DE1447012B2 - Negativ arbeitende, sensibilisierte kupfer-aluminium-bimetallplatte - Google Patents
Negativ arbeitende, sensibilisierte kupfer-aluminium-bimetallplatteInfo
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Description
3 4
zu härten, beispielsweise Azidostyrylverbindungen, oberfläche mit Wasser heraus. Zur Entfernung des
wie sie in der deutschen Patentschrift 752 852 be- Kupfers an den freigelegten Stellen überwischt man
schrieben werden, oder Azidoverbindungen mit meh- die Platte etwa 5 bis 10 Minuten mit einer Ätze,
reren Azidogruppen im Molekül, wie 4,4'-diazido- die 45 °/0 Eisen(III)-nitrat in Wasser enthält.
stilben-2,2'-disulfonsaures Natrium oder 1,5-Diazido- 5 Die Ätzvorgang ist beendet, wenn das Aluminium
naphthalin-3,7-disulfonsaures Natrium. Als hoch- an den freigelegten Stellen klar sichtbar ist. Man
molekulare Substanzen für die Herstellung der licht- spült kräftig mit Wasser und entfernt danach die ge-
empfindlichen Schichten können wasserlösliche, film- härtete Schicht an den Bildstellen durch Überwischen
bildende und durch Belichtung härtbare Stoffe mit der Plattenoberfläche mit einer Lösung von 2,4 %
kolloiden Eigenschaften verwendet werden. Beispiels- io Natriummetasilikat. Anschließend wird zur Erhöhung
weise werden Polyacrylsäure und Polyacrylamid, der Oleophilie des Kupfers mit 2%iger Schwefelsäure
Albumin, Gelatine, Casein, Polyvinylpyrrolidon, überwischt und mit fetter Farbe eingefärbt. Das
Gummi arabicum, Leim, wasserlösliche Cellulose- Kupfer nimmt die fette Farbe gut an, während das
äther und Traganth genannt. Aluminium die Farbe abstößt. Die Druckform ist
Den Schichten können in an sich bekannter Weise 15 fertig für den Druck. Sie wird mit einer der üblichen
Sensibilisatoren, Farbstoffe, Weichmacher und andere Konservierungslösungen behandelt, wenn der Druck
für lichtempfindliche Schichten für Druckplatten später erfolgen soll.
übliche Zusatz- und Hilfsmittel zugesetzt werden. Man 2. Eine Bimetallplatte aus Aluminium—Kupfer
kann auch nach dem Belichten und Auswaschen der wird auf der Kupferoberfläche mit einer Lösung be-
nicht belichteten Kopierschicht die gehärtete Schicht 20 schichtet, die aus 50 Teilen Wasser, 1 Teil konzen-
anfärben. triertem Ammoniakwasser (38%ig), 44 Teilen Ätha-
AIs Ätze für das erfindungsgemäße Verfahren sind nol, 4,6 Teilen Casein und 2,3 Teilen 4,4'-diazidokonzentrierte,
saure wäßrige Kupfer oxydierende stilben-2,2-disulfonsaurem Natrium hergestellt ist.
Lösungen brauchbar, welche die im Licht gehärtete Anschließend wird wie üblich, d. h. durch Liegen-Schicht
nicht angreifen. Beispielsweise verwendet man as lassen an der Luft oder unter Anwendung mäßiger
die Chloride und/oder Nitrate von Eisen in wäßriger Wärme bis zu etwa 6O0C, getrocknet.
Lösung, wobei die Gesamtkonzentration des oder der Zur Herstellung einer bimetallischen Druckform Salze 40 bis 60% betragen soll. Zur Erhöhung der belichtet man unter einem Negativ und löst die nicht Ätzgeschwindigkeit enthalten derartige Ätzen ge- vom Licht getroffenen Stellen mit einer Lösung ab, gebenenfalls außerdem 0,1 bis 3% freie Säuren, wie 30 die aus 2% Phosphorsäure, 80% Isopropanol und z. B. Salzsäure und Salpetersäure. 18 % Wasser besteht.
Lösung, wobei die Gesamtkonzentration des oder der Zur Herstellung einer bimetallischen Druckform Salze 40 bis 60% betragen soll. Zur Erhöhung der belichtet man unter einem Negativ und löst die nicht Ätzgeschwindigkeit enthalten derartige Ätzen ge- vom Licht getroffenen Stellen mit einer Lösung ab, gebenenfalls außerdem 0,1 bis 3% freie Säuren, wie 30 die aus 2% Phosphorsäure, 80% Isopropanol und z. B. Salzsäure und Salpetersäure. 18 % Wasser besteht.
Die Entschichtung der im Licht gehärteten erfin- Zur besseren Beurteilung des erhaltenen Bildes
dungsgemäßen Kopierschicht erfolgt mit alkalischen wird die gehärtete Schicht durch Übergießen mit
wäßrigen Lösungen. Geeignet sind beispielsweise 1- bis einer 0,5%igen wäßrigen Methylenblaulösung tiefblau
10%ige Lösungen von Äthanolaminen, Morpholin, 35 angefärbt. Gegebenenfalls werden danach in bealiphatischen
Aminen und Diaminen, Ammoniak, kannter Weise Korrekturen ausgeführt und Fehl-Natriumphosphaten,
Natriumsilikaten, Natriumper- stellen eliminiert.
oxyd, Natriumhydroxyd oder Kaüumhydroxyd. Ge- Um das Kupfer an den bildfreien (d. h. unbelich-
gebenenfalls kann die Entscheidung durch mechani- teten) Stellen zu entfernen, überwischt man die Platte
sches Bürsten, Überwischen oder Reiben in Gegen- 40 etwa 6 Minuten mit einer Ätze, die 50% Eisen(III)-
wart von Schlämmkreide, Bimssteinmehl oder sehr chlorid und 1 % Salzsäure in Wasser enthält,
feinem Sand beschleunigt werden. Anschließend wird die Druckform mit Wasser ge-
In den nachstehenden Beispielen beziehen sich die spült und die gehärtete Schicht durch Überwischen
Mengenangaben auf das Gewicht, falls nichts anderes der Plattenoberfläche mit einer 5%igen Monoäthanol-
angegeben ist. 45 aminlösung, vorteilhaft in Gegenwart von Schlämmkreide,
entschichtet. Die Druckform wird, wie im
Beispiele Beispiel 1 beschrieben, mit fetter Farbe eingefärbt.
3. Eine Bimetallplatte aus Aluminium—Kupfer
1. Eine Bimetallplatte aus Aluminium — Kupfer wird auf der Kupferoberfläche in bekannter Weise
wird auf der Kupferoberfläche in bekannter Weise 50 mit einer Lösung beschichtet, die aus 50 Teilen Wasser,
durch Aufsprühen, Auf streichen, Antragen mit Wal- 50 Teilen Methanol, 30 Teilen Äthanol, 2 Teilen
zen, Eintauchen oder Auftragen auf das rotierende Albumin und 0,5 Teilen 4,4'-diazidostilben-2,2'-di-
Trägermaterial mit einer Lösung beschichtet, die aus carbonsaurem Natrium hergestellt ist, und nach dem
50 Teilen Wasser, 50 Teilen Äthanol, 2 Teilen Gummi Trocknen für viele Wochen gelagert,
arabicum und 0,5 Teilen 4-azidobenzalaceton-2-sul- 55 Man belichtet unter einem Negativ, braust die
fonsaurem Natrium hergestellt ist. Anschließend wird Plattenoberfläche mit Wasser ab und entfernt das
wie üblich getrocknet. Kupfer an den bildfreien Stellen mit einer Ätze.
Das derartig sensibilisierte Material ist in der Nach dem Abbrausen mit Wasser entschichtet man
Dunkelheit viele Monate lagerfähig. die Druckform mit einer Lösung, welche
Eine im wesentlichen gleich gut lagerfähige sensibili- 60
sierte Druckplatte erhält man, wenn man an Stelle 3Ü 'ο ων1ίθΙ>
von 2 Teilen Gummi arabicum 2 Teile Traganth 10% Methanol,
verwendet und im übrigen wie vorstehend angegeben 5 % Natriummetasilikat,
verfährt. 55% Wasser
Zur Herstellung einer bimetallischen Druckform 65
belichtet man unter einem Negativ und löst die nicht enthält. Die Druckform wird schließlich mit fetter
vom Licht getroffenen Stellen der Kopierschicht durch Farbe eingefärbt.
Abbrausen oder Überwischen der gesamten Platten- 4. Eine Al-Cu-Bimetallplatte wird auf der Kupfer-
oberfläche mit einer Lösung beschichtet, die aus 50 Teilen Wasser, 50 Teilen Äthanol, 10 Teilen Methanol,
4 Teilen Hydroxyäthylcellulose und 2 Teilen 4,4'-diazidostilben-2-monosulfonsaurem Natrium hergestellt
ist, und getrocknet.
Zur Herstellung einer bimetallischen Druckform verfährt man wie im Beispiel 1 beschrieben.
5. Eine Al-Cu-Bimetallplatte wird mit einer Lösung
beschichtet, die aus 50 Teilen Wasser, 50 Teilen Äthanol, 10 Teile Äthylenglykolmonomethyläther,
4 Teilen Gelatine und 2 Teilen 1,5-Diazido-naphthalin-3,7-disulfonsaurem
Natrium hergestellt ist, und getrocknet.
Zur Herstellung einer bimetallischen Druckform verfährt man wie im Beispiel 1 beschrieben.
6. Eine Al-Cu-Bimetallplatte wird mit einer Lösung beschichtet, die aus 50 Teilen Wasser, 50 Teilen
Methanol, 10 Teilen Dimethylformamid, 5 Teilen Polyvinylpyrrolidon und 2 Teilen 4-Azido-naphthalin-1,8-dicarbonsäure
hergestellt ist, und getrocknet.
Zur Herstellung einer bimetallischen Druckform verfährt man wie im Beispiel 1 beschrieben.
7. Eine Al-Cu-Bimetallplatte wird mit einer Lösung beschichtet, die aus 50 Teilen Wasser, 50 Teilen
Methanol, 4,2 Teilen Polyacrylsäure und 4,4-Diazidobenzophenon-2-sulfonsaurem
Natrium hergestellt ist, und getrocknet.
Zur Herstellung einer bimetallischen Druckform verfährt man wie im Beispiel 1 beschrieben.
8. Eine Al-Cu-Bimetallplatte wird mit einer Lösung beschichtet, die aus 90 Teilen Wasser, 5 Teilen Fischleim
und 1,5 Teilen 4-Azidobenzaltraubensäure-2-sulfonsaurem Natrium hergestellt ist, und getrocknet.
Zur Herstellung einer. Jymetallischen Druckform verfährt man wie im Beispjell· beschrieben.
9. Eine Bimetallplatte ink' 'Al-Cu wird mit einer
ίο Lösung beschichtet, die aus 97,5 Teilen Wasser, 2 Teilen Polyacrylamid und 0,5 Teilen 4,4'-diazidostilben-2,2'-disulfonsaurem
Na hergestellt ist, und getrocknet.
Zur Herstellung einer bimetallischen Druckform verfährt man wie im Beispiel 2 beschrieben.
10. Man beschichtet eine Bimetallplatte mit einer Lösung, die aus 97,5 Teilen Wasser, 2 Teilen Gelatine
und 0,5 Teilen 4,4'-diazidostilben-2,2'-disulfonsaurem Na hergestellt ist, und trocknet.
Zur Herstellung einer Druckform wird wie im Beispiel 2 gearbeitet.
11. Man beschichtet eine Bimetallplatte mit einer ^ Lösung, die aus 96 Teilen Wasser, 3 Teilen Weizen- (j
kleber und 1 Teil 4,4'-diazidostilben-2,2'-disulfonsaurem Na hergestellt ist, und trocknet.
Zur Herstellung einer Druckform wird wie im Beispiel 2 gearbeitet.
Claims (2)
1. Negativ arbeitende, sensibilisierte Kupfer- Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine
Aluminium-Bimetallplatte, deren Kupferschicht 5 Bimetallplatte zu schaffen, die mit einer monatelang
unter einer lichtempfindlichen Kolloidschicht über lagerfähigen lichtempfindlichen Kopierschicht vereiner
Aluminiumplatte bzw. -schicht liegt, da- sehen ist. Bei der Lösung der Aufgabe wird von der
durch gekennzeichnet, daß die licht- bekannten negativ arbeitenden, sensibilisierten Kupferempfindliche Schicht aus einem wasserlöslichen Aluminium-Bimetallplatte ausgegangen, deren Kupfer-Kolloid
und mindestens einer aromatischen Azido- ίο schicht unter einer lichtempfindlichen Kolloidschicht
Verbindung besteht. über einer Aluminiumplatte bzw. -schicht liegt; die
2. Verfahren zur Herstellung einer Druckform Bimetallplatte gemäß der Erfindung ist dadurch geaus
einer Bimetallplatte, die gemäß Anspruch 1 kennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht aus
aufgebaut ist, dadurch gekennzeichnet, daß man einem wasserlöslichen Kolloid und mindestens einer
die sensibilisierte Bimetallplatte bildmäßig be- 15 aromatischen Azidoverbindung besteht. Aus der
lichtet, die nicht vom Licht getroffenen Stellen Schaffung der neuen sensibilisierten Bimetallplatte
von dem Metallträger ablöst, die freigelegte Kupfer- ergibt sich die weitere Aufgabe, ein Verfahren zur
schicht wegätzt und anschließend die vom Licht Herstellung einer Druckform aus der Bimetallplatte
gehärteten Stellen der Kolloidschicht mit einer anzugeben; das Verfahren ist erfindungsgemäß da-Lösung
entfernt. 20 durch gekennzeichnet, daß man die sensibilisierte
Bimetallplatte bildmäßig belichtet, die nicht vom
Licht getroffenen Stellen von dem Metallträger ablöst,
die freigelegte Kupferschicht wegätzt und anschließend
die vom Licht gehärteten Stellen der Kolloidschicht
Bimetallplatten werden im Offsetdruckverfahren für 25 mit einer Lösung entfernt.
den Druck sehr hoher Auflagen — bis weit über eine Die Härtung von höhermolekularen Substanzen
Million — eingesetzt. Sie bestehen aus einem Träger- durch bestimmte lichtempfindliche Azidoverbindunmaterial,
meistens aus Aluminium, das galvanisch gen im Licht ist z. B. aus der deutschen Patentschrift
einseitig oder beidseitig verkupfert wird. Zur Her- 752 852 bekannt. Durch die Lichteinwirkung werden
stellung einer bimetallischen Druckform werden die 30 die höhermolekularen Substanzen in Gegenwart von
Bimetallplatten in den Druckereien bzw. Kopier- Azidoverbindungen unlöslich. Nach dem Belichten
anstalten in bekannter Weise auf Plattenschleudern können die vom Licht nicht getroffenen Stellen ausmit
einer lichtempfindlichen Kopierlösung beschichtet gewaschen werden, und man erhält von Diapositiven
und unter einem photographischen Negativ belichtet. negative Bilder. Für Druckwerke hat jedoch die Här-Die
nicht vom Licht getroffenen Stellen auf der Bi- 35 tung höhermolekularer Substanzen durch Azidometallplatte
werden mit einer geeigneten wäßrigen verbindungen in der Technik bisher keine Anwendung
Lösung durch Überwischen entfernt. Das derartig gefunden, weil die gehärtete Schicht schlecht Druckfreigelegte
Kupfer wird mit einer geeigneten Kupfer- farbe annimmt und nur geringe mechanische Festigkeit
ätze abgelöst, bis das Aluminium erscheint, während besitzt, so daß nur niedrige Auflagen gedruckt werden
an den Bildstellen die im Licht gehärtete Kopierschicht 40 können. Um Azidoverbindungen enthaltende lichtdas
Kupfer vor dem Angriff der Ätze schützt. An- empfindliche Schichten für die Herstellung von Offsetschließend
wird die gehärtete Kopierschicht mit ge- Druckformen anwenden zu können, hat man zwar
eigneten, meistens oxydierenden oder sauren Lösungen vorgeschlagen, nach dem Belichten die nicht belichentfernt
und die gesamte Plattenoberfläche mit fetter teten Stellen auszuwaschen, dann die freigelegten
Farbe überwischt. Die Kupferstellen nehmen gut 45 Metallstellen mit Lack zu überziehen und schließlich
fette Farbe an, gegebenenfalls nach einer Vorbehand- die gehärtete Schicht zu entfernen; da aber die erziellung,
welche die Oleophilie des Kupfers erhöht, wäh- baren Druckauflagen auch dann nicht sehr hoch sind,
rend das hydrophile Aluminium an den Nichtbild- hat auch diese Herstellungsweise keine technische Bestellen
die Farbe abstößt. Danach kann die Bimetall- deutung erlangt.
platte in eine Offsetdruckmaschine gespannt und der 5° Ein anderes Verfahren zur Herstellung von Druck-Druck
begonnen werden. formen für den Offsetdruck mit Hilfe von Kolloid-Das beschriebene Verfahren hat jedoch einige schichten, die durch Azidoverbindungen lichtempfind-Nachteile,
die vor allem auf den heute verwendeten lieh gemacht worden sind, ist in der deutschen Patentlichtempfindlichen Kopierschichten beruhen. Diese schrift 838 699 beschrieben. Danach erhält man ziem-Kopierschichten
bestehen aus Kolloiden und Chro- 55 lieh widerstandsfähige Druckformen, wenn man nach
maten bzw. Dichromaten als Sensibilisator. Kopier- dem Belichten unter einem photographischen Negativ
schichten, welche Chromate bzw. Dichromate ent- und nach Entfernung der nicht vom Licht getroffenen
halten, werden nicht nur im Licht, sondern auch in Schichtteile die Druckform der Einwirkung höherer
völliger Dunkelheit innerhalb weniger Stunden ge- Temperaturen, vorteilhaft zwischen 200 bis 4000C,
härtet. Daher sind derartige Chromat-Kopierschichten 60 aussetzt. Dieses Verfahren hat jedoch den Nachteil,
nicht lagerfähig, dürfen also erst kurz vor dem Be- daß man sehr hohe Temperaturen anwenden muß,
lichten auf der Druckplatte sein. Infolgedessen ist um das für den Druck nötige Bild auf der Druckform
eine lagerfähige, vorsensibilisierte Bimetallplatte noch zu erhalten. Außerdem ist die Druckauflage thermisch
unbekannt. Auch sind die Kolloid-Chromat-Kopier- behandelter Druckformen mäßig. Sie liegt unter
schichten nach dem Belichten nicht immer vollkommen 65 100 000.
klar entwickelbar, sondern neigen zur Bildung von Für das erfindungsgemäße Verfahren sind organi-
Schleiern, die bei der weiteren Verarbeitung, z. B. sehe, aromatische Azidoverbindungen verwendbar,
beim Ätzen, stören und unter Umständen die Druck- welche imstande sind, organische Kolloide im Licht
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEK0050293 | 1963-07-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1447012A1 DE1447012A1 (de) | 1968-11-07 |
DE1447012B2 true DE1447012B2 (de) | 1972-12-21 |
Family
ID=7225567
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19631447012 Pending DE1447012B2 (de) | 1963-07-20 | 1963-07-20 | Negativ arbeitende, sensibilisierte kupfer-aluminium-bimetallplatte |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
AT (1) | AT251011B (de) |
BE (1) | BE650721A (de) |
CH (1) | CH446067A (de) |
DE (1) | DE1447012B2 (de) |
GB (1) | GB1013332A (de) |
NL (1) | NL6407874A (de) |
SE (1) | SE333503B (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2716422A1 (de) * | 1976-04-14 | 1977-11-03 | Komoto & Co Ltd | Trockensystemelement zur bildherstellung |
-
1963
- 1963-07-20 DE DE19631447012 patent/DE1447012B2/de active Pending
-
1964
- 1964-07-10 NL NL6407874A patent/NL6407874A/xx unknown
- 1964-07-15 GB GB2913164A patent/GB1013332A/en not_active Expired
- 1964-07-17 CH CH941664A patent/CH446067A/de unknown
- 1964-07-17 SE SE875564A patent/SE333503B/xx unknown
- 1964-07-17 BE BE650721A patent/BE650721A/xx unknown
- 1964-07-17 AT AT617564A patent/AT251011B/de active
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2716422A1 (de) * | 1976-04-14 | 1977-11-03 | Komoto & Co Ltd | Trockensystemelement zur bildherstellung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BE650721A (de) | 1965-01-18 |
CH446067A (de) | 1967-10-31 |
NL6407874A (de) | 1965-01-21 |
SE333503B (de) | 1971-03-15 |
DE1447012A1 (de) | 1968-11-07 |
AT251011B (de) | 1966-12-12 |
GB1013332A (en) | 1965-12-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
SH | Request for examination between 03.10.1968 and 22.04.1971 |