DE2728352C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft einen lichtempfindlichen Film für die Herstellung feiner
Muster aus mindestens einer monomolekularen Schicht amphiphiler Moleküle mit mindestens
einer durch Strahlung polymerisierbaren Funktion und einer aliphatischen
Kette mit mindestens 12 Kohlenstoffatomen und ein Verfahren zur Herstellung von
feinen Mustern, bei dem auf einem Schichtträger ein lichtempfindlicher Film aufgebracht
und bildmäßig bestrahlt wird, mit einem organischen Lösungsmittel die
nicht-polymerisierten Bereiche dieses Films entfernt und anschließend die ungeschützten
Zonen des Schichtträgers geätzt werden.
Es ist bekannt, daß bei der Mikrogravur, insbesondere bei der
Herstellung elektronischer integrierter Schaltkreise, Überzüge
aus lichtempfindlichen Harzen, sog. Fotoleiter, in folgender
Weise verwendet werden: Auf dem zu gravierenden Schichtträger wird
ein dünner Überzug eines Fotoleiters aufgebracht und hierauf
eine "Maske" aus einer Schicht eines nicht-strahlungsempfindlichen
Materials, die an den Stellen, an denen später Reliefmuster
erhalten werden, durchbrochen bzw. ausgeschnitten ist. Die gesamte
Anordnung wird einer Bestrahlung, z. B. UV-Bestrahlung, ausgesetzt.
Auf diese Weise werden diejenigen Stellen des Fotoleiters,
die nicht durch die Maske geschützt sind, bei der Bestrahlung
gehärtet. Anschließend werden mit einem Lösungsmittel diejenigen
Bereiche des Fotoleiterüberzuges ausgewaschen, die durch die Bestrahlung
nicht gehärtet worden sind. Dann werden die ungeschützten
Zonen des Schichtträgers geätzt, wodurch
die gewünschten Gravuren erhalten werden. Diejenigen
Bereiche des Fotoleiterüberzuges, die durch die
Bestrahlung gehärtet worden sind, werden entfernt.
Ein Verfahren zum Aufbringen derartiger Schichten ist in Scientific
American, März 1970, S. 108-119, beschrieben.
Lichtempfindliche Filme sind nicht nur gegenüber
Photonen, sondern auch gegenüber spezieller Strahlung gegebenenfalls
geladener Teilchen empfindlich.
Aus IBM Techn. Disel. Bull., Vol. 14, Nr. 1, Juni 1971, S. 290-292, sind lichtempfindliche
Filme aus einer monomolekularen Schicht amphiphiler Moleküle mit
bis zu 13 aliphatischen Kohlenstoffatomen, die als polymerisierbare Funktion
eine Doppelbindung aufweisen, die in sich in der Mitte des Moleküls befindet,
bekannt.
Die bisher bekannten lichtempfindlichen Filme besitzen
den Nachteil, daß sie keine zufriedenstellenden mechanischen
Eigenschaften, insbesondere bei Verwendung zur Herstellung feiner Muster
besitzen, da die aufeinanderfolgenden monomolekularen Schichten,
aus denen sie bestehen, keine ausreichende gegenseitige Haftung
oder Haftung auf dem Schichtträger besitzen. Sie weisen keine vorteilhaften
Empfindlichkeitskurven auf und besitzen sehr niedrige γ-Kontrastwerte.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, einen verbesserten lichtempfindlichen
Film und ein Verfahren zur Herstellung feiner Muster zur Verfügung zu stellen,
wobei die vorgenannten Nachteile aufgrund spezieller Eigenschaften
der Moleküle in der monomolekularen Schicht nicht auftreten.
Diese Aufgabe wird durch einen lichtempfindlichen Film der eingangs genannten
Art gelöst, der dadurch gekennzeichnet ist, daß sich eine durch Strahlung polymerisierbare
Funktion am hydrophoben Ende der Moleküle, d. h. am letzten Kohlenstoffatom
der aliphatischen Kette oder in unmittelbarer Nachbarschaft zu diesem,
befindet und durch ein Verfahren zur Herstellung von feinen Mustern, das dadurch
gekennzeichnet, ist, daß man einen lichtempfindlichen Film nach einem der
Ansprüche 1 bis 11 verwendet.
Erfindungsgemäß sind die durch Strahlungseinwirkung polymerisierbaren
Funktionen vorzugsweise Doppelbindungen oder Epoxyfunktionen;
die Bestrahlung erfolgt vorzugsweise durch Elektronen,
Photonen, Röntgenstrahlen oder UV-Strahlen.
Der erfindungsgemäße lichtempfindliche Film besitzt insbesondere
den Vorteil, daß er nach der Bestrahlung gute mechanische Eigenschaften
aufgrund einer sehr guten Haftung der ersten
Schicht auf dem Schichtträger und der nachfolgenden monomolekularen
Schichten untereinander aufweist.
Erfindungsgemäß ist es möglich, infolge der Wahl der Moleküle,
die eine am hydrophoben Ende des Moleküls, d. h. am letzten
C-Atom der aliphatischen Kette oder in unmittelbarer Nachbarschaft
zu diesem, befindliche polymerisierbare Funktion besitzen, durch
die Bestrahlung Vernetzungen zwischen zwei monomolekularen benachbarten
Schichten herzustellen und auf diese Weise die vorgenannten
Schichten unter sich fest zu verbinden, während in
Abwesenheit polymerisierbarer Funktionen diese Schichten nur
schwach durch Van-der-Waal'sche Kräfte zusammengehalten werden.
Da die polymerisierbaren Ebenen zweier
aufeinanderfolgender Schichten sich berühren, erfolgt die Polymerisation
durch Bestrahlung unter besseren Bedingungen aufgrund der beträchtlichen
Dichte der polymerisierbaren Funktionen. Sie erfolgt darüber
hinaus ohne übermäßige sterische Behinderung, was bei Molekülen,
die eine polymerisierbare Funktion in der Mitte der
aliphatischen Kette oder in der Nähe des hydrophilen Teils besitzen,
nicht der Fall ist, da der Abstand zwischen Kohlenstoffatomen,
die verbunden werden sollen, in ein und derselben
Schicht sehr viel größer ist als der Abstand der C-C-Bindung.
Erfindungsgemäß bestehen diese monomolekularen Schichten im allgemeinen
aus identischen Molekülen.
Unter bestimmten Umständen kann es jedoch von Vorteil sein, daß
mindestens eine dieser vorgenannten monomolekularen Schichten
aus unterschiedlichen Molekülen besteht, oder daß bestimmte
Schichten aus einem Gemisch von Molekülen bestehen.
In einer bevorzugten erfindungsgemäßen Ausführungsform besitzen die
amphiphilen Moleküle nur eine einzige polymerisierbare Funktion, die
sich am hydrophoben Ende der Moleküle befindet, wobei diese Funktion
z. B. aus einer gegebenenfalls konjugierten Doppelbindung bestehen
kann.
Ein Beispiel für solche amphiphilen Moleküle sind die Moleküle der ω-Tricosensäure.
In diesem Fall sind zwei aufeinanderfolgende Schichten des lichtempfindlichen
Films ebenfalls in Höhe der hydrophilen Ebenen
durch Wechselwirkungen zwischen den permanenten Dipolen der
hydrophilen Gruppen der Moleküle verbunden. Darüber hinaus kann
die Haftung zwischen aufeinanderfolgenden Schichten an den hydrophilen
Ebenen noch verstärkt werden, indem Moleküle verwendet
werden, die hydrophile Gruppen besitzen, die unter sich durch
Vernetzung aufgrund einer Polykondensationsreaktion verbunden
werden können.
Darüber hinaus kann die Haftung zwischen
aufeinanderfolgenden Schichten an den hydrophilen Stellen durch
ionische Bindungen verstärkt werden, indem Moleküle in Form
eines Salzes mit einem mehrwertigen Ion, z. B. einem Salz eines
zweiwertigen Metalls, wie Ca++-, Ba++-, Cu++-, Cd++-, Sr++-
oder Pb++-ω-tricosenat, oder die ω-Tricosenate von Schwermetallionen,
oder ein Aminsalz eines mehrwertigen Anions, wie
ω-Tricosenylaminsulfat, verwendet werden.
Die Verwendung bestimmter Metallsalze, insbesondere der Salze
von Schwermetallionen, ist besonders dann von Interesse, wenn
der lichtempfindliche Film anschließend mit Röntgenstrahlen behandelt
wird, da der Film auf diese Weise eine erhöhte Empfindlichkeit
aufweist.
Nach einer weiteren bevorzugten erfindungsgemäßen Ausführungsform
tragen die vorgenannten Moleküle mindestens zwei durch Strahlungseinwirkung
polymerisierbare Funktionen, wobei sich eine dieser
Funktionen am hydrophoben Ende der Moleküle und mindestens eine
andere am hydrophilen Ende befindet.
Spezielle Beispiele für solche Moleküle sind ω-Tricosenylsäureallylester
oder der ω-Tricosenylglycidylether.
Die Verwendung solcher Moleküle ist insbesondere deshalb von
Vorteil, da der Film nach der Polymerisation unter Strahlungseinwirkung
keine schwachen Stellen zwischen benachbarten Schichten
aufweist, da alle Schichten unter sich durch chemische Bindungen
fest verbunden sind.
Die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Filme sind auf verschiedenen
Schichtträgern, wie Aluminium, Siliciumdioxid, Silicium, Galliumarsenat
oder Siliciumnitrid, verwendbar. Ein Film von 225 Å
Dicke gewährleistet einen ausreichenden Schutz gegen chemischen
Angriff, wobei es möglich ist, das Substrat auf eine Tiefe von
etwa 1000 Å zu gravieren.
Die erfindungsgemäßen Filme besitzen den Vorteil, daß sie außerordentlich
dünn und gleichzeitig kompakt und von absolut konstanter
Dicke sind. Darüber hinaus kann im Fall einer Bestrahlung
mit Elektronen oder mit Röntgenstrahlen die Strahlungsenergie
niedrig sein, was zu einer feineren Zeichnung aufgrund geringerer
Verwaschung durch Elektronendiffusion führt, und erlaubt,
daß das räumliche Auflösungsvermögen der Elektronenkanonen
und der Röntgenstrahlenmasken in vollem Umfang zunutze
gemacht werden kann.
Die Herstellung des erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Films
erfolgt nach der Langmuir-Blodgett-Methode (Journal of Am. Chem. Soc.,
57 (1935), S. 1007-1010), bei der ein flüssiges Bad verwendet wird, oder nach
einer entsprechenden anderen Methode.
Im allgemeinen wird eine ungerade Anzahl von monomolekularen
Schichten auf einem Schichtträger aufgebracht. Die Figur zeigt schematisch
einen speziellen Strukturtyp. Auf dem Schichtträger 1 sind
die verschiedenen monomolekularen Schichten 2 aufgebracht,
wobei die Moleküle dieser Schichten eine hydrophile Gruppe 3
und eine unter Strahlungseinwirkung polymerisierbare Gruppe 4
besitzen, die sich am hydrophoben Ende der Moleküle befindet.
Die hydrophilen Gruppen 3 stehen in Berührung mit dem Schichtträger,
und die monomolekularen Schichten sind so aufgebracht, daß sich
zwei hydrophobe Gruppen 4 gegenüber und folglich auch zwei
hydrophile Gruppen 3 gegenüber befinden. Es entstehen
somit polare Ebenen 5, die mit Polymerisationsebenen 6 alternieren.
Auf diese Weise wird nach der Polymerisation aufgrund
der starken Wechselwirkung der polaren Gruppen unter sich,
und der Bindungen, die zwischen den Schichten an den
Polymerisationsebenen durch Bildung von Polymeren entstanden
sind, ein sehr stabiles System erhalten. Andererseits ist eine gute
Haftung der ersten monomolekularen Schicht, die durch die Ebene
der hydrophilen Gruppen bestimmt ist, gewährleistet und wird
nicht durch die Polymerisation beeinträchtigt.
Diese erste Schicht kann darüber hinaus aus Molekülen bestehen,
die sich von Molekülen nachfolgender Schichten unterscheiden
und auf den Schichtträger besonders abgestimmt sind, jedoch
selbstverständlich am hydrophoben Ende eine polymerisierbare
Funktion zur Haftungsvermittlung mit den folgenden Schichten besitzen.
Ein Beispiel ist eine erste Schicht aus ω-Tricosensäure mit
darauf folgenden Schichten von ω-Tricosensäureallylester.
Bei monomolekularen Schichten, die sich schwierig aufbringen
lassen, kann es von Vorteil sein, die polymerisierbaren Moleküle
mit inerten amphiphilen Molekülen zu vermischen. So wird beispielsweise
die Druckfestigkeit von ω-Tricosensäureallylester erhöht,
indem 10 Prozent Behensäure zugesetzt werden.
Die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Filme eignen sich besonders
zur Herstellung mikrogravierter Vorlagen, wie optische
Gitter, holographische Gitter, Vorrichtungen integrierter Optik
oder elektronische Mikroschaltkreise. Hierbei
wird auf einen Schichtträger ein Film aus mindestens einer
monomolekularen organischen Schicht, die amphiphile
Moleküle mit mindestens einer unter Strahlungseinwirkung polymerisierbaren
Funktion am hydrophoben Ende der vorgenannten
Moleküle und eine aliphatische Kette von mindestens 12 C-Atomen
besitzt, aufgebracht, dann werden bestimmte Bereiche dieses Films mittels eines
Strahlenbündels, das die Form des gewünschten Musters beschreibt,
einer Bestrahlung ausgeetzt; anschließend werden mit einem organischen
Lösungsmittel diejenigen Bereiche entfernt, die nicht
polymerisiert worden sind, und schließlich wird das Werkstück einer für
den Schichtträger spezifischen chemischen Behandlung (Ätzung)
ausgesetzt, wodurch diejenigen Zonen des Schichtträgers graviert
werden, die nicht geschützt sind.
Nach einer weiteren bevorzugten erfindungsgemäßen Ausführungsform wird
auf einem Schichtträger ein Film aus mindestens einer
monomolekularen organischen Schicht, die amphiphile Moleküle
mit mindestens zwei durch Strahlungseinwirkung polymerisierbaren
Funktionen und eine aliphatische Kette von mindestens 12 C-Atomen
besitzt, aufgebracht, wobei sich mindestens eine dieser Funktionen
am hydrophoben Ende der Moleküle und mindestens eine andere
am hydrophilen Ende der Moleküle befindet. Anschließend
werden bestimmte Bereiche des vorgenannten Films einer Bestrahlung
mittels eines Strahlenbündels, das die Form des gewünschten
Musters besitzt und das selektiv für eine der polymerisierbaren
Funktionen ist, ausgesetzt; dann werden mit einem
organischen Lösungsmittel diejenigen Bereiche des Films, die
nicht polymerisiert worden sind, entfernt; hierauf wird der
Film zur Polymerisation der anderen polymerisierbaren Funktionen
der Bestrahlung ausgesetzt und abschließend eine chemische Behandlung
(Ätzung) durchgeführt, die für den Schichtträger spezifisch ist, wodurch
diejenigen Zonen des Schichtträgers graviert werden, die nicht
geschützt sind.
Auf einem zu gravierenden Schichtträger werden neun monomolekulare
Schichten von ω-Tricosensäure der Formel
nach dem bekannten Verfahren von Langmuir-Blodgett in folgenden
Stufen aufgebracht: Auf der Oberfläche von destilliertem Wasser
befindet sich eine Schicht aus einer Lösung von ω-Tricosensäure
in einem organischen Lösungsmittel, wie Chloroform oder Benzol.
Nach dem Verdampfen des Lösungsmittels wird der erhaltene Film
unter einem Druck von 32,5 mN/m komprimiert und auf ein Substrat
aufgebracht, wobei dieser Vorgang nach Maßgabe der gewünschten
Anzahl von Schichten wiederholt wird. Auf diese Weise
werden monomolekulare Schichten von ω-Tricosensäure auf
dem zu gravierenden Schichtträger erhalten, wobei jede Schicht eine Dicke von
25 Å besitzt, so daß eine Gesamtdicke von 225 Å erhalten wird.
Der so überzogene Schichtträger wird anschließend der Bestrahlung
mittels einer programmierten Elektronenquelle, z. B. einer zur Herstellung
von Mustern für integrierte elektronische Schaltkreise
verwendeten Elektronenquelle, ausgesetzt. Die vollständige
Polymerisation der bestrahlten Bereiche wird bei einer Dosis
von 30 bis 40 µCb/cm² bei 1,5 keV erreicht. Die Analyse des
Polymerisats wird IR-spektrophotometrisch durch Metallreflexion
durchgeführt.
Das durch Strahlungseinwirkung entstandene Muster wird anschließend
durch Eintauchen des Substrats in ein für die l-Tricosensäure
selektives Lösungsmittel, wie Ethanol, ein Wasser-
Ethanol-Gemisch oder Aceton, freigelegt. Die nichtpolymerisierte
ω-Tricosensäure ist nach 10minütigem Eintauchen in reines
Ethanol vollständig entfernt; die für die Freilegung des Musters
benötigte Eintauchzeit kann ½ Stunde bis 1 Stunde betragen,
ohne daß die polymerisierten Bereiche angegriffen werden.
Anschließend erfolgt die eigentliche chemische Gravierung des
Schichtträgers. Im Falle eines Aluminiumträgers wird ein
Gemisch auf der Grundlage von Phosphorsäure von 25°C folgender Zusammensetzung
verwendet: 77 Prozent Phosphorsäure (85%), 5 Prozent Wasser,
3 Prozent rauchende Salpetersäure und 15 Prozent Eisessig.
Die Geschwindigkeit des Angriffs auf die nicht durch einen polymerisierten
monomolekularen Überzug geschützten Bereiche des Substrats
beträgt etwa 400 Å/min.
In diesem Beispiel wird ein Schichtträger mit neun Schichten aus
Ca++-ω-tricosenat beschichtet.
Die Beschichtung erfolgt gemäß Beispiel 1, wobei jedoch zu Beginn
dem destillierten Wasser des Langmuir-Behälters 10-3 Mol/Liter
Calciumchlorid zugesetzt werden und der pH auf 7,5 eingestellt
wird. Anschließend wird der Schichtträger einer Bestrahlung
mittels einer Elektronenquelle ausgesetzt. Die vollständige Polymerisation
der bestrahlten Zonen wird bei einer Dosis von 30 bis 40 µCb/cm²
bei 1,5 keV erreicht.
Das den bestrahlten Bereichen entsprechende Muster wird anschließend
durch Eintauchen des Schichtträgers während einiger Stunden
in eine saure Lösung (HCl, 10-2 Mol/Liter) freigelegt. Hierbei
werden die Ca++-Ionen durch H⁺-Ionen ausgetauscht, da das
Ca++-ω-tricosenat in den meisten organischen Lösungsmitteln
unlöslich ist. Anschließend wird ½ Stunde in Ethanol eingetaucht.
Die weitere Durchführung der Gravierung erfolgt in gleicher Weise
wie in Beispiel 1.
Auf einen Schichtträger werden 9 monomolekulare Schichten von ω-Tricosensäureallylester
der Formel
aufgebracht. Das Austragen erfolgt gemäß Beispiel 1 nach der
Methode von Langmuir-Blodgett, wobei jedoch der erhaltene Film
mit einem Druck von 22 mN/m komprimiert wird. Jede monomolekulare
Schicht hat eine Dicke von 36 Å. Der so beschichtete Träger
wird anschließend bei Raumtemperatur mit einer programmierbaren
Elektronenquelle bestrahlt. Die vollständige Polymerisation
der bestrahlten Bereiche wird bei einer Dosis von 10 µCb/cm²
bei 1,5 keV erreicht.
Das den bestrahlten Bereichen entsprechende Muster wird anschließend
mittels Aceton während 15 Minuten freigelegt. Die eigentliche
chemische Gravierung erfolgt gemäß Beispiel 1 oder, wenn
eine bessere Auflösung gewünscht wird, mittels reaktiven Plasmas.
Gemäß Beispiel 1 werden auf einen Siliciumträger fünf Schichten
von ω-Tricosenylglycidylether der Formel
aufgebracht, wobei jedoch der Druck 26 mN/m beträgt. Jede der
monomolekularen Schichten besitzt eine Dicke von 36 Å. Die beiden
unterschiedlichen polymerisierbaren Funktionen (Vinyl-
und Epoxygruppe) werden getrennt polymerisiert, erstere mittels
UV-Strahlung unter einer Maske. Anschließend wird das den bestrahlten
Zonen entsprechende Muster freigelegt, indem der Schichtträger in Aceton eingetaucht
wird; hierauf werden die Epoxygruppen mit einer Strahlung von 20 µCb/cm²
bei 1 keV vollständig polymerisiert.
Die Ätzung des Siliciumträgers erfolgt anschließend auf nassem
oder trockenem Weg, z. B. durch ionische Behandlung oder mittels
reaktiven Plasmas.
Es wurden Materialien nach IBM Techn. Discl. Bull., Vol. 14, Nr. 1, Juni 1971
mit erfindungsgemäßen Materialien verglichen, die sich nur in bezug auf die
Position der Doppelbindung oder polymerisierbaren Funktion voneinander unterschieden.
Zunächst wurden die Empfindlichkeitskurven bestimmt. In jedem Fall wurde ein
Film aus 15 monomolekularen Schichten mit einer anfänglichen Gesamtdicke e₀
von 450 Å auf einem Schichtträger hergestellt. Zur Polymerisation ausgewählter
Bereiche des Films wurden variierende Bestrahlungsdosen angewendet. Nach
der Bestrahlung wurden die nichtpolymerisierten Bereiche der Filme mit einem
Lösungsmittel entfernt, und die Enddicke e des auf dem Schichtträger zurückbleibenden
polymerisierten Films wurde gemessen. Die erhaltenen Empfindlichkeitswerte
sind in Tabelle 1 gezeigt.
Außerdem wurde die D₅₀-Dosis ermittelt, die erforderlich ist zur Erzielung eines
polymerisierten Films mit einer Enddicke e, die ½ der Originalfilmdicke
e₀ entspricht. Dieser Wert ist ebenfalls in Tabelle 1 angegeben.
Danach wurde eine zweite Testreihe durchgeführt, um die γ-Kontrastwerte,
die für die Polymerisation anwendbaren Bestrahlungsdosen und die D₅₀-Dosen
für Filme mit variierender Anzahl von monomolekularen Schichten zu bestimmen.
Die dabei erzielten Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
Wie aus den Vergleichsversuchen hervorgeht, weisen die bekannten Materialien,
bei denen die Doppelbindung oder polymerisierbare Funktion etwa in der Mitte des
Moleküls angeordnet ist, weniger vorteilhafte Empfindlichkeitskurven auf.
Außerdem sind die γ-Kontrastwerte deutlich niedriger als bei den erfindungsgemäßen
Materialien.
Claims (15)
1. Lichtempfindlicher Film für die Herstellung feiner Muster aus mindestens
einer monomolekularen Schicht amphiphiler Moleküle
mit mindestens einer durch Strahlung polymerisierbaren Funktion
und einer aliphatischen Kette mit mindestens 12 Kohlenstoffatomen,
dadurch gekennzeichnet, daß
sich eine durch Strahlung polymerisierbare Funktion am
hydrophoben Ende der Moleküle, d. h. am letzten Kohlenstoffatom
der aliphatischen Kette oder in unmittelbarer Nachbarschaft
zu diesem, befindet.
2. Lichtempfindlicher Film nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß er mehrere Schichten enthält und mindestens eine Schicht aus
Molekülen besteht, die sich von den Molekülen der anderen Schichten unterscheiden.
3. Lichtempfindlicher Film nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Schichten aus identischen Molekülen bestehen.
4. Lichtempfindlicher Film nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß mindestens eine Schicht aus einem Molekülgemisch
besteht.
5. Lichtempfindlicher Film nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß die Moleküle mindestens zwei durch
Strahlung polymerisierbare Funktionen aufweisen, von denen
mindestens eine sich am hydrophoben Ende der Moleküle und mindestens
eine andere am hydrophilen Ende der Moleküle befinden.
6. Lichtempfindlicher Film nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, daß die amphiphilen Moleküle Salze
eines mehrwertigen Kations oder Anions sind.
7. Lichtempfindlicher Film nach einem der Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß bestimmte Schichten an den hydrophilen
Enden der Moleküle dieser Schichten durch Vernetzungen, die zwischen
benachbarten Molekülen durch Polykondensation gebildet
worden sind, miteinander verknüpft sind.
8. Lichtempfindlicher Film nach einem der Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei den durch Strahlung
polymerisierbaren Funktionen um Doppelbindungen oder Epoxyfunktionen
handelt.
9. Lichtempfindlicher Film nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die amphiphile Verbindung ω-Tricosensäure ist.
10. Lichtempfindlicher Film nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß die amphiphilen Moleküle ω-Tricosensäuresalze
von Ca++-, Cu++-, Ba++-, Cd++-, Sr++-,
Pb++ oder Schwermetallen
sind.
11. Lichtempfindlicher Film nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
daß es sich bei den Molekülen um ω-Tricosensäureallylester-
oder ω-Tricosenylglycidylether-Moleküle
handelt.
12. Lichtempfindlicher Film nach einem der Ansprüche 1
bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Moleküle unter der
Einwirkung von Elektronen, Photonen, Röntgenstrahlen oder
UV-Strahlen polymerisierbar sind.
13. Verfahren zur Herstellung von feinen Mustern, bei dem auf einem Schichtträger
ein lichtempfindlicher Film aufgebracht und bildmäßig bestrahlt
wird, mit einem organischen Lösungsmittel die nichtpolymerisierten Bereiche
des Films entfernt und anschließend die ungeschützten Zonen des
Schichtträgers geätzt werden,
dadurch gekennzeichnet,
daß man einen lichtempfindlichen Film nach einem der Ansprüche 1 bis 11
verwendet.
14. Verfahren zur Herstellung von feinen Mustern, bei dem auf einem Schichtträger
ein lichtempfindlicher Film aufgebracht und bildmäßig bestrahlt
wird, mit einem organischen Lösungsmittel die nichtpolymerisierten Bereiche
des Films entfernt und anschließend die nicht-geschützten Zonen des
Schichtträgers geätzt werden,
dadurch gekennzeichnet,
daß ein lichtempfindlicher Film nach Anspruch 5 verwendet wird, daß man
den Film zuerst mit einer Wellenlänge bestrahlt, die selektiv für eine
der durch Strahlung polymerisierbaren Funktionen ist, daß man mit einem
organischen Lösungsmittel die nichtpolymerisierten Teile des Films entfernt,
daß man anschließend einer Bestrahlung unterwirft, die in der
Lage ist, die übrigen durch Strahlung polymerisierbaren Funktionen
zu polymerisieren, und anschließend die nicht-geschützten
Zonen des Schichtträgers chemisch ätzt.
15. Verfahren nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, daß man
zur Durchführung der Bestrahlung Elektronenstrahlen, Photonenstrahlen,
Röntgenstrahlen oder UV-Strahlen verwendet.
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