DE3249749C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE3249749C2 DE3249749C2 DE3249749A DE3249749A DE3249749C2 DE 3249749 C2 DE3249749 C2 DE 3249749C2 DE 3249749 A DE3249749 A DE 3249749A DE 3249749 A DE3249749 A DE 3249749A DE 3249749 C2 DE3249749 C2 DE 3249749C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- transistor
- mos transistor
- voltage
- transistors
- circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 20
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 43
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- XUFQPHANEAPEMJ-UHFFFAOYSA-N famotidine Chemical compound NC(N)=NC1=NC(CSCCC(N)=NS(N)(=O)=O)=CS1 XUFQPHANEAPEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000012432 intermediate storage Methods 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000005036 potential barrier Methods 0.000 description 1
- 230000003334 potential effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/14—Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
- G11C5/147—Voltage reference generators, voltage or current regulators; Internally lowered supply levels; Compensation for voltage drops
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05F—SYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
- G05F3/00—Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
- G05F3/02—Regulating voltage or current
- G05F3/08—Regulating voltage or current wherein the variable is DC
- G05F3/10—Regulating voltage or current wherein the variable is DC using uncontrolled devices with non-linear characteristics
- G05F3/16—Regulating voltage or current wherein the variable is DC using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
- G05F3/20—Regulating voltage or current wherein the variable is DC using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
- G05F3/24—Regulating voltage or current wherein the variable is DC using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations wherein the transistors are of the field-effect type only
- G05F3/242—Regulating voltage or current wherein the variable is DC using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations wherein the transistors are of the field-effect type only with compensation for device parameters, e.g. channel width modulation, threshold voltage, processing, or external variations, e.g. temperature, loading, supply voltage
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
- G11C17/08—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/22—Read-write [R-W] timing or clocking circuits; Read-write [R-W] control signal generators or management
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/06—Address interface arrangements, e.g. address buffers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/10—Decoders
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Dram (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Logic Circuits (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine integrierte Halbleiter-
Schaltungsvorrichtung nach dem Oberbegriff des Patent
anspruches 1. Eine solche integrierte Halbleiter-Schaltungsvorrichtung
ist aus der US-PS 39 62 686 bekannt.
Bei integrierten Halbleiterschaltungsvorrichtungen, insbesondere
integrierten MOS-Schaltkreisen, werden die MOS-Transi
storen in zunehmendem Maße mikrominiaturisiert. Im
Zuge dieser Entwicklung verkleinern sich die Tiefe
der Source- und Drainzonen bzw. die Länge der Gate
zone, d. h. die Kanallänge bzw. Dicke der Gate-Isolier
schicht. Trotz dieser ständigen Verkleinerung der
Größe des MOS-Transistors und der Dicke der Gate-Iso
lierschicht wird weiterhin eine Stromversorgung mit
hoher Spannung von z. B. + 5 V verwendet. Aus diesem
Grund werden andere integrierte Schaltkreise, z. B.
TTL-(Transistor-Transistor-Logik-)Schaltkreise,
fertigungsmäßig zu einem Gesamtsystem zusammengefaßt,
wobei es aus praktischen Gründen unerwünscht ist,
getrennte Stromversorgungen für die
einzelnen integrierten Schaltkreise einzusetzen. Wenn
in der Nähe der Drainzone Stoßionisation auf
tritt, werden aufgrund der hohen Stromversorgungsspan
nung Elektronen in die Gate-Isolierschicht injiziert,
wodurch eine Änderung der Schwellenwertspannung hervor
gerufen wird, die wiederum verschiedene Probleme be
dingt. Eine üblicherweise zur Erhöhung der Durchgriff
spannung ergriffene Maßnahme besteht darin, die
Fremdatomkonzentration in der Kanalzone durch
Ionenimplantation zu erhöhen.
Diese Maßnahme kompliziert aber nicht nur das Ferti
gungsverfahren für die Halbleiter-Schaltungsvorrichtung, sondern
ist auch arbeitsaufwendig.
In Fig. 1 ist eine bekannte Speichervorrichtung, nämlich
ein Festwertspeicher dargestellt, bei dem jede als
Speicherzelle wirksame Koppelstelle aus einzigen MOS-Transistor be
steht, wobei Speicherzellen M(1, 1), M(1, 2), ... an
Schnittpunkten von Zeilenleitungen R 1, R 2 usw. und
senkrecht zu diesen verlaufenden Spaltenleitungen S 1,
S 2 usw. angeordnet sind. Beim Auslesen von Daten aus
dieser Speichervorrichtung wählen ein Zeilenleitungs
dekodierer 41 eine der Zeilenleitungen R 1, R 2 usw. und
ein Spaltenleitungsdekodierer (nicht dargestellt) eine
der Spaltenleitungen S 1, S 2 usw., so daß eine am
Schnittpunkt der gewählten Zeilen- und Spaltenleitun
gen befindliche Speicherzelle zur Ausgabe
der durch die gespeicherten Dateneinheit
angewählt wird. Ist die gewählte Speicherzelle mit der
Drainelektrode an die Spaltenleitung, wie der Leitung S 1, S 3,
angeschlossen, wird die an der
Spaltenleitung liegende Ladung über den Transistor ent
laden, so daß sich ihr Potential auf dem Pegel "0"
befindet. Ist dagegen die Drainelektrode des Speicher
zellentransistors nicht mit der Spaltenleitung verbunden,
wird die Spaltenleitung mit dem Strom, der von der
Stromversorgung über einen nicht dargestellten, an die
se Leitung angeschlossenen Lasttransistor geliefert
wird, auf ein Potential des Pegels "1" aufgeladen. Auf
diese Weise können die Daten "0" oder "1" aus der be
treffenden Speicherzelle ausgelesen werden.
Da beim beschriebenen Festwertspeicher jede einzelne
Speicherzelle aus einem einzigen Transistor besteht,
können die Speicherzellentransistoren mikrominiaturi
siert und damit die Chip-Größe verkleinert werden.
Wenn die Speicherzelle klein ist, verkürzt sich auch
die Kanallänge entsprechend. Der resultierende "Kurz
kanaleffekt" verringert den Schwellenwert, so daß
die Schwellenwertspannung eine negative Größe
annimmt. Das Ergebnis besteht darin, daß auch die nicht
gewählten Speicherzellen leitend sind. Unter diesen
Bedingungen werden beim Wählen der Spaltenleitung auch die
nicht gewählten Speicherzellen durchgeschaltet, so
daß das Potential an der Zeilenleitung nicht ansteigt
und das Signal des Pegels "1" nicht geliefert werden
kann. Wenn die Drainspannung an den Speicherzellen
transistor angelegt wird, wird die Höhe der Potential
barriere zwischen Source- und Drainelektrode auf
einen niedrigen Wert begrenzt, so daß ein nur wenig
von der Gate-Spannung abhängiger Strom über die
Source-Drainstrecke fließt. Dieser Strom ist der sog.
Raumladungsbegrenzungsstrom, der einen Durchgriff durch
Source- und Drainelektrode bewirkt. Unter diesen Be
dingungen kann das Ladungspotential auf der Spalten
leitung nicht ansteigen. Aus dem genannten Grund ist
der Mikrominiaturisierung der Speicherzelle und somit
der Verbesserung der Integrationsdichte des Festwert
speichers eine Grenze gesetzt.
Im Zuge der Vergrößerung der Speicherkapazität treten auch
bei den bekannten nicht-flüchtigen Speicher
vorrichtungen die MOSFETs mit frei
schwebendem Gate als Speicherzelle verwenden, dieselben Probleme
bezüglich der Mikrominiaturisierung der Speicherzellen
und des Speicherchips auf. Die Verkleinerung der Spei
chergröße bedingt eine Verkürzung der Kanallänge. Diese
führt wiederum zum Problem einer übermäßigen Verringe
rung der Schwellenwertspannung aufgrund des "Kurzkanal
effekts" oder eines Durchgriffs infolge der Drainspan
nung. Wenn bei diesem zweiten Festwertspeicher-Typ in der
Einschreibbetriebsart der Speicher
vorrichtung eine hohe Spannung an die Drainelektrode
der Speicherzelle angelegt wird, fließt ein Streustrom
in die nicht-gewählte Speicherzelle, deren Gate-
Spannung 0 V beträgt. Der Streustrom ist nicht ver
nachlässigbar, wenn die Kapazität der Speichervorrichtung groß
ist, da in diesem Fall die Zahl der an dieselbe Zeilen
leitung angeschlossenen Drainelektroden der Speicher
zellen groß ist. Dies hat den Nachteil zur Folge, daß
die Dateneinschreibcharakteristik verschlechtert wird,
weil die Drainspannung in der Dateneinschreibbetriebs
art abfällt.
Ein bekanntes Beispiel für eine zur Lösung dieses Problems ent
wickelte Speichervorrichtung ist in Fig. 2 dargestellt.
Diese Speichervorrichtung beruht auf dem Grundkonzept,
daß in der Dateneinschreibbetriebsart ein festes Poten
tial von einer Spannungssignal-Speiseschaltung 101 an
die Sourceelektrode jeder Speicherzelle T der Speicher
vorrichtung angelegt wird, um dadurch die Verringe
rung der Durchsitzspannung und die Verschlechterung
bzw. Beeinträchtigung der Einschreibcharakteristik in
der eine Einschreibbetriebsart zu verhindern. Die Vorrichtung
gemäß Fig. 2 umfaßt Zeilenleitungen R 1, R 2 und R 3 sowie
Spaltenleitungen S 1, S 2 und S 3. Als Spannungssignal-
Speiseschaltung 101 kann eine in Fig. 3 oder in Fig. 4
dargestellte Anorndung ins Auge gefaßt werden. Die
Schaltung gemäß Fig. 3 besteht aus einem Widerstands
element (z. B. einem MOSFETR), das an der einen Seite an
Masse angeschlossen und mit der anderen Seite mit einem
Source-Verbindungspunkt S der Speicherzelle T verbunden
ist. In der Einschreibbetriebsart fließt ein Strom von
1-2 mA in die eine Speicherzelle, so daß demzufolge
das Sourcepotential durch den Spannungsabfall über das
Widerstandselement R ansteigen kann. In der Datenaus
lesebetriebsart fließt andererseits ein Strom von unge
fähr 100 µA in die eine Speicherzelle. Dabei steigt
das Source-Potential nur wenig an.
Bei der bekannten Schaltung gemäß Fig. 4 sind Transistoren T 1-T 4
vom Anreicherungstyp, Transistoren T 5 und T 6 sind vom Verarmungstyp,
und ein Transistor T 0 besitzt im wesentlichen
dieselbe Größe und Charakteristik wie die Speicherzelle
T. Die Schaltung umfaßt weiterhin eine normale
Stromversorgung Vc, eine Stromversorgung Vp zur Lieferung
einer hohen Spannung in der Dateneinschreibbetriebsart,
ein Steuerpotential V A entsprechend
dem Potential an der nicht-gewählten Zeilenleitung in
der Speichervorrichtung und ein Steuersignal R/ an einer
Steuersignalklemme, das in der Lesebetriebsart
den Pegel "1" und in der Einschreibbetriebsart den
Pegel "0" besitzt. Wenn in der Einschreibbetriebsart
ein Impuls Vp hoher Spannung angelegt wird, entspricht das
Potential der Drainelektrode des Transistors T 0 nahezu demjenigen
auf der gewählten Zeilenleitung in der Speichervorrichtung,
so daß das Sourcepotential des Transistors T 0 aufgrund
des Durchgriffs allmählich auf einen Wert ansteigt,
bei dem der Durchgriff beendet wird. Der Widerstandswert
des Transistors T 5 ist ausreichend groß, um für den Fall
gerüstet zu sein, daß die Sourceelektrode des Transistors
T 0 aufgrund von Rausch- oder Störsignalen o. dgl. auf
einem abnormalen Potential liegt, um ihr hohes Potential
zu entladen. Die Schwellenwertspannung des Transistors
T 2 ist auf etwa 0 V eingestellt, und die Gateelektrode
dieses Transistors T 2 liegt an einer Spannung, bei welcher
der Durchgriff des der Speicherzelle entsprechenden
Transistors T 0 endet. Aus diesem Grund wird der Transistor
T 2 gesperrt, wenn das Potential Vs am Source-
Verbindungspunkt S in der Speichervorrichtung das
Potential an der Gateelektrode des Transistros T 2
erreicht. Der Transistor T 3 ist über den Transistor T 6
mit der Stromversorgung Vc verbunden. Infolgedessen
steigt das Gate-Potential an, und der Transistor T 3
schaltet durch. Als Ergebnis wird das Potential Vs
am Source-Verbindungspunkt S auf einen Wert gesetzt,
bei dem der Durchgriff des der Speicherzelle entsprechenden
Transistors T 0, d. h. der Durchgriff der nicht-gewählten
Speicherzelle unter diesen Speicherzellen
beendet wird. In der Dateneinschreibbetriebsart besitzt
das Signal R/ den Pegel "0", wobei der Transistor T 4
sperrt. In der Datenlesebetriebsart
besitzt dagegen das Signal R/ den Pegel "1", wobei
der Transistor T 4 durchgeschaltet ist, so daß der
Source-Verbindungspunkt S auf praktisch 0 V gehalten
wird.
Bei weiterer Verkleinerung der Speicherabmessung als Ergebnis
der großen Speicherkapazität wird die Kanallänge
der Speicherzelle weiter verkürzt. Infolge des kurzen
Kanals fällt die Schwellenwertspannung anormal auf
einen negativen Wert ab. In diesem Fall ist der Streustrom
in der Lesebetriebsart in den Speicherzellen
nicht vernachlässigbar. Diesbezüglich besteht also ein
Bedarf für die Entwickung einer Einrichtung, welche
das Potential Vs am Source-Verbindungspunkt S nicht nur
in der Einschreibbetriebsart, sondern auch in der Lesebetriebsart
auf eine Größe einstellt, die größer ist
als das Gate-Potential der nicht-gewählten
Speicherzelle.
Man kann integrierte Halbleiter-Schaltvorrichtungen mit einer Einrichtung
versehen, welche die Stromversorgung zu einem Schaltungsblock
im integrierten Schaltkreis bei Nichtbenutzung
sperrt, um dadurch
den Stromverbrauch von der Stromversorgung herabzusetzen.
Beispielsweise besitzt der Halbleiterspeicher
eine Abschaltbetriebsart, in welcher
die nicht-gewählten Speicherzellen
zur Stromeinsparung unwirksam gemacht werden.
Bei einem kaskadenförmig aufgebauten integrierten Inverter mit Stromabschaltfunktion
sind gemäß Fig. 5 MOS-Transistoren T 11-T 13 in Reihe
über die Stromversorgung (zwischen Vc und Masse) geschaltet.
Der Last-MOS-Transistor T 12 als n-Kanal-Verarmungs-
MOS-Transistor und der Treiber-MOS-Transistor
T 13 als n-Kanal-MOS-Transistor bilden einen Inverter.
Die Gateelektrode des Lasttransistors T 12 und die
Drainelektrode des Treibertransistors T 13 sind unter
Bildung einer Ausgangsklemme Ao zusammengeschaltet. An
die Gateelektrode des Treibertransistors T 13 wird ein
Eingangssignal ai angelegt. die Stromversorgung Vc
liegt über den MOS-Transistor T 11 des n-Kanal-Verarmungstyps
am Lasttransistor T 12. Der Stromversorgungssteuer-
MOS-Transistor (Steuertransistor) T 11 wird durch
ein Stromabschaltbetriebsart-Signal torgesteuert.
Dieses Signal besitzt den Pegel "0", wenn eine Stromabschaltung
unter Heranziehung des invertierten Signals
des Signals PD erfolgt, d. h. wenn durch
Abschalten des Inverters Strom gespart werden soll;
nach Beendigung der Stromabschaltbetriebsart besitzt
dieses Signal dagegen den Pegel "1". Weiterhin ist ein
Steuer-MOS-Transistor T 14 zwischen die Ausgangsklemme A 0
und Masse, parallel zum Treibertransistor T 13, geschaltet.
Der Steuertransistor T 14 ist beispielsweise ein
n-Kanal-Anreicherungs-MOS-Transistor, der durch ein Stromabschaltsignal
PD torgesteuert wird. Dieses Signal PD
besitzt in der Stromabschaltbetriebsart den Pegel "1"
und nach Beendigung dieser Betriebsart den Pegel "0".
Weiterhin ist ein aus MOS-Transistoren T 15-T 18
bestehender, dem Stromkreis aus den MOS-Transistoren T 11
-T 14 ähnelnder Stromkreis vorgesehen. Der MOS-Transistor
T 17 wird durch ein Signal von der Ausgangsklemme
Ao des Inverters torgesteuert. Die MOS-Transistoren
T 15 und T 18 werden, wie im beschriebenen Fall, durch
die Signale und PD torgesteuert.
Wenn bei diesem integrierten Inverter der Steuertransistor
T 11 durchgeschaltet ist, ist die Stromversorgung
Vc mit dem Lasttransistor T 12 verbunden, während
sich der Steuertransistor T 14 im Sperrzustand befindet
und das invertierte Signal des Eingangssignals ai an der
Ausgangsklemme Ao erscheint. Dabei besitzen die
Abschaltbetriebs-Signale und PD den Pegel "1" bzw.
"0". Um den integrierten Schaltkreis durch Deaktivierung
in den Abschaltzustand zu versetzen, erhalten die Signale
und PD die Pegel "0" bzw. "1", so daß sich der
Steuertransistor T 11 praktisch im Sperrzustand befindet,
während der Steuertransistor T 14 durchgeschaltet ist.
Hierbei wird die Stromzufuhr von der Stromversorgung Vc
zum Lasttransistor T 12 beendet, wobei ein an der Ausgangsklemme
Ao erscheinendes Signal über den Steuertransistor
T 14 nach Masse fließt. Um hierbei die Zufuhr
der Speisespannung Vc zum Lasttransistor T 12 vollständig
zu beenden, nämlich in der Stromabschaltbetriebsart,
muß die Schwellenwertspannung Vth 11 des Steuertransistors
T 11 eine Größe von mehr als 0 V besitzen. Wenn
unter diesen Bedingungen der Abschaltzustand aufgehoben
wird, d. h. wenn der integrierte Schaltkreis arbeitet,
steigt ein den Pegel "1" besitzendes Signal, das an der
Ausgangsklemme Ao des aus den Transistoren T 12 und T 13
bestehenden Inverters erscheint, nur auf einen Pegel
"Vc-Vth 11" an, der unterhalb der Stromversorgungsspannung
Vc liegt. Die Stromversorgungsspanne des
integrierten Schaltkreises wird dadurch verkleinert. Um
andererseits im Betrieb des integrierten Schaltkreises
den Ausgangssignalpegel im wesentlichen auf den Pegel
der Stromversorgungsspannung Vc anzuheben, wenn die
Schwellenwertspannung Vth 11 des Steuertransistors T 11
vom Verarmungstyp auf eine Größe von weniger als 0 V
eingestellt ist, wird der Steuertransistor T 11 nicht
in den Sperrzustand gebracht, wenn das Stromabschaltsignal
den Pegel "0" besitzt, und die Stromzufuhr
zum Lasttransistor T 12 wird fortgesetzt, so daß keine
wesentliche Stromeinsparung erzielt wird. Wenn die
Schwellenwertspannung Vth 11 des Steuertransistors T 11
auf einen negativen Wert eingestellt wird, kann die
Verkleinerung der Stromversorgungsspanne vermieden
werden. In diesem Fall hängt jedoch der über die Source-
Drainstrecke in der Stromabschaltbetriebsart
fließende Strom von der Schwellenwertspannung
Vth 11 oder der Kanallänge des Steuertransistors T 11 ab,
so daß in dieser Betriebsart der Stromverbrauch großen
Schwankungen unterliegt. Im Hinblick darauf muß also
bei der Herstellung des Transistors T 11 große Sorgfalt
bezüglich der Einstellung der Schwellenwertspannung
Vth 11 oder der Kanallänge des Steuertransistors 11 ausgeübt
werden.
Neben der Stromsparschaltung beim integrierten Inverter
wurde bereits ein anderer, in Fig. 6 dargestellter
Inverter vorgeschlagen, bei welchem ein Steuer-
MOS-Transistor zwischen den Treibertransistoren T 13 und T 17
eines Invertes und Masse vorgesehen ist, wobei
der Steuertransistor durch das Stromabschaltbetriebs-
Signal torgesteuert wird. Bei einem solchen
integrierten Schaltkreis besitzt das Signal in der
Stromabschaltbetriebsart den Pegel "0", wobei der
Steuertransistor T 20 abgeschaltet wird,
um auf diese Weise den Stromverbrauch zu verringern.
Bei dieser Anordnung steigen jedoch alle Schaltungspunkte
in der Abschaltbetriebsart auf den Pegel
"1" an, wobei die an diesen Punkten anliegenden Ladungen
bei Aufhebung der Abschaltbetriebsart entladen
werden. Das Substratpotential wird durch die kapazitive
Ankopplung des Substrats des integrierten Schaltkreises
an die Schaltungspunktein negativer Richtung
herabgezogen, so daß das Substratpotential variiert
und die Arbeitsweise des integrierten Schaltkreises
ungünstig beeinflußt. Bei der Aufhebung der Abschaltbetriebsart
muß eine bestimmte Zeit in Kauf genommen
werden, während welcher sich die Drainspannung des
Transistors T 20 gegen die Änderung des Signals von
"0" auf "1" bei Beendigung der Abschaltbetriebsart
vom Pegel "1" auf den Pegel "0" ändert. In diesem Fall
bewirkt das Vorhandensein der Spiegelrückkopplungskapazität
eine Verzögerung der Aufhebung des Abschaltzustands.
MOS-Steuertransistoren T 15, T 18, die in der
Schaltung der Fig. 5 für den zweiten Inverter aus den
Transistoren T 16, T 17 vorgesehen sind, können aus der
Schaltung weggelassen werden, wie dies in Fig. 7 gezeigt
ist. D. h., MOS-Steuertransistoren T 11, T 14 (oder
T 15, T 18) sind für alle anderen Inverter vorgesehen.
In der Schaltung der Fig. 6 muß der Steuertransistor
20 gemeinsam an alle Inverter angeschlossen sein, weil
deren Ausgangssignale in der Abschaltbetriebsart den
Pegel "1" besitzen. Um das Drainpotential des Steuertransistors
T 20 etwa auf Massepotential zu halten und
dadurch die normale Arbeitsweise jedes Inverters zu
gewährleisten, muß die Ansteuerbarkeit des Transistors
T 20 groß sein, mit dem Ergebnis, daß sich die Chipfläche
des integrierten Schaltkreises vergrößert.
In der US-PS 39 62 686 ist eine integrierte Halbleiter-
Schaltungsvorrichtung mit Steuertransistoren und Treiber-
Transistoren beschrieben. Die Treiber-Transistoren werden
hierbei mit einem Signal angesteuert, das zum Steuersignal
der Steuertransistoren komplementär ist.
Weiterhin ist aus der US-PS 40 96 584 ein Schreib-
Lesespeicher aus MOS-Transistoren bekannt, bei dem zwischen
zwei in Reihe geschalteten MOS-Transistoren ein Lastkreis
aus einem MOS-Transistor liegt.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine integrierte
Halbleiter-Schaltungsvorrichtung der eingangs genannten Art zu schaffen, bei welcher
in der Abschaltbetriebsart der Stromverbrauch möglichst
gering ist.
Diese Aufgabe wird bei einer integrierten Halbleiter-
Schaltungsvorrichtung nach dem Oberbegriff des Patentanspruches
1 erfindungsgemäß durch die in dessen kennzeichnendem
Teil enthaltenen Merkmale gelöst.
Vorteilhafte Weiterbildung der Erfindung ergeben
sich aus den Patentansprüchen 2 und 3.
Im folgenden sind bevorzugte Ausführungsformen der
Erfindung im Vergleich zum Stand der Technik anhand
der beigefügten Zeichnung näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 ein Schaltbild für ein Beispiel eines
bekannten Halbleiter-Festwertspeichers,
Fig. 2 ein Schaltbild eines anderen bekannten
leistungslosen Halbleiter-Festwertspeichers
in FAMOS-Technik,
Fig. 3 und 4 Schaltbilder bekannter Spannungssignal-
Speiseschaltungen für den Speicher
gemäß Fig. 2,
Fig. 5, 6 und 7 Schaltbilder bekannter Halbleiter-
Inverterschaltungen mit Stromabschaltfunktion,
Fig. 8 ein Schaltbild eines Ausführungsbeispiels
der Erfindung,
Fig. 9 ein Schaltbild einer Abwandlung der Vorrichtung
nach Fig. 8,
Fig. 10 ein Schaltbild einer anderen Abwandlung der
Vorrichtung nach Fig. 8,
Fig. 11 und 12 Schaltbilder weiterer Abwandlungen
der Spannungsspeiseschaltungen nach Fig. 8
bis 10,
Fig. 13 ein Schaltbild einer Ausführungsform, bei
welcher eine integrierte Halbleiter-Schaltungsvorrichtung
auf eine Pufferschaltung angewandt ist,
Fig. 14 und 15 Schaltbilder von Abwandlungen der
Schaltungsvorrichtung nach Fig. 13,
Fig. 16 ein Schaltbild noch einer anderen Ausführungsform,
bei welcher eine integrierte
Halbleiter-Schaltungsvorrichtung auf einen integrierten
Schaltkreis mit Stromabschaltfunktion angewandt
ist,
Fig. 17 ein Schaltbild einer Abwandlung der Ausführungsform
nach Fig. 16,
Fig. 18 bis 20 Schaltbilder weiterer Abwandlungen
der Ausführungsform nach Fig. 16,
Fig. 21 ein Schaltbild einer Ausführungsform, bei
welcher eine integrierte Halbleiter-Schaltungsvorrichtung
in einen Dekodierer einbezogen ist, und
Fig. 22, 23 und 24 Schaltbilder von Dekodierern zur
Lieferung verschiedener Signale.
Die Fig. 1 bis 7 sind eingangs bereits erläutert
worden.
Fig. 8 veranschaulicht noch ein Ausführungsbeispiel
der Erfindung. Dieses Ausführungsbeispiel besitzt
Stromabschaltfunktion, bei welcher die Stromzufuhr zu einem
Teilschaltungsblock der integrierten Schaltung gesperrt ist,
wenn sich dieser Teilschaltungsblock in einem unwirksamen
Zustand befindet.
Gemäß Fig. 8 sind Transistoren 71-73 in Reihe über
eine Stromversorgung geschaltet, d. h. z. B. zwischen
eine Hochpotential-Stromversorgungsspannung Vc und
Masse. Ein Last-MOS-Transistor 72 des n-Kanal-Verarmungstyps
und ein Treiber-MOS-Transistor 73 des n-Kanal-
Anreicherungstyps bilden einen Inverter. Die Drainelektroden
des Lasttransistors 72 und des Treibertransistors
73 bilden eine Ausgangsklemme
Ao. Ein Eingangssignal ai, das von einer
ähnlichen Schaltung wie derjenigen nach Fig. 17 oder
einer externen Schaltung des integrierten Schaltkreises
geliefert wird, wird der Gateelektrode des
Treibertransistors 73 aufgeprägt. Die Stromversorgungsspannung
Vc liegt über den MOS-Transistor 71 am Lasttransistor
72. Der Stromversorgungs-(Steuer)-MOS-Transistor 71
steht unter der Steuerung eines Stromabschaltbetriebsartsignals
, das - als invertiertes Signal PD - den
logischen Pegel "0" in einer Stromabschaltbetriebsart
bei unwirksamem Inverter besitzt, um
eine Stromeinsparung zu realisieren, während es nach
Beendigung der Abschaltbetriebsart den logischen Pegel
"1" besitzt. Parallel zum Treibertransistor 73 ist
zwischen der Ausgangsklemme Ao und einer Spannung Vso ein Steuer-
MOS-Transistor 74 vorgesehen, der vom n-Kanal-Anreicherungstyp
ist und einer Torsteuerung durch das Stromabschaltbetriebsartsignal
PD unterworfen ist, das in
der Abschaltbetriebsart den logischen Pegel "1" und
bei Beendigung dieser Betriebsart den logischen Pegel
"0" besitzt. Zusätzlich ist ein weiterer, aus Transistoren
75-78 gebildeter Schaltungsblock vorgesehen,
der im wesentlichen denselben Schaltungsaufbau besitzt
wie der Schaltungsblock aus den Transistoren 71-74.
Der Treiber-MOS-Transistor 77 wird durch ein von der
Ausgangsklemme Ao des Umsetzers geliefertes Signal torgesteuert.
Die MOS-Transistoren 75 und 78 werden durch die
Stromabschaltsignale PD bzw. torgesteuert. Eine
Spannungsspeiseschaltung 79 legt die Spannung
Vso an die Sourceelektroden der Steuertransistoren 74
und 78 an, die in der Stromabschaltbetriebsart durchgeschaltet
sind. Die Speiseschaltung 79 besteht aus MOS-
Transistoren 80-82, die in Reihe zwischen die
Stromversorgungsspannung Vc und Masse geschaltet sind. Der
Verarmungstyp-MOS-Transistor 80, dessen Gate- und
Sourceelektroden zusammengeschaltet sind, liefert die
Stromversorgungsspannung Vc zum MOS-Transistor 81, der
seinerseits an der Gateelektrode an Masse liegt und an
der Sourceelektrode die Spannung Vso liefert. Die
Sourceelektrode des MOS-Transistors 81 ist mit der
Drainelektrode des MOS-Transistors 82 verbunden. Der
MOS-Transistor 82 ist an der Gateelektrode mit der
Sourceelektrode des MOS-Transistors 80 verbunden und
an seiner Sourceelektrode an Masse gelegt.
Bei der integrierten Schaltungsvorrichtung mit dem beschriebenen
Aufbau besitzen die Stromabschaltsignale und PD in
der Stromabschaltbetriebsart den Pegel "0" bzw. "1".
Der Steuertransistor 74 ist dabei durchgeschaltet, und
die von der Speiseschaltung 79 gelieferte Spannung Vso
wird über den Steuertransistor 74 an die Ausgangsklemme
Ao des Umsetzers, d. h. an die Sourceelektrode des
Lasttransistors 72, angelegt. Dabei steigt in der Spannungsspeiseschaltung
79 die Spannung Vso an, bis die
Stromversorgungsspannung Vc über die MOS-Transistoren
80 und 81 geliefert wird und der Transistor 81 sperrt.
Nach dem Sperren des Transistors 81 steigt die Gate-
Spannung des MOS-Transistors 82 schlagartig an. Der MOS-
Transistor 82 befindet sich daher im Durchschaltzustand,
wobei die Spannung Vso in Abhängigkeit von einem Durchschalt-
Widerstandsverhältnis der Transistoren 80-82
konstant gehalten wird. Die Spannung Vso wird über den
Lasttransistor 72 an die Sourceelektrode des Steuertransistors
71 angelegt, so daß die Gate-Spannung des
Steuertransistors 71, der mit dem Signal
gespeist wird, negativ wird. Damit wird
der Steuertransistor 71
zuverlässig in den Sperrzustand versetzt.
Dabei wird das Signal ai unter der Schwellenwertspannung
des Transistors 73 gehalten. Genauer gesagt: der
MOS-Transistor 81 der Spannungsspeiseschaltung
79 besitzt dieselbe Schwellenwertspannung Vth 81 wie
der Steuertransistor 71. Die an der Sourceelektrode erzeugte
Spannung Vso nähert sich der Absolutgröße | Vth 81 |
der Schwellenwertspannung Vth 81 an, wenn die Gate-Spannung
0 V beträgt. Der Transistor 82 ist vom Anreicherungstyp
mit z. B. derselben Schwellenwertspannung wie der
Transistor 73. Der Transistor 80, der bei der dargestellten
Ausführungsform vom Verarmungstyp ist, kann
durch ein einfaches Widerstandselement ersetzt werden.
Die zur Sourceelektrode des Steuertransistors 71 gelieferte
Spannung Vso ist stets größer als das Gate-
Potential (das Signal ). Das Gate-Potential ist
daher negativ, und die Spannung Vso wird
in Abhängigkeit von der Schwellenwertspannung
Vth 71 des Steuertransistors 71 erzeugt. Die Einstellung
bzw. das Setzen der Schwellenwertspannung Vth 71 ist
daher vergleichsweise einfach. Außerdem ist die Spannung
Vso vorzugsweise niedriger als die Schwellenwertspannung
Vth 71 des Steuertransistors 71 erzeugt. Die Einstellung
bzw. das Setzen der Schwellenwertspannung Vth 71 ist
daher vergleichsweise einfach. Außerdem ist die Spannung
Vso vorzugsweise niedriger als die Schwellenwertspannung
Vth 77 des Treiber-MOS-Transistors 77. Wenn die Stromabschaltbetriebsart
beendet ist, d. h. wenn der integrierte
Schaltkreis arbeitet (Abschaltsignale und PD jeweils
"1" bzw. "0"), ist die Schwellenwertspannung
Vth 71 des Steuertransistors 71 negativ. Wenn daher das
Ausgangssignal des Umsetzers den Pegel "1" besitzt,
steigt die Spannung auf die Stromversorgungsspannung
Vc, so daß eine Verkleinerung der Stromversorgungsspanne
verhindert wird. Die nicht an Masse liegende
Gateelektrode des MOS-Transistors 81 kann durch das
Abschaltsignal torgesteuert werden. Bei der integrierten
Schaltungsvorrichtung gemäß Fig. 8 ist die Arbeitsweise
der den nachgeschalteten Inverter bildenden Schaltung,
d. h. der Schaltung aus den MOS-Transistoren 75-78,
im wesentlichen dieselbe wie beim vorstehend beschriebenen
Inverter. Eine nähere Erläuterung erübrigt sich
daher. In einer abgewandelten Ausführungsform der
Spannungsspeiseschaltung 79 ist der Transistor
80 weggelassen, wobei die Drainelektrode des Transistors
81 an der Stromversorgungsspannung Vc liegt und die
Gateelektrode des Transistors 82 mit der Drainelektrode
des Transistors 82, d. h. der Sourceelektrode des
Transistors 81, verbunden ist. Hierbei wird in der
Stromabschaltbetriebsart die Spannung Vso an der Drainelektrode
des Transistors 82 geliefert. Die Spannung
Vso beträgt | Vth 81 |, wenn die Absolutgröße | Vth 81 | der
Schwellwertspannung Vth 81 des Transistors 81 kleiner
ist als die Schwellenwertspannung Vth 82 des Transistors
82. Die Transistoren 71, 75 und 81 sperren, so daß der
Stromverbrauch gleich Null ist. Wenn die Größe | Vth 81 |
größer ist als Vth 82, liegt die Spannung Vso in keinem
Fall unter Vth 82. Der Stromverbrauch ist daher sehr gering.
Ein Signal mit einem höheren Pegel als dem des
Signals kann an die Gateelektrode des Transistors 81
der Spannungsspeiseschaltung 79 angelegt werden. In diesem Fall
geht die Spannung Vso auf einen hohen Wert über, so daß
der in die Steuertransistoren 71 und 75 fließende Strom
zuverlässig gesperrt wird. Auf diese Weise wird eine
eindeutige Stromeinsparung erreicht.
Fig. 9 veranschaulicht eine Abwandlung der Ausführungsform
gemäß Fig. 8, bei welcher die Treibertransistoren 74 und 78 über
den MOS-Transistor 83 an Masse liegen. Der Transistor
83 wird durch das Stromabschaltbetriebsartsignal
torgesteuert. Wenn das Signal den Pegel "0" besitzt,
befindet sich der Transistor 83 im Sperrzustand, und
die Spannung Vso von der Speiseschaltung 79 wird an
die Steuertransistoren 74 und 78 angelegt. Nach
Beendigung der Stromabschaltbetriebsart, d. h. wenn das
Signal den Pegel "1" besitzt, befindet sich der MOS-
Transistor 83 im Durchschaltzustand, wobei die Spannung
Vso auf dem Massepegel gehalten wird. Diese Vorrichtung
bietet dieselben Nutzeffekte wie die Ausführungsform
gemäß Fig. 8. In jeder anderen Beziehung sind Aufbau
und Arbeitsweise ähnlich wie bei der Ausführungsform
gemäß Fig. 8, so daß sich eine weitere Erläuterung
erübrigen dürfte und lediglich den Teilen von Fig. 8
entsprechende Teile mit denselben Symbolen wie vorher
bezeichnet sind.
Bei der Schaltungsvorrichtung gemäß Fig. 10 sind die durch das
Stromabschaltbetriebsartsignal PD gemäß Fig. 9 torgesteuerten
Steuertransistoren 74 und 78 weggelassen.
Die mit dieser Ausführungsform erzielbare Wirkung ist
derjenigen bei der Ausführungsform nach Fig. 9 vergleichbar.
In der Stromabschaltbetriebsart
kann die Zufuhr der Stromversorgungsspannung Vc
durch die Steuertransistoren 71 und 75 vollständig
gesperrt werden, so daß die Potentiale an
den betreffenden Schaltungspunkten nur geringfügig ansteigen
und sich das Substratpotential nur wenig
ändert, wenn die Abschaltbetriebsart aufgehoben oder
beendet wird. In anderer Hinsicht entspricht diese Ausführungsform
bezüglich Aufbau und Arbeitsweise der
vorher beschriebenen Ausführungsform.
Die Fig. 11 und 12 veranschaulichen andere Ausführungsformen
der Spannungsspeiseschaltung 79 zur Lieferung
der bei den Ausführungsformen gemäß Fig. 8-10
verwendeten Spannung Vso. Gemäß Fig. 11 wird die Stromversorgungsspannung
Vc nicht unmittelbar, sondern über
einen MOS-Transistor 84 beispielsweise des n-Kanal-
Anreicherungstyps zur Drainelektrode des MOS-Transistors
80 geliefert. Der Transistor 84 wird durch das
Stromabschaltbetriebsartsignal PD torgesteuert. Wenn das
Signal PD nach Beendigung der Abschaltbetriebsart den
Pegel "0" besitzt, befindet sich der Transistor 84 im
Sperrzustand, so daß ein Stromverbrauch in der Speiseschaltung
79 bei normaler Arbeitsweise verhindert wird.
Gemäß Fig. 12 wird die von der Sourceelektrode des MOS-
Transistors 80 gelieferte Stromversorgungsspannung Vc
an die Drainelektrode des MOS-Transistors 81 über den MOS-
Transistor 85 z. B. des n-Kanal-Anreicherungstyps gelegt.
Bei dieser Ausführungsform wird der MOS-Transistor
85 durch das Abschaltbetriebsart der Pegel "0"
besitzt. Gemäß den Fig. 11 und 12 wird der MOS-Transistor
81 durch das Stromabschaltbetriebsartsignal
torgesteuert. Wenn hierbei das Potential des Signals
ansteigt, kann die Spannung Vso entsprechend
ansteigen. Das an die Gateelektrode des Transistors
81 in der Speiseschaltung 79 gemäß Fig. 8 angelegte
Signal kann selbstverständlich das Signal
sein. Der Steuertransistor 71 kann damit zuverlässig
auch dann zum Sperren gebracht werden, wenn das Signal
in der Stromabschaltbetriebsart ansteigt. Der Rest
des Schaltungsaufbaus und der Arbeitsweise dieser Vorrichtung
ergibt sich aus den Erläuterung zu den Ausführungsformen
gemäß Fig. 8 bis 10.
Fig. 13 veranschaulicht eine Vorrichtung bei welcher
die Erfindung auf eine Pufferschaltung mit drei Inverterstufen angewandt ist.
Die Vorrichtung entspricht der Ausführungsform gemäß
Fig. 8 (mit Ausnahme der Spannungssignal-Speiseschal
tung 79), weist jedoch zusätzlich einen Inverter bildende Pufferschaltung
86 auf. In der Pufferschaltung 87 und ein Treiber-MOS-Transistor 88 in
Reihe zwischen die Stromversorgungsspannung Vc
und Massepotential geschaltet. Die Transistoren 87 und 88
werden durch Signale von Ausgangsklemmen
Ao bzw. A 1 eines Inverters torgesteuert. Die
Spannung Vso wird über einen Steuertransistor 89 an
die Ausgangsklemme A 2 als Verbindungspunkt
zwischen den MOS-Transistoren 87 und 88
angelegt. Der Steuertransistor 89 von n-Kanal-Anreicherungstyp
wird durch das Stromabschaltbetriebsartsignal
PD torgesteuert.
Bei der integrierten Schaltungsvorrichtung mit der Pufferschaltung
86 schaltet der Steuertransistor 89 durch, wenn das
Signal PD in der Stromabschaltbetriebsart den Pegel "1"
besitzt, wobei die Spannung Vso der Ausgangsklemme A 2
zugeführt wird. Bei einem Anstieg des Source-Potentials
des MOS-Transistors 87 befindet sich daher der eine
negative Schwellenwertspannung besitzende Transistor 87
im wesentlichen im Sperrzustand, wodurch der Stromverbrauch
herabgesetzt wird. Nach Aufhebung der Stromabschaltbetriebsart
läßt das Signal PD mit dem Pegel "0"
den Steuertransistor 89 sperren, so daß der Normalbetrieb
der Pufferschaltung 86 ermöglicht wird.
Gemäß den Fig. 14 und 15 weist eine Schaltungsvorrichtung
mit der Pufferschaltung 86 gemäß Fig. 13 die Spannungssignal-
Speiseschaltung 79 auf, die in einer Stromabschaltbetriebsart
über einen MOS-Transistor 89 die Spannung Vso
an die Ausgangsklemme A 2 der Pufferschaltung 89 anlegt.
Gemäß Fig. 14 wird der MOS-Transistor 81 in der Speiseschaltung
79 durch das Gate- bzw. Torsteuersignal des
MOS-Transistors 87 der Pufferschaltung 86 torgesteuert.
Bei dieser Schaltungsvorrichtung kann die Spannung Vso nach
Maßgabe des Gate-Potentials des MOS-Transistors 87 erzeugt
werden. Auch wenn das Gate-Potential des
Transistors 87 vergleichsweise hoch ist, kann der
Transistor 87 in der Abschaltbetriebsart zuverlässig
sperren. Bei der Ausführungsform gemäß Fig. 15 wird
die Stromversorgungsspannung des MOS-Transistors 90
mit derselben negativen Schwellenwertspannung wie beim
MOS-Transistor 87 der Pufferschaltung 86 an die
Gateelektrode des MOS-Transistors 81 in der Spannungsspeiseschaltung
79 angelegt. Der Transistor 90 wird an
der Drainelektrode mit der Stromversorgungsspannung Vc
gespeist und liegt an der Gateelektrode an Masse,
während er an der Sourceelektrode über den MOS-Transistor
91 mit einer ähnlichen negativen Schwellenwertspannung
wie der Transistor 90 an Masse liegt. Der Transistor 91
dient zur Bildung einer Entladungsstrecke, wenn das
Source-Potential Vso des Transistors 90 aufgrund von
Störsignalen o. dgl. abnormal ansteigt. Der Leistungs-
bzw. Durchschaltwiderstand des Transistors 91 ist
rächtlich größer als derjenige des Transistors 90.
Die Speiseschaltung 79 mit diesem Aufbau vermag zuverlässig
eine Spannung Vso zu liefern, die sich durch die
Summe der Absolutgröße der Schwellenwertspannung des
MOS-Transistors 87 und seiner Gatespannung bestimmt.
Indem die Spannung Vs in der Abschaltbetreibsart an
die Soruceelektrode des MOS-Transistors 87 angelegt
wird, kann letzterer zuverlässig gesperrt werden.
Fig. 16 veranschaulicht eine weitere Ausführungsform
einer Spannungsspeiseschaltung zur Lieferung
der Spannung Vso. Diese Speiseschaltung weist einen
MOS-Transistor 92 mit derselben negativen Schwellenwertspannung
wie der Steuertransistor 71 in der Schaltung
gemäß Fig. 8 auf. Die Stromversorgungsspannung Vc
wird an die Drainelektrode des MOS-Transistors 92
angelegt, der mit seiner Gateelektrode an Masse liegt.
Die Soruceelektrode des MOS-Transistors 92 ist über
einen MOS-Transistor 93 des Verarmungstyps an Masse
gelegt und liefert einen Spannung V R nach Maßgabe der
negativen Schwellenwertspannung. Die Spannung V R wird
an eine der Eingangsklemmen eines an sich bekannten
Differentialverstärkers 99 aus MOS-Transistoren 94-98
angelegt. Die andere Eingangsklemme des Diffenentialverstärkers
99 ist mit der Sourceelektrode des
Steuertransistors 74 gemäß Fig. 8 verbunden und wird
mit der Spannung Vso gespeist. Ein zwischen dem
Differentialverstärker 99 und Masse angeordneter MOS-Transistor
100 wird durch das Stromabschaltbetriebsartsignal
PD torgesteuert. Ein dem Differentialverstärker
99 ähnelnder Differentialverstärker 101 wird
an der einen Eingangsklemme mit einem Ausgangssignal
B 1 des Differentialverstärkers 99 und an der anderen
Eingangsklemme mit einem anderen Ausgangssignal B 2
des Verstärkers 99 gespeist. Das Ausgangssignal Bo
des Differentialverstärkers 101 wird an die Gateelektrode
des MOS-Transistors 102 angelegt, dessen
Drainelektrode mit der anderen Eingangsklemme des
Verstärkers 99 verbunden ist, während seine Soureelektrode
an Masse liegt.
Im folgenden sei ein Fall betrachtet, in welchem die
Spannungssignal-Speiseschaltung mit dem beschriebenen
Aufbau auf den integrierten Schaltkreis gemäß Fig. 8
angewandt ist. In einer Stromabschaltbetriebsart
besitzen dabei die Signale und PD die Pegel "0" bzw.
"1". Wenn das Potential an der Sourceelektrode des
Steuertransistors 71, d. h. die Spannung Vso, höher ist
als die Spannung V R , besitzen die Ausgangssignale B 1
und B 29 des Differentialverstärkers 99 den Pegel "1"
bzw. "0". Infolgedessen besitzt das Ausgangssignal Bo
des Verstärkers 101 den Pegel "1", wobei der MOS-Transistor
102 einen niedrigen Widerstand besitzt.
Die Spannung Vso verringert sich infolge eines Stromflusses
über den Transistor 102 nach Masse. Wenn die Spannung
Vso niedriger ist als die Spannung V R , besitzen
die Ausgangsignale B 1 und B 2 des Differentialverstärkers
99 den Pegel "0" bzw. "1". Das Ausgangssignal
Bo des Diffenentialverstärkers 101 besitzt den Pegel
"0", wobei der MOS-Transistor 102 einen hohen Widerstand
hat und die Spannung Vso ansteigt. Bei dieser
Speiseschaltung kann die Spannung Vs stets in
Übereinstimmung mit der Schwellenwertspannung des
Steuertransistors 71 des integrierten Schaltkreises
eingestellt werden. Infolgedessen kann eine zweckmäßige
Spannung Vso erhalten werden, und der Steuertransistor
71 kann speziell in der Abschaltbetriebsart
zuverlässig gesperrt werden. Die Differentialverstärker
99 und 101 arbeiten selbstverständlich nach
Maßgabe des Stromabschaltbetriebsartsignals PD.
Bei den Ausführungsformen gemäß Fig. 8-10 wird in
der Abschaltbetriebsart die Spannung Vso an die
Sourceelektroden der Last-MOS-Transistoren 72 und 76
angelegt. Wahlweise kann die Spannung Vso unmittelbar an
die Sourceelektroden der Steuertransistoren 71 und 75
angelegt werden. Die Erfindung ist auch auf einen Fall
anwendbar, in welchem die Steuertransistoren 71, 75,
81, 87 und 90 MOS-Transistoren des p-Kanal-Verarmungstyps
mit positiver Schwellenwertspannung und die
Steuertransistoren 74,78, 84, 88 und 89 MOS-Transistoren
des p-Kanal-Anreicherungstyps sind. Wenn beim
integrierten p-Kanal-Schaltkreis die Stromversorgungs
spannung Vc negativ ist, entspricht die logische "1"
des Stromabschaltsignals PD dem Potential Vc.
Bei den Ausführungsformen gemäß Fig. 8-16 wird die
Zufuhr der Stromversorgungsspannung zu einem eine
Logikschaltung bildenden MOS-Transistorkreis in der
Stromabschaltbetriebsart gesteuert, wodurch die
Arbeitsweise des Steuer-MOS-Transistors des Verarmungstyps
stabilisiert wird. Aufgrund dieser Anordnung
wird der Strombedarf eindeutig herabgesetzt, und im
Normalbetrieb der Schaltungsvorrichtung kann eine zufriedenstellende
Stromversorgungsspanne gewährleistet werden.
Fig. 17 veranschaulicht noch eine weitere Ausführungsform
einer integrierten Halbleiter-Schaltungsvorrichtung mit Merkmalen
nach der Erfindung. Diese Ausführungsform unterscheidet
sich von derjenigen nach Fig. 8 hauptsächlich
durch folgende Einzelheiten: Die MOS-Transistoren
74 und 78 sind weggelassen. Es ist keine
Spannungssignal-Speiseschaltung 79 vorhanden. Zwischen den
Gateelektroden der MOS-Transistoren 72 und 73 ist ein
MOS-Transistor 103 angeordnet. Zwischen den Gateelektroden
der MOS-Transistoren 76 und 77 befindet sich
ein MOS-Transistor 104. Das Stromabschaltbetriebsartsignal
PD wird an die Gateelektroden der MOS-Transistoren
103 und 104 angelegt.
Bei der Anordnung gemäß Fig. 17 besitzen die
Abschaltsignale PD und in der Stromabschaltbetriebsart
die Pegel "1" bzw. "0". In dieser Betriebsart
sind daher Drain- und Sourceelektroden der Treibertransistoren
103 und 104 elektrisch zusammengeschaltet.
Es sei angenommen, daß die Schwellenwertspannung
Vth 71 und Vth 75 der Steuertransistoren 71 bzw. 75
negativ sind und daß die Absolutgrößen | Vth 71 | und
| Vth 75 | kleiner sind als die Schwellenwertgrößen Vth 73
und Vth 77 der Treibertransistoren 73 bzw. 77. Die
Potentiale an den Drainelektroden der Treibertransistoren
73 und 77, welche Ausgangsklemmen Ao und A 1 bilden,
steigen auf die Potentiale | Vth 71 | und | Vth 75 |
an. Dies ergibt sich aus der Gleichung "Vs = V G -Vth",
in welcher Vs das Potential an den Sourceelektroden
der Transistoren 71 und 75 und V G die Gate-Spannung
jedes Steuertransistors 71 und 75, die bei diesem Beispiel
0 V () beträgt, bedeuten. Wie erwähnt, sind
die Treibertransistoren 73 und 77 an das Drain- und
Sourceelektroden zusammengeschaltet. Die Gate-Potentiale der
Transistoren 73 und 77 betragen daher | Vth 71 | bzw.
| Vth 75 |. Diese Gate-Potentiale sind kleiner als die
Schwellenwertspannungen Vth 73 bzw. Vth 77 der Treibertransistoren
73 bzw. 77. Unter den genannten Bedingungen
befinden sich die Treibertransistoren 73 und 77
im Sperrzustand. Infolgedessen ist der Strombedarf in
der aus den MOS-Transistoren 71-73 und 75-78
bestehenden Schaltung im wesentlichen nur der Streustrom;
der Stromverbrauch wird
daher erheblich herabgesetzt. Wenn die Schwellenwertspannungen
| Vth 71 | und | Vth 75 | der Steuertransistoren
71 und 75 größer sind als die Schwellenwertspannungen
Vth 73 und Vth 77, schalten die Treibertransistoren 73
und 77 durch. Durch die Transistoren fließen dabei
Ströme, die einem Unterschied zwischen der Schwellenwertspannung
Vth 73 und dem Gate-Potential bzw. zwischen
der Schwellenwertspannung Vth 77 und dem Gate-Potential
proportional sind. Die Potentiale an den
Ausgangsklemmen Ao und A 1, d. h. die Source-Potentiale
der Transistoren 71 und 75, bleiben auf einem Wert
über den Schwellenwertspannungen Vth 73 und Vth 77 der
Treibertransistoren. Wenn daher die Schwellenwertspannungen
der Transistoren 71 und 75 gleich groß ge
wählt werden, ist der Stromverbrauch außerordentlich
niedrig. Der Grund hierfür besteht darin, daß die
Gate-Potentiale der Steuertransistoren 71 und 75,
von den Soure-Seiten der Transistoren her gesehen,
negativ sind, mit dem Ergebnis, daß der
Strom auf einen niedrigen Wert begrenzt wird. In der
Stromabschaltbetriebsart ändert
sich die Spannung an den Ausgangsklemmen Ao und A 1
entsprechend den Schwellenwertspannungen der Steuertransistoren
71 und 77. Wenn sich daher die Schwellenwertspannungen
der Steuertransistoren 71 und 75 ändern,
wird in keinem Fall mehr Stromversorgungsstrom
verbraucht. Bei Beendigung der Abschaltbetriebsart,
d. h. wenn die Signale PD und den Pegel "0" bzw. "1"
besitzen, sperren die Steuertransistoren 103 und 104,
so daß Drain- und Gateelektroden der Treibertransistoren
73 und 77 getrennt sind. Weiterhin sind
die Steuertransistoren 71 und 75 durchgeschaltet, und
der Strom von der Stromversorgung wird zu den Ausgangsklemmen
Ao und A 1 geliefert. Zu diesem Zeitpunkt sind
die Schwellenwertspannungen Vth 71 und Vth 75 der
Steuertransistoren 71 und 75 negativ. Die Ausgangssignale
entsprechend der Spannung, welche der Stromversorgungsspannung
Vc gleich ist, erscheinen an den Ausgangsklemmen
Ao und A 1 nach Maßgabe der Arbeitsweise der
Treibertransistoren 73 und 77, so daß die Stromversorgungsspanne
nicht verkleinert wird. Die
Schwellenwertspannungen | Vth 71 | und | Vth 75 |
der Steuertransistoren 71 bzw. 75 betragen nahezu
0 V und sind kleiner als die Absolutgrößen | Vth 72 |
bzw. | Vth 76 | der Schwellenwertspannungen der Last
MOS-Transistoren 72 bzw. 76 vom n-Kanal-Verarmungstyp.
Bei der Vorrichtung gemäß Fig. 18 sind die Steuertransistoren
103 und 104 nach Fig. 17 durch Steuer-MOS-Tran
sistoren 104 und 105 ersetzt, die in Reihe zwischen
die Ausgangsklemme Ao des nachgeschalten
MOS-Transistors geschaltet sind. Diese Steuertransistoren
104 und 105 schalten durch, wenn das
Stromabschaltbetriebsartsignal PD den Pegel "1"
besitzt. Wenn bei dieser Schaltungsvorrichtung in der
Abschaltbetriebsart die Signale PD und die Pegel "1" bzw.
"0" besitzen, sind die Steuertransistoren 104 und 105
durchgeschaltet und die Ausgangsklemmen Ao und A 1
elektrisch zusammengeschaltet. Infolgedessen sind
Gate- und Drainelektrode des Treibertransistors 77
im nachgeschalteten MOS-Transistorkreis zusammengeschaltet.
Wie bei der Ausführungsform gemäß Fig. 17
sind somit die Schwellenwertspannungen Vth 71 und Vth 75
der Steuertransistoren 71 bzw. 75 negativ, und wenn
die Absolutgrößen | Vth 71 | und | Vth 75 | kleiner sind als
die Schwellenwertspannung Vth 77 des Treibertransistors
77, befindet sich letzterer in Sperrzustand, wodurch
der Stromverbrauch beträchtlich herabgesetzt wird.
Auch dann, wenn diese Absolutgrößen größer sind als
die Schwellenwertspannung Vth 77, kann der Stromverbrauch
im Vergleich zur bisherigen Schaltungsvorrichtung
klein gehalten werden. Wenn die Signale PD und
den Pegel "0" bzw. "1" besitzen, d. h. wenn die
Stromabschaltbetriebsart aufgehoben wird, kann deshalb, weil
die Schwellenwertspannungen Vth 71 und Vth 75 der Steuer
transistoren 71 bzw. 75 negativ sind, ein Ausgangssignal
praktisch entsprechend der Stromversorgungsspannung
Vc nach Maßgabe der Arbeitsweise der Treibertransistoren
73 und 77 erhalten werden, ohne daß die
Stromversorgungsspanne eingeschränkt wird wie dies
auch bei der Ausführungsform nach Fig. 17 der Fall ist.
Um bei dieser Arbeitsweise zu verhindern, daß sich die
Sourceelektrode des Steuertransistors 104 in einem
freischwebenden Zustand befindet,
ist die Sourceelektrode dieses Transistors 104 über den
durch das Signal torgesteuerten MOS-Transistor 106
oder über den MOS-Transistor 107, desen Drain- und
Gateelektroden zusammengeschaltet sind, mit Masse
verbunden. In diesem Fall ist gemäß Fig. 18 ein MOS-
Transistor 107 an die Sourceelektroden der Transistoren
104 und 105 angeschlossen, oder es können wahlweise
zwei Transistoren 107 an diese Sourceelektroden
angeschlossen sein. Im letzteren Fall ist es, im Gegensatz
zur Ausführungsform nach Fig. 19 nicht nötig,
die Sourceelektroden der Transistoren 104 und 105 zu
verbinden. In der Abschaltbetriebsart sind die Transistoren
104 und 105 durchgeschaltet, und die Sourceelektroden
der Transistoren 71 und 72, welche dieselbe
Aufgabe erfüllen wie der Transistor 77, sind mit der
Drainelektrode des Transistors 107 verbunden, so daß
der Strombedarf in der Abschaltbetriebsart beträchtlich
herabgesetzt wird. Kanalbreite und Kanallänge
des Transistors 107 können jeweils klein sein. Bevorzugt
wird ein Transistor 107 für beide Transistoren
104 und 105, weil dadurch Chipfläche gespart werden
kann. Die für diese beiden Transistoren vorgesehenen
zwei Transistoren 107 sind jedoch dann vorteilhaft,
wenn bei einer Verdrahtungsschicht zur Verbindung der
Sourceelektroden der Transistoren 104 und 105 gemäß
Fig. 18 der Musterplan zwei Transistoren 107 erfordert
oder die Ausbildung eines einzigen Transistors
seine Musterbelegungsfläche vergrößert. Für die Verdrahtung
zur Verbindung der Sourceelektroden der
Transistoren 104 und 105 wird ein Metall, wie
Aluminium, bevorzugt. Für die Sourceelektroden-Verbindungsleitung
wird eine einzige Metallschicht benötigt.
Der Transistor 107 kann beispielsweise unter der Aluminiumschicht
ausgebildet sein. Eine kleinere Musterbelegungsfläche
wird somit dann erzielt, wenn die
Sourceelektroden der Transistoren 104 und 107 zusammengeschaltet
und der (die) Transistor(en) 107 für
die Transistoren 104 und 105 vorgesehen sind.
Beim integrierten Schaltkreis gemäß Fig. 19 ist die
Ausgangsklemme Ao eines vorgeschalteten
MOS-Transistorkreises in der Stromabschaltbetriebsart
mit der Ausgangsklemme A 1 des nachgeschalteten
MOS-Transistorkreises verbunden, wobei - wie
bei der Ausführungsform nach Fig. 18 - die Drainelektrode
des Transistors 77 mit seiner Gatelektrode verbunden
ist. Bei diesem Schaltkreis ist außerdem die
Sourceelektrode des Treibertransistors 73 im vorgeschalteten
MOS-Transistorkreis über einen Steuer-MOS-
Transistor 108, der durch das Signal torgesteuert
wird, an Masse gelegt. Bei dieser Ausführungsform kann,
ebenso wie bei der Ausführungsform nach Fig. 18, der
Stromverbrauch von der Stromversorgung in der Stromabschaltbetriebsart
beträchtlich herabgesetzt werden.
Der vorgeschaltete MOS-Transistorkreis gemäß Fig. 19 benötigt
weniger Strom von der Stromversorgung, weil
sich der Steuertransistor 108 im Sperrzustand befindet,
wenn das Signal den Pegel "0" besitzt. Im Vergleich
zur Ausführungsform nach Fig. 18 läßt sich somit
eine beträchtliche Stromeinsparung in der gesamten
integrierten Schaltungsvorrichtung erzielen. Die Wirkung nach
Aufhebung der Abschaltbetriebsart ist dieselbe wie bei
der Ausführungsform nach Fig. 18. Die Schaltungsvorrichtung nach
Fig. 19 eignet sich am günstigsten für die erste Stufe
im integrierten Schaltkreis, welcher das Signal ai
von außen her zugeführt wird. Auch wenn das Eingangssignal
ai in der Abschaltbetriebsart den logischen
Pegel "1" besitzt, fließt kein Strom in die Schaltungsvorrichtung
weil der Transistor 108 sperrt.
Bei der Schaltungsvorrichtung gemäß Fig. 20 erfolgt die Verbindung
der Ausgangsklemme Ao des vorgeschalteten MOS-Transistorkreises
mit der Ausgangsklemme A 1 des nachgeschalteten
MOS-Transistorkreises
anstelle der Steuer-MOS-Transistoren 104 und 105 nur
durch den Steuer-MOS-Transistor 109. Auf ähnliche
Weise sind die Ausgangsklemme A 1 und die Ausgangsklemme
A 2 des nachgeschalteten MOS-Transistorkreises,
d. h. des Kreises aus den MOS-Transistoren 110-112,
mittels des Steuer-MOS-Transistors 113 miteinander
verbunden. Die Steuertransistoren 109 und 113 werden
durch das Stromabschaltbetriebsartsignal PD torgesteuert
und sind durchgeschaltet, wenn das Signal PD
den Pegel "1" besitzt. Wenn sich diese Schaltungsvorrichtung in
der Stromabschaltbetriebsart befindet, in welcher die
Signale PD und die Pegel "1" bzw. "0" besitzen,
sind mit Ausnahme des Treibertransistors 73 die Treibertransistoren
57 und 112 des MOS-Transistorkreises
der ersten Stufe ebenfalls mit der Gate- und Drainelektrode
verbunden. In dieser Betriebsart kann hierbei
demzufolge der Stromverbrauch herabgesetzt werden.
Schaltungsaufbau und Arbeitsweise dieser Ausführungsform
entsprechen weitgehend denen der Ausführungsform
nach Fig. 18, so daß sich eine nähere Erläuterung erübrigt.
Bei den Ausführungsformen gemäß Fig. 17-20 können
die Steuertransistoren 71, 75 und 110 durch p-Kanal-
Verarmungstyp-MOS-Transistoren mit positiver Schwellenwertspannung
und die Steuertransistoren 103-105
sowie 108, 109 und 113 durch p-Kanal-Anreicherungstyp-
MOS-Transistoren ersetzt werden. Bei einer solchen
Abwandlung beträgt die Stromversorgungsspannung Vc
- 5 V, und das Signal PD besitzt die Größe - 5 V für
den logischen Pegel "1".
Bei der in den Fig. 17-20 dargestellten Schaltungsvorrichtung
mit zwei MOS-Transistoren wird die Stromversorgung
durch den Verarmungstyp-MOS-Transistor
nach Maßgabe des Stromabschaltbetriebsartsignals
gesteuert. Dabei sind Mittel zur Verbindung
von Drain- und Gateelektrode des mit Strom vom Verarmungstyp-
MOS-Transistor gespeisten Treiber-MOS-Transistor
vorgesehen. Mit dieser Vorrichtung wird
ebenfalls eine entsprechende Senkung des Stromverbrauchs
erreicht, während im Normalbetrieb
der Schaltungsvorrichtung eine zufriedenstellende Leistungsspanne
gewährleistet wird.
Fig. 21 veranschaulicht eine Ausführungsform, bei welcher
die erfindungsgemäße integrierte Halbleiterschaltungsvorrichtung
auf einen Dekodierer angewandt ist.
Bei dieser Ausführungsform besteht ein Hauptdekodierer
114 aus mehreren Anreicherungstyp-MOS-Transistoren 115₁
bis 115₃ zur Abnahme von Wählsignalen an den Gateelektroden
sowie einem Anreicherungstyp-MOS-Transistor
116, der zwischen die Transistoren 115₁-115₃ und
einen noch zu erläuternden Adressenpuffer bzw. -zwischenspeicher
121 geschaltet ist, Verarmungstyp-MOS-Transistoren
117 und 118, die in Reihe zwischen die
zusammengeschalteten Drainelektroden der MOS-Transistoren
115₁-115₃ und die Stromversorgungsspannung Vc
geschaltet sind, mehreren Anreicherungstyp-MOS-Transistoren
119₁-119₄, die in Parallelschaltung zwischen
die zusammengeschalteten Drainelektroden der
MOS-Transistoren 115₁-115₃ und die Wortleitung des
Speichers (nicht dargestellt) geschaltet sind, sowie
einer Anzahl von Anreicherungstyp-MOS-Transistoren
120₁-120₄, die mit den Klemmen oder Anschlüssen der
Transistoren 119₁-119₄ verbunden sind. Gate- und
Drainelektroden der MOS-Transistoren 118 sind jeweils
zusammengeschaltet.
An den Hauptdekodierer 114 mit diesem Aufbau ist ein
Adressenpuffer 121 angeschlossen, der eine erste
Reihenschaltung mit Verarmungstyp-MOS-Transistoren
122, 123 und einem Anreicherungstyp-Transistor 124,
die in Reihe über die Stromversorgung (Stromversorgung
Vc und Masse (Vs)) geschaltet sind, eine zweite
Reihenschaltung mit Verarmungstyp-MOS-Transistoren
125, 126 und einem Anreicherungstyp-MOS-Transistor
127, die über die Stromversorgung bzw. parallel zu
dieser geschaltet sind, eine dritte Reihenschaltung
mit Verarmungstyp-MOS-Transistoren 129, 130 und einem
Anreicherungstyp-MOS-Transistor 131, die über die
Stromversorgung geschaltet sind, einen zum MOS-Transistor
127 parallelgeschalteten Anreicherungstyp-MOS-Transistor
128, einen mit dem MOS-Transistor 131
parallelgeschaltetem Anreicherungstyp-MOS-Transistor
132, eine vierte Reihenschaltung mit einem Verarmungstyp-
MOS-Transistor 133 und einem Anreicherungstyp-MOS-
Transistor 134 parallel zur Stromversorgung, eine
fünfte Reihenschaltung mit einem Verarmungstyp-MOS-
Transistor 135 und einem Anreicherungstyp-MOS-Transistor
136, einem Anreicherungstyp-MOS-Transistor 137
parallel zum Transistor 134, einem Anreicherungstyp-
MOS-Transistor 138, der zum Transistor 136 parallelgeschaltet
ist, und einem Anreicherungstyp-MOS-Transistor
129 umfaßt, dessen Drainelektrode mit den
Sourceelektroden der Transistoren 137 und 138 verbunden
ist. Gate- und Sourceelektrode des Transistors
123 sind zusammengeschaltet und ihr Verbindungspunkt
liegt an der Gateelektrode des Transistors 127. Auf
ähnliche Weise sind Gate- und Sourceelektrode des
Transistors 126 zusammengeschaltet, wobei ihr Verbindungspunkt
mit den Gateelektroden der Transistoren
131, 133 und 136 verbunden ist. Die Sourceelektroden
der Transistoren 137 und 138 sind mit der Sourceelektrode
des MOS-Transistors 116 im Hauptdekodierer
114 verbunden.
Bei dieser Konstruktion werden Signale A 1*/,
A 2/f*/ an die Gateelektroden der MOS-
Transistoren 115₁-115₃ im Hauptdekodierer angelegt.
Den MOS-Transistoren 117 und 116 werden Signale ei
bzw. aufgeprägt. An die Gateelektroden der MOS-
Transistoren 119₁-119₄ werden Signale f 1 bis f 4
angelegt, während den Gateelektroden der MOS-Transistoren
120₁-120₄ Signale bis aufgeprägt werden.
Ein Chip-Freigabesignale CE (entsprechend dem Signal
PD) wird an die MOS-Transistoren 122, 125, 129 und 139
im Adressenpuffer 131 angelegt. Das bezüglich des
Signals CE außer Phase befindliche Signal wird an
die Gateelektroden der MOS-Transistoren 128, 132, 137
und 138 angelegt. In der Stromabschaltbetriebsart besitzen
das am Transistor 117 anliegende Signal ei und
das an der Gateelektrode des Transistors 116 anliegende
Signal den Pegel "0" bzw. "1". Der Transistor
sperrt, um die Zufuhr der Stromversorgungsspannung Vc
zu beenden. Gleichzeitig werden die Potentiale an den
Sourceelektroden der MOS-Transistoren 137 und 138 im
Adressendekodierer über den MOS-Transistor 116 des
Hauptdekodierers 114 an die Sourceelektroden der
Transistoren 117 und 118 angelegt, wodurch das Source-
Potential des Transistors 117 auf einen Wert über
seinem Gate-Potential erhöht wird. Die beschriebene
Ausführungsform bietet im wesentlichen dieselbe Wirkung
wie die Ausführungsformen gemäß Fig. 8 bis 20.
Die Verarmungstyp-Transistoren 117, 122, 125, 127, 133
und 135 besitzen jeweils eine Schwellenwertspannung,
die im negativen Sinne dichter an 0 V liegt.
Fig. 22 zeigt einen Adressenpuffer zur Erzeugung von
Wählsignalen (Adressendaten) Ak* und für die An
legung an die Dekodierer gemäß Fig. 23 und 24, und
Fig. 23 veranschaulicht einen Dekodierer zur Erzeugung
von Signalen ei und , die an die Gateelektroden der
MOS-Transistoren 117 bzw. 116 des Hauptdekodierers
114 angelegt werden. Fig. 24 veranschaulicht einen
Dekodierer zur Erzeugung von Signalen f 1-f 4, ,
die an die Gateelektroden der Transistoren 119₁-119₄
und 120₁-120₄ im Hauptdekodierer 114 angelegt wer
den.
Die Spannungsspeiseschaltung 79 gemäß Fig. 8 kann an
stelle der Schaltung gemäß Fig. 8 der Stammanmeldung P 32 00 976.3
mit den Verstärkern 10 und 20 zur Erzeugung des Poten
tials V 2 am Schaltungspunkt 2 eingesetzt werden oder
umgekehrt. Wenn die Speiseschaltung 79 anstelle der
die Verstärker 10 und 20 aufweisenden Schaltung gemäß
dieser Fig. 8 verwendet wird, wird das Sourcepotential
Vs des Transistors 9 nach Fig. 8 der Gateelektrode
des Transistors 81 zugeführt. Dabei wird die Schwellen
wertspannung des Transistors 81 auf 0 V gesetzt. Das
Potential V 2 wird von der Verzweigung zwischen den
Transistoren 81 und 82 in der Schaltung 79 geliefert.
Weiterhin kann der Transistor 81 bei der Speiseschal
tung 79 durch den Transistor 9 gemäß Fig. 8 ersetzt
werden. In diesem Fall wird das Potential V 8, wie bei
der Ausführungsform gemäß Fig. 8, an die Gateelektrode
des Transistors 9 angelegt. Das Potential V 2 wird von
der Verzweigung zwischen den Transistoren 81 und 82
geliefert. Wie bei den obigen Ausführungsformen ändert
sich in diesen Fällen das Potential V 2 am Schaltungs
punkt 2 in Abhängigkeit von einem Potential an der
Sourceelektrode des Transistors 79.
Claims (4)
1. Integrierte Halbleiter-Schaltungsvorrichtung mit
- - einem durch ein erstes Steuersignal () mit logischem Pegel gesteuerten ersten Steuer-MOS-Transistor (71; 75),
- - einem zweiten Steuer-MOS-Transistor (74; 78), der durch ein zweites Steuersignal (PD) mit einem zum logischen Pegel des ersten Steuersignals komplementären logischen Pegel gesteuert und über den ersten Steuer MOS-Transistor (71; 75) mit Spannung von einer Span nungsquelle beaufschlagt ist,
- - einem Treiber-MOS-Transistor (77), der am Gate über den ersten Steuer-MOS-Transistor (71; 75) mit der Spannung von der Spannungsquelle beaufschlagt ist, und
- - einer Spannungsanlegeeinrichtung (79), die über den zweiten Steuer-MOS-Transistor (74; 78) eine Spannung (Vso) an Source des ersten Steuer-MOS-Transistors (71; 75) und an Gate des Treiber-MOS-Transistors (77) anlegt,
dadurch gekennzeichnet, daß
- - der erste Steuer-MOS-Transistor (71; 75) vom Verarmungs typ und der Treiber-MOS-Transistor (77) vom Anreiche rungstyp ist,
- - der Absolutwert der Schwellenwertspannung des ersten Steuer-MOS-Transistors (71; 75) kleiner ist als der jenige des Treiber-MOS-Transistors (77) und
- - die Spannungsanlegeeinrichtung (79) die Spannung (Vso) an Source des ersten Steuer-MOS-Transistors (71; 75) und an Gate des Treiber-MOS-Transistors (77) in einer Abschaltbetriebsart so anlegt, daß der erste Steuer- MOS-Transistor (71; 75) und der Treiber-MOS-Transistor (77) abgeschaltet werden.
2. Integrierte Halbleiter-Schaltungsvorrichtung nach
Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen
dem ersten Steuer-MOS-Transistor (71; 75) und dem
Treiber-MOS-Transistor (77) ein Lastkreis (72; 76)
angeordnet ist.
3. Integrierte Halbleiter-Schaltungsvorrichtung nach
Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Lastkreis
(72; 76) Verarmungstyp-MOS-Transistoren (72; 76)
umfaßt, und daß die Absolutgröße einer Schwellenwert
spannung jedes Verarmungstyp-MOS-Transistors (72; 76)
größer ist als die Absolutgröße der Schwellenwert
spannung jedes ersten Steuer-MOS-Transistors (71; 75).
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56004323A JPS57118442A (en) | 1981-01-14 | 1981-01-14 | Semiconductor integrated circuit |
| JP56060111A JPS6059674B2 (ja) | 1981-04-21 | 1981-04-21 | 半導体記憶装置 |
| JP9039881A JPS57205895A (en) | 1981-06-12 | 1981-06-12 | Nonvolatile semiconductor memory |
| JP56118750A JPS5820034A (ja) | 1981-07-29 | 1981-07-29 | 半導体集積回路 |
| JP56118749A JPS5820033A (ja) | 1981-07-29 | 1981-07-29 | 半導体集積回路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3249749C2 true DE3249749C2 (de) | 1990-04-19 |
Family
ID=27518474
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE3249749A Expired - Lifetime DE3249749C2 (de) | 1981-01-14 | 1982-01-14 | |
| DE3200976A Expired DE3200976C2 (de) | 1981-01-14 | 1982-01-14 | Integrierte Halbleiterschaltung |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE3200976A Expired DE3200976C2 (de) | 1981-01-14 | 1982-01-14 | Integrierte Halbleiterschaltung |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4542485A (de) |
| DE (2) | DE3249749C2 (de) |
| GB (3) | GB2091459B (de) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5938996A (ja) * | 1982-08-25 | 1984-03-03 | Mitsubishi Electric Corp | ランダムアクセスメモリ装置 |
| US4633429A (en) * | 1982-12-27 | 1986-12-30 | Motorola, Inc. | Partial memory selection using a programmable decoder |
| JPS59155954A (ja) * | 1983-02-24 | 1984-09-05 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体メモリ装置 |
| US5175704A (en) * | 1987-07-29 | 1992-12-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nonvolatile semiconductor memory device |
| JPS6477314A (en) * | 1987-09-18 | 1989-03-23 | Nec Corp | Semiconductor circuit |
| JPH0814996B2 (ja) * | 1989-06-27 | 1996-02-14 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
| US4975879A (en) * | 1989-07-17 | 1990-12-04 | Advanced Micro Devices, Inc. | Biasing scheme for FIFO memories |
| FR2650109B1 (fr) * | 1989-07-20 | 1993-04-02 | Gemplus Card Int | Circuit integre mos a tension de seuil ajustable |
| US5218571A (en) * | 1990-05-07 | 1993-06-08 | Cypress Semiconductor Corporation | EPROM source bias circuit with compensation for processing characteristics |
| US5515302A (en) * | 1994-11-07 | 1996-05-07 | Motorola, Inc. | Method for identifying excessive power consumption sites within a circuit |
| JP2730530B2 (ja) * | 1995-10-31 | 1998-03-25 | 日本電気株式会社 | 半導体集積回路及びその駆動方法 |
| JP4849728B2 (ja) * | 2001-03-30 | 2012-01-11 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
| US7089515B2 (en) * | 2004-03-09 | 2006-08-08 | International Business Machines Corporation | Threshold voltage roll-off compensation using back-gated MOSFET devices for system high-performance and low standby power |
| JP4680195B2 (ja) * | 2004-06-25 | 2011-05-11 | スパンション エルエルシー | 半導体装置及びソース電圧制御方法 |
| WO2008047416A1 (fr) * | 2006-10-18 | 2008-04-24 | Spansion Llc | Circuit de détection de tension |
| JP5157313B2 (ja) * | 2007-08-15 | 2013-03-06 | 富士通株式会社 | 半導体装置 |
| CN101682325B (zh) * | 2008-02-27 | 2013-06-05 | 松下电器产业株式会社 | 半导体集成电路以及包括该半导体集成电路的各种装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3962686A (en) * | 1972-05-16 | 1976-06-08 | Nippon Electric Company Limited | Memory circuit |
| US4096584A (en) * | 1977-01-31 | 1978-06-20 | Intel Corporation | Low power/high speed static ram |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4087795A (en) | 1974-09-20 | 1978-05-02 | Siemens Aktiengesellschaft | Memory field effect storage device |
| GB1517926A (en) * | 1974-09-20 | 1978-07-19 | Siemens Ag | Electronic stores |
| DE2514582C2 (de) * | 1975-04-03 | 1977-05-26 | Siemens Ag | Schaltung zur erzeugung von leseimpulsen |
| GB1560661A (en) * | 1975-06-05 | 1980-02-06 | Tokyo Shibaura Electric Co | Matrix circuits |
| US4151610A (en) * | 1976-03-16 | 1979-04-24 | Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. | High density semiconductor memory device formed in a well and having more than one capacitor |
| US4094012A (en) * | 1976-10-01 | 1978-06-06 | Intel Corporation | Electrically programmable MOS read-only memory with isolated decoders |
| DE2843115A1 (de) | 1978-10-03 | 1980-04-17 | Plessey Handel Investment Ag | Betriebsverfahren fuer eine transistor- speichermatrix |
| US4223394A (en) | 1979-02-13 | 1980-09-16 | Intel Corporation | Sensing amplifier for floating gate memory devices |
| US4340943A (en) * | 1979-05-31 | 1982-07-20 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Memory device utilizing MOS FETs |
| JPS5833635B2 (ja) * | 1979-12-25 | 1983-07-21 | 富士通株式会社 | 半導体記憶装置 |
| JPS56111180A (en) * | 1980-02-06 | 1981-09-02 | Toshiba Corp | Semiconductor device |
-
1982
- 1982-01-08 US US06/337,969 patent/US4542485A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-01-12 GB GB8200825A patent/GB2091459B/en not_active Expired
- 1982-01-14 DE DE3249749A patent/DE3249749C2/de not_active Expired - Lifetime
- 1982-01-14 DE DE3200976A patent/DE3200976C2/de not_active Expired
-
1984
- 1984-06-13 GB GB08415010A patent/GB2143698B/en not_active Expired
- 1984-06-13 GB GB08415009A patent/GB2142795B/en not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3962686A (en) * | 1972-05-16 | 1976-06-08 | Nippon Electric Company Limited | Memory circuit |
| US4096584A (en) * | 1977-01-31 | 1978-06-20 | Intel Corporation | Low power/high speed static ram |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB8415009D0 (en) | 1984-07-18 |
| DE3200976C2 (de) | 1986-03-20 |
| GB8415010D0 (en) | 1984-07-18 |
| GB2143698A (en) | 1985-02-13 |
| DE3200976A1 (de) | 1982-09-23 |
| GB2142795B (en) | 1985-09-11 |
| GB2091459A (en) | 1982-07-28 |
| GB2091459B (en) | 1985-09-11 |
| GB2142795A (en) | 1985-01-23 |
| GB2143698B (en) | 1985-09-18 |
| US4542485A (en) | 1985-09-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69230346T2 (de) | Konstantspannungsschaltung | |
| DE69513658T2 (de) | Spannungsregler für nichtflüchtige, elektrisch programmierbare Halbleiterspeicheranordnungen | |
| DE3249749C2 (de) | ||
| DE4036973C2 (de) | Schaltung zur Erzeugung einer gegenüber einer extern zugeführten Versorgungsspannung erhöhten Lösch- oder Programmierspannung in einer Halbleiter-Speicherschaltung | |
| DE4035660C2 (de) | Elektrisch programmierbare Speichereinrichtung und Verfahren zum Zugreifen/Programmieren von Speicherzellen | |
| DE3688088T2 (de) | Integrierte halbleiterschaltung. | |
| DE69522412T2 (de) | Nichtflüchtiger Halbleiterspeicher | |
| DE4034458C2 (de) | ||
| DE3851444T2 (de) | Halbleiterfestwertspeichereinrichtung. | |
| DE69511661T2 (de) | Referenzschaltung | |
| DE3041176A1 (de) | Halbleiterspeichervorrichtung | |
| DE2601622A1 (de) | Programmierbarer und loeschbarer festwertspeicher | |
| DE68917187T2 (de) | Zellenmusteranordnung einer Halbleiterspeichereinrichtung. | |
| DE10151209A1 (de) | Halbleiterelement und Verfahren zu dessen Ansteuerung | |
| DE3035484C2 (de) | Leseschaltung | |
| DE2623507A1 (de) | Schaltungsanordnung fuer binaere schaltvariable | |
| DE68902151T2 (de) | Leseschaltung, die in einer halbleiterspeichereinrichtung enthalten ist. | |
| DE68922841T2 (de) | Halbleiterspeicheranordnung, fähig um Datendegradierung einer nichtausgewählten Zelle zu verhindern. | |
| DE4132826A1 (de) | Elektrisch loeschbarer programmierbarer festwertspeicher mit blockloeschfunktion | |
| DE4224048C2 (de) | Mit einer variablen, extern angelegten Versorgungsspannung betreibbare Halbleiterspeichereinrichtung | |
| DE68907451T2 (de) | Ausgangstreiberschaltung für Halbleiter-IC. | |
| DE68921062T2 (de) | Nichtflüchtige Halbleiterspeicheranordnung mit einer Referenzspannungsgeneratorschaltung. | |
| DE68918830T2 (de) | Nichtflüchtige Halbleiterspeicheranordnung, fähig um einen durch einen Überlöschungszustand verursachten Lesefehler zu verhindern. | |
| DE2835692B2 (de) | Binäres logisches ODER-Glied für programmierte logische Anordnungen | |
| DE2754987A1 (de) | Leistungslose halbleiter-speichervorrichtung |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| Q172 | Divided out of (supplement): |
Ref country code: DE Ref document number: 3200976 |
|
| 8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
| 8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, KAWASAKI, KANAGAWA, JP |
|
| AC | Divided out of |
Ref country code: DE Ref document number: 3200976 Format of ref document f/p: P |
|
| D2 | Grant after examination | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |