gering hygroskopisch ist und gut an der Innenwand eines Entladungskolbens haf­ tet. Au8erdem ist die Schicht verhältnismäßig einfach anbringbar (z. B. mit Yttriumazetylazetonat), was insbe­ sondere in der Massenfertigung für Niederdruckquecksilber­ dampfentladungslampen kostensparend ist.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nach­ stehend an Hand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 einen Längsschnitt durch eine rohrförmige Niederdruckquecksilberdampfentladungslampe, deren Ent­ ladungskolben von Leuchtstoff frei ist, und
Fig. 2 eine derartige Lampe, bei der die Innen­ wand des Entladungskolbens neben einer durchsichtigen Schicht ebenfalls mit einer Leuchtstoffschicht versehen ist.
In Fig. 1 ist eine Niederdruckquecksilberdampf­ entladungslampe mit einem rohrförmigen Entladungskolben 1 dargestellt, an dessen Enden Elektroden 2 bzw. 3 angeord­ net sind. Im Betrieb der Lampe wird zwischen diesen Elek­ troden eine Entladung aufrechterhalten. Im Entladungs­ kolben 1 befindet sich Quecksilber und ein Edelgas, wie Argon (Druck etwa 400 Pa). An der Glasinnenwand des Ent­ ladungskolbens 1 ist eine dünne, nahezu homogene, geschlos­ sene Transparentschicht 4 vorgesehen, welche der Einwirkung der Entladung standhält. Die dargestellte Lampe ist eine Lampe für Bestrahlungszwecke (eine keimtötende Lampe), die vorwiegend Strahlen mit einer Wellenlänge von 254 nm aussendet. Derartige Lampen werden häufig in Räumen zur Vertilgung unerwünschten Bazillen, Bakterien und der­ gleichen benutzt, wie in Krankenhäusern. Die Transparent­ schicht 4 hat in praktischen Ausführungsformen der Lampe eine Dicke von etwa 5 bis 200 nm. Bei einer Dicke über 200 nm erfolgt eine zu hohen Absorption der im Entladungs­ kolben erzeugten Strahlung. Bei einer Schichtdicke unter etwa 5 nm tritt dennoch eine Wechselwirkung zwischen der Entladung und der Glaswand auf.
Es wurden einige Versuche mit Lampen (15 Watt, Innendurchmesser des Entladungskolbens 25 mm, Länge des Entladungskolbens 50 cm, Argon 400 pa) durchgeführt, deren Entladungskolben mit einer Transparentschicht mit einem Oxid nach der Erfindung versehen ist. Die Transparent­ schicht wurde durch Spülen der Innenwand des Entladungs­ kolbens mit einer Flüssigkeit erhalten, die eine metall­ organische Verbindung (z. B. Yttriumazetylenazetonat) in einer organischen Lösung (z. B. Äthylenglykolmonoäthyläther) enthielt. Die Schicht entsteht nach einem Trockenvorgang und einem Sintervorgang (beispielsweise bis zu etwa 600°C). Die Ergebnisse dieser Versuche sind in nachstehender Tabelle I angegeben. Die Dicke der Oxidschicht betrug in allen Fällen 50 bis 150 nm. In der Tabelle I ist die Strah­ lungsausbeute (in UV-Watt) sowie (geklammert) die relative Strahlungsausbeute je Lampe bei 100 Brennstunden wieder­ gegeben. Auch gibt die Tabelle I die Ergebnisse der be­ kannten Lampen wieder, die frei von einer transparenten Schutzschicht ist.
Tabelle I
Aus dieser Tabelle ist ersichtlich, daß die Strahlungsausbeute erfindungsgemäßer Lampen auch nach längerer Betriebszeit auf einem hohen Pegel bleibt. Ein Angreifen der Glaswand durch das Quecksilber und die da­ durch entstehende Verringerung der Strahlungsausbeute tritt bei den erfindungsgemäßen Lampen kaum auf.
Die Lampe nach Fig. 2 enthält gleichfalls einen rohrförmigen Entladungskolben 1, Elektroden 2 und 3 und die Transparentschicht 4. Diese Schicht ist an ihrer der Entladung zugewandten Seite mit einer Leuchtstoffschicht 5 bedeckt. Diese Leuchtstoffschicht 5 erstreckt sich über die ganze Oberfläche der Transparentschicht 4. Die Leucht­ stoffschicht 5 bestand bei einigen Versuchen aus einer Mischung dreier Leuchtstoffe, d. h. aus grün leuchtendem, mit Terbium aktiviertem Cermagnesiumaluminat, aus blau lumi­ neszierendem, mit zweiwertigem Europium aktiviertem Barium­ magnesiumaluminat und aus rot lumineszierendem, mit dreiwertigem Europium aktiviertem Yttriumoxid. Bei einer Transparentschicht 4 zwischen der Leuchtstoffschicht 5 und der Glaswand des Entladungskolbens 1 wurde überraschenderweise gefunden, daß bei einem ge­ ringen Pulvergewicht des Leuchtstoffes (im Vergleich zu Lampen ohne Transparentschicht) nur eine leichte Verringe­ rung der Lichtausbeute auftritt. Unter Pulvergewicht sei hier das Gesamtgewicht des Leuchtstoffs im ganzen Ent­ ladungskolben verstanden. Im Vergleich zur bekannten Lampe ohne Transparentschicht hat es sich als möglich erwiesen, das Pulvergewicht des Leuchtstoffs bei Lampen nach der Erfindung um etwa 25% auf etwa 2 mg/cm² zu beschränken, wobei kaum eine Verringerung der Lichtausbeute auftrat.
An einer Anzahl von Niederdruckquecksilberdampf­ entladungslampen (Leistung 36 W, Länge 1,20 m, Innen­ durchmesser 25 mm, Argon 400 Pa) mit einer Transparent­ schicht 4 aus Yttriumoxid sowie einer Leuchtstoffschicht 5 aus einer Mischung der erwähnten Leuchtstoffe wurden Ver­ suche durchgeführt. Von den Lampen wurde der Lichtstrom in Lumen gemessen und mit dem Lichtstrom einer bekannten Lampe mit den gleichen Abmessungen, derselben Leistung und einer Leuchtstoffschicht aus den gleichen Leuchtstoffen verglichen, welche Lampe jedoch keine Transpa­ rentschicht besaß. Die Ergebnisse der Versuche sind in Tabelle II wiedergegeben. Die Versuche wurden an Lampen mit verschiedenem Pulvergewicht durchgeführt (u. zw. mit 2,8 g bzw. 2,1 g Leuchtstoff). Die Ergebnisse sind in der zweiten und dritten Spalte (2,8  g) und in der vierten und fünften Spalte (2,1 g) wiedergegeben.
Tabelle II
Aus dieser Tabelle ist ersichtlich, daß die Lichtausbeute einer erfindungsgemäßen Lampe auch nach einer Vielzahl von Brennstunden hoch ist. Weiter ist aus der Tabelle ersichtlich, daß sogar bei geringem Pulver­ gewicht (2,2 mg/cm²) die Lichtausbeute der Lampe mit der Transparentschicht Y₂O₃ für eine lange Betriebszeit relativ hoch ist.
Weiter sind mit einigen Lampen (15 W, Innen­ durchmesser des Entladungskolbens 25 mm, Länge 50 cm, Argondruck 400 Pa) Versuche durchgeführt, bei denen lediglich eine durchsichtige Schicht mit Yttriumoxid auf der Innenwand des Entladungskolbens vorgesehen war. Für eine Anzahl der Schichtdicken ist die gemessene Strah­ lungsausbeute (UV-Watt, 2000 Brennstunden) in Tabelle III angegeben.
Schichtdicke (nm)
Strahlungsausbeute (UV-Watt)
0
3,19
8 5,17
20 5,11
40 5,27
80 5,22
Aus dieser Tabelle ist ersichtlich, daß die Strahlungsausbeute der Lampen mit einer durchsichtigen Schicht mit Yttriumoxid mit einer Dicke über 8 nm im Vergleich zu Lampen ohne durchsichtige Schicht wesentlich höher war. Die verhältnismäßig niedrige Strahlungsaus­ beute der Lampe ohne Y₂O₃-Schicht war dem Auftreten der Ergrauung der Wand des Entladungskolbens zuzuschreiben.

Claims (3)

1. Niederdruck-Quecksilberdampfentladungslampe mit einem Entladungskolben aus Glas, in dem sich Quecksilber und ein Edelgas befindet, wobei wenigstens ein Teil der Innen­ wand des Entladungskolbens mit einer dünnen, wenigstens nahezu homogenen, geschlossenen Transparentschicht ver­ sehen ist, die der Einwirkung der Entladung standhält, wobei die Wechselwirkung von Quecksilber in der Entladung und dem Glaskolben vermieden ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Transparentschicht (4) wenigstens ein Oxid von Yttrium, Scandium, Lanthan, Gadolinium, Ytterbium und Lutetium enthält.
2. Niederdruck-Quecksilberdampfentladungslampe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der Transparentschicht (4) zwischen etwa 5 und 200 nm liegt.
3. Niederdruck-Quecksilberdampfentladungslampe nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Transparentschicht (4) an ihrer der Entladung zugewandten Seite mit einer Leuchtstoffschicht (5) bedeckt ist.
DE3322390A 1982-07-09 1983-06-22 Niederdruck-Quecksilberdampfentladungslampe Expired - Lifetime DE3322390C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8202778A NL8202778A (nl) 1982-07-09 1982-07-09 Lagedrukkwikdampontladingslamp.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3322390A1 DE3322390A1 (de) 1984-03-08
DE3322390C2 true DE3322390C2 (de) 1994-06-09

Family

ID=19840003

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE3322390A Expired - Lifetime DE3322390C2 (de) 1982-07-09 1983-06-22 Niederdruck-Quecksilberdampfentladungslampe

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4544997A (de)
JP (1) JPS5920961A (de)
BE (1) BE897233A (de)
DE (1) DE3322390C2 (de)
FR (1) FR2530076B1 (de)
GB (1) GB2124019B (de)
NL (1) NL8202778A (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19806213B4 (de) * 1998-02-16 2005-12-01 Tews, Walter, Dipl.-Chem. Dr.rer.nat.habil. Kompakte Energiesparlampe
DE102005007657A1 (de) * 2005-02-19 2006-08-24 Hella Kgaa Hueck & Co. Gasentladungslampe, insbesondere für Kraftfahrzeugscheinwerfer

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH672380A5 (en) * 1987-01-27 1989-11-15 Bbc Brown Boveri & Cie Reduce darkening of mercury vapour UV tube - using hafnium, lanthanum, thorium or aluminium oxide coating
JPH01102845A (ja) * 1987-10-14 1989-04-20 Matsushita Electron Corp ラピッドスタート形蛍光ランプ
US5267145A (en) * 1989-06-30 1993-11-30 Icom, Inc. Method and apparatus for program navigation and editing for ladder logic programs by determining which instructions reference a selected data element address
US5127099A (en) * 1989-06-30 1992-06-30 Icom, Inc. Method and apparatus for securing access to a ladder logic programming and monitoring system
US5276811A (en) * 1989-06-30 1994-01-04 Icom, Inc. Method for emulating programmable logic controller by exchanging information between debug program which emulates I/O devices and ladder logic program
JPH03238747A (ja) * 1990-02-16 1991-10-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 金属蒸気放電灯およびその製造方法
JP2874701B2 (ja) * 1991-10-04 1999-03-24 日亜化学工業株式会社 蛍光ランプの作製方法
DE4208376A1 (de) * 1992-03-16 1993-09-23 Asea Brown Boveri Hochleistungsstrahler
US5844350A (en) * 1992-12-18 1998-12-01 General Electric Company Coated arc tube for sodium vapor lamp
US5923118A (en) * 1997-03-07 1999-07-13 Osram Sylvania Inc. Neon gas discharge lamp providing white light with improved phospher
EP0725977B1 (de) * 1994-08-25 1998-11-04 Koninklijke Philips Electronics N.V. Niederdruckquecksilberdampfentladungslampe
WO1996006451A1 (en) * 1994-08-25 1996-02-29 Philips Electronics N.V. Low-pressure mercury vapour discharge lamp
US6222318B1 (en) 1998-03-09 2001-04-24 U.S. Philips Corporation Low-pressure mercury vapor discharge lamp
EP1048053B1 (de) 1998-11-12 2004-12-08 Koninklijke Philips Electronics N.V. Niederdruckquecksilberdampfentladungslampe
CN1180456C (zh) 1999-04-29 2004-12-15 皇家菲利浦电子有限公司 低压汞蒸气放电灯
EP1188175A2 (de) 2000-02-01 2002-03-20 Koninklijke Philips Electronics N.V. Niederdruckquecksilberdampfentladungslampe
DE10023504A1 (de) * 2000-05-13 2001-11-15 Philips Corp Intellectual Pty Edelgas-Niederdruck-Entladungslampe, Verfahren zum Herstellen einer Edelgas-Niederdruck-Entladungslampe Lampe sowie Verwendung einer Gasentladungslampe
DE10058852A1 (de) * 2000-11-27 2002-06-06 Raylux Gmbh Kompakte elektrodenlose Niederdruck-Gasentladungslampe mit erhöhter Lebensdauer
JP4050062B2 (ja) * 2001-04-02 2008-02-20 サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド 光源装置、これを有するバックライトアセンブリ及び液晶表示装置
US6774557B2 (en) * 2001-07-05 2004-08-10 General Electric Company Fluorescent lamp having reduced mercury consumption
DE10137015A1 (de) * 2001-07-30 2003-02-20 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Entladungsgefäß mit Excimerfüllung und zugehörige Entladungslampe
US6921730B2 (en) * 2002-03-14 2005-07-26 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Glass composition, protective-layer composition, binder composition, and lamp
US6841939B2 (en) * 2002-04-08 2005-01-11 General Electric Company Fluorescent lamp
JP2005528758A (ja) * 2002-06-04 2005-09-22 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 低圧水銀蒸気放電ランプおよびコンパクトな蛍光ランプ
JP4634798B2 (ja) * 2002-07-29 2011-02-16 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 低圧水銀蒸気放電ランプ
JP4303925B2 (ja) * 2002-08-19 2009-07-29 篠田プラズマ株式会社 金属酸化膜の形成方法及びガス放電管の2次電子放出膜形成方法
CN101438380B (zh) * 2004-12-21 2010-11-17 S.A.E.S.盖特斯股份有限公司 低压汞蒸气放电灯
JP4880904B2 (ja) * 2005-02-15 2012-02-22 新光電気工業株式会社 放電管
WO2007069120A2 (en) * 2005-12-16 2007-06-21 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Low-pressure discharge lamp having improved efficiency
KR101292583B1 (ko) * 2006-06-13 2013-08-09 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치용 백라이트 유닛
US7737639B2 (en) * 2008-03-13 2010-06-15 General Electric Company Fluorescent lamps having desirable mercury consumption and lumen run-up times
WO2014036501A2 (en) * 2012-09-02 2014-03-06 Global Tungsten & Powders Corp. IMPROVED BRIGHTNESS OF CE-TB CONTAINING PHOSPHOR AT REDUCED Tb WEIGHT PERCENTAGE

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3141990A (en) * 1960-04-06 1964-07-21 Sylvania Electric Prod Fluorescent lamp having a tio2 coating on the inner surface of the bulb
US3067356A (en) * 1960-04-06 1962-12-04 Sylvania Electric Prod Fluorescent lamp
US3377494A (en) * 1965-05-24 1968-04-09 Westinghouse Electric Corp Fluorescent lamp envelope with transparent protective coatings
US3350598A (en) * 1965-12-29 1967-10-31 Sylvania Electric Prod High pressure electric discharge device containing a fill of mercury, halogen and an alkali metal and barrier refractory oxide layers
DE1764126C3 (de) * 1968-04-05 1975-06-12 N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken, Eindhoven (Niederlande) Niederdruck-Natriumdampf-Entladungslampe
US3624444A (en) * 1969-07-05 1971-11-30 Philips Corp Low-pressure mercury vapor discharge lamp
GB1463056A (en) * 1973-01-19 1977-02-02 Thorn Lighting Ltd Electric discharge lamp
US3847643A (en) * 1973-01-22 1974-11-12 Gen Electric Surface treatment of fluorescent lamp bulbs and other glass objects
GB1441471A (en) * 1974-01-14 1976-06-30 Gen Electric Co Ltd Electric discharge lamps
US4289991A (en) * 1974-11-25 1981-09-15 Gte Products Corporation Fluorescent lamp with a low reflectivity protective film of aluminum oxide
US4034257A (en) * 1975-06-05 1977-07-05 General Electric Company Mercury vapor lamp utilizing a combination of phosphor materials
US4038203A (en) * 1976-05-21 1977-07-26 Rca Corporation Certain alkali metal-rare earth metaphosphate photoluminescent glasses
US4162232A (en) * 1978-03-29 1979-07-24 Gte Sylvania Incorporated Rare earth activated rare earth fluorogermanate
NL8001833A (nl) * 1980-03-28 1981-10-16 Philips Nv Lagedrukkwikdampontladingslamp.

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19806213B4 (de) * 1998-02-16 2005-12-01 Tews, Walter, Dipl.-Chem. Dr.rer.nat.habil. Kompakte Energiesparlampe
DE102005007657A1 (de) * 2005-02-19 2006-08-24 Hella Kgaa Hueck & Co. Gasentladungslampe, insbesondere für Kraftfahrzeugscheinwerfer

Also Published As

Publication number Publication date
GB2124019A (en) 1984-02-08
JPH0444385B2 (de) 1992-07-21
GB2124019B (en) 1986-03-19
DE3322390A1 (de) 1984-03-08
FR2530076A1 (fr) 1984-01-13
BE897233A (fr) 1984-01-06
JPS5920961A (ja) 1984-02-02
FR2530076B1 (fr) 1985-07-12
US4544997A (en) 1985-10-01
NL8202778A (nl) 1984-02-01
GB8318272D0 (en) 1983-08-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3322390C2 (de) Niederdruck-Quecksilberdampfentladungslampe
DE2446479C3 (de) Leuchtstoffschicht für eine Niederdruckquecksilberdampfentladungslampe
DE2431128C2 (de) Quecksilberdampf-Hochdrucklampe
DE2816069C2 (de) Entladungslampe mit einer Leuchtstoffschicht und Verwendung dieser Lampe
DE3348146C2 (de)
DE69922485T2 (de) Niederdruckquecksilberdampfentladungslampe
DE2624897A1 (de) Aluminiumoxyd-ueberzuege fuer quecksilberdampf-lampen
DE2202521C2 (de) Hochdruck-Quecksilberdampflampe
DE4321812A1 (de) Blaues Licht emittierender Leuchtstoff zur Verwendung in Fluoreszenzlampen und diesen verwendende Fluoreszenzlampe
DE2642704A1 (de) Fluoreszenzlampe
DE2824388A1 (de) Leuchtstofflampe
EP2260505B1 (de) Niederdruckgasentladungslampe zur beeinflussung des körpereigenen melatoninhaushaltes
DE3024476C2 (de)
DE2908890A1 (de) Quecksilberdampf-niederdruckentladungslampe
DE10026909A1 (de) Niederdruck-Quecksilber-Entladungslampe mit Aussenkolben
DE3729711A1 (de) Quecksilberniederdruckentladungslampe zur uv-bestrahlung
DE2837867A1 (de) Leuchtstofflampe
EP0228737B1 (de) UVA-Niederdruckquecksilberdampfentladungslampe für Bräunungszwecke
DE3705906C2 (de)
EP1484783A2 (de) Entladungslampe mit zwei Leuchtstoffschichten
DE60012106T2 (de) Niederdruckquecksilberdampfentladungslampe
DE2029302A1 (de)
DE3024438A1 (de) Niederdruckquecksilberdampfentladungslampe
DE2509931B2 (de) Elektrische Gasentladungslampe
DE2707894C2 (de)

Legal Events

Date Code Title Description
8128 New person/name/address of the agent

Representative=s name: KUPFERMANN, F., DIPL.-ING., PAT.-ANW., 2000 HAMBUR

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: PHILIPS ELECTRONICS N.V., EINDHOVEN, NL

8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V., EINDHOVEN, N