DE2716422A1 - Trockensystemelement zur bildherstellung - Google Patents
Trockensystemelement zur bildherstellungInfo
- Publication number
- DE2716422A1 DE2716422A1 DE19772716422 DE2716422A DE2716422A1 DE 2716422 A1 DE2716422 A1 DE 2716422A1 DE 19772716422 DE19772716422 DE 19772716422 DE 2716422 A DE2716422 A DE 2716422A DE 2716422 A1 DE2716422 A1 DE 2716422A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- chloride
- metal
- compound
- photosensitive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/34—Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away
- G03F7/346—Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away using photosensitive materials other than non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/04—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed mechanically, e.g. by punching
- H05K3/046—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed mechanically, e.g. by punching by selective transfer or selective detachment of a conductive layer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Trockensystemelement zur Bildherstellung, das aus einer Unterlage, einer dünnen Metallschicht und einer lichtempfindlichen Schicht besteht. Nach Belichtung des Elementes durch ein gewünschtes Muster wird die
lichtempfindliche Schicht abgezogen und man erhält ein Lichtschrankenmuster aus dem Metall auf der Unterlage, das dem
lichtempfindlichen Teil entspricht. Das erfindungsgemäfie Element besteht aus einer dünnen Metallschicht oder einer Schicht
aus einer Metallverbindung und diese Schicht ist auf einer Unterlage niedergeschlagen. Insbesondere besieht sich die Erfindung auf ein Element, das aus einer Unterlage, einer dünnen
Schicht aus Metall oder einer Metallverbindung und einer lichtempfindlichen Schicht besteht, die ein lichtempfindlich
machendes Material und ein polymeres Bindemittel enthält, wobei die lichtempfindliche Schicht geeignet ist, die Grenzflächenadhäsion zwischen der Schicht aus Metall oder Metall-
709844/0783
verbindung und der lichtempfindlichen Schicht bei Belichtung zu verringern. Die Erfindung bezieht sich des weiteren auf
ein Verfahren zur Herstellung eines Bildes von einer Metallschicht oder einer Schicht einer Metallverbindung durch Belichtung
eines ein Bild ergebenden Elementes durch ein Muster, wobei die lichtempfindliche Schicht abgezogen wird,
um das Bild oder Muster auf der Metallschicht oder der Schicht einer Metallverbindung auf der Unterlage entsprechend dem
belichteten Teil zu ergeben.
Es sind bereite verschiedene Verfahren zur Herstellung von Bildern auf Unterlagen vorgeschlagen worden, zum Beispiel (1)
durch Belichten eines Elementes, das aus einer Unterlage und einem lichtempfindlichen Überzug besteht, der lichtempfindlich
machende Stoffe wie Silberhalogenid, lichtempfindliche Polymere oder durch Einwirkung von Licht polymerisierbare
Monomere enthält oder (2) durch Belichten eines Elementes, das eine lichtleitende Schicht enthält und Durchführung einer
Pigmentfarbstoffentwicklung. Bei diesem bekannten Verfahren treten jedoch verschiedene Nachteile auf: Beispielsweise ist
bei Verwendung von Silberhalogenid Entwicklung, Fixieren, Vaschen mit Wasser und Trocknung erforderlich. Bei Verwendung
von lichtempfindlichen Polymeren oder photopolymerisierbaren Monomeren muß entwickelt, geätzt und getrocknet werden. Bei
Verwendung von lichtleitendem Material ist eine Aktivierung, Verwendung eines Toners und eine Fixierung durch Wärme notwendig.
Das bedeutet, daß bei den bekannten Verfahren eine spezifische chemische Behandlung und/oder Vorrichtungen erforderlich
sind, die hohe Kosten erfordern und darüberhinaus eine Verunreinigung der Umwelt durch Chemikalien mit sich
bringen.
Die vorstehend geschilderten Nachteile werden durch das erfindungsgemäße
Element vermieden. Dieses Element besitzt darüberhinaus einen hohen Gammawert, ein großes Kontrastver-
709844/0783 - 3 -
mögen und eine gute Auflösungskraft, so daß man damit ein Bild erhalten kann, da£ eine verbesserte Lichtschrankenwirkung hat.
Gemäß einem weiteren Merkmal der Erfindung kann man mit dem
neuen Element ein elektrisch leitendes Muster auf einer Unterlage herstellen.
Das ein Bild ergebende Trockensystemelement gemäß der Erfindung umfaßt eine zähe Unterlage mit einer glatten oberfläche,
eine dünne Schicht aus Metall oder einer Metallverbindung (nachstehend als "Metallschicht11 bezeichnet) und eine lichtempfindliche
Schicht, die ein polymeres Bindemittel enthält, das ein filmbildendes Material ist, und ein Benzophenon,eine Chinonverbindung,
eine Diazonium- oder Azidoverbindung als lichtempfindlich machendes Material, wobei diese lichtempfindliche
Schicht geeignet ist, die Grenzflächenhaftung zwischen der Metallschicht und der lichtempfindlichen Schicht bei Belichtung
zu verringern. Venn daher das Element gemäß der Erfindung
durch eine Maske mit einem gewünschten Muster belichtet wird, verringert sich die Grenzflächenhaftung zwischen der Metallschicht
und dem lichtempfindlich gemachten Teil der lichtempfindlichen
Schicht, während die Haftung mit Bezug auf den nichtlichtempfindlich gemachten Teil unverändert bleibt. Wenn
dann lichtempfindliche Schicht abgezogen wird, verbleibt ein Metallmuster auf der Unterlage, das dem lichtempfindlich gemachten
Teil entspricht und der nichtlichtempfindlich gemachte Teil der Metallschicht wird entfernt. Mit Bezug darauf ist es
wesentlich, daß die Haftung des Bindemittels an der Metallschicht stärker ist als die der Metallschicht auf der Unterlage.
Als Unterlage gemäß der Erfindung können verschiedene Materialien verwendet werden, auf die eine dünne Metallschicht aufgebracht
werden kann, zum Beispiel ein filmbildendes thermoplastisches polymeres Material, Glas oder Metall. Beispiele
für ein solches thermoplastisches Material sind verschiedene synthetische Harze, beispielsweise Polyester wie Polyäthylen-
709844/0783
terephthalate ein Polycarbonat, Polyolefine wie Polypropylen,
Polyvinylchlorid, Polystyrol, Polymethylmethacrylat und deren
Mischpolymere, außerdem Cellulosederivate, zum Beispiel Diacetylcellulose, Triacetylcellulose, Propylcelluloee und
Hischcellulosester. Andere folienartige Materialien wie
Papier, Gewebe und nicht gewebte Vliese, die mit den vorstehend genannten filmbildenden Materialien überzogen worden
sind, können ebenfalls verwendet werden.
Das Material für die Unterlage kann mit verschiedenen Zusätzen versehen werden, zum Beispiel mit Pigmenten, Farbstoffen und Tüllstoffen, um Schreibeigenschaften, Lichtundurchlässigkeit und Färbung zu bewirken.
Die dünne Metallschicht auf der Oberfläche der Unterlage kann beispielsweise durch Plattieren im Vakuum, zum Beispiel durch
Verdampfen im Vakuum oder kathodisches Verstäuben, stromloses Plattieren oder durch eine Kombination von elektrolyt ie ehern
Plattieren mit diesen Verfahren aufgebracht werden. Die Dicke
der Metallschicht beträgt vorzugsweise mehr als 10 my. Dünnere Schichten haben keine wirksam ausreichende Lichtschrankenwirkung, bo daß das auf der Unterlage gebildete Bild dann kaum
sichtbar wird. Zwar ist die obere Grenze für die Schichtdicke nicht kritisch, im allgemeinen wird jedoch eine Dicke von bis
zu 1000 my, vorzugsweise zwischen 20 und 500 my verwendet.
Für spezielle Anwendungszwecke ,wie Druckschaltungen, können Metallschichten von mehr als 1000 my Dicke mit Erfolg angewendet werden.
Unter den verschiedenen Metallen, die für eine AbdampfplaHierung
geeignet sind, werden Aluminium und Zink besonders bevorzugt. Ähnlich bevorzugte Metalle sind Silber, Gold und Hickel, es
können Jedoch auch andere Metalle wie Chrom, Kobalt, Eisen, Germanium, Magnesium, Mangan, Platin und Zinn verwendet werden. Geeignete Metallverbindungen für eine Vaknumplattierung
sind Kadmiumsulfid, Magnesiumfluor id und Titandioxyd.
709844/0783
Sas stromlose Plattieren kann auf übliche Weise durchgeführt
werden, indem die Unterlage empfindlih gemacht und aktiviert wird, dann in eine wässrige Lösung getaucht wird, die ein
Metallsalz und ein Reduktionsmittel enthält, um eine Metallschicht auf der Unterlage abzulagern. Pur diesen Zweck sind
Kupfer, Nickel, Kobalt, Gold, Palladium, Silber und Nickel-Kobalt und Nickel-Phosphor-Legierungen geeignet.
Im allgemeinen wird das Abdampfen im Vakuum gegenüber einem elektrolytischen oder stromlosen Plattieren vorgezogen, da
dafür ein breiter Bereich von Metallen verwendet werden kann. Das Verfahren wird auf einfache Weise mit hoher Geschwindigkeit
und wenig oder überhaupt keinem Abfallmaterial durchgeführt.
Die lichtempfindliche Schicht besteht aus einem polymeren Bindemittel und einem lichtempfindlich machendem Stoff. Da
die Schicht von der Unterlage nach der Druckbelichtungebehandlung abgezogen wird, ist es wesentlich, daß das Bindemittel
gute filmbildende Eigenschaften und eine hohe Filmfestigkeit aufweist. Vorzugsweise verwendet man ein Material,
das nicht sperrig ist, damit bei einem Stapel von Elementen diese sich bei der Handhabung und Lagerung nicht gegenseitig
blockieren.
Beispiele von erfindungsgemäß geeigneten Bindemitteln umfassen
verschiedene synthetische Harze, beispielsweise Polyvinylchlorid, Vinylchlorid/Vinylacetatmischpolymere, Vinylchlorid/
Vinylidenchlorid-mischpolymere, Vinylchlorid/Vinylacetat/
Maleinsäureanhydrid, Acrylnitril- oder Vinylalkoholterpolymere, Vinylchlorid/Vinylidenchlorid/Acrylnitril-, Vinylacetat-
oder Methylmethacrylatterpolymere, Acrylsäureester/ttethylmethacrylat-
oder Styrolmischpolymere, thermoplastische Polyester oder Mischpolyester wie Polyäthylenterephthalat und ithylenterephthalat/Isophthalatmischpolymere,
alkohollösliche PoIy-
709844/0783
amide, Polyurethane, Polybutyral und Polyvinylalkohol; Cellulosederivate
wie Acetylcellulose, Acetylbutylcellulose, Nitrocellulose
und Ithylcellulose, außerdem Kautschukderivate wie
cyclisierter Kautschuk und Kautschukchlorid. Diese polymeren Materialien können allein oder in Mischung verwendet werden.
Das Bindemittel wird im allgemeinen in Form einer Lösung in einem geeigneten organischen Lösungsmittel verwendet, beispielsweise
in Methylethylketon, Toluol, Cyclohexanol, Methanol, Äthanol, Isopropanol, Methylcellosolve, Äthylcellosolve
und Cellosolveacetat.
Bei der Auswahl des Lösungsmittels sollte darauf geachtet werden, daß das Lösungsmittel fähig ist, das verwendete lichtempfindlich
machende Material aufzulösen, nicht aber das Unterlagematerial aufzulösen oder aufzuquellen.
Venn als Bindemittel Polyvinylalkohol verwendet wird, kann man auch eine wässrige Lösung davon verwenden. Polyvinylchlorid
und Polyurethan können ebenfalls in Form einer Emulsion oder Dispersion zur Anwendung gelangen.
Erfindungsgemäß geeignete lichtempfindlich machende Mittel werden nachstehend beispielsweise aufgeführt.
a) Benzophenon
b) Chinonverbindungen:
1,4-Naphthochinon, 2-Methyl-1, 4-naphthochinon, Anthrachinon,
2-Methylanthrachinon, 2-Xthylanthrachinon, 2-Chloranthrachinon
und p-Foluchinon, insbesondere die ersten beiden Verbindungen.
c) Diazoniumverbindungen:
4-(p-Tolyl-mercapto)-2,5-diäthoxybenzoldiazoniumzinkchlorid,
-natriumsulfat oder -tetrafluorborat, 4-(p-Tolylmercapto)-2,5-dimethoxybenzoldiazoniumzinkchlorid,
709844/0783
4-(p-Methylbenzoylamino (-2, ^-diäthoxybenzoldiazoniuinziiikchlorid,
4-(p-Methoxybenzoylamino)-2,5-diäthoxybenzoldiazoniumzinkchlorid,
^—Morpholino^, 5-butoxybenzoldiazoniumzinkchlorid oder
-tetrafluorborat,
4-Morpholinobenzoldiazoniumtetrafluorborat,
^-Pyrrolidino-J-Methylbenzoldiazoniumtetrafluorborat,
p-NjN-Dimethylaminobenzoldiazoniumzinkchlorid,
p-N,N-Diäthylaminobenzoldiazonivunzinkchlorid oder -tetrafluorborat,
p-N-ithyl-N-hydroxyaminobenzoldiazoniumzinkchlorid, 1,2-Diazonapathol-5-sulfonsäurenatriumsalz
und das Zinkchloridsalz eines Kondensats von 4-Diazodiphenylaminschwefelsäureformaldehyd.
d) Azidoverbindungen:
d) Azidoverbindungen:
2,6-Di(4'-Czidobenzal)cyclohexanon.
Gemäß der Erfindung ist es wesentlich eine geeignete Kombination von lichtempfindlich machendem Mittel und Bindemittel
auszuwählen, damit die Grenzflächenhaftung zwischen der Metallschicht und dem lichtempfindlich gemachten Teil der lichtempfindlichen
Schicht nach Belichtung des Elementes ausreichend verringert wird.
Für die Benzophenon- und Chinonverbindungen bevorzugte Bindemittel
sind: Polyvinylchlorid, Vinylchlorid, Vinylacetatmischpolymere, Vinylchlorid/Vinylacetat/Maloinsäureanhydrid, Acrylnitril
oder Vinylalkoholterpolymere, Vinylchlorid/Vinylidenchloridmischpolymere,
Vinyl-chlorid/Vinylidenchlorid/Acrylnitrilterpolymere
und Nitrocellulose, da diese Materialien ein besonders gutes Bild liefern. Es können auch ein Cellulosederivat
oder ein Kautschukderivat verwendet werden, beispielsweise Acetylcellulose, Acetylbutylcellulose, Äthylcellulose, cyclisierter
Kautschuk und Kautschukchlorid.
7098U/0783
Pur die Diazonium- und Azidoverbindungen ist Polyvinylbutyral
neben den polymeren Materialien geeignet, die in Verbindung mit Benzophenon und den Chinonverbindungen genannt wurden.
Außerdem können thermoplastische Polyester und -mischpolyester, alkohollösliche Polyamide, Polyvinylalkohol, Acrylsäureester/
Methylmethacrylat oder Styrolmischpolymere, Polyuretanemulsionen
und Polyvlnylchloridemulsionen verwendet werden.
Der Anteil an lichtempfindlich machendem Material, das bezogen auf das Bindemittel verwendet wird, liegt zwischen 1 % und
20 %, insbesondere zwischen 5 und 10 Gew. % bei Benzophenon-
oder Chinonverbindungen und zwischen 0,1 bis 10 %, vorzugsweise 1 bis 6 Gew. % bei Diazonium- oder Azidoverbindungen.
Eine große Menge an lichtempfindlich machendem Mittel bewirkt eine Verfärbung der lichtempfindlichen Schicht, wodurch die
Lichtempfindlichkeit abfällt.
Eine Lösungsmittellösung, eine wässrige Lösung oder eine Emulsion,
die das lichtempfindlich machende Mittel und das Bindemittel enthält, kann auf die Metallschicht auf der Unterlage durch
übliche Oberzugeverfahren einschließlich von Umkehr-, FaIl-
und Leichtdruckwalzverfahren aufgebracht werden. Der Feststoffgehalt eines solchen Überzugsmaterials kann in Abhängigkeit
▼on dem angewendeten Aufbringeverfahren schwanken. Der aufzubringende Anteil liegt im allgemeinen zwischen 5 und 30 Gew. %.
Das Überzugsmaterial wird in einer solchen Menge aufgebracht, daß die trockene lichtempfindliche Schicht eine Dicke von 0,5
bis 100 ay, vorzugsweise 2 bis 20 my hat.
In das Überzugsmaterial kann jeder Farbstoff und jedes Pigment •ingetragen werden, soweit diese nicht die Durchsichtigkeit
und die Lichtempfindlichkeit der entstehenden lichtempfindlichen Schicht gegenteilig beeinflussen. Insbesondere wird geeigneter Weise ein Grundpigment zugegeben, wodurch eine matte
Schicht gebildet wird, die eine für Zeichentusche und Drucktinte
7098U/Q783 _9_
geeignete Oberfläche liefert. Das fertige Produkt wird schließlich
von Hand oder mit der Schreibmaschine beschrieben, um ein gewünschtes Muster zu erhalten, das als Metallbild auf der Unterlage nach Belichtung des Elementes erhalten wird. Wenn gewünscht
kann das Element gemäß der Erfindung mit einer Trägerschicht auf der lichtempfindlichen Schicht versehen werden, um die mechanische Festigkeit der abzuziehenden Schicht zu verbessern.
Bevorzugt wird die Verwendung eines durchsichtigen Materials, beispielsweise von Filmen aus thermoplastischen Polyestern,
Polypropylen, Polyamid, Polyvinylchlorid oder von Celluloseestern, durchsichtigem Papier oder mit synthetischen Harzen gesättigtem Papier.
Das das Bild ergebende Element gemäß der Erfindung wird durch
ein gewünschtes Muster belichtet und die lichtempfindliche Schicht abgezogen, wobei ein Bild aus dem Metall entsprechend
dem belichteten Anteil auf der Unterlage gebildet wird. Als Lichtquelle kann eineXiltraviolettes oder sichtbares Licht
kurzer Wellenlänge abgebende Lichtquelle verwendet werden, beispielsweise werden eine Kohlelichtbogenlampe, eine Hochdruckquecksilberbogenlampe oder eine fluoreszierende Argonlampe
bevorzugt, jedoch können auch Volframlampen, Xenonbogenlampen,
Quecksilberbogenlampen oder Metallhalogenid-Bogenlampen verwendet werden. Die billigste Lichtquelle ist natürlich Sonnenlicht. Die Zeit, in der das das Bild ergebende Element dem
Licht ausgesetzt wird, schwankt in Abhängigkeit von der Art der lichtempfindlichen Schicht, der Wellenlänge, die von der
Lichtquelle auegesandt wird und dem Abstand von der Lichtquelle. Es wurde gefunden, daß zum Beispiel 30 Sekunden eine ausreichende
Belichtung* ze it für eine 3,0 KW-Kohlelichtbogenlampe bei einer
Entfernung von 50 Zentimetern sind.
Sie Erfindung wird nachstehend mit Bezug auf die beiliegenden
Zeichnungen erläutert, in denen Figur 1 eine Querschnittean-•icht eines bilderzeugenden Elementes gemäß der Erfindung zeigt.
709844/0783
Figur 2 zeigt den Zustand der lichtempfindlichen Schicht, die
nach der Belichtung abgezogen wird, um ein Bild oder ein Huster des Metalls auf der Unterlage zu erhalten.
In Figur 1 besteht das das Bild liefernde Element 10 aus einer Unterlage 12, einer Metallschicht 14 und einer lichtempfindlichen
Schicht 16, die ein lichtempfindlich machendes Material und ein polymeres Bindemittel enthält. Sas Element
wird durch das Licht L durch eine Maske M mit einem gewünschten Negativmuster belichtet, wodurch die Grenzflächenhaftung
zwischen dem lichtempfindlich gemachten Teil und der Metallschicht verringert wird. Nach dem Abziehen der Schicht wird
dann ein Metallmuster 18 auf der Unterlage entsprechend dem lichtempfindlich gemachten Teil und ein Metallmuster 20 auf
der lichtempfindlich gemachten Schicht entsprechend dem nichtlichtempfindlich gemachten Teil gebildet. Bas heißt in anderen
Worten, auf der Unterlage liegt ein positives Muster und auf der lichtempfindlichen Schicht ein negatives Muster
vor.
Derart auf der Unterlage gebildetes Metallmuster wird für verschiedene
Anwendungszwecke verwendet, beispielsweise als Zwischenprodukt oder zweites Original, als lithographische
Platte, als Filmverfahren, als Druckschaltung, als Originalkopie für Vorführung und Projektion, als Elektrode für
Elektrolumineszenzverfahren und als Aufschriftzettel.
Es wurde darüberhinaus gefunden, daß der Verlust an Grenzflächenhaftung
zwischen dem lichtempfindlich gemachten Teil und der Metallschicht wiedergewonnen wird, wenn das lichtempfindlich
gemachte Element einer Wärmebehandlung unterworfen wird. Es ist daher möglich, nach dem Erhitzen eines ein
Bild liefernden Elementes, daß mit einem gewünschten Muster belichtet worden ist, die gesamte lichtempfindlich gemachte
Schicht erneut zu belichten und anschließend die lichtempfindliche
Schicht abzuziehen, um aus der Metallschicht auf der
709844/0783
Unterlage ein umgekehrtes Bild entsprechend dem ursprünglich
nicht lichtempfindlich gemachten Teil zu erhalten.
Hierbei muß darauf geachtet werden, daß die Erwärmungstemperatur und die Aufheizungszeit nicht so groß sind, daß der nicht
belichtete Potosensitiser zu stark zersetzt wird.
Gemäß der Erfindung ist es daher möglich, entweder ein Hegativ-Positiv-Verfahren
oder ein Positiv-Positiv-Verfahren auszuwählen, um ein gewünschtes Metallmuster auf der Unterlage herzustellen.
Die Erfindung wurde vorstehend insbesondere mit Bezug auf ein folienartiges Element erläutert, es sei jedoch darauf hingewiesen,
daß das das Bild liefernde Trockensystemelement auch in jeder komplizierten dreidimensionalen Form hergestellt werden
kann, beispielsweise durch folgende Stufen:
(a) Ausfällen einer dünnen Metallschicht auf einem dreidimensionalen
Körper,
(b) Aufbringen eines Überzuges aus einer lichtempfindlichen Zusammensetzung auf der Metallschicht und Trocknung, um
eine lichtempfindliche Schicht zu erhalten, und
(c) Aufschreiben eines gewünschten Lichtschildmusters auf der lidfeapfindlichen Schicht.
Das auf diese Weise erhaltene Element wird belichtet, danach die lichtempfindliche Schicht abgezogen und ein Li ent sehr ankenmetallmuster
auf dem dreidimensionalen Körper erhalten. Das Produkt ist besonders für Display- und Elektrolumineszenzzwecke
geeignet.
Die Erfindung wird durch die nachstehenden Beispiele weiter erläutert. In diesen Beispielen sind die Prozentanteile in
Gewichtsprozent angegeben.
7098U/0783 - 12 -
20 g eines Mischpolymeren aus 86 % Vinylchlorid, 13 % Vinylacetat und 1 % Maleinsäureanhydrid (hergestellt von der Firma
Union Carbide Corporation New York im Handel unter dem Namen "Vinylite VMOH") und 0,8 g 4-(p-Tolylmercapto)-2,5-diäthoxybenzoldiazoniumzinkchlorid der Firma Kabushiki Kaisha Daito
Kogyosho, Tokyo, Japan mit dem Handelsnamen "WH-1500" wurden
in 80 g Methylethylketon gelöst und eine lichtempfindliche Zusammensetzung mit einem Gehalt von 20,6 % Feststoff erhalten.
Auf der Oberfläche eines 100 my dicken Films aus Polyethylenterephthalat wurde durch Abdampfen im Vakuum eine Schicht von
100 my Aluminium niedergeschlagen, über die die lichtempfindliche Zusammensetzung mit einem Drahtbarren aufgebracht und
bei 90 T zu einer 5 my dicken lichtempfindlichen Schicht getrocknet wurde, um das Bild herstellende Element zu erhalten.
Auf der lichtempfindlichen Schicht wurde ein Negativ-Original
angeordnet und die Anordnung mit Licht aus einer Kohlenbogenlampe in einer Entfernung von 80 cm 30 Sekunden belichtet.
Unmittelbar nach dem Abziehen der lichtempfindlichen Schicht wurde ein scharfes negatives Aluminiummuster auf dem Polyesterfilm und ein positives Muster auf der lichtempfindlichen
Schicht erhalten.
Das Negativmuster hat eine Auflösekraft von 72/mm, eine Durchgangsdichte von 3»5i einen Gammawert für die Kontrastwirkung
von 20 und eine gute Punktreproduzierbarkeit. Das Produkt war zur Verwendung als Film geeignet.
7098U/Q783
Eine lichtempfindliche Zusammensetzung wurde entsprechend dem Verfahren von Beispiel 1 mit der Ausnahme hergestellt, daß
0,8 g 4-(p-Methoxybenzoylamino)-2,5-diäthoxybenzoldiazoniumzinkchlorid
verwendet wurde.
Auf der Oberfläche eines 12 my dicken Films aus Polyethylenterephthalat
wurde durch Abdampfen im Vakuum eine 80 mmy dicke Schicht aus Zink niedergeschlagen, auf die die lichtempfindliche
Zusammensetzung mit einem Drahtbarren aufgebracht und bei 90 X eine Minute zu einer 9 my dicken Schicht
getrocknet wurde.
Das so hergestellte Element wurde wie in Beispiel 1 belichtet, um ein scharfes negatives Zinkmuster auf der Unterlage und
ein positives Muster auf der lichtempfindlichen Schicht zu erhlaten.
20 g eines Mischpolymeren, wie es in Beispiel 1 verwendet wurde, und 2,0 g 1,4-Naphthochinon wurden in einer Mischung
von 4O1Og Methyläthylketon, 35 g Toluol und 5 g Cyclohexanon
zur Herstellung einer 21,5 %igen lichtempfindlichen Zusammensetzung
gelöst.
Auf der Oberfläche eines 75 my Diacetylcellulosefilms wurde
durch Verdampfen im Vakuum eine 50 mmy starke Aluminiums chi cht
niedergeschlagen, auf der die lichtempfindliche Zusammensetzung mit einem Drahtbarren aufgebracht und bei 90 TJ 2 Minuten zu
einer 10 my Schicht getrocknet wurde.
Auf der lichtempfindlichen Schicht wurde ein positives Original angeordnet und die Anordnung unter Verwendung einer elektro-
709844/0783 - 14 -
graphischen Haschine von Ricopy SM 15ΟΟ von Ricoh Co., Ltd.,
Tokio, Japan, "belichtet, die mit einer 15ΟΟ V Quecksilberbogenlampe
versehen war, wobei mit einer Druckbelichtung eines Anzeigegerätes von 10 gearbeitet wurde. Nach dem Abziehen
der lichtempfindlichen Schicht wurde ein scharfes negatives Aluminiummuster auf der Unterlage erhalten.
20 g eines Mischpolymeren aus 87 % Vinylchlorid und 13 %
Vinylacetat der Union Carbide Corporation mit dem Handelsnamen "Vinylite VYHH" und 0,8 g 4-(p-ToIyI-mercapto)-2,5-diäthoxybenzoldiazoniumzinkehlorid
wurden in einer Mischung von 40 g Methylethylketon und 40 g Toluol zur Herstellung
einer 20,63 %igen lichtempfindlichen Zusammensetzung gelöst.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung wurde mit einer Drahtbarre auf einer 50 mmy Silberschicht, die auf einer Glasplatte
niedergeschlagen war, aufgetragen und mit Heißluft bei 90 T 2 Minuten getrocknet, um eine 9 my lichtempfindliche
Schicht zu erhalten.
Nach dem Verfahren von Beispiel 1 wurde das derart hergestellte Element durch ein positives Original belichtet, wobei ein negatives
Silbermuster auf der Glasplatte nach dem Abziehen der lichtempfindlichen Schicht erhalten wurde.
Ein Polyäthylenterephthalatfilm mit einer Dicke von 100 mr wurde
in folgendes Bad zum Empfindlichmachen für 3 Minuten eingetaucht und vollständig mit Wasser gewaschen, danach in das anschließend
beschriebene Aktivierungsbad 3 Minuten eingetaucht
709844/0783
und mit fließendem Wasser vollständig gewaschen, anschließend
in das anschließend beschriebene Plattierungsbad 2 Minuten eingetaucht, um eine Nickel-Phosphor-Legierungsschicht von
50 mmy Dicke zu erhalten:
Bad zum Etapfindlichmachen:
SnCl.
HCl
HCl
Temperatur
Aktivierungsbad:
10 g
40 ml
1000 ml
25 T
40 ml
1000 ml
25 T
PdCl, | 0, | 5 | g |
HCl | 5 | ml | |
H2O | 1000 | ml | |
Temperatur | 23 | •c |
Plattierungsbad:
NiSO4 40 g
Natriumeitrat 24 g
Natriumeitrat 24 g
Natrium- hypophosphit |
20 | g |
Natriumacetat | 14 | g |
Ammonium chlorid |
5 | S |
H2O | zum | Auffüllen auf 100 ml |
Die in Beispiel 2 hergestellte lichtempfindliche Zusammensetzung wurde auf diese Legierungsschicht aufgebracht. Das
auf diese Weise hergestellte Element wurde unter Verwendung
7098U/0783
eines positiven Originals mit der Maschine von Beispiel 3
bei einem Anzeigewert von 5 belichtet. Es wurde ein scharfes negatives Legierungsmuster auf dem Polyesterfilm erhalten,
nachdem die lichtempfindliche Schicht abgezogen worden war·
20 g eines Mischpolymeren, wie es in Beispiel 1 verwendet wurde, und 2 g Benzophenon wurden in 50 g Methylethylketon zur
Herstellung einer lichtempfindlichen Zusammensetzung gelöst.
Auf eine Seite eines 100 mmy Polyäthylenterephthalatfilms
wurde ein 100 mmy Aluminiumschicht durch Vakuumverdampfung aufgebracht. Die andere Seite wurde mit einer Mischung von 10 g
eines gelben fluoreszierenden Pigmentes, 5 g eine« linearen Polyesterharzes, 38 ml Methylethylketon und 15 ml Cyclohexanon
überzogen und zu einem 10 my gelben Überzug getrocknet. Die lichtempfindliche Zusammensetzung wurde durch eine Drahtbarre
auf die Aluminiumschicht aufgebracht und wie in Beispiel 2 getrocknet. Auf den überzug wurde ein positives Original angeordnet
und mit der im Beispiel 3 verwendeten Maschine bei einem Anzeigewert von 2 belichtet. Fach dem Abziehen des Überzuges
wurde ein negatives Aluminiummuster in Silber auf einem Film erhalten, der eine gelbe Fluoreszenz ausstrahlte. Ein solches
Produkt ist für Verbungszwecke geeignet.
Eine 4OO mmy Aluminiumschicht wurde durch Verdampfen im Vakuum auf eine Seite eines 188 my Polyäthylenterephthalatfilms aufgebracht
und dann mit einer lichtempfindlichen Zusammensetzung, wie sie in Beispiel 1 beschrieben ist, überzogen.
709844/0783
Ein negatives weißes Sieb mit einer Siebweite von 300 je inch
wurde auf die lichtempfindliche Schicht aufgelegt und die Anordnung mit einem pneumatischen Drucker in einer Entfernung
von 80 cm 30 Sekunden belichtet, damit einer 3 KV Kohlelichtbogenlampe
versehen war. Anschließend wurde die lichtempfindliche Schicht abgezogen, um ein positives Aluminiumsieb auf
dem Film zu erhalten.
Dieses Produkt war geeignet für eine Verwendung als durchsichtige Elektrode einer biegsamen Elektrolumineszenzfolie.
Es wurde ein 20,75 %ige lichtempfindliche Zusammensetzung hergestellt,
durch Mischen von 20 g eines Mischpolymeren, wie es in Beispiel 1 verwendet wurde, mit einem Gramm 2,5-Di(4'-Azidobenzal)-cyclohexanon,
40 g Methyläthylkenon und 40 g Toluol. Auf eine Seite eines 100 m Polyäthylenterepthalatfilms wurde
durch Verdampfen im Vakuum eine 100 mmy Aluminiumschicht aufgebracht, auf die die lichtempfindliche Zusammensetzung aufgetragen
und bei 90 TJ 1 Minute getrocknet wurde, um einen 4 my
Überzug zu erhalten.
Darauf wurde eine Lösung von 15 g Acetyl-butylcellulose in 80 g
Toluol und 25 g Methanol aufgebracht und bei 90 *C 2 Minuten getrocknet,
um eine 15 my Verstärkung zu erhalten. Das Produkt wurde zusammen mit einem positiven Original unter Verwendung
der in Beispiel 3 verwandten Vorrichtung bei einen Anzeigewert von 1,5 belichtet. Nach dem Abziehen der aufgebrachten Schichten
wurde ein negatives Aluminiummuster auf dem Polyesterfilm und ein positives Muster auf der lichtempfindlichen Schicht erhalten.
709844/0783 - 18 -
Japanisches Seidenpapier der Firma Mitsubishi Paper Mills, Ltd.,
Tokio, Japan,mit dem Handelsnamen "Kyokuryu" wurde auf die
lichtempfindliche Schicht mit einer Acrylesteremulsion in Anteilen
von 30 g/m aufgebracht und bei 60 T 3 Minuten getrocknet.
Die Acrylesteremulsion war ein Produkt der Firma C3iuo Rika Kogyo Eabushiki Eaisha, Tokio, Japan, mit dem Hände 1-naaen
"B52H11.
Auf die Seite mit dem japanischen Seidenpapier wurden mit der Schreibmaschine Briefe geschrieben und mit der im Beispiel 1
verwendeten Vorrichtung 30 Sekunden belichtet. Nach dem Abziehen der lichtempfindlichen Schicht wurde ein negatives Aluminiummuster
der Schreibmaschinenbuchstaben auf dem Polyesterfilm erhalten.
Es wurde eine lichtempfindliche Zusammensetzung durch Auflösen
von 20 g Polyvinylalkohol (hergestellt von Ioa Gosei Chemical Industry Co., Ltd., Tokio, Japan, mit dem Handelsnamen
"NH-20") und 0,8 g 4-(p-Tolyl mercapto)-2,5-diäthoxybenzoldiazoniumtetrafluorborat
in 180 g Wasser mit einem Feststoffgehalt von 10,36 % hergestellt.
Durch Abdampfen im Vakuum wurde Aluminium in einer Dicke von 100 mmy auf einem biaxial orientiertem Polypropylenfilm mit
einer Dicke von 50 my niedergeschlagen. Die lichtempfindliche
Zusammensetzung wurde auf die Aluminiumschicht aufgetragen und durch Heißluft bei 100 T 1 Minute zu einer lichtempfindlichen
Schicht mit einer Dicke von 3 my getrocknet. Ein positives
Original wurde auf die lichtempfindliche Schicht gelegt und die Anordnung mit Licht aus einer 2 KV Xenonlichtbogenlanpe
7098U/0783 -19-
aus einer Entfernung von 100 cm 3 Minuten belichtet. Die lichtempfindliche
Schicht wurde abgezogen und man erhielt ein negatives Aluminiummuster auf dem Film und ein positives Muster auf
der lichtempfindlichen Schicht.
Auf eine Seite eines 50 my Polyäthylenterephthalatfilms, der
mit Ruß gefärbt war,wurde eine 70 mmy Aluminiumschicht durch
Verdampfen im Vakuum niedergeschlagen. Die andere Seite wurde mit einem druckempfindlichen Acrylklebstoff der Firma Nippon
Carbide Industries Co., Ltd., Tokio, Japan, mit dem Handelsnamen "Nissetsu PEII5A'1 in einer Dicke von 30 my überzogen und
darauf eine Abgabepapierfolie aufgebracht.
Eine wie in Beispiel 1 hergestellte lichtempfindliche Zusammensetzung
wurde mit einer Drahtbarre auf die Aluminiumschicht aufgebracht und mit Heißluft bei 90 9C 1 Minute getrocknet. Man erhielt
eine 5 my lichtempfindliche Schicht.
Auf das derart hergestellte Element wurde ein negatives Original aufgelegt und die Anordnung gemäß dem Verfahren von Beispiel 1
belichtet. Nach dem Abziehen der lichtempfindlichen Schicht wurde auf dem schwarzen Film ein positives Muster in Silbertinte
erhalten. Das Produkt kann an gewünschter Stelle als Probe befestigt werden, wenn die Abgabefolie entfernt wird.
Es wurde eine lichtempfindliche Zusammensetzung mit einem Gehalt von 10,18 % Feststoff hergestellt durch Auflösen von 10 g
Polyvinyl-butylal mit 3 % Acetylgruppen, 65 + 3 % Butyral gruppe η
und 35 + Hydroxylgruppen und 0,2 g 4-(p-Tolylmercapto)-2,5-diäthoxybenzoldiazonoumzinkchlorid
in einer Mischung von 45 g
709844/0783 -20-
Auf einen 100 my Polyäthylenterephthalatfilm wurde durch Verdampfen im Vakuum eine 100 mmy Aluminiumschicht niedergeschlagen, auf die die lichtempfindliche Zusammensetzung mit einer
Drahtbarre aufgetragen und bei 90 T 1 Minute getrocknet wurde, um eine 5 1Oy lichtempfindliche Schicht zu erhalten.
Der in Beispiel 3 verwendeten Vorrichtung wurde bei einem Druckwert von 5 die Belichtung des Elementes zusammen mit einem positiven Original durchgeführt und anschließend die lichtempfindliche Schicht abgezogen, um ein negatives Aluminiummuster auf
dem Film zu erhalten. Das Produkt war zur Verwendung als lithographische Platte geeignet.
Eine lichtempfindliche Zusammensetzung wurde durch Auflösen von
0*4· β 1,2-diazonaphthol-5-sulfonsäuren Natriumsalz in 50 g
Polyvinylchloridemulsion der Firma Nisshin Chemical Industries Co., Ltd., Tokio, Japan, mit dem Handelenamen "Vinyblane 320"
hergestellt. Auf einem 100 my Polyäthylenterephthalatfilm wurde Aluminium in einer Dicke von 100 mmy durch Verdampfen im
Vakuum niedergeschlagen und anschließend mit der lichtempfindlichen Zusammensetzung überzogen und bei 100 T 30 Minuten getrocknet. Man erhielt eine lichtempfindliche Schicht von 3 ny
Dicke.
Auf die lichtempfindliche Schicht wurde ein 12 my Polyäthylenterephthalatfilm unter Verwendung einer 30 my Schicht aua Acrylklebstoff der Firma Nippon Carbide Industries Co*, Ltd., im
Handel unter dem Namen "Nissetsu PE115A" aufgebracht, um ein bildlieferndes Element zu erhalten. Nach dem Verfahren von Beispiel 1 wurde das Element belichtet und anschließend die licht-
709844/0783 - 21 -
2716A22
empfindliche Schicht abgezogen, üb ein negatives Huster auf dem
Film zu erhalten. Da die lichtempfindliche Schicht durch den schichtförmigen Film verstärkt «ar und daher verbesserte mechanische Festigkeit aufwies, war das Abcugsverfahren leicht
durchzuführen und das verbleibende Element zur Verwendung in größeren Formaten geeignet. Das auf der lichtempfindlichen
Schicht gebildete positive Muster ist für verschiedene Verwendungszwecke geeignet.
Ein ein Bild lieferndes Element, hergestellt nach dem Verfahren
von Beispiel 6, wurde unter Verwendung eines positivem Originals mit der in Beispiel 3 verwendeten Vorrichtung bei einer Druokbelichtung von 10 belichtet. Sas belichtete Element wurde
30 Sekunden auf 90 X erhitst und danach die gesamte lichtempfindlich· Oberfläche wieder mit der Vorrichtung bei eimer Druckbelichtung der Anzeigewerte von 10 belichtet. 20 Hinuten nach der
zweiten Belichtung wurde die lichtempfindliche Bohiekt abgesegen
und man erhielt ein positives Aluminiumsmeter auf dem Unterlagefilm und ein negatives Muster auf der lichtempfindlichen Schicht.
701144/0713
Claims (10)
1. Trockensystemelement zur Bildherstellung, dadurch gekennzeichnet,
daß es aus einer Unterlage, einer dünnen Schicht aus einem Metall oder einer Metallverbindung und einer
lichtempfindlichen Schicht besteht, die ein polymeres Bindemittel und ein Mittel zum Lichtempfindlichmachen enthält,
das Benzophenon, eine Chininverbindung, eine Diazoniumverbindung oder eine Amidoverbindung ist und die lichtempfindliche
Schicht die Eigenschaft hat, die Grenzflächenhaftung zwischen der Schicht aus Metall oder Metallverbindung und
der lichtempfindlichen Schicht nach der Belichtung des Elementes zu verringern.
2. Trockensystemelement gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die dünne Schicht aus Metall oder Metallverbindung
eine durch Verdampfung im Vakuum aufgebrachte Schicht, eine durch stromloses Plattieren aufgebrachte Schicht oder eine
Kombination solcher Schichten mit einer elektrolytisch plattierten Schicht ist.
3. Trockensystemelement nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet,
daß als Bindemittel ein filmbildendes, in Wasser oder organischen Lösungsmitteln lösliches synthetisches
Harz, ein Cellulosederivat oder ein Kautschukderivat vorliegt.
4. Trockensystemelement nach Ansprüchen 1 bis 3» dadurch gekennzeichnet,
daß die Chinonverbindung 1,4-Naphtochinon, 2-Methyl-1, 4—naphthochinon, Anthrachinon, 2-Methylanthrachinon,
2-Äthylanthrachinon, 2-Chloranthrachinon oder
p-Toluchinon ist.
5. Trockensystemelement nach Ansprüchen 1 bis 4-, dadurch gekennzeichnet,
daß die Diazoniumverbindung 4-P-Tolylmercapto)-
709844/078 3
ORDINAL INSPECTED
2,^-diäthoxybenzoldiazoniumzinkchlorid, -natriumsulfat oder
-tetr\.x*uorborat, 4-(P-ToIyI mercapto)-2,5-dimethoxybenzoldiazoniumzinkchlorid,
4-(P-Methyl benzoylamino)-2,5-diäthoxybenzoldiazoniumzinkchlorid,
4-(P-Methoxybenzoylamino)-2,5-diäthoxybenzoldiazoniumzinkchlorid,
^—Morpholino^, 5-butoxybenzoldiazoniumzinkchlorid
oder -tetrafluorborat, 4-Morpholinobenzoldiazonium-tetrafluorborat,
4-Pyrrolidino-3-methylbenzoldiazoniumtetrafluorborat,
ρ-Ν,Ν-Dimethylaminobenzoldiazoniumzinkchlorid,
ρ-Ν,Ν-Diäthylamiiiobeiizoldiazoiiiumzinkchlorid
oder -tetrafluorborat, p-N-Äthyl-N-hydroxyaminobenzoldiazoniumzinkchlorid,
Ί,2-Diazonaphthol-5-sulfonsäurenatriumsalz
oder Zinkchloridsalz eines Kondensates von 4-Diazodiphenylaininschwefelsäure und Formaldehyd ist.
6. Trockensystemelement nach Ansprüchen 1 uis 5» dadurch gekennzeichnet,
daß die Azidoverbindung 2,6-Di(4-'-azidobenzal)
cyclohexanon ist.
7. Trockensystemelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die lichtempfindliche Schicht eine Baeophenon- oder Chinonverbindung enthält.
8. Trockensystemelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht eine Diazoniumverbindung
oder Azidoverbindung und Polyvinylchlorid, Vinylchlorid/ Vinylacetatmischpolymere, Vinylchlorid/Vinylacetat/Maleinsäureanhydrid,
Acrylnitril oder Vinylalkoholterpolymere, Vinyl-chlorid/Vinylidenchloridmischpolymere, Vinylchlorid/
Vinylidenchlorid/Acrylnitrilterpolymere, Nitrocellulose,
Acetylcellulose, Acetylbutylcellulose, Äthylcellulose,
cyclisierten Kautschuk, Kautschukchlorid, Eiyvinylbutyral,
einen thermoplastischen linearen Polyester oder Mischpolyester, ein in Alkohol lösliches Polyamid, Polyvinylalkohol,
Acrylsäureester/Methylmethacrylat oder Styrolmischpolymeres
oder Polyurethan enthält.
709844/0783
9. Verfahren zur Herstellung eines Bildes, dadurch gekennzeichnet,
daß man ein Element nach den Ansprüchen 1 bis 8 belichtet, danach die lichtempfindliche Schicht abzieht und
auf der Unterlage ein Bildmuster aus Metall oder Metallverbindung
entsprechend dem lichtempfindlich gemachten Teil des Elementes erhält.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß man
das Element nach der Belichtung einer Wärmebehandlung unterwirft, danach die Gesamtoberfläche der lichtempfindlichen
Schicht belichtet und dann abzieht und auf der Unterlage ein Bildmuster aus Metall oder Metallverbindung erhält, das
dem urpsrünglich nicht lichtempfindlich gemachten Teil entspricht.
7098U/Q783
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4208376A JPS52126220A (en) | 1976-04-14 | 1976-04-14 | Dry image forming material and method of forming image |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2716422A1 true DE2716422A1 (de) | 1977-11-03 |
DE2716422C2 DE2716422C2 (de) | 1987-10-01 |
Family
ID=12626139
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2716422A Expired DE2716422C2 (de) | 1976-04-14 | 1977-04-14 | Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS52126220A (de) |
BE (1) | BE853618A (de) |
CA (1) | CA1094377A (de) |
CH (1) | CH628160A5 (de) |
DD (1) | DD130507A5 (de) |
DE (1) | DE2716422C2 (de) |
FR (1) | FR2371706A1 (de) |
GB (1) | GB1563010A (de) |
IT (1) | IT1094789B (de) |
NL (1) | NL185425C (de) |
SE (1) | SE435214B (de) |
SU (1) | SU948301A3 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0042632A1 (de) * | 1980-06-20 | 1981-12-30 | Agfa-Gevaert N.V. | Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Metallbildern |
EP0758103A1 (de) * | 1995-08-08 | 1997-02-12 | Agfa-Gevaert N.V. | Lichtempfindliches Element und Verfahren zur Bildung von metallischen Bildern damit |
EP0762214A1 (de) * | 1995-09-05 | 1997-03-12 | Agfa-Gevaert N.V. | Lichtempfindliches Element, das eine Bildaufbauschicht und eine photopolymerisierbare Schicht enthält |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5479027A (en) * | 1977-12-05 | 1979-06-23 | Kimoto Kk | Dry picture forming material |
JPS54179986U (de) * | 1978-06-07 | 1979-12-19 | ||
JPS5858546A (ja) * | 1981-10-02 | 1983-04-07 | Kimoto & Co Ltd | 製版用感光性マスク材料 |
JPS59198445A (ja) * | 1983-04-27 | 1984-11-10 | Kimoto & Co Ltd | 剥離による画像形成材料 |
JPS60238826A (ja) * | 1984-05-14 | 1985-11-27 | Kimoto & Co Ltd | 画像形成材料 |
JPS61243603A (ja) * | 1985-04-19 | 1986-10-29 | 岡村 一 | ロ−ソク立 |
JP2001284350A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Nitto Denko Corp | パターン形成方法および薄膜剥離除去用接着シート |
JP2009032912A (ja) * | 2007-07-27 | 2009-02-12 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法および有機発光装置の製造方法 |
CN105829970B (zh) | 2013-10-30 | 2020-07-14 | 荷兰应用自然科学研究组织Tno | 包括电路图案的基底、用于提供包括电路图案的基底的方法及系统 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1472889B (de) * | Fuji Shashin Film K.K., Kanagawa (Japan) | Verfahren zur Herstellung von Bildern mittels lichtempfindlicher Diazoniumsalze oder Azide | ||
DE1252060B (de) * | 1961-10-23 | |||
US2999016A (en) * | 1955-03-24 | 1961-09-05 | Keuffel & Esser Co | Drawing material |
DE1572153B2 (de) * | 1966-06-27 | 1971-07-22 | E I Du Pont de Nemours and Co , Wilmington, Del (V St A ) | Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
DE1671625A1 (de) * | 1967-01-24 | 1971-09-16 | Kalle Ag | Verbundmaterial fuer die Herstellung von Mehrmetalldruckformen |
DE1447012B2 (de) * | 1963-07-20 | 1972-12-21 | Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich | Negativ arbeitende, sensibilisierte kupfer-aluminium-bimetallplatte |
DE1597644B2 (de) * | 1966-11-03 | 1973-03-01 | Teeg Research Inc., Detroit, Mich. (V.St.A.) | Verfahren zur herstellung von reliefbildern |
DE2518451A1 (de) * | 1974-04-25 | 1975-11-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | Ein metallbild erzeugendes material |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ZA711869B (en) * | 1970-05-27 | 1971-12-29 | Gen Electric | Aqueous electrocoating solutions and method of making and using same |
JPS4837643A (de) * | 1971-09-15 | 1973-06-02 | ||
JPS516530A (ja) * | 1974-07-04 | 1976-01-20 | Toray Industries | Gazokeiseizairyo |
-
1976
- 1976-04-14 JP JP4208376A patent/JPS52126220A/ja active Granted
- 1976-11-10 GB GB46816/76A patent/GB1563010A/en not_active Expired
- 1976-11-30 CA CA266,883A patent/CA1094377A/en not_active Expired
-
1977
- 1977-04-14 DD DD7700198405A patent/DD130507A5/de unknown
- 1977-04-14 FR FR7711275A patent/FR2371706A1/fr active Granted
- 1977-04-14 NL NLAANVRAGE7704083,A patent/NL185425C/xx not_active IP Right Cessation
- 1977-04-14 SU SU772470055A patent/SU948301A3/ru active
- 1977-04-14 DE DE2716422A patent/DE2716422C2/de not_active Expired
- 1977-04-14 CH CH463577A patent/CH628160A5/de not_active IP Right Cessation
- 1977-04-14 BE BE176737A patent/BE853618A/xx not_active IP Right Cessation
- 1977-04-14 IT IT23664/78A patent/IT1094789B/it active
- 1977-04-14 SE SE7704316A patent/SE435214B/xx not_active IP Right Cessation
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1472889B (de) * | Fuji Shashin Film K.K., Kanagawa (Japan) | Verfahren zur Herstellung von Bildern mittels lichtempfindlicher Diazoniumsalze oder Azide | ||
US2999016A (en) * | 1955-03-24 | 1961-09-05 | Keuffel & Esser Co | Drawing material |
DE1252060B (de) * | 1961-10-23 | |||
DE1447012B2 (de) * | 1963-07-20 | 1972-12-21 | Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich | Negativ arbeitende, sensibilisierte kupfer-aluminium-bimetallplatte |
DE1572153B2 (de) * | 1966-06-27 | 1971-07-22 | E I Du Pont de Nemours and Co , Wilmington, Del (V St A ) | Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
DE1597644B2 (de) * | 1966-11-03 | 1973-03-01 | Teeg Research Inc., Detroit, Mich. (V.St.A.) | Verfahren zur herstellung von reliefbildern |
DE1671625A1 (de) * | 1967-01-24 | 1971-09-16 | Kalle Ag | Verbundmaterial fuer die Herstellung von Mehrmetalldruckformen |
DE2518451A1 (de) * | 1974-04-25 | 1975-11-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | Ein metallbild erzeugendes material |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0042632A1 (de) * | 1980-06-20 | 1981-12-30 | Agfa-Gevaert N.V. | Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Metallbildern |
EP0758103A1 (de) * | 1995-08-08 | 1997-02-12 | Agfa-Gevaert N.V. | Lichtempfindliches Element und Verfahren zur Bildung von metallischen Bildern damit |
US5882839A (en) * | 1995-08-08 | 1999-03-16 | Afga-Gevaert | Type of photosensitive element and a process of forming a metal image with it |
EP0762214A1 (de) * | 1995-09-05 | 1997-03-12 | Agfa-Gevaert N.V. | Lichtempfindliches Element, das eine Bildaufbauschicht und eine photopolymerisierbare Schicht enthält |
US5882840A (en) * | 1995-09-05 | 1999-03-16 | Agfa-Gevaert | Photosensitive element comprising an image forming layer and a photopolymerisable layer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1094377A (en) | 1981-01-27 |
IT1094789B (it) | 1985-08-02 |
JPS5613305B2 (de) | 1981-03-27 |
JPS52126220A (en) | 1977-10-22 |
NL7704083A (nl) | 1977-10-18 |
NL185425C (nl) | 1990-04-02 |
CH628160A5 (en) | 1982-02-15 |
DD130507A5 (de) | 1978-04-05 |
FR2371706A1 (fr) | 1978-06-16 |
GB1563010A (en) | 1980-03-19 |
SE435214B (sv) | 1984-09-10 |
BE853618A (fr) | 1977-08-01 |
FR2371706B1 (de) | 1980-04-25 |
SU948301A3 (ru) | 1982-07-30 |
AU1946676A (en) | 1978-06-29 |
NL185425B (nl) | 1989-11-01 |
DE2716422C2 (de) | 1987-10-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4205989A (en) | Dry system image producing element | |
DE2242106A1 (de) | Lichtempfindliches photographisches material | |
DE3720687A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines farbbilds | |
DE1229388B (de) | Photographisches Reproduktionsverfahren | |
DE2830622A1 (de) | Verfahren zur bilderzeugung und dafuer verwendbares lichtempfindliches element | |
DE2716422C2 (de) | Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial | |
DE3118039A1 (de) | Photosensitives material und verfahren zu seiner herstellung | |
DE1927412A1 (de) | Transparente lichtempfindliche durch Waerme entwickelbare Blattmaterialien mit durch Waerme transparent werdenden Antihaloschichten | |
DE2620961A1 (de) | Metallbild-erzeugendes material | |
DE2149056B2 (de) | Verfahren zur Reproduktion von Bildern | |
DE2165372A1 (de) | Verfahren zur Erzeugung von Metallbildern | |
DE1447643A1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines photographischen Reliefbildes sowie photographischesMaterial zur Durchfuehrung des Verfahrens | |
DE1228634B (de) | Verfahren zur Herstellung von Reliefaufzeichnungen und -bildern | |
DE2023083A1 (de) | Lichtempfindliches aetzfaehiges Kopiermaterial | |
DE2120086A1 (de) | Herstellung von fotografischen Färb auszugsbildern und deren Verwendung als Färb Probedrucke | |
DE2854010A1 (de) | Verfahren zur herstellung von schildern | |
DE2932035A1 (de) | Bildaufzeichnungsmaterial | |
DE3236602C2 (de) | ||
DE2214924A1 (de) | Diffusionsübertragungsbildempfangsmaterialien | |
DE3808816A1 (de) | Elektrophotographische platte und herstellung einer druckplatte daraus | |
DD159226A5 (de) | Fotoresistelement | |
DE1696264B2 (de) | Verfahren zur Herstellung lichtundurchlässiger Papiere für fotografische Zwecke | |
DE3800131A1 (de) | Lichtempfindliche zusammensetzung | |
DE1447781A1 (de) | Fotografischer Abziehfilm | |
DE1622933A1 (de) | Mehrschichtiger Film,der zur Aufzeichnung photographischer Bilder geeignet ist |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OI | Miscellaneous see part 1 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8363 | Opposition against the patent | ||
8325 | Change of the main classification |
Ipc: G03F 7/00 |
|
8366 | Restricted maintained after opposition proceedings | ||
8305 | Restricted maintenance of patent after opposition | ||
D4 | Patent maintained restricted | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |