DE2736867C2

DE2736867C2 - Reproduktionsmaterial, insbesondere Abbildungsfilm zur Verwendung im graphischen Gewerbe, sowie Verfahren zu dessen Herstellung

Info

Publication number: DE2736867C2
Application number: DE2736867A
Authority: DE
Inventors: Masatsugu Birmingham Mich. Izu; Donald J. Novi Mich. Sarrach; Harvey H. Flushing N.Y. Wacks
Original assignee: Energy Conversion Devices Inc
Current assignee: Energy Conversion Devices Inc
Priority date: 1976-09-20
Filing date: 1977-08-16
Publication date: 1986-11-06
Also published as: JPS5339117A; JPS6224778B2; FR2365144B1; BE858777A; FR2365144A1; DE2736867A1; IT1086357B; CA1096684A; GB1560325A; US4138262A; AU2893877A; AU509936B2

Description

c) die aufgedampfte Deckschicht (146, 14c; eine

Schichtdicke zwischen 150 und 350 nm aufweist Die Erfindung bezieht sich auf ein Aufzeichnungsma-

und deren der lichtempfindlichen Schicht (16; 30 terial, das insbesondere als Abbildungsfilm im graphi-54) zugewandte Seite eine rauhe Oberfläche mit sehen Gewerbe Verwendung findet und bei dem auf dem schwarzen bzv. matte. Aussehen aufweist einem biegbaren transparenten Schichtträger eine Zwischenschicht nach dem Oberbegriff des Patentan-

2. Aufzeichnungsmaterial nac^ Anspruch 1, da- Spruchs 1 aufgebracht ist welche als Unterlage für eine durch gekennzeichnet daß die Außenfläche der 35 lichtempfindliche Schicht dient

Deckschicht mindestens teilweise säuienartige, ver- Ein derartiges Aufzeichnungsmaterial ist bereits vor-

tikal orientierte Kristalle bzw. Körner (IcJ mit geschlagen worden (Patentanmeldung P 27 23 613.1).

gwölbten Spitzen bzw. äußeren Enden und tiefe Dabei wird die Zwischenschicht aus Wismut gebildet

Korngrenzen aufweist. und direkt auf dem Schichtträger aufgedämpft Die eine

3. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1 oder 2, 40 Schichtdicke zwischen 25 und 300 nm aufweisende Wisdadurch gekennzeichnet, daß die Verankerungs- mutschicht kann auch durch eine andere metallische schicht (14a,) und die Deckschicht (146, Hc) aus einer Schicht aus Aluminium, Zink, Tellur oder einer Tellur-Wismut und Zinn und/oder Blei aufweisenden Me- Legierung einer Schichtdicke zwischen 50 und 500 nm tall-Legierung bestehen. ersetzt sein. Die Wismutschicht ist gegenüber beispiels-

4. Aufzeichnungsmaterial nach, einem der vorher- 45 weise einer Tellurschicht vorteilhaft in bezug auf die gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß optische Dichte.

die Verankerungsschicht (14a; aus polykristallinen Darüber hinaus ist ein Aufzeichnungsmaterial beKörnern mit regelloser Ausrichtung gebildet ist. kannt (DE-OS 25 46 394), bei dem Wismut einen gerin-

5. Aufzeichnungsmaterial nach einem der vorher- gen Anteil eines unter Verwendung von Tellur gebildegehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß 50 ten glasartigen Halbleitermaterials bildet. Dieses bedie Deckschicht (146,14c) eine Dicke zwischen etwa kannte Aufzeichnungsmaterial soll als Kopierfilm ohne 170 und 250 nm aufweist. Silber Verwendung finden.

6. Verfahren zur Herstellung eines insbesondere Darüber hinaus ist ein Aufzeichnungsmaterial beschichtförmigen Aufzeichnungsmaterials nach ei- kannt (DE-OS 25 18 451), bei dem Wismut als zusätzlinem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem min- 55 ehe Schicht auf einer aus Aluminium bestehenden Zwidestens Teile der Zwischenschicht auf den Schicht- schenschicht aufgedampft ist. Dabei hat das Aluminium träger aufgedampft und auf die Zwischenschicht die die Aufgabe, Chrom zum schnelleren Ätzen zu ersetzen, lichtempfindliche Schicht aufgebracht wird, dadurch Ferner ist es bekannt (US-PS 39 25 079), dekorative gekennzeichnet daß die Wismut enthaltende Zwi- Artikel mit einer sehr kontrastierenden Färbung herzuschenschicht in zwei aufeinanderfolgenden Stufen 60 stellen, von denen eine Farbe weiß is). Diese weiße auf dem Schichtträger aufgetragen wird, indem Wis- Farbe wird durch eine Aluminiumoxidoberfläche erzielt, mut oder eine Wismutlegierung in der ersten Stufe während die kontrastierende Schwarzfärbung durch als Verankerungsschicht mit einer Schichtdicke zwi- Wismutoxide erreicht wird.

sehen 0,5 und 10 nm auf den Schichtträger aufge- Bei der Erfindung geht es jedoch darum, das Aufstäubt und in der zweiten Stufe auf die aufgestäubte ö', /cichnungsmaterial, das eine lichtempfindliche Schicht Verankerungsschicht als Deckschicht mit einer enthält,gegenüber üblichen Silberhalogenid-Emulsions-Schichtdicke zwischen 150 und 350 nm aufgedampft filmen und Diazofilmcn hinsichtlich seiner Eigcnschafwerden. ten zu verbessern.

Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, das Aufzeichnungsmaterial der eingangs genannten Gattung bei sparsamer Verwendung teurer Materialien für die lichtempfindliche Schicht mit hohem Kontrastreichtum und großer Randschärfe sowie besserer Unterscheidbarkeit der lichtempfindliche Schichtseite vcn der Rückseite der Trägerschicht auszustatten. Dabei soll sich das Aufzeichnungsmaterial auch durch eine gute Verbundwirkung dev einzelnen Schichten untereinander mit dem Ergebnis auszeichnen, daß die einzelnen Schichten auch ι ο auf biegbaren Trägerfilmen gut haften.

Die Erfindung ist im Patentanspruch 1 gekennzeichnet und in Unternsprüchen sind weitere Ausbildungen derselben beansprucht

Nach der Erfindung ist die Zwischenschicht in zwei Teilschichten, nämlich eine aufgestäubte sehr dünne Grenzschicht und eine aufgedampfte etwas dickere Verbindungsschicht aus jeweils Wismut oder einer Wismutlegierung aufgebaut Dabei sind mindestens Teile der Grenz- oder Verankerungsschicht in die Trägeroberfläche eingebettet Die dem Träger zugewandte Grenzschichtseite wirkt metallisch glänzend bzw. ist reflektierend, während die der lichtempfindlichen Schicht zugewandte Seite ein schwarzes bzw. mattes Aussehen mit verhältnismäßig rauher Oberfläche aufweist

Gemäß der Erfindung wird ein Aufzeichnungsmaterial und ein Verfahren zu dessen Herstellung betroffen, das sich wesentlich von den bisher im graphischen Gewerbe angewendeten Abbildungsfilmen unterscheidet, und zwar nicht nur vom Standpunkt des daraus erhältlichen Endproduktes, sondern auch von der Warte dessen Bearbeitungseigenschaft, trocken auf trocken nach dem Belichten mit einfachen leicht zu behandelnden nicht nachteilig wäßrigen oder im wesentlichen wäßrigen Ätzmitteln im Einstufen- oder Mehrstufensystem in weniger als einer Minute. Der Film gemäß der Erfindung hat einen extrem hohen Kontrast und eine große Randschärfe, die bei den üblichen im graphischen Gewerbe angewendeten Filmen, wie Halogensilber-Emulsionsfilmen und Diazofilmen nicht erreichbar sind. Das Auflösungsvermögen bzw. die Schärfe des Abbildungsfilms gemäß der Erfindung ist so hoch wie 600 Linien pro Millimeter oder etwa das 3fache des Auflösungsvermögens von Halogensilber-Emulsionsfilmen. Der Abbildungsfilm gemäS der Erfindung weist darüber hinaus ein Gamma (y) bzw. einen maximalen Gradienten der Gradation von angenähert 20 oder mehr im Vergleich zu 10 für Halogensilber-Emulsionsfilme und 2 bis 3 für Diazofilme auf. Der Feim hat außerdem eine konstante maximale optische Dichte von 5 oder mehr, die bei der so Herstelhngsstufe des Films bestimmt wird. Halogensilber-Emulsionsfilme und Diazofilme haben andererseits eine maximale optische Dichte in der Größenordnung von 3, die veränderlich ist und in der Behandlungsstufe bestimmt wird. Die optische Minimum-Dichte des erfindungsgemäßen Films ist 0,02 und sie ist konstant Die Minimum-Dichte wird auch während der Herstellungsstufe des Films bestimmt. Halogensilber-Emulsionsfilme und Diazofilme haben eine Minimum-Dichte von etwa 0,04, die wie im Fall der Maximum-Dichte solcher Filme eo veränderlich ist und erst in der Entwicklungsstufe der Filme bestimmt wird. Die minimale optische Dichte (oder auch Densität bzw. Transparenz genannt) von Diazofilmen ist stark von der Wellenlänge des Lichtes abhängig, das zur Messung der optischen Dichte verwerdet wird. Die optischf Minimum-Dichte nimmt von 0,04 bis zur Größe von 0,4 beim Abfall der Wellenlänge von 500 nm auf 360 nm zu. Außerdem ist die Bemerkung von Bedeutung, daß der Belichtungsurnfang bzw. -Spielraum des Films, in log (E - t) zweimal so groß ist wie derjenige von Halogensilber-Emulsionsfilmen und Diazofilmen, d. h. 0,6 log (E · T) im Vergleich zu 0,3 log (E - T). Der Film hat außerdem exzellente Archiveigenschaften und hervorragende Dimensionsstabilität auch unter feuchten Bedingungen. Das Kraquelieren bzw. die Bildung von Haarrissen in der fotoresistiven Schicht, die zu Fehlern im mit dem Bild versehenen Film führt und ein nicht selten festgestelltes Problem bei konventionellen metallisierten Filmen mit einer metallischen fotoresistiven Grenzfläche bzw. Grenzschicht auf einem biegbaren Träger auftritt, ist bei dem Film nach der Erfindung im wesentlichen nicht vorhanden und zwar wegen der hervorragenden Bindung zwischen der fotoresistiven und der aufgerauhten Fläche der Wismutschicht bzw. Wismut enthaltenden Schicht Ebenfalls in klarem Unterschied zu konventionellen metallisierten Filmen vermindert der Film gemäß der vorliegenden Erfindung die unerwünschte Reflexion von anfallender Strahlung durch die metallische Schicht sowohr während des Belichtens als auch wenn der Film als Muster verwendet wird, beträchtlich. Der Film hat ferner eine leicht unterscheidbare Dunkelheit, oder eine im wesentlichen nicht reflektierende Seite, und eine stark reflektive oder leuchtende Seite, die der Bedienungsperson die Feststellung erleichtert, auf welcher Seite des Films sich das lichtempfindliche Material befindet; außerdem kann das Bild auf dem Film leichter visuell festgestellt werden. Der Film kann als zu duplizierender Positiv- oder Negativfilm und gemäß einer Ausbildung der Erfindung als ein fotographischer Filmkamerafilm verwendet werden. Das punktförmige Ätzen bzw. Rastern des Films kann ohne irgendeinen begleitenden Punktdurchgangs-Dichteverlust durchgeführt werden, der beim Punktätzen mit Halogensiiber-Emulsionsfilmen auftritt; dieses Ergebnis kann darüber hinaus mit Ätzmitteln bzw. Ätzlösungen erzielt werden, die nicht teuer und sicher zu verwenden sind, die rasch wirken und noch leicht steuerbar sind, die rasch wirken und noch leicht steuerbar sind und die die lästigen Misch-, Speicher- und Bedienungsprobleme vermeiden, die die Ätzmittel charakterisieren, welche beim Punktätzen von Halogensilber-Emulsionsfilmen angewendet werden. Ober die oben genannten Vorteile und herausragenden Eigenschaften des Films hinaus verlangt der erfindungsgemäße Film kein Silber enthaltendes Material für das endgültige bildformende Material und kann daher mit Kosten hergestellt werden, die im wesentlichen niedriger sind als die Kosten der Herstellung von Halogensilberfilmen und zwar mit Kosten, die vergleichbar sind mit den billigeren Diazofilmen.

Kurzum, der Abbildungsfilm gemäß der Erfindung weist einen biegbaren transparenten Schichtträger aus insbesondere Kunststoff auf, der an einer Oberfläche eine dünne durchgehende optisch sehr dichte niedergeschlagene Zwischenschicht nach dem Anspruch 1 ?.us Wismut oder iiner Wismutlegierung aufweist Die Schicht aus Wismut ist stark opak und hat anfangs ein mattes graues Aussehen. Die äußere Oberfläche der Wismutschicht ist rauh bzw. aufgerauht und leicht geeignet zur Aufnahme eines fotoaktiven bzw. lichtempfindlichen Materials, das sowohl als fotoresistive als auch als schützer.tls Deckschicht bzw. Überzug für das Wismut wirkt. In diesem Zusammenhang wurde überraschenderweise gefunden, daß gemäß der Anwendung der fotoaktiven Materialschicht auf der Wismutschicht die fotoaktive Materialschichtseite des Films schwarz.

nichtleuchtend und im wesentlichen nicht reflektierend ist und überraschenderweise den Eindruck eines Halogensilber-Emulsionsfilms macht. Es wurde außerdem gefunden, daß die rauhe Oberfläche der Wismutschicht eine hervorragende Basis für die lichtempfindliche Materialschicht bietet und die Bildung einer Bindung zwischen den zwei Schichten gewährleistet, die das Bilden von Haarrissen in der lichtempfindlichen Materialschicht im wesentlichen verhindert. Diese Eigenschaft des erfindungsgemäßen Films ist wesentlich für Anwendungen im graphischen Gewerbe; dort ist es üblich, große Filmschichten während des Behandeins zu biegen. Wie dargelegt, kann die lichtempfindliche Schicht ein negativ wirksames oder ein positiv wirksames Material sein. Gemäß einer Ausbildung der Erfindung kann die lichtempfindliche Schicht mit einem Film einer fotographischen Emulsion versehen sein, um der gesamten Struktur Eigenschaften zu verleihen, die zur Anwendung in Filmkameras bzw. bei Kamerageschwindigkeiten verlangt werden.

Gemäß der Erfindung wird eine erste oder Verankerungsschicht aus Wismut durch Zerstäuben auf dem Schichtträger erzeugt Eine zweite oder Deckschicht aus Wismut wird danach durch Aufdampfen auf der ersten Schicht niedergeschlagen. Das Aufstäuben und Aufdampfen von Wismut wird zweckmäßigerweise kontinuierlich nacheinander oder in Stufen in einem ununterbrochenen Verfahren in der gleichen Kammer durchgeführt Die Technik des ersten Aufstäubens eines Metalls auf einer Oberfläche und das anschließende Anbringen einer Schicht des gleichen Metalls oder eines anderen Metalls auf der aufgestäubten Schicht ist beispielsweise in der japanischen Patentanmeldung 47/101 550 beschrieben. Diese Anmeldung gibt jedoch keine Lehre in bezug auf Verwendung von Wismut und zur Anwendung im graphischen Gewerbe. Die Aufgaben der vorliegenden Erfindung werden am vorteilhaftesten durch die Verwendung des Zerstäubers gelöst, da die aufgestäubte Wismut-Verankerungsschicht eine bessere Adhäsion zwischen dem Träger und der Wismut-Deckschicht mit dem Ergebnis zustande bringt, daß der vollständige Film im wesentlichen frei von Defekten, wie Durchschlagsstellen und Kratzern, bleibt, die während der Filmherstellung auftreten können.

Der flexible Kunststoffträger ist zweckmäßigerweise transparen: bzw. glasklar und nicht gasauslassend, d. h. er soll kein Gas, gewöhnlicherweise Luft oder Wasserdampf, unter Vakuumverbindungen emittieren oder irgendein anderes flüchtiges Material freigeben. Darüber hinaus sollte der Träger frei von Poren bzw. Lücken und von Oberflächenirregularitäten sein, die Anlaß zur Bildung von Durchschlagsstellen in der endgültigen Struktur geben können. Über die vorgehenden Betrachtungen hinaus sollte der Film eine gute Dimensionsstabilität haben, weswegen biaxial ausgerichtete Filme bevorzugt werden. Als Beispiele für Schichtträger, die für Zwecke der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, sind Polyester, insbesondere Polyäthylenterphthalate, Polystyrole, Polyäthylene, Polypropylene und dergleichen. Besonders bevorzugt ist Polyesterfilm, der gekennzeichnet ist durch seine außerordentlich glatte bzw. ebene Oberfläche, seine Klarheit seine Porenfreiheit und seine hervorragende Dimensionstabilität Die Dicke des Trägers kann zwischen 0,05 und 0,18 mm, vorzugsweise zwischen 0,07 und 0,13 mm, betragen.

Das zur Herstellung des erfindungsgemäßen Films verwendete Wismut sollte eine hohe Reinheit, vorzugsweise vom kommerziellen Grad einer Reinheit von 99,99%, sein. Wie zuvor erwähnt und in größeren Einzelheiten später noch beschrieben wird, wird das Wismut an einer Oberfläche des Substrats in zwei Stufen niedergeschlagen. In der ersten Stufe wird das Wismut auf dem Film in einer solchen Weise abgeschieden, daß mindestens ein Teil des Wismuts in die Oberfläche des Schichtträgers bzw. des Kunststoffilms eindringen kann. Diese Anfangsschicht aus Wismut dient zur Schaffung von Kristallisationszentren bzw. -kernen zum Abscheiden zusätzlichen Wismuts an der Trägeroberfläche und muß daher nicht kontinuierlich oder als feste Schicht ausgebildet sein.

Die Anfags- bzw. Verankerungsschicht dient außerdem zur Gewährleistung der Vorzugsorientierung von Wismutatomen zur Schaffung von Lichtabsorption oder einer »schwarzen« Wismutschicht. Im allgemeinen gesprochen wird die optische Dichte der Anfangsschicht aus Wismut sich im Bereich von etwa 0,01 bis etwa 0,05 befinden und eine durchschnittliche Dicke von etwa 0,5 bis etwa 10 nm, üblicherweise zwischen etwa 1 bis 5 nm mit einer bevorzugten Dicke von etwa 3,5 nm, haben.

Die äußere Deckschicht aus Wismut wird auf die Anfangsschicht in einer solchen Weise Vakuum aufgedampft, daß eine rauhe äußere Oberfläche auf der obersten Schicht entsteht Wenn die optische Dichte zunimmt, nimmt auch die Rauhigkeit der niedergeschlagenen Wismutschicht zu. Die Wismutschicht hat ein glänzendes metallisches Aussehen über dem Bereich der optischen Dichte von 3 oder weniger, im Bereich der optischen Dichte von 3,5 und darüber hat sie ein mattes, nicht glänzendes oder nicht metallisches Aussehen. Wie oben dargelegt, kann das matte, nicht glänzende Aussehen des Films ohne die aufgestäubte Wismutschicht erzielt werden. Die Dicke der äußersten Schicht befindet sich im Bereich zwischen etwa 150 und etwa 350 ηm üblicherweise zwischen etwa 170 und etwa 250 nm. Die bevorzugte optische Dichte der gesamte Wismutschicht befindet sich im Bereich zwischen etwa 3,5 und etwa 7; eine optische Dichte von etwa 5 ist besonders bevor-ZUgt

Wie bereits dargelegt können auch Wismutlegierungen verwendet werden. Spezielle Beispiele solcher Legierungen sind Wismut mit Zinn, Wismut mit Blei, Wismut mit Zinn und Blei und dergleichen.

In Fig. 1 und 2 der beiliegenden Zeichnung ist der erfindungsgemäße Abbildungsfilm 10 in stark vergrößerten perspektivischen Ansichten in den Stufen seiner Bildung dargestellt Die Zeichnung ist so zu verstehen, daß sie zur Veranschaulichung des Films zur Erläuterung der Erfindung in der Beschreibung dient .:nd daß der Film und die Materialschichten, die er aufweist, eine zu der dargestellten unterschiedliche Form aufweisen kann, je nach den Herstellungstechniken und den zur Herstellung des Films verwendeten Materialien.

Gemäß F i g. 1 weist das Substrat bzw. der Schichtträger 12 aus Kunststoff eine an einer Oberfläche desselben niedergeschlagene Anfangs- oder Verankerungsschicht 14a aus Wismut auf. Mindestens ein Teil der Wismutatome sind in die äußere Oberfläche des Trägers 12 eingedrungen und in den Träger eingebettet

Gemäß F i g. 2 wird die Anfangs-, Grenz- oder Verankerungsschicht 14a aus Wismut durch die Bereichszone veranschaulicht die mit »a« bezeichnet ist Auf der Verankerungsschicht 14a ist eine Zwischenzone »b« von meistenteils regellos ausgerichteten Wismutkristallen 146 niedergeschlagen. Diese Zwischenzone kann eine Dicke im Bereich zwischen etwa 120 und 180 nm, üblicherweise etwa 160 nm. aufweisen. Die oDtische Dichte

dieser Zone befindet sich im Bereich zwischen etwa 3 und 4 oder auch mehr oder weniger. Wenn der Wismutniederschlag zunimmt, wird die Zone »c« von säulenartigcn Körnern 14c, bestehend aus vorzugsweise vertikal ausgerichteten Kristalliten mit gewölbten Spitzen oder Enden und tief hineinragenden Korngrenzen gebildet.

Plj.se Zone kann eine Dicke im Bereich zwischen etwa 30 bis 180 nm, vorzugsweise etwa 60 nm aufweisen. Die optische Dichte der Gesamtschicht 14 aus Wismut ist wie oben erwähnt vorzugswe^;re etwa 5. Die stark gerauhte Oberfläche, die durch die säulenförmigen Körner gebildet ist, stellt eine hervorragende Oberfläche zur Verankerung der Schicht 16 aus lichtempfindlichem oder fotoaktivem Material dar. Die sich ergebende integrierte Struktur vermindert die Möglichkeit der Bildung von Rissen oder Haarrissen in der Schicht 16 erheblich.

Die zur Verwendung bei der Herstellung des Abbildungsfilms gemäß der Erfindung dienenden fotoaktiven oder lichtempfindlichen Materialien können aus einer großen Gruppe ausgewählt werden. Wie bereits dargelegt, wirkt das lichtempfindliche Material nicht nur als Lichtwiderstand für den Abbildungsfilm, sondern dient es auch als schützende Überdeckung für die darunter liegende vergleichsweise weiche Wismutschicht, in diesem Zusammenhang ist es erwünscht, solche fotoaktiven Materialien auszuwählen, die eine Härte, gemessen auf der Mohs-Skala, von nicht weniger als etwa 3,5 und vorzugsweise nicht weniger als 4 aufweisen. Das lichteiT ;>findliche Material sollte ferner eine Spektralempfindlichkeit über den Wellenlängenbereich von etwa 300 bis etwa 450 nm aufweisen. Die Dicke der fotoaktiven Materialschicht ist etwas variabel. Die im allgemeinen optimale Aufgabenlösung gemäß der Erfindung wird jedoch mit lichtempfindlichen Materialschichtdicken im Bereich von etwa 0,5 bis etwa 5 μΐη mit einem Vorzugsbereich zwischen etwa 1,5 und etwa 2 μπι erzielt. Wie bereits beschrieben können sowohl negativ wirksame als auch positiv wirksame lichtempfindliche Materialien bei der Herstellung des Films nach der Erfindung benutzt werden.

Typische Beispiele für negativ wirksames lichtempfindliches Material, das zu Zwecken nach der Erfindung verwendbar ist, sind bestimmte Diazoverbindungen, insbesondere die hohen Molekulargewichts-Kondensationsprodukte von Diazoverbindungen und Formaldehyd, exemplifiziert durch das Kondensationsprodukt von Diphenylamin-4-Diazosalzen und Formaldehyd. Außerdem nützlich als lichtempfindliche Materialien sind in organischen Lösungsmitteln lösbare Diazoverbindungen, die durch Reagieren von oben erwähnten Verbindungen mit hohem Molekulargewicht mit organischen Verbindungen herstellbar sind, die Phenolhydroxydgruppen, Phosphonsäuregruppen, Phosphingruppen, Carboxylsäuregruppen, Sulfonsäuregruppen oder dergleichen aufweisen. Spezielle Beispiele solcher Diazoverbindungen sind in den US-PSen 35 10 307, 35 91 575 und 36 69 660 beschrieben. Diese lichtempfindlichen Verbindungen können allein oder in Mischung mit anderen organischen Polymeren, wie Polyvinylacetat, verwendet werden.

Andere nützliche, negativ wirksame, lichtempfindliche Materialien sind synthetische organische Polymere, die mit organischen Azidoverbindungen sensibilisiert sind. Beispiele solcher organischer Polymere sind cyclisierte Polyisoprene, Polybutadiene, Polyvinylpyrrolidone, Polyacrylamide, Copolymere von Acrylsäure und dergleichen. Spezielle Beispiele von organischen Azidoverbindungen, die verwendet werden können, sind 4,4'- Diazochalkon( = 4.4'- Diazo Benzalacetophenon, = 4,4'-Diazo-1 ,S-diphenyl^-propen-1 -on), 2,6-di-

(4'-Azidobenzol)4-Methylcyclohexanon, p-Azidobenzophenon, 4,4'-Diazidostilben-2,2'-Disulfonsäure und dgl.

Außerdem zweckmäßig als negativ wirksame lichtempfindliche Materialien sind Fotopolymerisationssysteme, die bereits bekannt sind. Ein typisches Beispiel solch eines Systems ist eine Zusammensetzung, die ein

ίο Polymer mit äthylenisch ungesättigten Seitenketten und eine lichtempfindlich machende Komponente Benzoin oder deren Derivate enthält.

Verschiedene negativ wirksame fotoempfindliche Materialien, die bei der Praktizierung der Erfindung verwendet werden können, sind kommerziell erhältlich, so z. B. das aus Paraformaldehyd und 4-Diazodiphenylaminbisulfat hergestellte wasserlösliche Diazoharz hohen Molekulargewichts ist geeignet. Außerdem kann das Fotopolymer Polyvinylcinnamat oder ein Erzeugnis, das Polyisoprene niedrigen Molekulargewichts und eine aromatische Diazidverbindung aufweist, verwendet werden.

Positiv arbeitende lichtempfindliche Materialien, die zur Herstellung der Struktur gemäß der Erfindung verwendet werden, können ebenso wie die negativ arbeitenden Materialien aus einer großen Gruppe ausgewählt werden. Ein Beispiel für ein solches lichtempfindliches Material ist eine o-Chinon-Diazidverbindung. Materialien dieses Typs sind beispielsweise in den US-PSen 32 10 239 und 30 46 120 beschrieben. Ein Beispiel eines anderen positiv wirksamen Materials, das verwendet werden kann, ist die Verbindung, die 2,3,4-Trihydroxybenzophenon-naphthochinon-( 1,2)-diazid-(2)-5-Sulfonsäureester und ein m-Kresolformaldehyd-Novolakharz enthält.

Diese Produkte können modifiziert werden, um spezielle Forderungen bezüglich Festkörpergehalt, Viskosität, Härte u. dgl. durch Vermischen miteinander zu erfüllen.

Die Eigenschaften der fotoaktiven oder lichtempfindlichen Materialschicht des Abbildungsfilms können verändert werden, um spezielle Forderungen, insbesondere in bezug auf deren Viskosität und die Härte der endgültigen fotoaktiven Materialschicht, zu erfüllen. Verschiedene Polymere einschließlich Polyvinylacetat, Polyvinylchlorid, Phenoplaste Styrolharze und dergleichen können in die fotoaktiven Materialien eingebaut werden, um deren Eigenschaften wie gewünscht zu ändern. In F i g. 3 der Zeichnung wird ein bevorzugtes System

zur Herstellung des Abbildungsfüms gemäß der Erfindung schematisch dargestellt. Das System weist eine Metallisierungsstation 20, eine Anbringungsstation 22 für das fotoaktive Material, eine erste Trockungsstation 24, eine zweite Trocknungsstation 26 und eine Aufwikkelstation 28 auf. Die Metallisierungsstation 20 besitzt eine luftdichte Metallisierungseinheit 30, die eine Kammer 30a aufweist, in welcher eine Kunststoffträger-Zuführwalze 32, eine Wismut-Zerstäubungskathode 34, ein Wismut-Aufdampfelement 36, eine wassergekühlte Trommel 38, eine Monitoreinrichtung 40 und eine Aufnahmewalze 42 angeordnet sind.

Eine Rolle biegbaren Kunststoff-Schichtträgermaterials wird zu anfangs auf die Zuführungswalze 32 gebracht. Falls erwünscht kann die Rolle aus Kunstoff-Schichtmaterial vor dem Einführen in die Kammer 30a zum Befreien eingeschlossener Gase umgewickelt werden. Die Kammer 30a wird unter Vakuum der Größenordnung von l0-^6Torr gehalten und ein inertes Gas, wie

hochreines Argon, wird in die Kammer 30a eingeführt, um einen Basisdruck von etwa 5 bis 10 ■ 10-^3Torr zu entwickeln.

Wenn das biegbare Kunststoff-Schichtträgermaterial von der Walze 32 abgewickelt wird, wird es an der Wismut-Zerstäubungskathode 34 vorbeigeführt. Die Vorschubgeschwindigkeit ist variabel. Die Temperatur des Schichtträgti's wird, wenn es an der Wismut-Kathode 34 vorbeiläuft, durch die Trommel 38 auf einer Temperatur gehalten, die sich unterhalb der Formänderungstemperatur des Schichtträgers befindet, aber genügend hoch ist, um das Schichtträgermaterial thermisch zu erweichen, damit die stark beschleunigten Wismutatome, die von der Wismut-Kathode 34 emittiert werden, in die Oberfläche des Schichtträgers eindringen können. Wie bereits oben erwähnt, wird lediglich eine sehr dünne Wismutschicht auf dem Schichtträger in dieser Herstellungsstufe des Films niedergeschlagen. Die aufgestäubte Verankerungsschicht, die auf dem Kunststoff-Schichtträger hergestellt ist, sorgt für die nötige feste Bindung oder Adhäsion zwischen dem Schichtträger und dem Wismut und schafft ferner Stellen mit Kristallisationskernen oder -Zentren, die als Verbindungsüberzug für die später durch Aufdampfen niederzuschlagende Deckschicht aus Wismut wirken. Wie ebenfalls oben erwähnt, dient die aufgedampfte Wismutschicht dazu, daß die Wismutatome notwendigerweise bevorzugt orientiert werden, um eine lichtabsorbierende Wismutschicht auf den Film herzustellen. Das Ausmaß des Eindringens der Wismutatome in den Kunststoff ist variabel, vorzugsweise ist es jedoch in der Größenordnung von einigen Atomschichten in der Dicke.

Nachdem der Schichtträger die Zerstäubungskathode 34 verlassen hat, wird er einem Temperaturabfall unterworfen und befindet sich nicht länger im thermisch erweichten Zustand. Wenn er um die wassergekühlte Trommel läuft, tritt es in eine Wismutdampfwolke ein, die von dem Verdampfungselement 36 herrührt. Das Element 36 besitzt eine widerstandserhitzte Kohlenstoffschale mit Einschlüssen von marktgängig reinem Wismutmetall in einem geschmolzenen Zustand. Die Kondensation des verdampften Wismuts findet auf der aufgestäubten Wismut-Grenzschicht mit den Wismutatomen statt Die Temperatur des Wismuts wird auf einer Temperatur gehalten, die ausreichend hoch ist, um das Wismut zu verdampfen und eine Dampfwolke zu bilden. In dem gezeigten System kann die Temperatur an dieser Stelle 500⁰C überschreiten. Da sich das verdampfte Wismut an der aufgestäubten Wismutschicht kondensiert, wird die Erzielung einer bevorzugt säulenartigen vertikalen Orientierung bzw. Ausrichtung, wie schematisch in F i g. 2 dargestellt ist, angenommen. Anders ausgedrückt, kondensiert das verdampfte Wismut auf der aufgestäubten Verankerungsschicht aus Wismut, deren Korngrenzen als ein vertikales Muster vorzugsweise für laterales Wachstum angenommen werden.

Nach dem Passieren des Verdampfungselements 36 tritt der mit Wismut überzogene Schichtträger an der Monitoreinrichtung 40 vorbei, die optisch die Dicke der Wismutschicht feststellt. Der überzogene Schichtträger wird dann auf der Walze 42 wieder aufgewickelt Nach dem Beendigen des Wismutauftragens wird die Kammer 30a mit trockenem Stickstoffgas bis auf einen Druck von etwa 1 at gefüllt. Die Einheit 30 wird danach geöffnet und die Rolle des mit Wismut überzogenen Schichtträgermaterials wird herausgenommen. In dieser Stufe hat die Wismutschicht ein mattes Aussehen mit einer grauen Oberfläche. Wenn die Wismutschicht der Atmosphäre ausgesetzt wird, kann sich ein dünner Film oder eine Monc3chicht aus Wismutoxyd auf den ausgesetzten Oberflächen der Wismutschicht bilden. Die BiI-dung des Oxyds an der Wismutschicht verstärkt neben anderen Dingen das matte graue Aussehen der Schicht. Der mit Wismut überzogene Schichtträger ist nunmehr zum Überziehen mit einer Schicht eines fotoaktiven Materials bereit. Wie dargelegt, kann dies ein nega-

tiv oder ein positiv wirksames Material sein. Das Überziehen der Wismutschicht mit dem fotoaktiven Material kann vorteilhafterweise durch einen in der Zeichnung an der Station 22 schematisch gezeigten Wismutkopf erzielt werden.

Der Walzenüberzugsapparat wird vorzugsweise gesteuert, um einen dünnen Überzug des lichtempfindlichen Materials auf der Wismutschichi: ohne Verursachung einer Beschädigung zu bemessea Nach dem Auftragen des lichtempfindlichen Materials auf die Wismutschicht an der Station 22 bewegt sich der Abbildungsfilm zur ersten Trocknungsstation, der Station 24, an der er der Hitze von einer Reihe von Infrarotlampen 24a unterworfen wird. Die Filmtemperatur an der Station 24 ist in der Größenordnung von 100⁰C. Die von den Lampen 24a zugeführte Wärme veranlaßt die lichtempfindliche Materialschicht sehr stark, einige der flüchtigen Agenzien in der Schicht abzugeben, wodurch die Möglichkeit des Einschlusses von flüchtigen Mitteln stark reduziert wird. Danach läuft der Abbildungsfilm durch die Station 26, die einen Konvektionstrockner aufweist, der ebenfalls eine Filmtemperatur von angenähert 100⁰C aufrechterhält. Die Vorschubgeschwindigkeit des Films durch die Stationen 22, 24 und 26 ist variabel. Allgemein gesprochen, kann die Vorschubgeschwindigkeit jedoch zwischen 6 und 30 m pro Minute betragen. Der getrocknete Film wird dann auf angenähert Raumtemperatur gekühlt und an der Station 28 aufgewickelt. Gemäß der bevorzugten Ausbildung der Erfindung kann Pergamin papier während des Aufwickeins des getrockneten Abbildunpsfilms eingeschossen bzw. eingeschichtet werden. Die Vorgänge an den Stationen 22, 26 und 28 werden vorzugsweise unter im wesentlichen staubfreien Bedingungen durchgeführt Nach diesem Überzugsvorgang weist die FiImoberfläche eine schwarze nichtglänzende nichtmetallische Erscheinung auf, die derjenigen von Halogensilber-Emulsionsfilmen gleichkommt

Wie bereits dargelegt kann der Reproduktionsfilm so behandelt werden, daß er die fotographischen oder für

so Filmkameras erforderlichen Eigenschaften aufweist Eine Ausbildung solch eines Abbildungsfilmes ist in Fig. 13 dargestellt. Wie gezeigt, weist der Film einen Träger 50 auf, der darauf eine Wismutschicht 52 besitzt, die in der oben beschriebenen Weise aufgebracht wurde. Ein fotoaktives Material 54 ist auf die oberste Wismutschicht aufgebracht und diese Schicht wiederum besitzt eine Abdeckschicht 56 aus einer Halogensilber-Emulsion. Zu diesem Zweck können übliche Halogensilber-Emulsionen verwendet werden. Es wird jedoch bevorzugt, eine fotographische Emulsion zu verwenden, die in der Lage ist eine optische Dichte von mehr als 1 zu entwickeln und durch einfache Verfahren entfernbar ist die die lichtempfindliche Materialschicht 54 oder das darauffolgende Entwickeln dieser Schicht nicht beeinträchtigt Halogensilber-Emulsionssysteme, die einen internen Entwickler enthalten, genügen diesen Anforderungen. Die Dicke der fotographischen Emulsionsschicht ist in gewissem Ausmaß variabel. Gemäß der

bevorzugten Ausbildung der Erfindung ist es jedoch wünschenswert, die Dicke dieser Schicht aus dem Bereich von etwa 1 bis 5 μηι, üblicherweise zwischen etwa 2 und 3 μπι, auszuwählen. Es sei bemerkt, daß die Menge des für die vorliegende Erfindung erforderlichen Halogensilbers wesentlich geringer als diejenige ist, die bei üblichen Halogensilberfilmen für graphische Zwecke einschließlich der Fototechnik verwendet werden.

Bei der Verwendung dieser Ausbildung der Erfindung wird der Film bildweise aktinischer Strahlung ausgesetzt, die ausreichend ist, um die Halogensilber-Emulsion zu sensibilisieren. Das in der Emulsionsschicht gebildete Bild wird dann entwickelt. Das resultierende Bild wird dann benutzt, um bildweise die lichtempfindliche Schicht 54 zu belichten. Danach wird das in der Halogensilber-Emulsionsschicht gebildete Bild entfernt und der Film wird entwickelt, um ein Bild in der Wismutschicht zu erzeugen.

In Fig.4 bis 11 wird der »punktweise geätzte« bzw. rasterartip abgetragene Abbildungsfilm gemäß der Erfindung gezeigt. Der in F i g. 4 veranschaulichte Film ist in F i g. 5 in der Lage gezeigt, in der er durch eine Maske 60 hindurch aktinischer Strahlung ausgesetzt ist, um ein latentes Bild in der lichtempfindlichen Materialschicht 16 auszubilden, die zu Illustrationszwecken ein positiv wirksamer Fotowiderstand ist. In dem in Fig.6 dargestellten entwickelten Film werden der Träger 12 und der lichtempfindliche Materialüberzug 16a über jeden der Wismutstellen bzw. »Punkte« 14c/unauflösbar bzw. unlöslich und undurchlässig bzw. wasserdicht geätzt. Obwohl ein seitlicher Angriff durch Ätzen an den Punkten möglich ist, um eine Flächenverminderung hinsichtlich der Größe der Punkte zu bewirken, wirken daher der Träger 12 und der lichtempfindliche Materialüberzug 16a zusammen, um einen Direktkontakt mit der Innenseite bzw. Innenschicht und der Außenseite bzw. Außenschicht der Punkte i4odurch Ätzen im wesentlichen zu blockieren, wodurch irgendwelche optische Punktdurchgangs-Dichteverluste verhindert werden. Das Ergebnis dieses Zusammenwirkens zwischen dem Träger 12 und dem Überzug oder der Abdeckung 16a auf jeden der Wismutpunkte 14c/ zur Vorsorge gegen optische Punktdurchgangs-Dichte bei gleichzeitiger Flächengrößenreduktion durch einen Ätzvorgang, wird am besten durch F i g. 7 und 8 veranschaulicht Wie dargestellt, wurden die Punkte 14c/, die dem Halbton-Punktbild von F i g. 6 entsprechen, einer beträchtlichen seitlichen Größenreduktion längs der Horizontalebene parallel zur Innen- und Außenfläche der Punkte unterworfen, nicht jedoch einer Größenreduktion längs der Axialebene.

Die optische Durchgangsdichte 14c/bleibt daher nach dem Ätzen im wesentlichen unverändert Wegen des nichtgranularen Charakters des Halbton-Punktformmaterials erlauben die Punkte darüber hinaus eine viel schärfere Bestimmung als die Silber-Halbtonpunkten üblicher Halogensilberfilmen erreichbar ist. Dieses Merkmal der Punkte verbunden mit ihrer gleichmäßigen Härte verbessert beispielsweise aus dem Film gemäß der Erfindung hergestellte Halbtonpositive gegenüber solchen Halbtonpositiver., die aus Halogensilberfilmen bei der lithographischen Plattenherstellung durch Tiefätzen hergestellt werden.

In Fig.9 bis 12 wird ein Vergleich von Halbton-Punkten, die am Film gemäß der Erfindung und Halbton-Punkten, die an einem üblichen Halogensilber-Emulsionsfilm gebildet sind, dargestellt F i g. 9 und 11 repräsentieren die Halbton-Punkte am Film nach dieser Erfindung vor und nach dem Ätzen. Fig. 10 veranschaulicht einen konventionellen Halogensilberfilm, der ein Substrat 62 aufweist, der darauf eine Gelatineschicht 64 besitzt, in der bildweise eine Vielzahl von Halbton-Punkten 66, die aus Silberkörner gebildet sind, verteilt wurden. Fig. 12 zeigt den gleichen Film nach dem Ätzen.

Wie in F i g. 11 gezeigt, wurde jeder der Punkte 14a des Films 10 gemäß der Erfindung einer Flächenreduktion hinsichtlich der Größe ohne irgendeinen ins Gewicht fallenden Verlust an optischer Dichte infolge »Durchgangsstellen« unterworfen. Gemäß F i g. 12 wurden die Silberpunkte 66 des Halogensilberfilms nach dem Ätzen infolge des Ätzens einem Vollpunktangriff unterworfen, der nicht nur zu einer vollständigen Flächenverminderung des Punktes, sondern auch zu einem beträchtlichen Verlust optischer »Durchtrittsstel-Ien«-Dichte führte. Die Eigenschaft des Ätzens, den gesamten Halbtonpunkt konventioneller Halogensilberfilme anzugreifen, führt unveränderlich zu optischen Dichteverlusten infolge der Durchgangsstellen, die umgekehrt die Opazität der Halbton-Punktformation beeinträchtigen.

Die Erfindung wird darüber hinaus anhand der folgenden Beispiele beschrieben, ohne daß sie darauf beschränkt wird.

Beispiel I

Eine 366-m-Rolle eines entgasten Polyesterfilms wird in eine Kammer einer Metallisierungseinheit eingeführt, die eine Radiofrequenz-Aufstäubungskathode enthält, die eine 20,4 ■ 20 - 0,6 cm dicke Wismutplatte aufweist, die direkt an eine wassergekühlte Stützplatte angegossen und mit dieser verbunden ist. Eine Verdampfungsquelle weist eine einzelne Kohlenwiderstandsschale mit den Dimensionen 38 · 2,5 ■ 0,6 cm auf, die 13 einzelne Aushöhlungen mit den Maßen 2,5 · 1,9 - 1,3 cm besitzt; jede Aushöhlung bzw. Wanne enthält ein auf 16 g abgewogenes Wismutpellet eine wassergekühlte Trommel wird in die Kammer eingesetzt. Die Kammer wird auf ein Vakuum von 10~⁶ Torr gehalten. Hochreines Argon wird in die Kammer eingeführt, um einen Basisdruck von 5 · 10~³Torr herzustellen. Der Polyestirfilm wird mit einer Geschwindigkeit von etwa 6 m/min an der Wismut-Zerstäubungskathode vorbeigeführt während die Filmtemperatur auf 100° C gehalten wird. Die Eingangsleistung der Kathode ist 400 W, während die reflektierte bzw. Ausgangsleistung 40 W ist. Bei Aufrtchterhaltung derselben Vorschubgeschwindigkeit passiert der Film an der wassergekühlten Trommel eine Wismutdampfwolke, die aus der Widerstandsschale austritt, die auf eine Temperatur von 624⁰C erhitzt ist. Der mit Wismut überzogene Film wird auf eine Aufwickelspule in der Kammer aufgewickelt Trockener Stickstoff wird in die Kammer bis auf ein at eingeleitet, worauf die Rolle des mit Wismut überzogenen Films herausgenommen wird. Die Wismutschicht auf dem Film ist etwa 260 nm dick und weist eine optische Dichte von mehr als 5 auf.

Eine Lösung aus Chinon-Diazid-Typ-Fotowiderstand enthaltend eine 50 :50-Mischung positiven Fotowiderstands, die einen Festkörperanteil von 35% und eine Viskosität von 80 cP aufweist wird bis auf eine Naßdikke von etwa 6 μπι auf den mit Wismut überzogenen Film aufgetragen und zwar bei einer Bahngeschwindigkeit von 1,15 m/min unter Verwendung einer Offset-Gravierüberzugswalze. Der fotoresistiv überzogene Film wird dann mit der gleichen Bahngeschwindigkeit

durch eine Ausflußzone, eine Infrarotlampentrocknungszone und eine Konvektionstrocknungszone hindurchgeführt, bei der die letztgenannten zwei Zonen auf einer Temperatur gehalten sind, die dem Film eine Temperatur von 100⁰C verleihen. Die Anwendung der fotoresistiven Schicht und das Trocknen der Schicht werden unter staubfreien Bedingungen durchgeführt.

Der endgültige Abbildungsfilm hat eine schwarze, nichtglänzende Oberfläche auf der fotoresistiven Seite und eine glänzende, hochreflektierende Oberfläche auf der Substratseite.

Nunmehr wurden die Rißeigenschaften des Abbildungsfilms durch Abschneiden eines 35-mm-Streifens, 30 cm lang von der Rolle, und Anlegen einer 500-g-Belastung an seinem Ende derselben, geprüft Der derart belastete Streifen wurde über einen Dorn vorgegebe-• nen Durchmessers zuerst in Abwärtsrichtung und dann nach aufwärts gezogen. Der nicht belichtete Film wurde dann zweimal durch eine Standardätzlösung hindurchgeführt und mittels optischer Mikroskopie auf Materialfehler untersucht. FaHs Brache oder Risse sich in der. fotoresistiven Materialien entwickelt hätten, würde die Ätzlösung in den Film bis zum Substrat eintreten. Irgendwelche solcher Brüche oder Risse würden bei hindurchtretendem Licht als eine Reihe paralleler Linien rechtwinklig zur Fortbewegungsrichtung des Films über den Dorn in Erscheinung treten. Es wurden jedoch keine Risse bei dem Abbildungsfilm gefunden.

Beispiel II

ziert, um das folgende organische lösliche Diazoharz zu erhalten: Einer Lösung von 60 g von Diazo-Verbindung in 1,41 Wasser wurde langsam eine Lösung von 58 g des Natriumsalzes der l-Diazo-2-Naphthol-4-SuIfonsäure in 400 ml Wasser zugefügt Eine gelbe Ausfällung wurde dunkelbraun. Nach 30 min Rühren der Lösung wurde das abgeschiedene bzw. ausgefällte Material durch Filtern getrennt und einige Male gewascheri, um irgendwelches wasserlösliche ■ Material zu en'fernen. Nach dem Trocknen erhielt das Material eine dunkelbraune Farbe und wurde ein bröckliges Harz mit einem Gewicht von 60 g. Dieses Material war leicht in Methylcellulose und stark in DMF. N, N-Dimethylacetamid und N-Methylpyrrolidon, aber nicht in Wasser löslich.

70 g des modifizierten Diazoharzes wurde in 300 ml DMF gelöst und gefiltert (Lösung I). 120 g Vinac B-7, Polyvinylacetatharz wurde in 300 ml DMF gelöst und gefiltert (Lösung II). Ein Überzugslösung (III) wurde aus einem Teil der Lösung I und einem Teil der Lösung 11

20 hergestellt Der niit Wismut überzogene Farn wurde inst der Oberzugslösung III überzogen, um eine Trockendicke von 1 μπι zu erzielen. Die fotoresistive Seite des Films war schwarz und nichtglänzend, während die Trägersei te des Films glänzend und metallisch war. Der Film wurde durch eine Maske 40 see lang einem Drucker ausgesetzt bzw. entsprechend belichtet Der belichtete Film wurde dann in einer Kopiermaschine wie folgt behandelt:

30

Badl: Bad 2: Bad 3:

Ein Streifen eines wie im Beispiel I hergestellten Films wurde 20 see lang durch eine Kontaktmaske mit von einem Drucker stammenden UV-Licht belichtet. Der belichtete Film wurde durch eine 4-Bäder-Kopier- 35 Bad 4: maschine geführt Das erste Bad enthielt 1000 m! einer 2%igen wäßrigen KOH-Lösung; das zweite Bad enthielt 1000 ml Wasser, das dritte Bad enthielt 1000 ml einer Lösung aus 12% FeCb und 1 % Zitronensäure in Wasser; das vierte Bad enthielt 1000 ml Wasser.

Die fotoresistive und die darunter liegende Wismutschicht der belichteten Filmteile wurden vollständig entfernt und ein positives Duplikat der Maske wurde erhalten. Die Behandlungszeit trocken auf trocken betrug 35 500 ml Wasser und 500 ml Diacetin (diacetin)

1000 ml Wasser

1000 ml einer Lösung von 12% FeCb und

1 %iger Zitronensäure in Wasser

1000 ml Wasser

Ein Negativduplikat der Maske wurde erhalten. Beispiel V

see.

Beispiel IH

Ein Streifen des gemäß Beispiel I hergestellten Abbildungsfilms wurde 20 see lang unter Verwendung eines Druckers als UV-Quelle belichtet. Der belichtete Film wurde zuerst durch 45 see langes Eintauchen in einen Trog, der 1 Gew.-% wäßrige KOH-Lösung enthielt, durch Abspulen in Wasser, durch Eintauchen in einen Trog, der eine Lösung von 6 Gew.-°/o FeCb in Wasser, etwa 2 min lang und dann durch Abspülen mit Wasser behandelt Ein positives Duplikat der Auflösungsscheibe wurde erhalten. Eine mikroskopische Untersuchung des entwickelten Films bei 400 χ zeigte ein Auflösungsvermögen von 500 Linien pro mm,

Beispiel (V

Eine Wismutschicht wurde auf einen glasklaren glatten staubfreien Film aus Polypropylen mit den Mitteln des im Beispiel 1 beschriebenen Metallisierungsverfahrens aufgetragen.

Eine wasserlösliche Diazoverbindung wurde modifi-

Es wurde das in Beispiel IV beschriebene Verfahren mit der Ausnahme angewendet, daß der belichtete Film in einem einzigen, oder gemeinsamen, Lösungsmittelsystem entwickelt wurde, das eine Lösung enthaltend 100 g FeCl₃, 300 ml Diacetin und 800 ml Wasser aufweist. Die Lösung wurde auf den belichteten Film aufgestrichen, bis das Bild entwickelt war. Der Film wurde dann mit Wasser abgewaschen und getrocknet. Ein negatives Duplikat der Maske wurde erreicht.

50

Beispiel Vi

Ein gemäß dem Beispiel 1 hergestellter Film wird kontaktbelichtet unter Verwendung einer Xenonblitzlampc durch ein Halogensilber-Halbtonnegativ, das durch Direktbelichten unter Verwendung eines 3-Stop-Systcms mit einem 100-Linien-Halbtongitter hergestellt wurde. Der belichtete Film wird zuerst durch 45 see lang dauerndes Eintauchen in einen 1 Gew.-°/oige wäßrige KOH-

eo Lösung aufweisenden Trog, Abspulen mit Wasser, Eintauchen in einen eine Lösung von 6 Gew.-°/o FeCb in Wasser enthaltenden Trog für etwa 2 min und anschließend durch Abspülen mit Wasser behandelt. Es wurde ein Halbtonpositiv erzielt, das aus Wismut gebildete

Halbton-Punkte aufweist, deren jeder einen Überzug oder eine Schutzschicht aus nicht belichtetem Widerstandsmaterial besitzt. Das Halbtonpositiv wurde dann in ein Ätzbad eingetaucht, das 250 ml einer 6%igcn

15

wäßrigen Lösung von FeCb enthält Der RIm wird nach 3 min aus dem Ätzbad entnommen, abgespült und getrocknet. Ein Fotomikrograph der »Punkte« zeigt eine etwa 75%ige Verminderung der Größe, ohne entsprechenden Verlust von optischer Punkt-Durchgangsdichte. Die Widerstandsabdeckung auf den Punkten ist in Ordnung und bleibt transparenL Die Punkte sind hart und das Positiv ist zur Verwendung zur Tiefätzherstellung von Platten geeignet

Zusammenfassend wird festgestellt, daß die Erfindung einen Abbildungsfilm und ein Herstellungsverfahren für denselben betrifft; der Film weist ein biegbares Kunststoffsubstrat auf, das eine dünne optisch sehr dichte kontinuierliche besondere Zwischenschicht aus Wismut oder einer Wismutlegierung aufweist die auf einer Fläche derselben niedergeschlagen ist Die Wismutschicht hat eine rauhe Außenoberfläche. Auf dieser rauhen Oberfläche befindet sich eine lichtempfindliche Materialschicht die sowohl als Fotowiderstand als auch als schützende Oberdeckung für das Wismut dient Das lichtempfindliche Material kann positiv oder negativ wirksam sein. Eine Schicht einer entwickelbaren fotographischen Emulsion kann auf die lichtempfindliche Materialschicht aufgelegt sein, um dem Abbildungsfilm Kameratransportgeschwindigkeit zu ermöglichen. Die fotoresistive Seite des Films hat eine nichtglänzende im wesentlichen nicht reflektierende schwarze Oberfläche, die dem Aussehen entwickelter Halogensilberfüme entspricht Die Substratseite des Films hat andererseits ein metallisches Aussehen, das leicht von der fotoresistiven Seite unterschieden werden kann. Diese Merkmale des Films erlauben der Bedienungsperson die einfache Feststellung der fotoresistiven Seite des Films und beschleunigt die Plattenherstellung.

35 Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

40

45

50

55

60

65

Claims

1 2 7. Verfahren nach Anspruch 6 dadurch gckcnn- Patentansprüche: zeichnet daß die Verankerungsschicht in einer optischen Dichte zwischen 0,01 und 0,5 und die Deck-

1. Aufzeichnungsmaterial, insbesondere Abbil- schicht solange aufgetragen werden, bis die optische

dungsfilm zur Verwendung im graphischen Gewer- 5 Dichte der gesamten Wismut enthaltenden Zwi-

be, bei dem auf einem biegbaren transparenten schenschicht mindestens 3,5 beträgt

Schichtträger eine dünne, schwarze bzw. nichtre- 8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekenn-

flektierende, Wismut aufweisende, kontinuierliche zeichnet daß das Auftragen der Deckschicht solan-

Zwischenschicht unter Verwendung der Aufdampf- ge vorgenommen wird, bis die optische Dichte der

technik und darauf eine lichtempfindliche Schicht 10 Wismut enthaltenden Schicht etwa 5 beträgt

aufgetragen ist dadurch gekennzeichnet, 9. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 8,

daß dadurch gekennzeichnet daß der aus Kunststoffschichtmaterial bestehende Schichtträger während

a) die Zwischenschicht (14; 52) aus einer Wismut des Aufstäubens derart auf eine Temperatur unter- oder eine Wismutlegierung aufweisenden, auf 15 halb dessen Verformungstemperatur erhitzt wird, den Schichtträger (12; 50) aufgestäubten Veran- daß er mindestens oberflächlich erweicht kerungsschicht (14a) und aus einer Wismut oder 10. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 9, eine Wismutlegierung aufweisenden, auf die dadurch gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht in aufgestäubte Verankerungsschicht aufge- einer inerten Gasatmosphäre auf dem Schichtträger dampfen Deckschicht (146,14c; besteht 20 niedergeschlagen wird.

b) die aufgestäubte Verankerungsschicht (14a; ei- 11. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 10, ne Schichtdicke zwischen 0,5 und 10 nm auf- dadurch gekennzeichnet daß die Deckschicht zur weist und mindestens Teile dieser Schicht in der Bildung einer Wismutoxid aufweisenden Oberfläche Oberfläche des Schichtträgers (12; 50) einge- mit Sauerstoff behandelt wird.

bettet sind und deren dem Schichtträger züge- 25

wandte Seite metallisch glänzend bzw, reflek-

tierend ist und