SU948301A3 - Светочувствительный материал дл получени изображений - Google Patents

Светочувствительный материал дл получени изображений Download PDF

Info

Publication number
SU948301A3
SU948301A3 SU772470055A SU2470055A SU948301A3 SU 948301 A3 SU948301 A3 SU 948301A3 SU 772470055 A SU772470055 A SU 772470055A SU 2470055 A SU2470055 A SU 2470055A SU 948301 A3 SU948301 A3 SU 948301A3
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
layer
film
metal
substrate
light
Prior art date
Application number
SU772470055A
Other languages
English (en)
Inventor
Мориуа Такео
Ямагата Тоси
Original Assignee
Кимото Энд Ко,Лтд (Фирма)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Кимото Энд Ко,Лтд (Фирма) filed Critical Кимото Энд Ко,Лтд (Фирма)
Application granted granted Critical
Publication of SU948301A3 publication Critical patent/SU948301A3/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/34—Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away
    • G03F7/346—Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away using photosensitive materials other than non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/04—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed mechanically, e.g. by punching
    • H05K3/046—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed mechanically, e.g. by punching by selective transfer or selective detachment of a conductive layer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

Союз Советских Социалистических Республик
Государственный комитет СССР по делам изобретений и открытий
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
К ПА ТЕНТУ (61) Дополнительный к патенту - (22) Заявлено 14.04.77 (21)2470055/23-04 (23) Приоритет - (32)14.04.76 (31) 51-42083 (33) Япония
Опубликовано 30.07.82. Бюллетень№ 28
Дата опубликования описания зо. о 7.82
(..)948301 (51) М. Кл?
G03 С 1/72 (53) УДК 771.5 (088.8)
(72) Авторы изобретения
Иностранцы Такео Мориуа и Тоси Ямагата • (Япония) (71) Заявитель
Иностранная Фирма Кимото Энд Ко,ЛТД (Япония )
I ---
л 1:,г·'··л:- ··, .. .. i
! « П-?:·..л/. ·· ί
(54) СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫЙ МАТЕРИАЛ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ИЗОБРАЖЕНИЙ ί
Изобретение относится К светочувствительным материалам, предназначенным для получения изображения и мо-! жет быть использовано в химико-фото-f $ графической промышленности, полиграф фии, рекламе, при получении фотошаблонов в фотолитографии, при получении' металлических электропроводящих рисунков в радиотехнике и электро- fQ нике и в Других Отраслях техники.
Известен светочувствительны»· материал для получения изображений, состоящий из полиэтилентерефталатной подложки, промежуточного слоя, <5 выполненного из винилиденхлорида, ц фотополимеризуклцегося слоя, вклЮчающего пленкообразующий компонент, мономер, фотоинициатор, ингибитор и краситель. В качестве пленкообра- 2о зующего соединения рекомендован метиленхлорид, в качестве фотоинициатора - антрахинон. В результате экспонирования известного материала облученные участки фотополимеризую- 25 щегося слоя уменьшают свою адгезию к подложке и могут быть удалены ' за счет разницы в адгезии по сравнению с необлученными участками. · В результате на подложке остается окрашенное позитивное рельефное изображение Γι 1.
Недостатком указанного материала является то, что изображение, об? разованное красителем в оставшихся участках слоя, обладает низкой оптической плотностью и низким контрасттом, что не позволяет использовать такой материал, например, в качестве фотошаблонов. Кроме того, полученное прокрашенное полимерное изображение обладает очень низкой электропроводностью, в то время как в некоторых областях техники имеется необходимость получать металлические изображения с высокой электропроводностью (например, при изготовлении радиосхем).
Цель изобретения - получение металлического изображения и повышение оптической плотности и контрастности изображения.
Поставленная цель достигается тем, что в светочувствительном материале для получения изображений, состоящем из подложки, промежуточного слоя и фотополимеризующегося слоя, включающего пленкообразующий компонент и фотоинициатор, промежу-?
точный спой материала выполнен из металла, выбранного из ряда Αί, Ag , Ni, Си, напыленного в вакууме . или осажденного электролизом, а .
в фотополимеризующемся слое в качестве пленкообраэующего компонента используют Αί, при этом в качестве фотоинициатора используют В4, либо в качестве пленкообразующего компонента - А^, а в качестве фото-» инициатора В^_,где Αι - поливинил,хлорид,сополимер винилхлорида и ви-, нилацетата, поливинилбутираль, полй-» 'виниловый спирт; В^ - азосоединение или соль диазония; A<j - тройной сополимер винилхлорида. винилацетата и ангидрида малеиновой кислоты,* Β(χ - бензофенон, хиноновое соединение, азосоединение или соль диазония, при этом соотношение компонентов в фотополимеризующемся слое следующее, вес.ч:
Aj 10-50.
В^ 0,2-0,8 либо
Аа .20
0,8-2,0
Материал для получения изображений согласно изобретению включает плотную подложку с мягкой поверхностью, тонкий промежуточный слой из металла (ниже обозначаемый металлическим слоем) и фотополи меризующийся слой, содержащий полимерное пленкообразующее вещество и фотоинициатор, при этом фоточувствительный слой в состоянии уменьшить 3:
прилипание друг к другу поверхности металлического слоя и фоточувствительного слоя после воздействия света·. Таким образом, при воздействии света на материал согласно изоб· 40 ретению через маску желательного ,рисунка прилипание металлического слоя к облученному участку фотополи· мериэующегося слоя уменьшается, при* чем эта адгезионная способность 45 не изменяется относительно необлученного участка. После снятия фоточувс|вительного слоя на подложке остается металлический рисунок, соответствующий облученному участку, однакФ необлученный участок металлического слоя удален. В этой связи существен-, но важным является, чтобы прилипание связующего вещества к металлическом^ слою было сильнее прилипания металлического слоя к субстрату. 53
К подложкам, применяемым согласий Изобретению, относится целый ряд веществ, способных нести на себе тонкйй металлический слой, таких как пленкообразующий термопластичный поли- ^0 мерный продукт,стекло или металл.
К термопластичным материалам относятся различные синтетические смолы, например, полиэфиры такие как полиэтилентерефталат, поликарбонаты, 65 полиолефины, такие как полипропилен, ПВХ, полистирол, полиметилметакрилат и их сополимеры, а также производные целлюлозы, например диацетилцеллюлоза, триацетилцеллюлоза, пропилцеллюлоза и смешанные сложные эфиры целлюлозы. Применение могут также найти и иные листовые продукты, например бумага, тканая ткань и нетканая ткань, которые были покрыты вышеприведенным пленкообразующим продуктом.
В подложку могут быть добавлены различные добавки (пигменты, красители и наполнители) с целью придания непрозрачности, окраски и способное·? ти принимать шрифт.
Тонкометаллический слой на поверхности субстрата может быть нанесен, например покрытием в вакууме (напылением и катодным разбрызгиванием), нанесением химическим путем или же комбинацией последнего с электролитическим способом. Толщина металлического слоя предпочтительно составляет более 10 ммк. Более тонкий слой не обладает достаточной максимальной оптической плотностью, так что полученное на подложке изображен ние почти не видно. Хотя верхний предел толщины и не является критическим, как правило, применяют толщины до 1000 ммк, предпочтительно от 20 до 500 ммк. Для особых целей, например для получения печатных плат, успешно применяют металлический' слой, толщиной более 1000 ммк.
Среди различных металлов, пригодных для нанесения покрытия в вакууме, наиболее предпочтительными являются цинк и алюминий, Менее предпочтительными являются серебро, медь и никель.
Нанесение металла химическим путем может быть осуществлено обычным способом сенсибилизацией подложки и активацией с последующим, погружением в водный раствор, содержащий металлическую соль и восстановитель, с целью отложения всего металлического слоя на субстрате. Для этого пригодны медь, никель, серебро.
В общей сложности способ нанесения в вакууме является более предпочтительным относительно электролитического или химического способов за счет возможности применения широкого спектра металлов, проведения реакции простым способом с большой скоростью при полном отсутствии или же небольшого лишь количества отходов металла, Фотополимеризующийся слой включает пленкообраэующий компонент и фотоинициатор. Поскольку слой снимают с подложки по осуществлении печати, важно, чтобы пленкообразующее вещество обладало хорошей пленкообразующей способностью при высокой прочности полученной пленки, кроме того, материал предпочтительно выбирается не блокирующим во избежание блокировки уложенных стопками элементов при хранении или работе с ними.
К пленкообразукщим веществам, пригодным для применения согласно' иэоб- 5 ретению, относятся вышеуказанные синтетические смолы.
Как правило, пленкообразующий компонент применяют в виде раствора в соответствующем органическом раст- ю ворителе, к которому можно, например, отнести метилэтилкетон, толуол, циклогексанон, метанол, этанол, изопропанол, метилцеллозольв, этилцеллозольв и целлозольвацетат.
При выборе растворителя следует следить за тем, чтобы растворитель растворял применяемый фотоинициатор, но не растворял подложку и не давал ей набухать. 20
Если в качестве пленкообразукще- . го вещества применять поливиниловый f спирт, то пригоден его водный раст- ’ вор, ПВХ и полиуретан можно использовать также в виде эмульсии или диен Персии. 25
Важно, чтобы была выбрана надлежащая комбинация фотоинициатора с пленкообразующим веществом в целях уменьшения в достаточной мере прилипания поверхности металлического слоя к облученному участку фотополн* меризующегося слоя по воздействии световых лучей на элемент .(Заявлен/ные комбинации фотоинициаторов с плен· кообразующими компонентами указаны 35 выше).
Раствор в растворителе, водный раствор или эмульсию, содержащие фотоинициатор и пленкообразующий компонент, можно наносить на металлический слой на подложке любой техникой покрытия,, включая обычные Способы обратимого покрытия, гравировочного.: и роликами. Содержание твердых веществ такого покрывного материала ί колеблется в зависимости от применяемого способа покрытия и количества наносимого материала, составляя обыч, ’но 5-30 вес.%. Покрывной материал наносят в таком количестве, чтобы толщина высохшего фотополимеризующегося слоя составляла 0,5-100 мк. Предпочтительно 2-20 мк.
В фотополимеризующийся слой можно добавлять любой краситель и пигмент; пока они не будут оказывать отрицательного действия на прозрачность и фотосенсибилизирующее действие получаемого фоточувствительного слоя. В частности, может быть добавлен твёрдый пигмент, дающий матовый слой, пригодный для нанесения чертежной туши и типографской краски. На таком материале пишут без трудностей от руки или пишущей машинкой, получая требуемый рисунок, который репро15 дуцируют в виде металлического изображения на субстрате по воздействии на элемент световых лучей.
По желанию материал может быть оснащен поверх фотополимеризующегося слоя слоем-носителем для повышения ’механической прочности снимаемого затем слоя. Следовательно, предпочтительным является применение прозрачного слоя (пленкообразующий или тер« мопластичный полиэфир, полипропилен, полиамид, ПВХ или сложный эфир целлюлозы, прозрачная бумага или бумага, насыщенная синтетической смолой ).
Материал для получения изображений согласно изобретению подвергается воздействию световых лучей через желательный рисунок или растр, фотополимеризующийся слой снимают, после чего на подложке получают изображение из металла, соответствующее облученным участкам, в качестве источника света принимают источник, излучаю- ; щий лучи от ультрафиолетовых до видимых короткого диапазона волн*; Так j например, предпочтительными источниками света являются угольная дуговая лампа, ртутная дуговая лампа высокого давления или люминесцентная аргоновая лампа, хотя применение могут найти также и вольфрамовая, ксеноновая дуговая, ртутная дуговая или металлгалогенная лампы. Самым дешевым источником света является солнце. Про-, должительность воздействия света на элемент для получения изображений зависит от конкретного состава фоточувствительного слоя, диапазона волн источника света и расстояния от него. Обнаружено, что, например, 30 с является удовлетворительным сроком для угольной дуговой лампы 3,0 кВт при расстояние 50 см.
На ^фиг.1 представлен предлагаемый материал для получения изображений, поперечный разрез; на фиг.2 - состояние фотополимеризующегося слоя, снятого после воздействия световых лучей с целью ийи рисунка получения изображения из .металла на субстрате.
(фиг.1) для получения включает подложку 2 меслой 3 и фотополимериМатериап подвергаSO
Материал :изображений таллический зующийся слой 4 ют воздействию световых лучей через маску М, имеющую желательный рисунок-негатив, при этом прилипание поверхностей экспонированного участка и металлического слоя друг к другу уменьшено, Таким образом, по снятию слоя на подложке получают метал• лический рисунок 5, соответствующий облученному участку, а на фоточувствительном слое - металлический рисунок 6, соответствующий необлученному учёстку, иными словами на под65 ложке получают рисунок-позитив, а . 7 на снятом фоточувствительном слоерисунок-неГатив.
Полученный таким образом на подложке металлический рисунок используют в самых разных целях, например в качестве промежуточных_или Вторичных оригиналов, литографических пластин, пленок для обработки, печатных, плат, .оригинальных копий для проекции и воспроизведения, электродов для электролюминесценции и маркировок.
Обнаружено также, что уменьшение прилипания слоев облученного участка и металла друг к другу можна снова повысить путем термообработки мате- ,5 риала. Поэтому после нагрева Материала для получения изображений, подвергнутого воздействию световых лучей, весьфотополимериэующийся слой мЬжно снова подвергнуть воздействию света с последующим удалением фотополимеризующегося слоя в целях получения обратного рисунка из металлического слоя на подложке в соответствии с первоначальным необлученным участком.' ' '
Следует следить затем, чтобы температура и срок нагрева не слишком разрушали необлученный фотоини-* циатор. 30
Таким образом возможно выбирать ; либо негативно-позитивный либо позитивно-позитивный способ получения требуемого металлического рисунка на подложке.
Изобретение проиллюстрировано, в частности, на листовом материале, однако материал на сухой системе для получения изображений также может . быть вТяполнен любой сложной трехмер· ной формы, например, на следующих ступенях: нанесением тонкометалличейкого слоя на трехмерное тело; нанесением. фоточувствительного состава на металлический слой и сушкой с получением фоточувствительного слоя) на- ·, несением на фоточувствительный слой желательного светозащитного рисунка, например, черной краски.
Полученный таким образом материал подвергают воздействию света, затем снимают фотополимериэующийся слой, получая металлический рисунок на трехмерном теле. Изделие, в част1ности, пригодно для воспроизведения в электролюминесцентных устройствах.
Конкретные примеры получения пред-. Яагаемого материала приведены ниже (11 .Вес.ч. соответствует 1 г) .
Пример 1. 20 вес.ч сополимера 86% винилхлорида, 13% винилацетэта и 1% ангидрида малеиновой кислоты (поставляется Union Carbide Corporation, Нью-Йорк,· США, под торговым знаком Vinnylite VMOH), 0,8 вес.ч. хлористого цинк 4-(р-толил10 ,8 z меркапто)-2,5-диэтоксибенз0л-диазо-( (ния (поставляется Kabushiki Kaisha 1 Daito Kogyosho, Токио, Япония, под торговым знаком ’WM -1500)' растворяют в 80 вес.ч метилатилкетона с получением фотополимериэующегося состава, содержащего 20,63% твердого материала.
На поверхность слоя из полиэтилентерефталатной пленки толщиной; 100 мк путем напыления в вакууме , наносят алюминиевый слей (100 мкм), на который·наносят фотополимёризуЬщийся состав, и высушивают при 90® С с получением слоя толщиной 5 мк. !
На фотополимериэующийся слой налагают оригинал-негатив, все вместе! подвергают воздействию света от ( угольной дуговой лампы, установлен-* ной на расстоянии 80 см, на протя-: жении 30 с. После незамедлительного удаления фотополимеризующегося слоя получают резкий алюминиевый рисунокнегатив на полиэфирной пленке и рит сунок-позитив на фоточувствительной пленке.
Рисунок-негатив обладает разрешающей способностью 72 л/мм, плотностьюВпхагЗ, 5, высокой контрастностью(γ =20) и хорошей воспроизводимостью. Изделие пригодно для применения в качестве пленки для воспроизведения.
Пример 2. Аналогично примеру 1 получают фотополимеризующийся состав, за исключением того, что применяют 0,8 вес.ч хлористого цинк 4~(п -метоксибензоиламино)-2,5диэтоксибензол-диазония.
На поверхность пленки из поли·* этилентерефталата толщиной 12 мк 40 наносят Испарением в вакууме слой цинка (80 ммк), на который наносят фотополимериэующийся состав, который сушат 1 мин при 90°С с образованием слоя в 9 мк.
Полученный таким образом материал подвергают воздействию света аналогично примеру 1, получая резкий цинковый рисунок-негатив на субстрате, а на фоточувствительном слое рисунок - позитив.
Пример 3. 29 вес.ч. {применяемого в примере 1 сополимера и 2,0 вес.ч. 1,4-нафтохинона раст-. воряют в смеси 40 вес.ч. метилэтилкетона, 35 вес.ч. толуола и 5 вес.ч. циклогексанона, получая 21,57%-ный фоточувствительный состав.
На Пленку из диэтилцеллюлозы толщиной 75 мк напылением в вакууме наносят слой алюминия (50 ммк), на который наносят фотополимеризующийся .состав, который сушат 2 мин при 90°С, получая слой в 10 мк.
Оригинал-позитив помещают на фоточувствительный слой, все вместе подвергая воздействию света с приме35 «0 мнением электрографической машины Ricopy 1500 (поставляется Rice Со, Ltd, Токио- Япония), оснащенной ртутной дуговой лампой 1500 Вт при . продолжительности печати Ю по шкале,
По удалении фоточувствительного I слоя получают резкий алюминиевый рисунок-негатив на подложке.
П-Р и м е р 4- 20 вес.ч. сополимера 87% винилхлорида и 13% винилацетата (поставляется под торговым знаком Vinylite VYHH!) и 0,8 вес.ч. хлористого цинк 4-(п -толилмеркапто) 2,5-диэтоксйбенэол-дйазо'ния растворяют в смеси 40 вес.ч. метилэтилкетона и 40 вес.ч. толуола* получая : 20,63%-ный фотополимеризуквдийсясос.. >тав. . .
Фотополимеризующийся состав наносят на серебрянный слой (50 ммк/’ на· стеклянной пластине и сушат горячим воздухом при 9 0°С в течение 2 мин, получая фотополимеризующийся слой в 9 мк.
Аналогично примеру 1 полученный материал подвергают воздействию света через оригинал-позитив, получая ' серебряный рисунок-негатив на стек-ί лянной пластине, предварительно удалив фоточувствительный слой.
П р и. м е р 5. Пленку из полиэтилентерефталата толщиной 100 мк погружают в сенсибилизирующую ванну на 3 мин, тщательно промывают водой, затем погружают в активирующую ванну на 3 мин и тщательно промывают проточной водой, наконец по- 35 гружают в ванну для нанесения покрытий на 2 мин. получая слой толщиной 50 ммк.
Сенсибилизирующая ванна, вес.ч. SnCln10
НС140
Нг01000
Температура,°C 25 Активирующая ванна, вес.ч.
PdCla0,5
НС1 35
Н^О1000
Температура,°C 23 Ванная для нанесения покрытий, вес,ч.
i
40
Цитрат натрия Гипофосфат 24
натрия 20
Ацетат натрия 14
Хлористый аммо-
ний 5
НлО До 100
Фотополимеризующийся состав
, полученный в примере 2, наносят на полученный слой. Полученный таким ' образом материал подвергают воздействию света с применением оригиналапозитива и машины примера 3 (значение по шкале 5). Получают резкий рисунок-негатив на полиэфирной пленке по удалении фоточувствительного слоя.
Прим ер 6. 20 вес.ч. сополимера 1 и 2 вес.ч. бензофенона.растворяют в 80 вес.ч. метилэтилкетона, ,получая фотополимериэующийся состав. ' Путем напыления в вакууме на одну сторону полиэтилентерефталатной пленки (100 мк) наносят алюминиевый слой (100 ммк), на другую сторону - смесь из 10 вес.ч. желтого флоуресцентного пигмента, 5 вес.ч. линейной полиэфирной смолы, 38 вес.ч. метилэтилкетона и 15 вес.ч. циклогексанона , затем сушат и получают желтое покрытие толщиной 10 мк.
.фотополимеризующийся состав наносят 1 на алюминиевый слой и сушат~по примеРУ 2. ·
На покрытие наносят оригинал-по2Q зитив и подвергают воздействию света с применением машины примера 3 (значение шкалы 2).
По снятии покрытия получают алюм миниевый рисунок-негатив в серебре на Пленке желтой флуоресценции. Продукт пригоден таким образом для рекламных целей.
• Прим ер 7. На одну сторону полиэтилентерефталатной пленки (188 мк ) наносят слой алюминия в 30 400 ммк вакуумнымвыпариванием, затем покрывают фотополимериэующимся составом по примеру 1.
На фотополимеризующийся слой помещают белый растр-негатив (300 штрихов/ инч) , все вместе затем подвергают воздействию света с применением· пневматического печатающего устройства, оснащенного угольной дуговой лампой 3 кВт в течение 30 с на расстоянии 30 см. Затем фотополимеризующийся слой удаляют, получая алюминиевый растр—позитив на пленке.
Изделие пригодно для применения в качестве прозрачного электрода эластичного электролюминесцентного листового материала..
Пример 8. Путем смешения
Зес.ч. сопоЛимера примера
1,1 вес.ч. г^-ди^'-аэидобензаль)· циклогексанона, 40 вес.ч. метилэтилкетона и 40 вес.ч. толуола получают 20,75%-ный фотополимеризующий состав. На одну сторону полиэтилентерефталатной пленки :(100 мк) путем вакуумного выпариваний наносят слой алюминия (100 ммк), на который наносят фотополнмеризующий состав с последующей сушкой в течение 1 мин при 90^С с получением покрытий - толщинЪй 5 мк.
Раствор 15 вес.ч. ацетилбутилцеллЮлозы в 60 вес.ч. толуола и 25 вес.ч метанола наносят сверху и сушат 2 мин при 90°С с целью образования армиру-4 : ющего слоя толщиной 15 мк.
Материал подвергают воздействию света вместе с оригиналом-позитивом, применяя машину примера 3 (значение по шкале 1,5). После удаления покрытий получают алюминиевый рисунок-негатив на полиэфирной пленке 5 и рисунок-позитив на фоточувствительном слое.
П р и. м е р · 9. Японскую шелковую бумагу (поставляется Mitsubishi Paper Mills Ltd., Токио, Япония, под 10 торговым знаком Kyokuryu) с алюминиевым и фотополимериэующимся слоем по примеру 8 сушат при 60°С в течение 3 мин.
На пишущей машинке пишут письма 15 на стороне, покрытой шелковой японской бумагой, затем подвергают воздействию световых лучей-с применением ; машины примера 3 в течение 30 с. По удалении фоточувствитель'ного слоя ποлучают алюминиевый рисунок-негатив · напечатанных на машинке писем на полиэфирной пленке.
П риме р 10. Фоточувствительный состав получают путем растворения 20 вес.ч. поливинилового спирта ( поставляется Toa Gosеi Chemical, Chemical Industry Co; Токио, Япония, под торговым знаком NK-20) и 0,8 вес.ч. 4-(п-толилмеркапто)- .. -2,5-диэтоксибензол-диазоний-тет” 30* рафторбората в 180 вес.ч. Н^О при содержании твердых веществ 10,36%.
Алюминий наносят толщиной 100 мк путем вакуумного нанесения на полипропиленовую плёнку двухосной ориен- 35 тации толщиной 75 мк. Фотополимери- , зующийся слойнаносят на алюминиевый слой и сушат горячим воздухом при 100°С-в течениеТ мин, получая фотополимери зующийся слой толщиной 3 мк. 40
На фотополимеризующийся слой налагают оригинал-позитив, все вместе подвергая воздействию света от ксеноновой дуговой лампы мощности·^ кВт, установленной на расстоянии 100 см, ^45 в течение 3 мин. Фотополимеризующийся слой удаляют, получая алюминиевый рисунок-негатив на пленке и рисунок позитив на фоточувствительном CJIOG «
Пр и мер 11. На одну сторону э полиэтилентерефталатной пленки толщиной 50 мк, пигментированной газовой сажей, наносят слой алюминия (70 ммк ) путем напыления в вакууме, на другую сторону - акриловый адге- 55 зйонный агент, чувствительный на давление (поставляется Nippon Сагqp.de Industries Со, Ltd,. Токио, Япония, под торговым знаком Nissetsu PEIISA) толщиной в 30 мк, сверху 60 накладывается лист съемной бумаги.
На алюминиевый слой наносят фоточувствительный состав по примеру 1, /затем нагревают горячим воздухом при 906С в течение 1 мин, получая 65 фотополимеризующийся слей ТОЛЩИНОЙ 5 мк.
На полученный таким образом материал налагают оригинал-негатив, все вместе подвергая воздействию света .аналогично примеру 1. По удалении фоточувствительного слоя на черной ! пленке получают рисунок-позитив се-: ребряного оттенка. Изделие может быть прикреплено к желательному месту в качестве маркировки или ярлыка по удалении съемного листа бумаги.
П р им е р 12. Фотополимеризукщийся состав, содержащий 1U,18% твердых веществ, получают растворением 10 вес.ч. поливинилбутираля, содержащего 3% ацетильных групп, 65+3% бутиральных групп и 35±5% гидроксильных групп, и 0,2 вес.ч» хлористого цинк 4-(п -толилмеркапто)-2,5-диэтоксибензол-диазония в смеси 45 вес.ч. метилэтилкетона, 27 вес.Ч1 толуола и 18 вес.ч. циклогексанона.
На полиэтилтерефталатную пленку (100 мк) вакуумным выпариванием наносят слой алюминкя (100 ммк), на который наносят фотополимеризующийся состав, затем1 мин сушат при ?0°С, {получая фотополимеризующийся слой ! толщиной 5 мк. ί ' с применением машины по примеру 3 (значение по шкале 5) материал подвергают воздействию света вместе с оригиналом-позитивом, затем снимают фотополимеризующийся слой и получают на пленке алюминиевый рисунок-негатив, Изделие·· пригодно для литографьи в качестве пластины.
При м е р 13. Фотополимеризующийся состав получают растворением 0,4 вес.ч. натриевой соли 1,2-диазонафтол-5-сульфокислоты в 50 вес.ч. эмульсии ПВХ (поставляется Nisshin 1 Chemical Industries Со, Ltd, Токио, Япония, под торговым знаком Vinyblane 320) .
На полиэтилентерефталатную плёнку (100 мк ) вакуумным выпариванием наносят слой алюминия толщиной . 100 ммк, затем наносят фотополимеризующийся слой и сушат 30 с при 100°C, получая слой толщиной 3' мк .
На этот слой с помощью акрильного адгезионного слоя (поставляется Nippon Carbide Influctries Со, Ltd, под торговым знаком ”Nissetsu;PE115A) наносят 12 мк полиэтилентерефталатной пленки, получая материал для получения изображений.
Аналогично примеру 1 материал подвергают воздействию света, затем удаляют фотополимеризующийся слой, получая на пленке рисунок-негатив.
Поскольку фотополимеризующийся слой армирован слоистой пленкой, он обладает повышенной механической , прочностью и Операция снятия Фото13 полимеризующегося слоя не представляет трудностей. Полученный элемент пригоден для применения в крупногабаритном исполнении, полученный рисунок-позитив на фоточувствительном слое применяют в различных целях.

Claims (2)

  1. Изобретение относитс  к светочувствительным материсшам, предназначв ным дл  получени  изображени  и может быть использовано в химико-фото графической промышленности, полигра фии, рекламе, при получении фотошаб нов в фотолитографии, при получении металлических электропровод щих рисунков в радиотехнике и электронике и в Других отрасл х техники. Известен светочувствительны материал дл  получени  изображений, состо щий из полиэтилентерефталатной подложки, промежуточного сло , выполненного из винилиденхлорида, ц фотополимеризующегос  сло , включающего пленкообразующий компонент, мономер, фотоинициатор, ингибитор и краситель. В качестве пленкообразующего соединени  рекомендован метиленхлорид, в качестве фотоинициатора - антрахинон. В результате экспонировани  известного материала облученные участки фотополимеризующегос  сло  уменьшапт свою адгезию к подложке и могут быть удалены за счет разницы в адгезии по сравнению с необлученнь ми участками. В результате на подложке остаетс  окрашенное позитивное рельефное изображение TilНедостатком указанного материала  вл етс  то, что изображение, обг разованное красителем в оставвюхс  участках сло , обладает низкой оптической плотностью и низким контрасттом , что не позвол ет использовать такой материал, например, в качестве фотошаблонов. Кроме того, полученное прокрашенное полимерное изображение обладает очень низкой электропроводностью , в то врем  как в некоторых област х техники имеетс  необходимость получать металлические изображени  с высокой электропроводностью (например, при изготовлении радиосхем). Цель изобретени  - получение металлического изображени  и повышение оптической плотности и контрастности изображени . Поставленна  цель достигаетс  тем, что в светочувствительном материале дл  получени  изображений, состо щем из подложки, промежуточного сло  и фотополимеризующегос  сло , включающего пленкообразующий компонент и фотоинициатор, промежу-г точный слой материала выполнен из металла, выбранного из р да А1, Zn Ag, Ni, Си, напыленного в вакууме . или осажденного электролизом/ а . в фотополимеризующемс  слое в качестве пленкообразующего компоненте используют А, при этом в качестве фотоинициатора используют В, либо в качестве пленкообразугощего компонента - Arj, а в качестве фото- инициатора В(з,где At - поливинил (хлорид,сополимер винилхлорида и винилацетата , поливинилбутираль, поли виниловый спирт; В - азосоединение или соль диазони ; Aij - тройной со полимер винилхлорида, винилацетата и ангидрида малеиновой кислоты, Bfj - бензофенон, хиноновое соединение , азосоединение или соль диазони , при этом соотношение компонентов в фотополимеризующемс  слое следующее, вес.ч: А 10-50. 0,2-0,8 АО ,20 В О, 8-2, О Материал дл  получени  изображений согласно изобретению включает плотную подложку с м гкой поверхностью , тонкий промежуточный слой из металла (ниже обозначаемый металлическим слоем) и фотополимеризующийс  слой, содержащий полим ное пленкообразующее вещество и фотоинициатор , при этом фоточувствительный слой в состо нии уменыоить прилипание друг к другу поверхности металлического сло  и фоточувствительного сло  после воздействи  света-. Таким образом, при воздействии света на материал согласно изоб ретению через маску желательного ,рисунка прилипание металлического . сло  к облученному участку фотополи меризующегос  сло  уменьшаетс , при чем эта адгезионна  способность не измен етс  относительно необлуче ного участка. После сн ти  фоточувс вительного сло  на подложке остаетс  металлический рисунок, соответствующий облученному участку, однак необлученный участок металлического сло  удален. В этой св зи существен но важным  вл етс , чтобы прилипани св зующего вещества к металлическом слою было сильнее прилипани  металлического сло  к субстрату, К подложкам, примен емым согласи изобретению, относитс  целый р д ве еств, способных нести на себе тонк металлический слой, таких как пленкообразующий термопластичный полимерный продукт,стекло или металл. К термопластичным материалам OTHOOfl с  различные синтетические смолы, . например, полиэфиры такие как полиэтилентерефталат , поликарбонаты, полиолефины, такие как полипропилен, ПВХ, полистирол, полиметилметакрилат и их сополимеры, а также производные целлюлозы, например диацетилцеллкшоза , триацетилцеллюлоза, пропилцеллюлоза и смешанные сложные эфиры целлюлозы. Применение могут также найти и иные листовые продукты, например бумага, ткана  ткань и неткана  ткань, которые были покрыты вышеприведенным пленкообразующим продуктом, В подложку могут быть добавлены различные добавки (пигменты, красители и наполнители) с целью приданий непрозрачности, окраски и способнос-f ти принимать шрифт. Тонкометаллический слой на поверхности субстрата может быть нанесен , например покрытием в вакууме (напылением и катодным разбрызгиванием ), нанесением химическим путем или хсе комбинацией последнего с электролитическим способом. Толщина металлического сло  предпочтительно составл ет более 10 ммк. Более тонкий слой не о бладает достаточной максимальной оптической плотностью, так что полученное на подложке изображе ние почти не видно. Хот  верхний предел толщины и не  вл етс  критичесКИМ , как правило, примен ют толщины до 1000 ммк, предпочтительно от 20 до 500 ммк. Дл  особых целей, например дл  получени  печатных плат, успешно примен ют металлический слой, толщиной более 1000 ммк. Среди различных металлов, пригод ных дл  нанесени  покрыти  в вакууме, наиболее предпочтительными  вл ютс  цинк и алюминий, Менее предпочтительными  вл ютс  серебро, медь и никель. Нанесение металла химическим путем может быть осуществлено обычным способом сенсибилизацией подложки и активацией с последующим, погружением в водный раствор, содержащий металлическую соль и восстановитель, с целью отложени  всего металлического сло  на субстрате. Дл  этого пригодны медьJ никель, серебро. В общей сложности способ нанесений в вакууме  вл етс  более предпочти«ельным относительно электролитического или химического способов за счет возможности применени  широкого спектра металлов, проведени  реакции простым способом с большой скоростью при полном отсутствии или же неболього лишь количества отходов металла, Фотополимеризующийс  слой включает пленкообразующий компонент и фотоинициатор . Поскольку слой снимают с подложки по осуществлении печати, вгикно, чтобы пленкообразующее вещество облаало хорошей пленкообразующей способностью при высокой прочности полученной пленки, кроме того, материал предпочтительно выбираетс  не блокируквдим во избежание блокировки уложенных стопками элементов при хранеНИИ или работе с ними. К пленкообразуксцим веществам, при годным дл  применени  согласно иэобретеншо , относ тс  вышеуказанные синтетические смолы. Как правило, пленкообразующий компонент примен ют в виде раствора в соответствующем органическом раствррителе , к которому можно, например отнести метилэтйлкетон, толуол, циклогексанон , метанол, эташзл, изопропанол , метилделлозольв, этилцеллозольв И целлозольвацетат. При выборе растворител  следует следить за тем, чтобы растворитель раствор л примен емый фотоинициатор но не раствор л подложку и не давал ей набухать. Если в качестве пленкообразу вдего вещества примен ть поливиниловый спирт, то пригоден его водный раствор . ПВХ и полиуретан можно использовать также в виде эмульсии или дие Персии. Важно, чтобы была выбрана надлежаща  комбинаци  фотоинициатора с пленкообразующим веществом ь цел х уменьшени  в достаточной мере прили пани  поверхности металлического сло  к облученнсОТу участку фотополи меризующегос  сло  по воздействии световых лучей на элемент ,(За влен /ные комбинации фотоинициаторов с пле кooбpaзsm)щими компонентами указаны выше). Раствор в растворителе, водный раствор или эмульсию, содержащие фо инициатор и пленкообразующий компонент , можно наносить на металлический слой на подложке любой техникой покрыти ,, включа  обычные способы обратимого покрыти , гравировочного и роликами. Содержание твердых веществ такого покрывного материгша колеблетс  в зависимости от примен  мого способа покрыти  и количества наносимого материала, составл   обы но 5-30 вес.%. Покрывной материал н нос т в таком количестве, чтобы тол щина высохшего фотополимеризуюцегос сло  составл ла 0,5-100 мк. Предпоч тительно 2-20 мк. В фотополимеризуницнПс  слой можн добавл ть любой краситель и пигмент пока они не будут оказывать отрицательного действи  на прозрачность и фотосенсибилизирующее действие получаемого фоточувствительного сло В частности, может быть добавлен тв дый пигмент, дающий матовый слой, пригодный дл  нанесени  чертежной туши и типографской краски. На тако материале пишут без трудностей от руки или пишущей машинкой, получа  требуелвлй рисунок, который репродуцируют в виде металлического изображени  на субстрате по воздействии на элемент световых лучей. По желанию материал может быть оснащен поверх фотополимеризующегос  сло  слоем-носителем дл  повышени  механической прочности снимаемого затем сло . Следовательно, предпочтительным  вл етс  применение прозрачного сло  {пленкообразующий или тер мопластичный полиэфир, полипропилен, полиамид, ПВХ или сложйый зфир целлюлозы , прозрачна  бумага или бумага, насыщенна  синтетической смолой ). Материал дл  получени  изображений согласно изобретению подвергаетс  воздействию световых лучей через желательный рисунок или растр, фотополимеризукнцийс  слой снимают, после чего на подложке получают изображение из металла, соответствующее облученным участкам. Б ка естве источника света принимают источник, излучаю- ; щий лучи от ультрафиолетовых до видимых короткого диапазона Так I например, предпочтительными источниками света  вл ютс  угольна  дугова  лампа, ртутна  дугова  лампа высокого давлени  или люминесцентна  аргонова  лампа, хот  применение могут найти также и вольфрамова , ксенонова  дугова , ртутна  лугова  или металлгалогенна  лампы. Самым дешевым источником света  вл етс  солнце. Про-, должительность воздействи  света на элемент дл  получени  изображений зависит от конкретного состава фоточувствительного сло , диапазона волн источника света и рассто ни  от него. Обнаружено, что, например, 30 с  вл етс  удовлетворительныг сроком дл  угольной дуговой лампы 3,0 кВт при рассто ний 50 см. На фиг.1 предст-авлен предлагаемый материал дл  получени  изображений, поперечный разрез; на фиг.2 - состо ние фотополимеризук цегос  сло , сн того после воздействи  световых лучей с целью получени  изображени  иЛи рисунка из .металла на субстрате. Материал 1 СФиг.1) дл  получени  ;изображений включает подложку 2 металлический слой 3 и фотополимеризующийс  слой 4. материал подвергают воздействию световых лучей через маску М, имекиаую желательный рисунок-негатив , при этом прилипание поверхностей экспонированного участка и металлического сло  друг к другу уменьшено. Таким образом, по сн тию сло  на подложке получают металлический рисунок 5, соответствующий облученному упастку, а на фоточувствительном слое - металлический рисунок б, соответствующий необлученному уче1стку, иными словами на подложке получают рисунок-позитив, а На сн том фоточувствительном слоерисунок-негатив . Полученный таким образом на подложке металлический рисунок используют в самых разных цел х, например в качестве промежуточных или бторичных оригиналов, литографических пластин, пленок дл  обработки, печатных плат, .оригинальных копий дл  проекгщи и воспроизведени / электродов дл  элёктролюминесцеиции и маркировок. Обнаружено также, что уменыаенйе прилипани  слоев облученно го участк и металла друг к другу можнз снова повысить путем термообраСс ки материала . Поэтому после нагрева материала дл  получени  изображений, под вергнутого воздействию световых лучей , весь фотополимеризукадийс  слой мьжно снова подвергнуть воздействию света с последующим удалением фотоПол имеризук цегрс  сло  в цел х получени  овратного рисунка из металли 1е кого сло  на подложке в соответствии с Первоначальным необлученным участком . . . Следует следить за тем, чтобы температура и срок нагрева не сливгт ком разрушали веоблученный фотоиницйатор .; Таким образе возможно В1д1бирать либо негативно-позитивный либо позитивно-позитивный способ получени  .требуемого металлического рисунка на подложке. Изобретение проиллюстрировано, в частности, на листовом материале, однако материал на сухой системе дл  получени  изображений также может . быть вТ полнен любой сложной трехмерной формы, например, на следующих ступен х: нанесением тонкометалличей кого сло  на трехмерное тело; нанесе нием, фоточувствительного состава на металлический слой и сушкой с получё нием фоточувствительного сло ) нанесением на фоточувствительный слой желательного светозацитного рисунка , например, черной краски. Полученный таким образом материал подвергают воздействию света, затем снимают фотополимеризующийс  слой, получа  металлический рисунок на трехмерном теле. Изделие, в част ности, пригодно дл  воспроизведени  в электролкмиинесцентных устройсувах . Конкретные примеры получени  пред jjaraeMoro материала приведены ниже Ш..Вес.ч. соответствует 1 г) . Пример 1. 20 вес.ч сополимера 86% винилхлорида, 13% винилацетата и 1% ангидрида малеиновой кислоты (поставл етс  Union Carbide г Corporation, Нью-Йорк,-С01Л, под торговым знаком Vinnylite VMOH), 0,8 вес.ч. хлористого цинк 4-(р-толил|меркапто; -2,5-дизтоксибензбл-диазо-, нк  (поставл етс  Kabushiki Kaisha Daito Kogyosho, Токио, Япони , под торговым знаком Ж/W-1500 / раствор ют в 80 вес.ч метилатилкетона с получением фотополимеризуюсцегос  состава, содержа11цего 20,63% твердого материала. На поверхность сло  из полизтилентерефтёшатной пленки толщиной; 100 мк путем напылени  в вакууме , нанос т алюминиевый слей (100 мкМ, на которыйнанос т фотополимеризуЬщийс  составг и высуишвают при 90®С с получением сло  толщиной 5 мк. На фотОполймеризукн иЙс  слой йа-/ лагают оригий:ал-негат в, все вместе подвергaiiOT воздействию света от j угольной ДУГОВОЙ лампы, установленной на рассто нии 80 см, на прот -; жении 30 с. Йосле незамедлительного удалени  фотопрлимеризующегос  сло  получают резкий алюминиевый рисуноК негативна полиэфирной пленке и рит СУНОк-позитив на фоточувствительной пленке. .. Рисунок-неГатив облгшает разрешающей способностью 72 л/мм, плотйостью1 пх 3 ,5, высокой кОйтрастнрстью () и хорошей воспроизводимостью . Изделие пригодно дл  применени  в качестве пленки дл  воспроизв.едени . Пример 2, Аналогично примеру 1 получают фотополимериз5тащийс  состав, за исключением того, что примен ют 0,8 вес.ч хлористого цинк 4(г -метоксибензоиламино) -2,5дизтоксибензол-диазони . На поверхность плейки из поли этилентерефталата толщиной 12 мк йанос т Испарением в вакууме слой цинка (80 ммк), на который нанос т фотополимеризуюсщйс  состав, который сушат 1 мин при 90°С с образованием сло  в 9 мк. Полученный таким образом материал подвергают воздействию света аналогично пр меру 1, получа  резкий цинковый рисуйок-негатив на субстрате , а на фоточувствительном слое рисунок - позитив. Пример 3. 29 вес.ч. Г4)Имен емого в примере 1 сополимера и 2,0 вес.ч. 1,4-иафтохинона раст-, вор ют в смеси 40 вес.ч. метилэтилкетона , 35 вес.ч. толуола и 5 вес.ч. циклогексанона, получа  21,57%-ный фоточувствительный состав. На Пленку из диэтилцеллкшозы Долщиной 75 мк напштением в вакууме нанос т слой алюмини  (50 ммк), на который нанос т фотополимеризующийс  .состав, которал сушат 2 мин при , получа  слой в 10 мк. Оригинал-позитив помещают на фоточувствительный слой, все вместе подверга  воздействию света с приме: нением электрографической мго ины Ricopy 1500 {поставл етс  Rice Со, Ltd, Токио- Япони /, оснащенной ртутной дуговой лампой 1500 Вт при продолжительности печати 10 по шкал По удалении фоточубствительного сло  получают резкий алюминиевый рисунок-негатив на подложке. Пр и м е р 4. 20 вес.ч. сополи 87% винилхлорида и 13% винилацетата (поставл етс  цод торговым зцоаком Vinylite VYHH) и 0,8 вес.ч . хлсЯэистого цинк 4-Jri -толилмеркаптго 2,5-ди9то4ссив,е эол-дйд130ни  раствор ют в смеси 40 вес.ч. метк этилкеToira 9 40 вес.ч. т олуола,. получа  20, .фотополимеризующийс  сос -тав, Фотополимеризуюпшйс  состав на-, йсю т на серебр нный слой (,50 ммк/ Н4- стекл нной пластине и сушат гор  чим воздухом при: 90°С в течение 2 мин, получа  фотополимеризу1С1аийс  слой в 9 мк. А алЬгичво примеру 1 полученный материал подвергс т воздействию све та через оригинал-позитив, получа  серебр ный рисунок-негатив на стекл нной пластине, предварительно удалив фоточувствительный слой. И р и. м е р 5. Пленку из полиэтилентёрефталата толщиной 100 мек погружают в сенсибилизирунхцую ванну на 3 мин, пцательно прймывают водой , затем погружают в активирующую ванну на 3 мин и тщательно прс лыBatbT проточной водой, наконец погружают в ванну дл  нанесени  покры тий на 2 мин. получа  слой толщиной 50 ммк. Сенсибилизирующа  ванна, вес.ч. SnCln 10 НС140 HijO1000 ТемпераТура,С 25 Активирующа  ванна, вес.ч. PdClft0,5 НС1 5 tttlO1000 Температура, 23 Ванна  дл  нанесени  , вес,ч. Цитрат натри  24 Гипофосфат натри  20 Ацетат натри  14 Хлористый аммоний5 100 . Фотополимеризуквдийс  состав, по лученный в примере 2, нанос т на полученный слой. Полученный таким образом материал подвергают воздей ствию света с применением оригинал позитива и примера 3 (значе ние по шкале 5). Получают резкий ри сунок-негатив на полиэфирной пленк по удалении фоточувствительного сло , Прим ер 6. 20 вес.ч, сополимера 1 и 2 вес.ч. вензофенона.раствор ют в 80 вес.ч. мётиЛэтилкетона, получа  фотополимериЗУющийс  состав. Путем напылени  в вакууме на одну сторону полиэтилентерефталатной пленки (100 мк| нанос т сшюминиевый спой (,100 ммк/, на другую сторону - смесь из 10 вес.ч. желтого флоуресцент-; него пигмента, 5 вес.ч. линейной полиэфирной смолы, 38 вес.ч. метилэтилкетона и 15 вес.ч. циклогексанона , затем сушат и получают желтое покрытие толщиной 10 qc. отополимеризующийс  состав нанос т на алюминиевый слой и сушатпо примеРУ
  2. 2. На покрытие нанос т оригинал-позитив и подвергают воздействию света с применением машины Примера 3 (з начение шкалы 2). По сн тии покрыти  получают алюм миниевый рису :ок-негатив в серебре на йленк-э желтой флуоресценции. Продукт пригоден таким образом дл  рекламных целей. Прим ер 7. На одну сторону полиэтилентерефталатной пленки Ч188 мк ) нанос т слой алюмини  в 400 ммк вакуумшлм выпариванием, затеК покрывают фотополимеризуивдимс  соста вом по примеру 1. На фотополймеризующййс  слой помещают белый растр-негатив (300 штрихов/инч ), все вместе затем подвергают воздействию с применением пневматического печатающего устррйства , оснащенного угольной ;Е{уговой лампой 3 кВт в течение 30 с на рассто нии 30 сМ. Затем фотополимериЗУЮщийс  слой удал ют, получа  алю1киниевый растр-позитив на пленке. Изделие пригодно дл  применени  н качестве прозрачного электрода эластичного злектролюминесцентного листового материала.. . Пример 8. Путем смешени  .ч. сопоЛимера примера 1,1 вес.ч. 2,6-ди(4-азидобензаль) циклогексанона, 40 вес.ч. метилэтилкетона и 40 вес.ч. толуола получают 20,75%-ный фотополимеризующий состав. На одну сторону,полиэтилен терефталатной пленки i( 100 мк/ путем вакуумного выпариваний нанос т слой алюмини  (100 ммк), на котор« 1й нанос т фотополимеризующий состав с последующей сушкой в течение 1 мин при с получением покрытий толщинЪй 5 мк. Раствор 15 вес.ч. ацетилбутилцеллКшозы в 60 вес.ч. толуола и 25 вес.ч. метанола нанос т сверху и сушат 2 мин при 90°С с целью образовани  армиру-t . ющего сло  толщиной 15 мк. Материал подвергают воздействию света; вместе с оригиналом-позитивом машину примера 3 (значение по шкале 1,5К После удалени  покрытий получают алюминиевый рисунок негатив на полиэфирной пленке и рисунок-позитив на фоточувствительном слое. П р и. м ер- 9 о Японскую шелковую бумагу поставл етс  Mitsubishi Paper Mills Ltd., Токио, Япони , под торговым знаком KjfokuryuJ с алюми ниевым и фотополимериэуквдимс  слоем по примеру 8 сушат при 60°С в течение 3 мин. На пишущей машинке пишут письма на стороне, покрытой шелковой  понской бумагой, затем подверг «&amp;т Еоздей ствию световых лучей с применением машины примера 3 в течение 30 с. По .удалении фоточувствительного сло  по лгучают алюминиевый рисунок-негатив напечатанных на машинке писем на полиэфирной пленке. Приме р 1&amp;. Фоточувствительный состав получают растворени  20 вес.ч. поливинилового спирта ( поставл етс  -Тоа G6s.ei Chemicai , Chemical industry окио, Япони , под торговым знаком NK-20) и 0,8 вес.ч. 4-(п-толилмеркапто)-г -2,5-дизтокс бензол-диазоний-тетрафторбората в iSO вес.ч. рк . содержании твердых веществ 10,36%. Алюминий нанос т толщиной 100 мк путем вакуумного нанесени  на полипропиленовую п ёнку двухосной ориен тации толщиной 75 мк. Фотополимеризующийс  слой нанос т на алюминиевый слой и сушат гор чим воздухом при , 100°С В течение 1 мин, получа  фотополимеризующийс  слой 3 мк На фотополимеризующийс  слой налагают оригинал-позитив, все вместе подберга  воздействию света от ксеноровой дуговой лампьс мощности 2 кВт установленкой на рассто нии 100 см, в течение 3 мик Фотополимеризующийс  слой удал ют, получа  алюмикие-. вый рисунок-негатив на пленке и рису нок позитив на фоточувствительнбм слое. П р и м е р Ц. На одну сторону полиэтилентерефталатной пленки толщиной 50 мк, пигментированной газойой сажей, нанос т слой алнинини  170 ммк ) путем напылени  в вакууме, на другую сторону - акриловый адгезионный агент, чувствительный на давление (поставл етс  Nippon Сагф .4е Industries Со, Ltd,. Токио, Япони , под торговым знаком NissetSU PEIISA) толщиной в 30 мк, сверху накладываетс  лист съемной бумаги. На алюминиевый слой нанос т фоточувствительный состав по примеру 1, /затем нагревают гор чим воздухом при в течение 1 мин, получа  фотополимериэующийс  елvи толщиной . 5 мк.. На полученный таким образом материал налагают оригинал-негатив, все вместе подверга  воздействию света ; аналогично примеру 1. По удалении : фоточувствитедьного сло  на черной I пленке получают рисунок-позитив серебр ного оттенка. Изделие может быть Рикреп ено к желательному месту в качестве маркировки или  рлыка по удалении съемного листа бу1у1аги. П р им е р 12. Фотополимернзукщийс  состав, содержащий 1U,18% твердых веществ, получают растворением 10 вес.ч. поливинилбутирал , содержащего 3% ацетильных групп, 65±3% бутиральных групп и 35±.5% гидроксильных групп, и 0,2 вес.ч. хлористого цинк 4-(ti -толилмеркапто)2 ,5-диэтоксибензол-гдиазони  в смеси 45 вес.ч. метилэтилкетона, 27 вес.чь толуола и 18 вес.ч. циклогексанона. На полиэтилтерефталатную пле:жу (.100 мк) вакуумным выпариванием начос т слой алюминк ( ммк), на который нанос т фотопоЛимеризуимцийс  состав, затем 1 мин сушат при , получа  фотополимер зунаднйс  слой толщиной 5 мк.. - . ( С применением машины.по примеру 3 (значение по шкале 5) материал подвергают воздействию света вместе с оригиналом-позитивом, затем снимают фотополимеризующпйс  слой и получают на пленке алюкетниевый рисунок-негатив . Изделие--пригодно дЛ  литограф1 и в качестве пластины. Прим ер 13. Фотополимериэуу  кйс  состав получают растворениек (if4 вес.ч с натриевой соли 1,2-диазонафтоЛ-5-сульфокислоты в 50 .ч. эмульсии ПВХ (поставл етс  Nisshin i Chemical Industries Co, Ltd, Токио, Япони , Под торговым знаком VinyЫапе 320) . На полйзтилентерефталатную пленку (100 мк ) вакуумным выпариванием нанос т слой аггк 1ини  толщиной . 103 ммк, затем нанос т фотополимеризую1 ийс  слой и сушат 30 с при , получа  слой толищной 3 мк. о На этот слой с помощью акрнльного адгезионного сло  (поставл етс  Nippon Carbide InBuctries Со, Ltd, под торговым знаком Nissetsu;PEll5A| нанос т 12 мк полиэтилентерефталатной пленки, получа  материал дл  получени  изображений. Аналогично примеру 1 материал подвергают воздействию света, затем удал ют фотополймеризугацийс  слой, получа  на пленке рисунок-негатив. .Поскольку фотополимеризующийс  слой армирован слоистой пленкой, он обладает повышенной механической , прочностью и Операци  сн ти  Фотополимеризующегос  сло  не представл ет трудностей. Полученный элемент пригоден дл  применени  в крупногабаритном исполнении, полученный рисунок-позитив на фоточувствительном слое примен ют в различных цел  Формула изобретени  Светочувствительный материал дл  получени  изобрс1жений, состо щий из подложки, промежуточного сло  и фотополимеризующегос  сло , включающего пленкообразующий компонент и фотоинициатор, отличающ и и с   тем, что, с целью плотности получени  металлического изоб ражени  и повьшени  оптической плот ности и контрастности изображени , промежуточный слой материгша выполнен из металла, выбранного из р да А1, Zn, Ag, Ni, Си, напыленного в вакууме или осажденного электролизом , а в фотополимеризующемс  слое в качестве пленкообразующего компонента он содержит Л , при этом в качестве фотоинициатора он содержит В, либо в качестве пленкообразующего компонента он содержит Ag, а в качестве фотоинициатора Bij, где А - поливинилхлорид, сополимер винилхлорида и винилацетата, поливинилбутираль, поливиниловый спирт; азосоединение или соль диазони ; АО- тройной сополимер винилх орида, винилацетата и ангидрида малеиновой кислоты; вг -бензофенон, хиноновое соединение, азосоединение или соль диазони , при этом соотношение кс етонентов в фотополимеризующемс  слое следующее, вес.ч. 10-50 0,2-0,8 20 0,8-2,0 Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1. Патент QUA W 3060023, кл.96-28, опублик. 1962 (прототип).
    члЛлллллл лл Л лллл;
    f ( Л {. . Л/ f -f С .
    f J, f ., f fY
SU772470055A 1976-04-14 1977-04-14 Светочувствительный материал дл получени изображений SU948301A3 (ru)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4208376A JPS52126220A (en) 1976-04-14 1976-04-14 Dry image forming material and method of forming image

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU948301A3 true SU948301A3 (ru) 1982-07-30

Family

ID=12626139

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU772470055A SU948301A3 (ru) 1976-04-14 1977-04-14 Светочувствительный материал дл получени изображений

Country Status (12)

Country Link
JP (1) JPS52126220A (ru)
BE (1) BE853618A (ru)
CA (1) CA1094377A (ru)
CH (1) CH628160A5 (ru)
DD (1) DD130507A5 (ru)
DE (1) DE2716422C2 (ru)
FR (1) FR2371706A1 (ru)
GB (1) GB1563010A (ru)
IT (1) IT1094789B (ru)
NL (1) NL185425C (ru)
SE (1) SE435214B (ru)
SU (1) SU948301A3 (ru)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5479027A (en) * 1977-12-05 1979-06-23 Kimoto Kk Dry picture forming material
JPS54179986U (ru) * 1978-06-07 1979-12-19
EP0042632A1 (en) * 1980-06-20 1981-12-30 Agfa-Gevaert N.V. Recording material and method for the production of metal images
JPS5858546A (ja) * 1981-10-02 1983-04-07 Kimoto & Co Ltd 製版用感光性マスク材料
JPS59198445A (ja) * 1983-04-27 1984-11-10 Kimoto & Co Ltd 剥離による画像形成材料
JPS60238826A (ja) * 1984-05-14 1985-11-27 Kimoto & Co Ltd 画像形成材料
JPS61243603A (ja) * 1985-04-19 1986-10-29 岡村　一 ロ−ソク立
DE69524589D1 (de) * 1995-08-08 2002-01-24 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Bildung von metallischen Bildern
EP0762214A1 (en) * 1995-09-05 1997-03-12 Agfa-Gevaert N.V. Photosensitive element comprising an image forming layer and a photopolymerisable layer
JP2001284350A (ja) * 2000-03-31 2001-10-12 Nitto Denko Corp パターン形成方法および薄膜剥離除去用接着シート
JP2009032912A (ja) * 2007-07-27 2009-02-12 Sony Corp 半導体装置の製造方法および有機発光装置の製造方法
KR102307014B1 (ko) 2013-10-30 2021-10-01 네덜란제 오르가니자티에 포오르 토에게파스트-나투우르베텐샤펠리즈크 온데르조에크 테엔오 전기 회로 패턴을 포함하는 기판, 그를 제공하기 위한 방법 및 시스템

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2999016A (en) * 1955-03-24 1961-09-05 Keuffel & Esser Co Drawing material
BE623972A (ru) * 1961-10-23
DE1447012B2 (de) * 1963-07-20 1972-12-21 Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich Negativ arbeitende, sensibilisierte kupfer-aluminium-bimetallplatte
DE1572153B2 (de) * 1966-06-27 1971-07-22 E I Du Pont de Nemours and Co , Wilmington, Del (V St A ) Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
DE1597644C3 (de) * 1966-11-03 1973-09-20 Teeg Research Inc., Detroit, Mich. (V.St.A.) Verfahren zur Herstellung von Rehefbildern
DE1671625A1 (de) * 1967-01-24 1971-09-16 Kalle Ag Verbundmaterial fuer die Herstellung von Mehrmetalldruckformen
ZA711869B (en) * 1970-05-27 1971-12-29 Gen Electric Aqueous electrocoating solutions and method of making and using same
JPS4837643A (ru) * 1971-09-15 1973-06-02
JPS5821257B2 (ja) * 1974-04-25 1983-04-28 富士写真フイルム株式会社 キンゾクガゾウケイセイザイリヨウ
JPS516530A (ja) * 1974-07-04 1976-01-20 Toray Industries Gazokeiseizairyo

Also Published As

Publication number Publication date
GB1563010A (en) 1980-03-19
BE853618A (fr) 1977-08-01
DD130507A5 (de) 1978-04-05
CA1094377A (en) 1981-01-27
JPS52126220A (en) 1977-10-22
NL185425B (nl) 1989-11-01
SE435214B (sv) 1984-09-10
NL185425C (nl) 1990-04-02
DE2716422C2 (de) 1987-10-01
JPS5613305B2 (ru) 1981-03-27
IT1094789B (it) 1985-08-02
AU1946676A (en) 1978-06-29
CH628160A5 (en) 1982-02-15
DE2716422A1 (de) 1977-11-03
FR2371706B1 (ru) 1980-04-25
FR2371706A1 (fr) 1978-06-16
NL7704083A (nl) 1977-10-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3884693A (en) Light-sensitive transfer material
US4205989A (en) Dry system image producing element
US4340657A (en) Novel radiation-sensitive articles
SU948301A3 (ru) Светочувствительный материал дл получени изображений
US4427760A (en) Photohardenable materials
JPS5944615B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いた金属画像形成材料
DE2202360A1 (de) Lichthaertbares material
CA1079565A (en) Dot-etchable photopolymerizable elements and image reproduction process
NL8400381A (nl) Werkwijze voor het verkrijgen van drukplaten.
US3493371A (en) Radiation-sensitive recording material
US4369244A (en) Imaging process and article employing photolabile, blocked surfactant
US4581308A (en) Process for preparation of a masking element for forming a multicolor printing plate
US2729562A (en) Process for producing images
US4308338A (en) Methods of imaging photopolymerizable materials containing diester polyether
JPH02244145A (ja) 画像形成方法
CA1133170A (en) Method of preparing screen printing stencils using novel compounds and compositions, improved screen printing stencils and method of screen printing
GB1587476A (en) Photopolymerizable compositions and elements and methods of imaging
US5912105A (en) Thermally imageable material
EP0048160B1 (en) Photosensitive recording material, and method of half-tone etching
US4467022A (en) Imaging process and article employing photolabile, blocked surfactant
JP2901686B2 (ja) 画像形成材料及び画像形成方法
JPH0550735B2 (ru)
KR800001692B1 (ko) 건식 화상(畵像) 형성 재료
GB1600213A (en) Process for preparing lithographic plates for use in printing
US3834906A (en) Light activating imaging process