DE2649687A1 - Maskenfotouebertrager - Google Patents
MaskenfotouebertragerInfo
- Publication number
- DE2649687A1 DE2649687A1 DE19762649687 DE2649687A DE2649687A1 DE 2649687 A1 DE2649687 A1 DE 2649687A1 DE 19762649687 DE19762649687 DE 19762649687 DE 2649687 A DE2649687 A DE 2649687A DE 2649687 A1 DE2649687 A1 DE 2649687A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- lens
- slide
- sample
- photo transmitter
- transmitter according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
Auf dem Gebiet der Halbleiter stellt sich das Problem, auf ein
und dasselbe Plättchen mehrere Bilder mit sehr kleinen Abmessungen alle gleich und mit hoher Auflösung zu übertragen.
Es ist, um einen Anhaltspunkt zu geben, erforderlich, auf ein und demselben Plättchen, dessen Hauptabmessungen 10 cm
(typisch sind 3 Zoll oder 75 mm) nicht überschreiten, Zeichnungen anzuordnen, die eine Auflösung von 1 jum haben. Das Problem
ist aus folgenden Gründen schwer zu lösen:
In dem Fall, in welchem für das Auftragen der Masken optische Vorrichtungen benützt werden, was insbesondere Gegenstand der
709818/0833
Erfindung ist, liegt bei den benutzten Wellenlängen die Schärfentiefe in der Größenordnung von - 2 jum.
Die Schnittflächen von Halbleitern und insbesondere von Silicium weisen Wölbungen auf, die 10 jum erreichen können,
selbst wenn ihre neutrale Faser als eben angenommen wird. Daraus resultiert das Bedürfnis, einen ausreichenden Zwischenraum
zwischen der Schnittfläche und der optischen Vorrichtung zu haben, um die Gefahr einer Verschlechterung auszuschalten.
Schließlich ist es erwünscht, Zeichnungen aus Strichen von 1 um zu
projizieren.
Der erfindungsgemäße hochpräzise Maskenfotoubertrager gestattet,
diese Probleme zu lösen.
Der erfindungsgemäße Maskenfotoubertrager enthält eine Lichtquelle
und ein Objektiv, dessen Vergrößerung kleiner als 1 ist und vorzugsweise in der Größenordnung von 1/10 liegt und
das das Bild einer Maske auf eine Probe projiziert, die durch einen Objektträger abgestützt ist, welcher mit einem Tisch
fest verbunden ist, der Einrichtungen aufweist, mittels welchen gewisse Bereiche der Probe nach Belieben vor das Objektiv gebracht
werden können.
ist vor allem dadurch gekennzeichnet, daß das Objektiv mit pneumatischen Fühlern fest verbunden ist und daß der
70981Θ/0833
Objektträger über wenigstens drei piezoelektrische Stäbe auf dem Tisch ruht, die Spannungen aus den pneumatischen
Fühlern empfangen, um bei jeder Aufnahme den Mittelpunkt: der zu bedruckenden Zone in den Mittelpunkt des von dem
Objektiv gelieferten Bildes und die Ebene der Zone in die Ebene des Bildes zu bringen.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in den Zeichnungen dargestellt und wird im folgenden näher beschrieben. Es
zeigen:
Fig. 1 eine Schnittansicht eines Ausführungsbei
spiels des Fotoübertragers nach der Erfindung ,
Fig. 2 eine Schnittansicht der Anordnung aus
Objektträger und Objekt,
Fig. 3 eine Endansicht der Austrittsfläche der
optischen Vorrichtung,
Fig. 4 das Schema eines pneumatischen Differenz
fühlers,
Fig. 5 eine perspektivische Ansicht des Objekt
trägers und der piezoelektrischen Stäbe,
7098 18/083 3
k>
Fig. 6 eine Erläuterungsskizze,
Fig. 7 das Schaltbild der elektrischen Steuerung
der Stäbe, und
Fig. 8 das Schaltbild der dem Fotoübertrager
zugeordneten elektronischen Anordnung.
Fig. 1 zeigt im Schnitt ein Ausführungsbeispiel des Fotoübertragers
nach der Erfindung. Er enthält ein Gestell 1, das an seinem oberen Teil eine optische Vorrichtung 2 trägt, die aus einem nicht
dargestellten Okular und aus einem Objektiv S besteht. Diese optische Vorrichtung ist ihrerseits mit einer zylindrischen metallischen
Vorrichtung 4 fest verbunden, welche vier Leitungen 51 bis 54 enthält, von denen zwei dargestellt sind. Diese Leitungen
dienen zum Speisen der pneumatischen Fühler, deren Zweck weiter unten erläutert ist. Ein Objektträger 5, der seinerseits
mit einem System von Röhren 6 versehen ist, ist mittels einer Anordnung von Stäben 7, die aus einem Stapel von piezoelektrischen
Keramikplatten gebildet sind, durch einen Tisch 8 abgestützt, dessen Verschiebungen durch ein Motorsystem 9 gesteuert-werden
und der über.Rollen 20 auf dem Boden des Gestells 1 ruht.
Von diesen Stäben sind als Minimum drei vorhanden. Ihre Anzahl kann größer sein und beispielsweise vier betragen.
Der Objektträger trägt die zu bedruckende Probe 11. Diese hat
709818/083 3
26A9687
einen Durchmesser in der Größenordnung von 100 mm und
eine Dicke von etwa hundert Mikrometern. Eine Pumpe 12 hält eine Druckdifferenz zwischen dem Objektiv und der Unterseite
des Objekts aufrecht. Über das Leitungssystem 6 wird auf diese Weise das Objekt auf den Objektträger gedruckt und
dadurch seine neutrale Faser im wesentlichen eben gemacht (Fig. 2).
Ein Motorsystem 9 verschiebt den Tisch derart,daß die verschiedenen
Flächen der Probe vor das Obj ektiv gebracht werden. Dieses projiziert auf das Siliciumplättchen das Bild einer
Maske 10, die aus einer Anordnung von Linien gebildet ist, welche, im Maßstab 1/10 verkleinert, auf dem Objekt Linien
mit einer Dicke in der Größenordnung eines Mikrometers ergeben. Das so wiedergegebene Bild hat Querabmessungen in
der Größenordnung eines Zentimeters.
Fig. 3 zeigt die Austrittsfläche des Objektivs mit ihren vier Öffnungen 101 bis 104, die an den Enden von zwei zueinander
senkrechten Durchmessern angeordnet sind und durch die hindurch Gasströme zirkulieren, deren Zweck weiter unten erläutert
ist.
Fig. 4 zeigt einen pneumatischen Fühler, der in dem Fotoübertrager
nach der Erfindung benutzt werden kann. Dieser Fühler ist ein Differenzfühler. Seine Wirkungsweise beruht auf der
709818/0833
Tatsache, daß ein Hindernis an dem Ausgang einer Gasleitung den Durchsatz derselben ändert. Diese Durchsatzänderung führt
zu einer Druckänderung, die um so größer ist, je näher sich das Hindernis bei der Auslaßdüse befindet.
Der in Fig. 4 dargestellte Fühler ist ein Differenzfühler. Zwei
Röhren 31 und 32 empfangen ein Fluid mit demselben Druck. Diese Röhren geben das Fluid an zwei gleiche Kammern 41
bzw. 42 und an zwei Düsen 51 bzw. 52 ab.
Die Düse 52 ist durch einen einstellbaren Schieber 53 verschlossen.
Dieser Schieber ist die Ursache dafür, daß sich in einer Röhre 62, die von der Düse 52 wegführt, ein. bekannter
und gemessener Bezugsdruck P aufbaut. Die Düse 51 leitet
den Gasstrom auf das Hindernis, bei welchem es sich um die Oberfläche des Siliciumplättchens handelt. Der zu messende
Druck P1 „ ist von dem Abstand ζ zwischen dem Ausgang der
M
Düse 51 und dem Plättchen abhängig. Die beiden Röhren 62 und 61 münden in einem Hohlraum 70, in welchem eine elastische
Membran 71 angeordnet ist. Diese Membran verformt sich unter der Einwirkung der Druckdifferenz P_ - P
R M
Diese Verformung verursacht eine Impedanzänderung der beiden Stromkreise, die durch zwei Wicklungen 81 bzw. 82 gebildet
sind, welche in einem den Hohlraum 70 abschließenden Metallteil angeordnet sind. Daraus folgt, daß diese beiden Stromkreise,
' 709818/0833
die dieselbe Eingangsspannung V empfangen, Ausgangsspannungen
\/ bzw. V- haben, und es gilt Z = f (V_ - V1/).
R M ^R iw
Die verwendeten Drücke Hegen in der Größenordnung von
200 Millibar. Der Bezugsdruck wird so eingestellt, daß sich ein Fehlersignal Null für den gewählten Abstand zwischen dem
Fühler und der Bildebene ergibt, also beispielsweise für bis 30 .um.
Dieser Aufbau gestattet, die Einflüsse des Speisedruckes zu eliminieren.
Das System erlaubt, vier Spannungen V , V0, V3, V zu gewinnen;
die zu den vier Drücken P - P bzw. P - P bzw.
I r% ei
rs.
P - P bzw. P - P proportional sind (vgl. Fig. 7).
Bei jedem Bedrucken des Plättchens bringt der durch sein Motorsystem 9 gesteuerte Tisch 8 die zu bedruckende Zone
(Fig. 5) unter das Objektiv. Es ist aber bekannt, daß die SiHciumplättchen mit den benutzten Abmessungen (in der
Größenordnung von 100 mm) Wölbungen haben, deren Tiefe
10 um erreichen kann.
Es stellt sich das Problem, die zu bedruckende Zone des Plättchens in die Bildebene des Objektivs zu bringen (vgl.
Fig. 6).
709818/0833
Es kann gezeigt werden, daß die Summe der vier Drücke P ,
P , P und P , die von den vier pneumatischen Differenzfühlern
geliefert werden, der Abstand ΔΖ zwischen der Bildebene und der Ebene des Plättchens an dem Ort der zu bedruckenden
Zone ist.
Das wird durch die Gleichung
AZ=Z-Z0 = K1 (P1 +P2+P3 + P4)
ausgedrückt.
Ebenso kann gezeigt werden, daß, wenn α und α (vgl. Fig. 6)
die Winkel der Ebene der zu bedruckenden Zone mit den beiden zu der Bildebene parallelen rechtwinkeligen Achsen sind,
die durch die Mittelpunkt der Öffnungen 101 und 103, 102 und 104 hindurchgehen, gilt:
Eine elektronische Schaltung 200 (Fig. 7) empfängt die vier Ausgangsspannungen
V , V , V , V der pneumatischen Fühler und bildet daraus drei Fehlerspannungen U , U und U , die über
drei Verstärker 201 , 202 und 203 an die drei piezoelektrischen Stäbe 7 angelegt werden.
Das Gesamtschaltbüd der zugeordneten elektronischen Anordnung
ist in Fig. 8 dargestellt.
Die Anordnung enthält einen Rechner 1 000, von dem ein Ausgang über Motoren 1 001 die Bewegungen des Tisches 1 002 und ein
709818/0833
anderer Ausgang das Aufleuchten der Lichtquelle 1 003 steuert. Die Anordnung aus der Lichtquelle 1 003, der
Maske 1 004, dem Objektiv 1 005 und den Fühlern 1 006 ist fest. Eine Korrektureinrichtung 1 007, bei welcher es
sich um die von Fig. 7 handelt, korrigiert die Bewegungen des Objektträgers durch die Einwirkung auf die Stäbe, wie
weiter oben beschrieben. Selbstverständlich bieten sich im Rahmen der Erfindung gewisse Möglichkeiten der Abwandlung
des Fotoübertragers.
Es sei unterstrichen, daß in der oben beschriebenen Anordnung ein Tisch benutzt werden kann, der mit hoher Geschwindigkeit
verschiebbar ist, beispielsweise mit 25 mm/s.
Die Zeitkonstante der Objektträgereinrichtung soll mit dieser Geschwindigkeit kompatibel, d.h. kleiner als eine Zehntelsekunde
sein.
709818/0833
Λ ·
Le e rs e 11 e
Claims (5)
- Patentansprüche :1 . Maskenfotoübertrager mit einer Lichtquelle und mit einem Objektiv, dessen Vergrößerung deutlich kleiner als 1 ist und das das Bild der Maske auf eine Probe projiziert, die durch einen Objektträger abgestützt ist; welcher mit einem Tisch fest verbunden ist, der mit Verschiebeeinrichtungen versehen ist, mittels welchen nach Belieben gewisse Bereiche der Probe vor das Objektiv gebracht werden können, dadurch gekennzeichnet, daß das Objektiv mit pneumatischen Fühlern fest verbunden ist und daß der Objektträger über wenigstens drei piezoelektrische Stäbe auf dem Tisch ruht, wobei die Stäbe aus den pneumatischen Fühlern Spannungen empfangen, um bei jeder Aufnahme den Mittelpunkt der zu bedruckenden Zone in den Mittelpunkt des von dem Objektiv gelieferten Bildes und die Ebene der Zone in die Ebene des Bildes zu bringen.
- 2. Fotoübertrager nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die pneumatischen Fühler Differenzfühler sind und Düsen enthalten, die in der Nähe der Austrittsebene des Objektivs angeordnet sind und sich an den Ecken eines Quadrats befinden, das in einer zu der optischen Achse senkrechten Ebene und. mit seinem Mittelpunkt auf dieser Achse liegt.
- 3. Fotoübertrager nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die neutrale Faser der Probe durch Andrücken an den709818/08 3 3Objektträger eben gemacht ist.
- 4. Fotoübertrager nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Objektträger mit einer Pumpe verbundene Leitungen zur Erzeugung eines Unterdruckes und zu dem Andrücken der Probe enthält.
- 5. Fotoübertrager nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Probe ein Halbleiterplättchen mit einem Durchmesser in der Größenordnung von 10 cm ist und daß das Objektiv eine Vergrößerung in der Größenordnung von 1/10 hat.709818/08
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7533464A FR2330030A1 (fr) | 1975-10-31 | 1975-10-31 | Nouvel appareil photorepeteur de masques de haute precision |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2649687A1 true DE2649687A1 (de) | 1977-05-05 |
Family
ID=9161914
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19762649687 Withdrawn DE2649687A1 (de) | 1975-10-31 | 1976-10-29 | Maskenfotouebertrager |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4084903A (de) |
JP (1) | JPS5255472A (de) |
DE (1) | DE2649687A1 (de) |
FR (1) | FR2330030A1 (de) |
GB (1) | GB1556028A (de) |
NL (1) | NL7612028A (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3441621A1 (de) * | 1983-11-14 | 1985-05-23 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Ausfluchtvorrichtung |
DE4102746C2 (de) * | 1990-01-31 | 2002-11-21 | Applied Materials Inc | Luft-Meß-Fokussystem |
Families Citing this family (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2429447A1 (fr) * | 1978-06-23 | 1980-01-18 | Thomson Csf | Systeme optique de projection muni d'un positionneur de plaque |
GB2063523B (en) * | 1978-10-20 | 1982-12-15 | Hitachi Ltd | Wafer position setting apparatus |
US4198159A (en) * | 1978-12-29 | 1980-04-15 | International Business Machines Corporation | Optical alignment system in projection printing |
EP0017044B1 (de) * | 1979-04-02 | 1985-07-03 | Eaton-Optimetrix Inc. | System zur Einstellung eines Gerätes |
US4540278A (en) * | 1979-04-02 | 1985-09-10 | Optimetrix Corporation | Optical focusing system |
DE2915313A1 (de) * | 1979-04-14 | 1980-10-23 | Ibm Deutschland | Piezoelektrische antriebsanordnung, insbesondere fuer fokussiersysteme |
DE3110341C2 (de) * | 1980-03-19 | 1983-11-17 | Hitachi, Ltd., Tokyo | Verfahren und Vorrichtung zum Ausrichten eines dünnen Substrats in der Bildebene eines Kopiergerätes |
US4344160A (en) * | 1980-05-02 | 1982-08-10 | The Perkin-Elmer Corporation | Automatic wafer focusing and flattening system |
US4425037A (en) | 1981-05-15 | 1984-01-10 | General Signal Corporation | Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer |
US4391494A (en) * | 1981-05-15 | 1983-07-05 | General Signal Corporation | Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer |
DE3249685C2 (de) * | 1981-05-15 | 1987-09-24 | General Signal Corp., Stamford, Conn., Us | |
JPS5830128A (ja) * | 1981-08-17 | 1983-02-22 | Hitachi Ltd | ウエハのチヤツク装置 |
US4431304A (en) * | 1981-11-25 | 1984-02-14 | Mayer Herbert E | Apparatus for the projection copying of mask patterns on a workpiece |
JPS5885338U (ja) * | 1981-12-07 | 1983-06-09 | 株式会社日立製作所 | 自動焦点装置 |
JPS58156937A (ja) * | 1982-03-12 | 1983-09-19 | Hitachi Ltd | 露光装置 |
JPS58179834A (ja) * | 1982-04-14 | 1983-10-21 | Canon Inc | 投影露光装置及び方法 |
US4444492A (en) * | 1982-05-15 | 1984-04-24 | General Signal Corporation | Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer |
US4504144A (en) * | 1982-07-06 | 1985-03-12 | The Perkin-Elmer Corporation | Simple electromechanical tilt and focus device |
JPS5975625A (ja) * | 1982-10-22 | 1984-04-28 | Fujitsu Ltd | 基板支持方法 |
US4441808A (en) * | 1982-11-15 | 1984-04-10 | Tre Semiconductor Equipment Corp. | Focusing device for photo-exposure system |
JPS59154023A (ja) * | 1983-02-22 | 1984-09-03 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 板状体の姿勢制御装置 |
JPS59155919A (ja) * | 1983-02-25 | 1984-09-05 | Hitachi Ltd | 自動焦点合せ方法およびその装置 |
JPS59169134A (ja) * | 1983-03-16 | 1984-09-25 | Hitachi Ltd | 縮小投影露光装置 |
JPS6018918A (ja) * | 1983-07-13 | 1985-01-31 | Canon Inc | ステージ装置 |
JPS60105232A (ja) * | 1983-11-14 | 1985-06-10 | Canon Inc | 自動焦点合わせ装置 |
JP2516194B2 (ja) * | 1984-06-11 | 1996-07-10 | 株式会社日立製作所 | 投影露光方法 |
US4708467A (en) * | 1984-09-21 | 1987-11-24 | Cameronics Technology Corporation, Ltd. | Camera |
DE3447488A1 (de) * | 1984-10-19 | 1986-05-07 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Projektionseinrichtung |
JPH0618168B2 (ja) * | 1985-02-27 | 1994-03-09 | 株式会社日立製作所 | 原画パターンを半導体ウエハ上面に露光する露光方法 |
US4714331A (en) * | 1985-03-25 | 1987-12-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for automatic focusing |
US4624553A (en) * | 1985-05-28 | 1986-11-25 | Harvey Alwood E | Photographic enlarger apparatus with critical focusing platform for photosensitive medium |
JPS61278141A (ja) * | 1985-05-31 | 1986-12-09 | Canon Inc | 投影倍率調整方法 |
US4669868A (en) * | 1986-04-18 | 1987-06-02 | Ovonic Imaging Systems, Inc. | Step and repeat exposure apparatus and method |
JPS63172148A (ja) * | 1987-01-12 | 1988-07-15 | Hitachi Ltd | 基板表面変形装置 |
WO1989006376A1 (en) * | 1987-12-30 | 1989-07-13 | Hampshire Instruments, Inc. | Positioning subassembly for a lithography machine |
JPH02228658A (ja) * | 1989-03-01 | 1990-09-11 | Nec Kyushu Ltd | 縮小投影型露光装置 |
JP3401769B2 (ja) * | 1993-12-28 | 2003-04-28 | 株式会社ニコン | 露光方法、ステージ装置、及び露光装置 |
KR19980019031A (ko) | 1996-08-27 | 1998-06-05 | 고노 시게오 | 스테이지 장치(a stage apparatus) |
JPH10270535A (ja) | 1997-03-25 | 1998-10-09 | Nikon Corp | 移動ステージ装置、及び該ステージ装置を用いた回路デバイス製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2030468A5 (de) * | 1969-01-29 | 1970-11-13 | Thomson Brandt Csf | |
US3704946A (en) * | 1969-02-20 | 1972-12-05 | Opt Omechanisms Inc | Microcircuit art generating means |
DE2025280A1 (de) * | 1970-05-23 | 1971-12-09 | Licentia Patent Verwaltungs GmbH, 6000 Frankfurt | Halterung fur ein Objektiv |
US3704657A (en) * | 1971-05-05 | 1972-12-05 | Computervision Corp | Adaptive optical focusing system |
FR2223865B1 (de) * | 1973-03-27 | 1978-10-20 | Thomson Csf | |
SU497551A1 (ru) * | 1973-06-26 | 1975-12-30 | Московский институт электронной техники | Устройство дл ориентации |
DE2413551C2 (de) * | 1974-03-21 | 1985-03-21 | Western Electric Co., Inc., New York, N.Y. | Einrichtung zum Korrigieren der Lage einer lichtempfindlichen Fläche in einer Masken-Projektionsvorrichtung |
-
1975
- 1975-10-31 FR FR7533464A patent/FR2330030A1/fr active Granted
-
1976
- 1976-10-26 US US05/735,890 patent/US4084903A/en not_active Expired - Lifetime
- 1976-10-29 GB GB45178/76A patent/GB1556028A/en not_active Expired
- 1976-10-29 DE DE19762649687 patent/DE2649687A1/de not_active Withdrawn
- 1976-10-29 NL NL7612028A patent/NL7612028A/xx not_active Application Discontinuation
- 1976-10-30 JP JP13114776A patent/JPS5255472A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3441621A1 (de) * | 1983-11-14 | 1985-05-23 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Ausfluchtvorrichtung |
DE4102746C2 (de) * | 1990-01-31 | 2002-11-21 | Applied Materials Inc | Luft-Meß-Fokussystem |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL7612028A (nl) | 1977-05-03 |
JPS5255472A (en) | 1977-05-06 |
FR2330030A1 (fr) | 1977-05-27 |
FR2330030B1 (de) | 1979-05-04 |
US4084903A (en) | 1978-04-18 |
GB1556028A (en) | 1979-11-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2649687A1 (de) | Maskenfotouebertrager | |
DE3246022C2 (de) | Scharfeinstelleinrichtung für ein optisches Projektionssystem | |
DE3851065T2 (de) | Vorrichtung zum montieren einer druckplatte auf einem zylinder. | |
DE69214165T2 (de) | Prüfvorrichtung für druckwandler | |
DE2751415A1 (de) | Masken-photowiederholgeraet | |
DE2119486C3 (de) | Elektro-optische Lagekorrekturanordnung für ein optisches MeBsystem | |
DE20320446U1 (de) | Aufspannvorrichtung zum Modulieren von Formen und Substraten | |
DE3138075A1 (de) | Vorrichtung zum messen von druck | |
DE2817401A1 (de) | Optische vorrichtung zum projizieren von motiven | |
DE3872705T2 (de) | Vorrichtung und verfahren zum feststellen/regulieren des freiraums bei einer lithographiemaschine. | |
DE102014205523A1 (de) | Positioniereinrichtung in Portalbauweise | |
DE3444569C2 (de) | ||
DE3241940A1 (de) | Mikro-einstellbares geraet zum festsetzen einer verschiebung und einer rotation | |
DE3306999C2 (de) | ||
DE4007069A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur optischen abbildung | |
DE102019215217A1 (de) | Messverfahren und Messanordnung zur Ermittlung der Position und/oder Orientierung eines optischen Elements, sowie Projektionsbelichtungsanlage | |
DE102013213525B3 (de) | Verfahren zum Kalibrieren eines Positionsmeßsystems und Positionsmeßsystem | |
DE932037C (de) | Vorrichtung zum Einstellen und Messen grosser Laengen | |
DE2553813A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum messen von rauhigkeiten | |
DE102012217853B4 (de) | Anordnung zum Erzeugen eines definierten Abstands zwischen Elektrodenflächen auf integrierten Bauelementen für chemische und biochemische Sensoren | |
DE102006059440A1 (de) | Maskenvermessungsvorrichtung und Meßverfahren für eine Maske | |
DE2815421C2 (de) | Verfahren zur Ansteuerung eines piezoelektrischen Antriebes (Stellgliedes) | |
DE10136388A1 (de) | System zum Vermessen eines optischen Systems, insbesondere eines Objektives | |
DE2207107A1 (de) | Anordnung zum ausgleich von durch luftdruckschwankungen verursachten brennweitenaenderungen optischer systeme | |
DE1804697B2 (de) | Nach dem Wirkdruckprinzip arbeitendes pneumatisches Meßgerät |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8141 | Disposal/no request for examination |