DE2658422A1 - Negativ-trockenresistfilm und verfahren zu seiner herstellung - Google Patents

Negativ-trockenresistfilm und verfahren zu seiner herstellung

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DE2658422A1 DE19762658422 DE2658422A DE2658422A1 DE 2658422 A1 DE2658422 A1 DE 2658422A1 DE 19762658422 DE19762658422 DE 19762658422 DE 2658422 A DE2658422 A DE 2658422A DE 2658422 A1 DE2658422 A1 DE 2658422A1
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Description

HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
KALLE Niederlassung der Hoechst AG K 2521
Wiesbaden-Biebrich WLK-Dr.S-cb
21. Dez. 1976
Negativ-Trockenresistfilm und Verfahren zu seiner Herste!lung
Die Erfindung bezieht sich auf einen, insbesondere flüssig entwickelbaren Negativ-Trockenresistfilm aus temporärer Trägerfolie, photopolymerisierbarer Schicht und Deckfolie sowie auf ein Verfahren zu seiner Herstellung.
Es ist ein Negativ-Trockenresistfilm bekannt, der aus einer einheitlichen photopolymerisierbaren Schicht, die sich zwischen zwei Folien (temporärer Träger- und Deckfolie) befindet, besteht. Die photopolymerisierbare Schicht wird im Verlauf ihrer Anwendung nach Entfernen der Deckfolie als Trockenresistfilm auf ein permanentes Substrat, im allgemeinen Kupfer, auflaminiert. Um eine seitenrichtige FoIienabtrennung bei der Anwendung zu erzielen, muß man für eine unterschiedliche Haftung der photopolymerisierbaren Schicht zur Deck- und Trägerfolie Sorge tragen, was man durch die Verwendung unterschiedlicher Folien erreicht.
Es ist bekannt (DT-AS 11 40 080, US-PS 2,993,789), photopolymerisierbare Schichten aus Teilen hoher und niedriger Strahlungsempfindlichkeit aufzubauen und lichtunempfindliche zusätzliche Schutz- und Verankerungsschichten aufzubringen. Dies bezieht sich jedoch auf solche Schichten, die bei der Anwendung fest mit dem permanenten Substrat vorzugsweise Metall - verbunden bleiben, d. h. auf
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ORIGINAL INSPECTED
Druckplatten. Dieses Schichtmaterial ist vom Aufbau und von der Anwendung völlig verschieden vom Negativ-Trockenresistfilm, bei dem vor der endgültigen Verarbeitung vorzugsweise beide Folien von der photopolymerisierbaren Schicht abgetrennt werden müssen.
Es ist auch ein Trockenresistfilm bekannt (DT-OS 24 50 380), der aus zwei verschieden zusammengesetzten Schichten zwischen den Folien besteht, und zwar aus einer lichtunempfindlichen und einer lichtempfindlichen Schicht. Diese Anordnung erlaubt es, dickere, positiv arbeitende Trockenresistfilme mit diskutabler Lichtempfindlichkeit herzustellen, wtfbei jedoch die lichtunempfindliche zweite Schicht bei der Verarbeitung des Materials zu Nachteilen, d. h. zu starken Unterwaschungen führt. Dieser Schichtaufbau hat sich als kompliziert und technisch schwierig realisierbar erwiesen.
Der eingangs beschriebene einschichtige Aufbau von Negativ-Trockenresistfilmen bewirkt folgende Schwierigkeiten und Nachteile:
Da die photopolymerisierbare Masse nach allein Seiten hin gleiche Eigenschaften aufweist, müssen zwangsläufig erwünschte unterschiedliche Eigenschaften an der Ober- und Unterseite der Schicht - beispielsweise verschiedene Haftung - von den Eigenschaften der in Wechselwirkung mit der photopolymerisierbaren Schicht stehenden Folien- oder Metalloberflächen bewirkt werden. Dies bedeutet, daß z. B. die die photopolymerisierbare Schicht einschließenden Folien nicht nur hinsichtlich optischer Klarheit, Lichtdurchlässigkeit, Dimensionsstabilität, Flexibilität bzw. Steifheit ganz besondere und nur unvollständig erfüllbare Eigenschaften besitzen sollen, sondern auch hinsichtlich der Haftkräfte gegenüber der Schicht ganz spezifische
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■S
Mirkragen zeigen sollen, was utatiuirgeiBaB die Anzahl der verwemdfoaretni Folientypen stark einschränkt.
BIe pftetopaljroeri si erbare Scfaiciit sail Forderungen erfüllen!, die schwer rniteimainider vereinbar sind, wie z. B. nicht zu §r©ISe Meichiiieit» um etwa den Randaustritt an den RoHenschnittkanten umu Bruckspuren zu vermeiden, nicht zu starke lOebrigfceit, era ein Hängenbleiben der Deckfolie bei der FoTiientrennung und um ein Einfangen von Schmutzpartikeln aus der Lttft* was zu Löcherbildung in den gedruckten Schaltungen führen kann, zu vermeiden, und eine ausreichende Flexibilität, um ein Absplittern von Teilchen aus der pttotopolynerisierten Schicht zu verhindern. Das Auffinden derart befähigter photopolymerer Schichten ist dadurch naturgemäß sehr eingeschränkt.
Ein weiterer Nachteil der bekannten PHotopolymerschicht ist die Lichtschwächung, die mit zunehmender Eindringtiefe in relativ dicke Schichten auftritt. So beobachtet man bei Schichten von mehr als ca. 35 .um Dicke, daß die Eindringtiefe des zur Belichtung verwendeten Lichts bei zunehmender Dicke in einer die praktische Anwendung der Schicht hindernden Weise abnimmt; d. h. die der Belichtungsquelle abgekehrte Schichtseite erfährt eine geringere Initiatoranregung, so daß dort die Vernetzungsdichte geringer ist.
Ein anderer Nachteil des gleichmäßigen Aufbaus der photopolymerisierbaren Schicht ist es, daß es nicht möglich ist, die Resistenz des aufgebrachten Bildes den während der Galvanoverarbeitung in den verschiedenen Schicht- bzw. Tiefenbereichen unterschiedlichen chemischen und mechanischen Angriffen anzupassen. So können z. B. im Galvanobad im Bereich der Haftung der Schicht an der Substratoberfläche zu Resistflanken der Bildstellen hin
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bei der Vernickelung und Vergoldung mechanische Kräfte auftreten, die eine besonders starke und zähe Schicht nur in diesem Bereich erforderlich machen.
Nachteilig kann sich weiterhin das Zusammentreffen von verschiedenen Schichtkomponenten auswirken, wenn sie
chemische oder physikalische Hechseiwirkung aufeinander ausüben, was sich oftmals erst nach längerer Lagerung
zeigt. Hier sind beispielsweise Farbstoffe und gefärbte Stoffe zu nennen, die die Aufgabe haben, die bildmäßige Belichtung schon vor der Heiterverarbeitung der photopolymerisierbaren Schicht sichtbar zu machen; oder
Farbstoffe, die als Kennfarbe dienen und Stoffe, deren Lichtabsorption regulierend auf zu große Lichtempfindlichkeit der Schicht wirkt oder solche, welche die nicht erwünschte Lichtstreuung verhindern.
Es war deshalb Aufgabe der Erfindung, einen Negativ-Trockeresistfilm zu schaffen, der die vorbeschriebenen Nachteile nicht aufweist und darüber hinaus in der
photopolymerisierbaren Schicht Stoffe enthalten kann, die normalerweise nicht zusammen eingesetzt werden können.
Die Lösung dieser Aufgabe geht von dem eingangs beschriebenen Negativ-Trockenresistfilm aus temporärer
Trägerfolie, photopolymerisierbarer Schicht und Deckfolie aus und ist dadurch gekennzeichnet, daß die photopolymerisierbare Schicht aus mindestens zwei Teilschichten besteht.
Hierdurch wird erreicht, daß die unvollständig erfüllbaren, jedoch geforderten Eigenschaften der die photopolymerisierbare Schicht einschließenden Folien wesentlich herabgesetzt werden können, da Eigenschaften, wie
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ζ. B. unterschiedliche Oberflächenadhäsion, nunmehr von Teilschichten der photopolymerisierbaren Schicht leicht übernommen werden können. Weiterhin können die Forderungen der photopolymerisierbaren Schicht selbst erfüllt werden in Hinsicht auf nicht zu große Weichheit, nicht zu starke Klebrigkeit, ausreichende Flexibilität, da die Teilschicht auf diese Forderungen hin getrennt einstellbar ist. Damit kann auch ein größeres Angebot photopolymerer Schichten gemacht werden. Schließlich wird hierdurch erreicht, die Teilschichten speziell auf stärkere Resistenz in bestimmten Schichtbereichen auszurichten.
Auch das Zusammentreffen von Komponenten, die in einer Schicht unerwünschte chemische und physikalische Wechselwirkung aufeinander ausüben, wird durch die erfindungsgemäße Anordnung weitgehend verhindert.
Als temporäre Trägerfolie dient ein dünner, flexibler, glatter transparenter Schichtträger. Er soll eine gute Festigkeit besitzen, formbeständig sein gegenüber Temperaturveränderungen und gegenüber üblichen Lösungsmitteln widerstandsfähig. Diese Forderungen werden am besten von einer Polyesterfolie, insbesondere von biaxial verstreckten Folien aus Polyäthylenterephthalat erfüllt.
Als Deckfolie, die durch Aufpressen oder Beschichten auf die polymerisierbar Schicht aufgebracht wird, ist jedes abdeckende flexible Material brauchbar, sofern es die Forderung der geringeren Haftung gegenüber der photopolymerisierbaren Schicht als die gegenüber der Trägerfolie erfüllt. In der Praxis wird deshalb eine PoIyolefinfolie, insbesondere eine Folie aus Polyäthylen, als Deckfolie verwendet.
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Die photopolymerisierbare Schicht besteht im wesentlichen aus mindestens einer polymerisierbaren Verbindung, einem Photoinitiator, einem Bindemittel und gegebenenfalls Farbstoffen, welche aus einer Lösung auf die temporäre Trägerfolie aufgetragen werden.
Den Schichten können Farbstoffe wie Samaronmarineblau oder Rhodamin B zugesetzt werden oder verschiedene Mengen 9-Phenylacridin zur Beeinflussung der Flankenform der Resistschichten oder 3-Mercaptopropionsäureanilid als Haftvermittler zur Erhöhung der Beständigkeit in Ni/Au-GaIvanobädern.
Als Beschichtungskomponenten können z. B. verwendet werden:
eine Mischung aus einem Photomonomeren, bestehend aus dem Umsetzungsprodukt von 2,2,4-Trimethyl-hexamethylendiisocyanat mit 2-Hydroxyä'thylmethacrylat und einem Terpolymeren, bestehend aus n-Hexylmethacrylat, Methacrylsäure und Styrol, dem noch zugesetzt sind: 9-Phenyiacridin, Michlers Keton, Triäthylenglykcldimethacrylat, Saßiaronmarineblau' ' HGL der Hoechst AG
ein Copolymerisat von Methylmethacrylat und Methacrylsäure, Polymethylmethacrylat, Weichmacher und einem Terpolymeren von Äthylacrylat, Methylsnethacrylat und Acrylsäure, sowie Michlers Keton und 9-Phenylacridin und als additionspolymerisierbares Monomeres Trimethylpropantriacrylat
oder ein
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Photomonomeres nach dem ersten Beispiel dieser Aufzählung mit einem Terpolymeren, bestehend aus η-Methyl-methacrylat, n-Hexyl-methacrylat, Methacrylsäure sowie 9-Phenyl-acridin, Michlers Keton, Triäthylenglykoldimethacrylat und Samaronmarineblau^ ' HGL.
Durch den erfindungsgemäßen Aufbau der photopolymerisierbaren Schicht in TeiΊschichten sind Negativ-Trockenresistfilme herstellbar, die eine sehr dicke gleichmäßig ausgetrocknete photopolymerisierbare Schicht besitzen und welche zusätzlich durch Kombination verschiedener Komponenten in den Teil schichten zu unterschiedlichen jeweils gewünschten Eigenschaften führen. Vorzugsweise enthält die der Deckfolie benachbarte photopolymerisierbare Schicht einen Haftvermittler. Hierdurch erreicht man eine verstärkte Haftung der photopolymerisierten Schichten auf dem permanenten Substrat bei der Weiterverarbeitung.
In weiterer Ausgestaltung der Erfindung enthält die photopolymerisierbare Schicht mindestens in einer Teilschicht einen Farbstoff. Hiedurch kann die Einfärbung der Schicht gesteuert werden, ohne daß chemische oder physikalische Wechselwirkungen mit anderen zugesetzten Stoffen auftreten, die unerwünscht sind.
Der Aufbau der photopolymerisierbaren Schicht in Teilschichten bringt es auch mit sich, daß die jeweils äußeren Schichten in ihrer Haftung zu temporärer Träger- und DeckfoTie eingestellt werden können, so daß nunmehr die Forderung nach unterschiedlicher Hafteigenschaft der Trägerfo.liert- bzw. der Deckfolien-Oberflache entfällt. ErfindungsgemSß wird dadurch ein Wegativ-Trockenresistfilra §GScteff©[»fl uolchar" die photopolyierisierbare Schicht Träfer= «ftd Dscfcfolis aeis den gleichen Material
AO
enthält, welche gegebenenfalls von unterschiedlicher Dicke sind.
So können im Gegensatz zu den bisher eingesetzten Polyolefinen stippenfreie und dimensionsstabile Polyesterfolien als Deckfolie verwendet werden.
Der erfindungsgemäße Schichtaufbau bringt es mit sich, daß eine regelmäßige und glatte Ausbildung der photopolymerisierbaren Schicht und ihre gute Austrocknung erreicht wird, was beim Aufbringen von Lösungen für relativ dicke Schichten bisher nicht gewährleistet war. Weiterhin ist es möglich, eine schlechte Planlage der photopolymerisierbaren Schicht durch entsprechende Schichtkombination zu beseitigen. Dies macht sich ganz besonders beim Aufbau von dicken Schichten auf relativ dünnen temporären Trägerfolien bemerkbar.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auch auf ein Verfahren zur Herstellung eines Negativ-Trockenresistfilms durch Aufbringen der photopolymerisierbaren Schicht auf die temporäre Trägerfolie aus einer Lösung und Trocknen und Abdecken der Schicht mit einer Deckfolie, welches dadurch gekennzeichnet ist, daß man die photopolymerisierbare Schicht im kontinuierlichen Arbeitsgang in mindestens zwei Teil schichten jeweils aus Lösung aufbringt und trocknet.
Hierdurch wird erreicht, daß bei einem Verfahren zur Herstellung dickerer photopolymerisierbarer Schichten im Bereich über etwa 40 ,um nunmehr gleichmäßig ausgetrocknete Schichten zur Verfügung gestellt werden können, welche durch Kombination gleicher Lösungen oder unterschiedlicher Lösungen zu Schichten mit gleichen oder unterschiedlichen Eigenschaften der jeweils gewünschten
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Art führen, wie ζ. Β. Haftung, Einfärbung, Empfindlichkeit der Schichten, Flankenform, mechanische Festigkeit bzw. Flexibilität, Widerstandsfähigkeit gegen chemischen oder mechanischen Angriff.
Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es möglich, erhöhte Lichtempfindlichkeit an der dem Licht abgewandten Schichtseite durch Verwendung einer lichtempfindlicheren Teilschicht oder verstärkte Haftung zur temporären Trägerfolie durch Zusatz entsprechender stärker haftenden Mittel zu erzielen.
Durch Verwendung der gleichen Lösung oder einer anderen Lösung oder des gleichen oder eines anderen Lösungsmittels von Beschichtung zu Beschichtung ist eine weitere Variation dahingehend möglich,, daß die Tei I schichten an ihren Oberflächen einen Grenzbereich aufweisens der entweder durch Anlösen mit dem gleichen Lösungsmittel eine einheitliche Übergangszone aufweist oder durch Nichtaufweichen der getrockneten Oberfläche durch ein nicht angreifendes Lösungsmittel zu einer zweiten,, völlig von der ersten Beschichtung getrennten Zone führen kann. Entsprechende Übergänge zwischen diesen Extremen sind ebenso möglich.
Das erfindungsgemäße Verfahren bietet gegenüber der mehrfachen Einfachbeschichtung die großen Vorteile,, daß das Zwischenaufrollen des Materials völlig entfällt, was zu nachteiligen und verfahrenshemmenden Verklebungen und Beschädigungen führt, und daß auch eine Zwischenkaschierung bzw. -Delaminierung mit einer Deckfolie überflüssig wird.
Gegenüber dem bekannten Naß-auf-Naß-Antrag hat das erfindungsgemäße Verfahren den Vorteils daß nunmehr
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dicke und gut ausgetrocknete Schichten hergestellt werden können, weiche eine ganz ausgezeichnete Beschichtungsquaiität besitzen.
Die vorliegende Erfindung umfaßt auch eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens, die dadurch gekennzeichnet ist, daß mindestens zwei an sich bekannte Antrags- und Trocknungseinrichtungen hintereinander angeordnet sind.
Hierdurch wird erreicht, daß nach Antragen der ersten Beschichtungslösung das Verdampfen des Lösungsmittels erfolgen kann, bevor der zweite Antrag einer weiteren Beschichtungslösung und Trocknen erfolgt.
Zur Beschichtung sind alle bekannten Antragselemente geeignet, wie sie zum Aufbringen von Lösungen auf Trägeroberflächen und Trocknen derselben verwendet werden. Hierher gehören zum Beispiel Vorrichtungen mit Walzenantrag oder Sprühvorrichtungen und Vorrichtungen wie Strahlungstrockner.
Vorzugsweise werden als Antragseinrichtung Schlitzgießer und als Trocknungseinrichtung Schwebetrockner eingesetzt.
Die Verwendung des erfindungsgemäßen Negativ-TrockenresistfiTms geschieht in einem Verfahren zur Modifizierung von Substratoberftächen beliebiger Kärper, auf welche man deft Pfegativ-Trockenresistf i?r& unter Hä>meeinwi rku-ng auf kaschiert, ihn bildmäßig beliebtet-, die Iffchtfa·? ■ 1-stellen dttrch Auswaschen entfernt and dir freigelegt.?1 Substratoberflache modifiziert, wonach die Bildete!.ν anschließend gegebenenfalls entfernt werden*
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Unter Modifizieren ist zum Beispiel das Ätzen der Oberfläche und/oder ein weiterer Aufbau oqv Substratoberfläche durch galvanische Methoden zu verstehen.
Beispiel 1
Eine nach Trocknung 30 ,um dicke photopolymerisierbare Schicht wird auf eine 23 ,um Polyesterfolie aufgebracht und nach deren Trocknung an einem zweiten Äntragswerk der ßeschichtungsmaschine mit einer weiteren 30 ,um dicken pfrotopolymerisierbaren Schicht versehens getrocknet und mit Polyolefin-Deckfolre» die 23 ,um dick istD kaschiert und aufgewickelt. Die restiöserfrei ausgetrocknete Doppelschicht ist von gleichmäßiger Qualität und ohne Schichtunruhe. Sie zeigt keine streifigen Dickstellen und Durchhänge* wie sie entstehen, wenn die relativ dünne 23 ,um Polyesterfolie im Einschichtverfahren mit der vergleichsweise -schweren 60 .um Schicht versehen wird. Die ß&schich'tungslö'sung besteht aus folgenden Bestandteilen:
bsstsSiend ays dsm Umsetzungsps-odukt von £a2p4-Triffl3ihyI--he)iam@thylen=cHisoeyanat mit Hydroxy»
(173 §) und ©Inem Teppolytieren (200 g)9 aas n=Hfsyl»-ra©thacry]at0 ^©thacrylsSure und Styro1o dara noch "sygssstzt sind 9°Pfo@ny1acHdin (S5I g), Sichlers Keton·(αβ4-g)„ TriSthylenglykoidimetbacrylat
M1 ; HGL (I0O g).
Cr-.
Beispiel 2
Auf eine 25 ,um dicke getrocknete Schicht der in Beispiel 1 genannten Zusammensetzung wird im kontinuierlichen Verfahren eine zweite Schicht von 15 ,um Stärke aufgebracht, die einen auf den Feststoffgehalt bezogenen Anteil von 0,6 % eines Haftvermittlers aus 3-Mercaptopropionsäureanilid enthält. Die Schicht wird bei 1300C getrocknet, wie in Beispiel 1 beschrieben mit einer Deckfolie versehen und aufgewickelt. Die haftvermittelnde Photopolymerschicht, die durch Auflaminieren auf Metalloberflächen in unmittelbaren Kontakt mit der Metallschicht (permanentes Substrat) kommt, zeichnet sich durch besondere Widerstandsfähigkeit gegenüber Ablösungserscheinungen beim Aufbau von Ni/Au-Schichten in Galvanobädern aus.
Beispiel 3
Durch Beschichtung einer trockenen, auf ein 23 ,um dickes Polyesterfolienband aufgebrachten 15 ,um dicken Schicht der in Beispiel 1 genannten Zusammensetzung mit einer 20 ,um dicken Schicht nachstehender Zusammensetzung wird eine photopolymerisierbare Doppelschicht erhalten.
Ais Beschichtungslösung werden 240 g des in Beispiel 1 genannten Photomonomeren und ein Terpolyüieres verwendet :300 g), das aus Methyl -methacrylat, ri-Hsxyl-methacrylat 'jrid Methacrylsäure besteht, dem 8,6 g 9-Fhenylacridin, C2S g Michlers Katon, 6,4 g Triäthylenglykoldimethacrylat jnd 2,6 g Samaronmarineblau zugesetzt wurden.
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Die Doppel schicht haftet auf kupfermetailisierten Oberflächen wesentlich besser als die Erstschicht allein. Dies zeigt sich an folgender Versuchsanordnung:
Wird in die Schicht ein sich kreuzendes Linienmuster eingeritzt, so lassen sich - im Gegensatz zur Erstschicht allein - mit der Klebestreifen-Abziehmethode praktisch keine ScMclrtteiTe mehr von der Metalloberfläche abreißen
Beisρ i e1 4
Eine 15 ,um dicke Photopolymerschicht (Schicht I) wurde auf eine Polyesterträgerfolie aufgetragen. Diese getrocknete Schicht wurde mit einer 20 ,um dicken Schicht versehen, welche aus den in Beispiel 1 genannten Bestandteilen besteht. Schließlich wurde an einer dritten Beschichtungsstation in kontinuierlicher Weise eine dritte 15 ,um dicke Schicht (Schicht III) aufgebracht.
Sch-icht I und III bestanden aus einem Copolymerisat von Methylmethacrylat und Methacrylsäure (18 g), Polymethylmethacrylat MG 258 000 (15 g), Weichmacher aus einem Genuisch von TriäthyTenglykoldicaprat und -dicaprilat (& §)» Trimetnylo-Tprapantriacrylat (34 g} und einem TerpoTynreren von KtbyTacryTat, Me.thyT-ntethacryTat und Acrylsäure (T3 g τη. LQ % Ätfryleel losal ve) ^ VSichle^z Keton (T gj a-nd f-PB&nylctcrfeLtB (t g).
Dier erfrattene Pbatopölymerfitm zeichnete ·;?■·". jjrcft plane-Lage^ eise gute Haftung na-cfi dem Lamfnie^^V t»f Ktfpfepo-berfTa1Ch-er> aus, o,hrte daß- er eine nackte?' rg-e Sprödigfceit Besaß.
Γ 9 * s r- ■ Γ? ? 0 9
BAD ORIGINAL
Beispiel 5
Durch Beschichtung einer trockenen 25 ,um dicken Schicht der Zusammensetzung nach Beispiel 1 mit einer 20 ,um dicken Schicht der für Schicht III in Beispiel 4 genannten Zusammensetzung wird unter Beibehaltung einer durch die dickere Schicht hervorgerufenen hohen Lichtempfindlichkeit durch Kombination mit der dünneren Schicht eine in Ni/Au-GaIvanobädern resistentere Schicht erhalten.
Beispiel 6
Eine auf Polyesterträger aufgebrachte photopolymerisierbare Schicht einer in Beispiel 1 genannten Zusammensetzung wird mit einer für Schicht III in Beispiel 4 genannten Zusammensetzung beschichtet.
Andererseits beschichtet man die Polyesterträgerfolie erst mit einer Schicht entsprechend Schicht III des Beispiels 4 und gibt dann erst die Lösung der nach Beispiel 1 beschriebenen Art und trocknet.
Man erhält auf diese Weise je nach Wahl eine photopolymerisierbare Schichtkombination mit Flanken, deren Winkel mit der Substratoberfläche zwischen stumpf- und spitzwinkliger Form variiert werden können.
Hierdurch wird eine Beeinflussung der Form des Leiterbahnmetallsteges beim anschließenden Galvanoaufbau oder bei der Ätzung erreicht.
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Beispiel 7
Durch Kombination einer mit Samaronmarineblau angefärbten Schicht der Zusammensetzung nach Beispiel 1 mit einer mit Rhodamin B rot angefärbten Schicht nachstehender Zusammensetzung wird ein in der Durchsicht von der Färbung der Einzel schichten abweichendes rotviolettes Photopolymermaterial mit guter Transparenz und gutem Kontrast zum Kupfer erhalten:
200 g des in Beispiel 1 genannten Photomonomeren und 200 g des dort angeführten Terpolymeren.
- Patentansprüche -
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Claims (10)

  1. Patentansprüche
    Negätiν-Trockeηresistfilm aus temporärer Trägerfolie, photopolymerisierbarer Schicht und üeckfolie, dadurch gekennzeichnet, daß die photopolymerisierbare Schicht aus mindestens zwei Teil schichten besteht.
  2. 2. Film nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die der Deckfolie benachbarte photopolymerisierbare Schicht einen Haftvermittler enthält.
  3. 3. Film nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die photopolymerisierbare Schicht mindestens in einer Teilschicht einen Farbstoff enthält.
  4. 4. Film nach Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die photopolymerisierbare Schicht von Träger- und Deckfolie aus dem gleichen Material abgedeckt ist.
  5. 5. Verfahren zur Herstellung eines Negativ-Trockenresistfilms nach Ansprüchen 1 bis 4 durch Aufbringen der photopolymerisierbaren Schicht auf die temporäre Trägerfolie aus einer Lösung und Trocknen und Abdecken der Schicht mit einer Deckfolie, dadurch gekennzeichnet, daß man die photopolymerisierbare Schicht im kontinuierlichen Arbeitsgang in mindestens zwei Teilschichten jeweils aus Lösung aufbringt und trocknet.
  6. 6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß man die photopolymerisierbare Schicht herstellt durch Aufbringen der gleichen Lösung und Trocknen hintereinander.
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  7. 7. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß mau die photopolyraerisierbare Schicht herstellt durch Aufbringen and Trocknen unterschiedlicher Lösungen.
  8. 8. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Ansprüchen 5 bis 7, gekennzeichnet durch mindestens zwei an sich bekannte Antrags- und Trocknungseinrichtungen.
  9. 9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß als Antragseinrichtung Schlitzgießer und als Trocknungseinrichtung Schwebetrockner dienen.
  10. 10. Verfahren zur Modifizierung von Substratoberflächen beliebiger Körper, auf welche man einen Negativ-Trockenresistfilm unter Wärmeeinwirkung aufkaschiert, bildmäßig belichtet, die Nichtbildstellen durch Auswaschen entfernt und die freigelegte Oberfläche modifiziert und die Bildstellen anschließend gegebenenfalls entfernt, dadurch gekennzeichnet, daß man einen Negativ-Trockenresistfilm des Aufbaues nach Ansprüchen 1 bis 4 verwendet.
DE2658422A 1976-12-23 1976-12-23 Verfahren zur Herstellung eines Negativ-Trockenresistfilms Expired DE2658422C2 (de)

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