DE2658422C2

DE2658422C2 - Verfahren zur Herstellung eines Negativ-Trockenresistfilms

Info

Publication number: DE2658422C2
Application number: DE2658422A
Authority: DE
Inventors: Werner Dipl.-Chem. Dr. 6200 Wiesbaden Franke
Original assignee: Hoechst AG
Current assignee: Hoechst AG
Priority date: 1976-12-23
Filing date: 1976-12-23
Publication date: 1986-05-22
Also published as: FR2375624B1; DE2658422A1; NL7714128A; BE862048A; SE7714551L; US4337308A; FR2375624A1; GB1597607A; SE435108B; NL186723B; JPS6131855B2; IT1090632B; JPS5382322A; NL186723C; BR7708588A; CH635203A5

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung eines insbesondere flüssig entwickelbaren Nega'civ-Trockenresistfilms aus temporärer Trägerfolie, photopolymerisierbarer Schicht und Deckfolie.

Aus der DE-AS 15 22 515 ist ein Negativ-Trockenresistfilm bekannt, der aus einer einheitlichen photopolymerisierbaren Schicht, die sich zwischen zwei Folien (temporärer Träger- und Deckfolie) befindet, besteht. Die photopolymerisierbare Schicht wird im Verlauf ihrer Anwendung nach Entfernen der Deckfolie als Trokkenresistfilm auf ein permanentes Substrat, im allgemeinen Kupfer, auflaminiert. Um eine seitenrichtige Folienabtrennung bei der Anwendung zu erzielen, muß man für eine unterschiedliche Haftung der photopolymerisierbaren Schicht zur Deck- und Trägerfolie Sorge tragen, was man durch die Verwendung unterschiedlicher Folien erreicht.

Es ist bekannt (DE-AS 11 40 080, US-PS 29 93 789), photopolymerisierbare Schichten aus Teilschichten hoher und niedriger Strahlungsempfindlichkeit aufzubauen und lichtunempfindliche zusätzliche Schutz- und Verankerungsschichten aufzubringen. Dies bezieht sich jedoch auf solche Schichten, die bei der Anwendung fest mit dem permanenten Substrat — vorzugsweise Metall — verbunden bleiben, d. h. auf Druckplatten. Dieses Schichtmaterial ist vom Aufbau und von der Anwendung völlig verschieden vom Negativ-Trockenresistfilm, bei dem vor der endgültigen Verarbeitung vorzugsweise beide Folien von der photopolymerisierbaren Schicht abgetrennt werden müssen.

Es ist auch ein Trockenresistfilm bekannt (DE-OS 24 50 380), der aus zwei verschieden zusammengesetzten Schichten zwischen den Folien besteht, und zwar aus einer lichtunempfindlichen und einer lichtempfindlichen Schicht. Diese Anordnung erlaubt es, dickere, positiv arbeitende Trockenresistfilme mit diskutabler Lichtempfindlichkeit herzustellen, wobei jedoch die lichtunempfindliche zweite Schicht bei der Verarbeitung des Materials zu Nachteilen, d. h. zu starken Unterwaschungen führt. Dieser Schichtaufbau hat sich als kompliziert und technisch schwierig realisierbar erwiesen.

Der eingangs beschriebene einschichtige Aufbau von Negativ-Trockenresistfilmen bewirkt folgende Schwierigkeiten und Nachteile:

Da das photopolymerisierbare Gemisch nach allen Seiten hin gleiche Eigenschaften aufweist, müssen zwangsläufig erwünschte unterschiedliche Eigenschaften an der Ober- und Unterseite der Schicht — beispielsweise verschiedene Haftung — von den Eigenschaften der in Wechselwirkung mit der photopolymerisierbaren Schicht stehenden Folien- oder Metalloberflächen bewirkt werden. Dies bedeutet, daß z. B. die die photopolymerisierbare Schicht einschließenden Folien nicht nur hinsichtlich optischer Klarheit, Lichtdurchlässigkeit, Dimensionsstabilität, Flexibilität bzw. Steifheit ganz besondere und nur unvollständige erfüllbare Eigenschaften besitzen sollen, sondern auch hinsichtlich der Haftkräfte gegenüber der Schicht ganz spezifische Wirkungen zeigen sollen, was naturgemäß die Anzahl der verwendbaren Folientypen stark einschränkt

Die photopolymerisierbare Schicht soll Forderungen erfüllen, die schwer miteinander vereinbar sind, wie z. B.

nicht zu große Weichheit, um etwa den Randaustritt an den Rollenschnittkanten und Druckspuren zu vermeiden, nicht zu starke Klebrigkeit, um ein Hängenbleiben der Deckfolie bei der Folientrennung und um ein Einfangen von Schmutzpartikeln aus der Luft, was zu Löcherbildung in den gedruckten Schaltungen führen kann, zu vermeiden, und eine ausreichende Flexibilität, um ein Absplittern von Teilchen aus der photopolymerisierten Schicht zu verhindern. Das Auffinden derart befähigter photopolymerer Schichten ist dadurch naturgemaß sehr eingeschränkt

Ein weiterer Nachteil der bekannten Photopolymerschicht ist die Lichtschwächung, die mit zunehmender Eindringtiefe in relativ dicke Schichten auftritt So beobachtet man bei Schichten von mehr als ca. 35 μηι Dicke, daß die Eindringtiefe des zur Belichtung verwendeten Lichts bei zunehmender Dicke in einer die praktische Anwendung der Schicht hindernden Weise abnimmt; d.h. die der Belichtungsquelle abgekehrte Schichtseite erfährt eine geringere Initiatoranregung, so daß dort die Vernetzungsdichte geringer ist.

Ein anderer Nachteil des gleichmäßigen Aufbaus der photopolymerisierbaren Schicht ist es, daß es nicht möglich ist, die Resistenz des aufgebrachten Bildes den während der Galvanoverarbeitung in den verschiedenen Schicht- bzw. Tiefenbereichen unterschiedlichen chemischen und mechanischen Angriffen anzupassen. So können z. B. im Galvanobad im Bereich der Haftung der Schicht an der Substratoberfläche zu Resistflanken der Bildstellen hin bei der Vernickelung und Vergoldung mechanische Kräfte auftreten, die eine besonders starke und zähe Schicht nur in diesem Bereich erforderlich machen.

Nachteilig kann sich weiterhin das Zusammentreffen von verschiedenen Schichtkomponenten auswirken, wenn sie chemische oder physikalische Wechselwirkung aufeinander ausüben, was sich oftmals erst nach längerer Lagerung zeigt. Hier sind beispielsweise Farbstoffe und gefärbte Stoffe zu nennen, die die Aufgabe haben, die bildmäßige Belichtung schon vor der Wciterverarbeitung der photopolymerisierbaren Schicht sichbar zu machen; oder Farbstoffe, die als Kennfarbe dienen und Stoffe, deren Lichtabsorption regulierend auf zu große Lichtempfindlichkeit der Schicht wirkt oder solche, welche die nicht erwünschte Lichtstreuung verhindern.

Schließlich zeigte sich auch, daß photopolymerisierbare Schichten in den fürTrockenresistmaterialien üblichen Schichtdicken häufig eine unregelmäßige, streifige oder wellenförmige Oberfläche und ungleichmäßige Schichtdicke aufweisen.

Aus der DE-A 19 62 089 ist es bekannt, zwei oder mehrere Silberhalogenid-Gelatineschichten übereinander im kontinuierlichen Verfahren aufzubringen und zwischen zwei aufeinanderfolgenden Auftragsstellen zu

trocknen. Das Fließ- und Viskositätsverhalten von Gelatinelösungen unterscheidet sich aber wesentlich von dem photopolymerisierbarer Beschichtungslösungen. Auch ist die Schichtdicke von Gelatineschichten um mindestens eine Größenordnung kleiner als die von photopolymerisierbaren Schichten von Trockenresistmaterialien.

Aufgabe der Erfindung war es, ein Verfahren zur Herstellung eines Negativ-Trockenresistfilms zu schaffen, das es ermöglicht, einen solchen Film aus einer temporären Trägerfolie aus einem Polyester, einer photopolymerisierbaren Photoresistschicht und einer Deckfolie aus Polyethylen in der Weise herzustellen, daß die Qualität und Gleichmäßigkeit der photopolymerisierbaren Schicht besser ist als bei den nach bekannten Verfahren hergestellten Trockenresistfilmen.

Die Erfindung geht aus von einem Verfahren zur Herstellung eines Negativ-Trockenresistfilms, bei dem eine photopolymerisierbare Photoresistschicht auf eine flexible, transparente Trägerfolie aus einem Polyester durch Beschichten mit einer Lösung der Schichtbestandteile und Trocknen aufgebracht und die Oberfläche der Schicht mit einer flexiblen Deckfolie aus Polyethylen abgedeckt wird.

Das erfindungsgemäße Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß im kontinuierlichen Arbeitsgang eine erste Lösung aufgebracht und zu einer ersten Teilschicht getrocknet und danach eine zweite Lösung aufgebracht und zu einer zweiten Teilschicht getrocknet wird.

Hierdurch wird erreicht, daß die unvollständig erfüllbaren, jedoch geforderten Eigenschaften des die photopolymerisierbare Schicht einschließenden Folien wesentlich herabgesetzt werden können, wie z. B. unterschiedliche Oberflächenadhäsion, nunmehr von Teilschichten der photopolymerisierbaren Schicht leicht übernommen werden können. Weiterhin können die Forderungen der photopolymerisierbaren Schicht selbst erfüllt werden in Hinsicht auf nicht zy große Weichheil, nicht zu starke Klebrigkeit, ausreichende Flexibilität, da die Teilschicht auf diese Forderungen hin getrennt einstellbar ist. Damit kann auch ein größeres Angebot photopolymerer Schichten gemacht werden. Schließlich wird hierdurch erreicht, die Teilschichten speziell auf stärkere Resistenz in bestimmten Schichtbereichen auszurichten.

Auch das Zusammentreffen von Komponenten, die in einer Schicht unerwünschte chemische und physikalische Wechselwirkung aufeinander ausüben, wird durch die erfindungsgemäße Anordnung weitgehend verhinde rt.

Als temporäre Trägerfolie dient ein dünner, flexibler, glatter transparenter Schichtträger. Er soll eine gute Festigkeit besitzen, formbeständig sein gegenüber Temperaturveränderungen und gegenüber üblichen Lösungsmitteln widerstandsfähig. Diese Forderungen werden am besten von einer Polyesterfolie, insbesondere von biaxial verstreckten Foliei. aus Polyethylenterephthalat erfüllt.

Als Deckfolie, die durch Aufpressen oder Beschichten auf die polymerisierbare Schicht aufgebracht wird, ist jedes abdeckende flexible Material brauchbar, sofern es die Forderung der geringeren Haftung gegenüber der photopolymerisierbaren Schicht als die gegenüber der Triigerfolie erfüllt. In der Praxis wird deshalb eine Polyolefinfolie, insbesondere eine Folie aus Polyäthylen, als Deckfolie verwendet.

Die photopolymerisierbare Schicht besteht im wesentlichen aus mindestens einer polymerisierbaren Verbindung, einem Photoinitiator, einem Bindemittel und gegebenenfalls Farbstoffen, welche aus einer Lösung auf die Temporäre Trägerfolie aufgetragen werden.

Den Schichten können Farbstoffe wie Samaronmarineblau oder Rohdamin B, zugesetzt werden oder verschiedene Mengen Photoinitiator zur Beeinflussung der Flankenform der Resistschichten oder 3-Mercaptopropionsäureanilid als Haftvermittler zur Erhöhung der Beständigkeit in Ni/Au-Galvanobädern.

Als Beschichtungskomponenten können z. B. verwendet werden:

eine Mischung aus einem Photomonomeren, bestehend aus dem Umsetzungsprodukt von 2,2,4-Trimethylhexamethylen-diisocyanat mit 2-Hydroxyäthylmethacrylat und einem Terpolymeren, bestehend aus n-Hexylmethacrylat. Methacrylsäure und Styrol, dem noch zugesetzt sind: 9-Phenyl-acridin, Michlers Keton, Triäthylenglykoldimethacrylat, Samaronmarineblau (blauer Azofarbstoffe

oder

ein Copolymerisat von Methylmethacrylat und Methacrylsäure, Polymethylmethacrylat, Weichmacher und einem Terpolymeren von Äthylacrylat, Methylmethacrylat und Acrylsäure, sowie Michlers Keton und 9-Phenylacridin und als additionspolymerisierbares Monomeres Trimethyloipropantriacrylat

oder ein

Photomonomeres nach dem ersten Beispiel dieser Aufzählung mit einem Terpolymeren, bestehend aus Methylmethacrylat, n-Hexyl-methacrylat, Methacrylsäure sowie 9-Phenyl-acridin, Michlers Keton, Triäthylenglykoldimethacrylat und Samaronmarineblau.

Durch die erfindungsgemäße Herstellung der photopolymerisierbaren Schicht aus Teilschichten sind Negativ-Trockenresistfilme herstellbar, die eine sehr dicke gleichmäßig ausgetrocknete photopolymerisierbare Schicht besitzen und welche zusätzlich durch Kombination verschiedener Komponenten in den Teilschichten zu unterschiedlichen jeweils gewünschten Eigenschaften führen. Vorzugsweise enthält die der Deckfolie benachbarte photopolymerisierbare Schicht einen Haftvermittler. Hierdurch erreicht man eine verstärkte Haftung der photopolymerisierten Schichten auf dem permanenten Substrat bei der Weiterverarbeitung.

In weiterer Ausgestaltung der Erfindung enthält die photopolymerisierbare Schicht mindestens in einer Teilschicht einen Farbstoff. Hierdurch kann die Einfärbung der Schicht gesteuert werden, ohne daß chemische oder physikalische Wechselwirkungen mit anderen zugesetzten Stoffen auftreten, die unerwünscht sind.

Der Aufbau der photopolymerisierbaren Schicht in Teilschichten bringt es auch mit sich, daß die jeweils äußeren Schichten in ihrer Haftung zu temporärer Träger- und Deckfolie eingestellt werden können, so daß nunmehr die Forderung nach unterschiedlicher Hafteigenschaft der Trägerfolien- bzw. der Deckfolien-Oberfläche entfällt. Erfindungsgemäß wird dadurch ein Negativ-Trockenresistfilm geschaffen, welcher die photopolymerisierbare Schicht zwischen Träger- und Deckfolie aus dem gleichen Material enthält, welche gegebenenfalls von unterschiedlicher Dicke sind.

So können im Gegensatz zu den bisher eingesetzten Polyolefinen stippenfreie und dimensionsstabile Polyesterfolien als Deckfolie verwendet werden.

Durch das erfindungsgemäße Verfahren wird eine regelmäßige und glatte Ausbildung der photopolymerisierbaren Schicht und ihre gute Austrocknung erreicht,

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was beim Aufbringen von Lösungen für relativ dicke freigelegten Bereiche des permanenten Schichtträgers Schichten bisher nicht gewährleistet war. Weiterhin ist durch Ätzen oder Abscheiden von Metall modifiziert, es möglich, eine schlechte Planlage der photopolymeri- Das Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß man sierbaren Schicht durch entsprechend«? Schichtkombi- einen Trockenresistfum verwendet, dessen photopolynation zu beseitigen. Dies macht sich ganz besonders 5 merisierbare Schicht aus zwei Lagen besteht, die im beim Aufbau von dicken Schichten auf relativ dünnen kontinuierlichen Verfahren durch Aufbringen einer Lötemporären Trägerfolien bemerkbar, sung, Trocknen, Aufbringen einer zweiten Lösung und

Erfindungsgemäß wird ein Verfahren zur Herstellung nochmaliges Trocknen hergestellt worden sind. gleichmäßig ausgetrockneter dickerer photopolymeri-

sierbarer Schichten im Bereich über etwa 40μπι zur io Beispiel 1 Verfugung gestellt, wobei durch Kombination gleicher

Lösungen oder unterschiedlicher Lösungen Schichten Eine nach Trocknung 30 μπι dicke photopolymeri-

mit gleichen oder unterschiedlichen Eigenschaften der sierbare Schicht wird auf eine 23 μπι Polyesterfolie auf-

jeweils gewünschten Art z. B. Haftung, Einfärbung, gebracht und nach deren Trocknung an einem zweiten

Empfindlichkeit der Schichten, Flankenform, mechani- 15 Antragswerk der Beschichtungsmaschine mit einer wei-

sche Festigkeit bzw. Flexibilität, Widerstandsfähigkeit tgren 30 μπι dicken photopolymerisierbaren Schicht

gegen chemischen oder mechanischen Angriff, erhalten versehen, getrocknet und mit polyolefin-Deckfolie, die

werden. 23 μπι dick ist, kaschiert und aufgewickelt. Die restlöser-

Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es mög- frei ausgetrocknete Doppelschicht ist von gleichmäßi-

lich, erhöhte Lichtempfindlichkeit an der dem Licht ab- 20 ger Qualität und ohne Schichtunruhe. Sie zeigt keine

gewandten Schichtseite durch Verwendung einer licht- streifigen Dickstellen und Durchhänge, wie sie entste-

empfindlicheren Teilschicht oder verstärkte Haftung hen, wenn die relativ dünne 23 μπι Polyesterfolie im

zur temporären Trägerfolie durch Zusatz entsprechen- Einschichtverfahren mit der vergleichsweise schweren

der stärker haftenden Mittel zu erzielen. 60 μπι Schicht versehen wird. Die Beschichtungslösung

Durch Verwendung der gleichen Lösung oder einer 25 besteht aus folgenden Bestandteilen: anderen Lösung oder des gleichen oder eines anderen Photomonomeres, bestehend aus dem Umsetzungs-Lösungsmittels von Beschichtung zu Beschichtung ist produkt von 2,2,4-Trimethyl-hexamethylen-diisocyanat eine weitere Variation dahingehend möglich, daß die mit Hydroxy-äthylmethacrylat (173 g) und einem Ter-Teilschichten an ihren Oberflächen einen Grenzbereich polymeren (200 g), bestehend aus n-Hexyl-methacrylat, aufweisen, der entweder durch Anlösen mit dem glei- 30 Methacrylsäure und Styrol, dem noch zugesetzt sind chen Lösungsmittel eine einheitliche Übergangszone 9-Phenylacridin (6,1 g), Michlers Keton (0,4 g), Triäthyaufweist oder durch Nichtaufweichen der getrockneten lenglykoldimethacrylat (4,6 g), Samaronmarineblau® Oberfläche durch ein nicht .angreifendes Lösungsmittel HGL(I₁Og). zu einer zweiten, völlig von der ersten Beschichtung Beispiel 2 getrennten Zone führen kann. Entsprechende Übergän- 35
ge zwischen diesen Extremen sind ebenso möglich. Auf eine 25 μπι dicke getrocknete Schicht der in Bei-

Das erfindungsgemäße Verfahren bietet gegenüber spiel 1 genannten Zusammensetzung wird im kontinuder mehrfachen Einfachbeschichtung die großen Vor- ierlichen Verfahren eine zweite Schicht von 15 μίτϊ Stärteile, daß das Zwischenaufrollen des Materials völlig ke aufgebracht, die einen auf den Feststoffgehalt bezoentfällt, was zu nachteiligen und verfahrenshemmenden 40 genen Anteil von 0,6% eines Haftvermittlers aus 3-Mer-Verklebungen und Beschädigungen führt, und daß auch captopropionsäureanilid enthält. Die Schicht wird bei eine Zwischenkaschierung bzw. -Delaminierung mit ei- 130°C getrocknet, wie in Beispiel 1 beschrieben mit einer Deckfolie überflüssig wird. ner Deckfolie versehen und aufgewickelt. Die haftver-

Gegenüber dem bekannten Naß-auf-Naß-Antrag hat mittelnde Photopolymerschicht, die durch Auflaminiedas erfindungsgemäße Verfahren den Vorteil, daß nun- 45 ren auf Metalloberflächen in unmittelbaren Kontakt mit mehr dicke und gut ausgetrocknete Schichten herge- der Metallschicht (permanentes Substrat) kommt, zeichstellt werden können, welche eine ganz ausgezeichnete net sich durch besondere Widerstandsfähigkeit gegen-Beschichtungseualität besitzen. über Ablösungserscheinungen beim Aufbau von Ni/Au-

Zur Beschichtung sind alle bekannten Antragsele- Schichten in Galvanobädern aus. mente geeignet, wie sie zum Aufbringen von Lösungen 50

auf Trägeroberflächen und Trocknen derselben ver- Beispiel 3 wendet werden. Hierher gehören zum Beispiel Vorrichtungen mit Walzenantrag oder Sprühvorrichtungen und Durch Beschichtung einer trockenen, auf ein 23 μπι Vorrichtungen wie Strahlungstrockner. dickes Polyesterfolienband aufgebrachten 15 μηι dicken

Vorzugsweise werden als Antragseinrichtung Schlitz- 55 Schicht der in Beispiel 1 genannten Zusammensetzung gießer und als Trocknungseinrichtung Schwebetrock- mit einer 20 μιη dicken Schicht nachstehender Zusamner eingesetzt. mensetzung wird eine photopolymerisierbare Doppel-Erfindungsgemäß wird auch ein Verfahren zur Modi- schicht erhalten.

fizierung der Oberfläche eines permanenten Schichtträ- Als Beschichtungslösung werden 240 g des in Beigers vorgeschlagen, bei dem man die Oberfläche der auf 60 spiel 1 genannten Photomonomeren und ein Terpolyeinem temporären Schichtträger befindlichen photopo- meres verwendet (300 g), das aus Methyl-methacrylat, lymerisierbaren Schicht eines Trockenresistfilms unter n-Hexyl-methacrylat und Methacrylsäure besteht, dem Druck und Erwärmen auf den permanenten Schichtträ- 8,6 g 9-Phenylacridin, 0,8 g Michlers Keton, 6,4 g Tnger aufbringt, die photopolymerisierbare Schicht bild- äthylenglykoldimethacrylat und 2,6 g Samaronmarinemäßig belichtet, den temporären Schichtträger vor oder 65 blau zugesetzt wurden.

nach dem Belichten abzieht, nach dem Abziehen des Die Doppelschicht haftet auf kupfermetallisierten

temporären Schichtträgers die unbelichteten Bereiche Oberflächen wesentlich besser als die Erstschicht allein,

der photopolymerisierbaren Schicht auswäscht und die Dies zeigt sich an folgender Versuchsanordnung:

Wird in die Schicht ein sich kreuzendes Linienmuster eingeritzt, so lassen sich — im Gegensatz zur Erstschicht allein — mit der Klebestreifen-Abziehmethode praktisch keine Schichtteile mehr von der Metalloberfläche abreißen.

Beispiel 4

Eine 15μπι dicke Photopolymerschicht (Schicht I) wurde auf eine Polyesterträgerfolie aufgetragen. Diese ι ο getrocknete Schicht wurde mit einer 20 μπι dicken Schicht versehen, welche aus den in Beispiel 1 genannten Bestandteilen besteht Schließlich wurde an einer dritten Beschichtungsstation in kontinuierlicher Weise eine dritte 15 μπι dicke Schicht (Schicht III) aufgebracht.

Schicht i und IJI bestanden aus einem Copolymerisai von Methylmethacrylat und Methacrylsäure (18 g), Polymethyimethacrylat MG 258 000 (15 g), Weichmacher aus einem Gemisch von Triäthylenglykoldicaprat und -dicaprilat (8 g), Trimethylqlpropantriacrylat (34 g) und einem Terpolymeren von Äthylacrylat, Methyl-methacrylat und Acrylsäure (13 g in 10% Äthylcellosolve), Michlers Keton (1 g) und 9-phenylacridin (2 g).

Der erhaltene Photopolymerfilm zeichnete sich durch plane Lage, eine gute Haftung nach dem Laminieren auf Kupferoberflächen aus, ohne daß er eine nachteilige Sprödigkeit besaß.

abweichendes rotviolettes Phötopolymermaterial mit guter Transparenz und gutem Kontrast zum Kupfer erhalten:

200 g des in Beispiel 1 genannten Photomonomeren und 200 g des dort angeführten Terpolymeren.

Beispiel 5

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Durch Beschichtung einer trockenen 25 μπι dicken Schicht der Zusammensetzung nach Beispiel 1 mit einer 20 μπι dicken Schicht der für Schicht III in Beispiel 4 genannten Zusammensetzung wird unter Beibehaltung einer durch die dickere Schicht hervorgerufenen hohen Lichtempfindlichkeit durch Kombination mit der dünneren Schicht eine in Ni/Au-Galvanobädern resistentere Schicht erhalten.

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Beispiel 6

Eine auf Polyesterträger aufgebrachte photopolymerisierbare Schicht einer in Beispiel 1 genannten Zusammensetzung wird mit einer für Schicht III in Beispiel 4 genannten Zusammensetzung beschichtet

Andererseits beschichtet man die Polyesterträgerfolie erst mit einer Schicht entsprechend Schicht III des Beispiels 4 und gibt dann erst die Lösung der nach Beispiel 1 beschriebenen Art und trocknet

Man crhäit auf diese Weise je nach V/ah! είπε photopolymerisierbare Schichtkombination mit Flanken, deren Winkel mit der Substratoberfläche zwischen stumpf- und spitzwinkliger Form variiert werden können.

Hierdurch wird eine Beeinflussung der Form des Leiterbahnmetallsteges beim anschließenden Galvanoaufbau oder bei der Ätzung erreicht

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Beispiel 7

Durch Kombination einer mit Samaronmarineblau angefärbten Schicht der Zusammensetzung nach Bei- _6S spiel 1 mit einer mit Rhodamin B rot angefärbten Schicht nachstehender Zusammensetzung wird ein in der Durchsicht von der Färbung der Einzelschichten

Claims

Patentanspruch:

Verfahren zur Herstellung eines Negativ-Trokkenresistfilms, bei dem eine photopolymerisierbare Photoresistschicht aut eine flexible, transparente temporäre Trägerfolie aus einem Polyester durch Beschichten mit einer Lösung der Schichtbestandteile und Trocknen aufgebracht und die Oberfläche der Schicht mit einer flexiblen Deckfolie aus Polyethylen abgedeckt wird, dadurch gekennzeichnet, daß im kontinuierlichen Arbeitsgang eine erste Lösung aufgebracht und zu einer ersten Teilschicht getrocknet und danach eine zweite Lösung aufgebracht und zu einer zweiten Teilschicht getrocknet wird.