NL7612028A - Inrichting voor het fotografisch aanbrengen van een masker. - Google Patents

Inrichting voor het fotografisch aanbrengen van een masker.

Info

Publication number
NL7612028A
NL7612028A NL7612028A NL7612028A NL7612028A NL 7612028 A NL7612028 A NL 7612028A NL 7612028 A NL7612028 A NL 7612028A NL 7612028 A NL7612028 A NL 7612028A NL 7612028 A NL7612028 A NL 7612028A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
mask
photographic application
photographic
application
Prior art date
Application number
NL7612028A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Thomson Csf
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Thomson Csf filed Critical Thomson Csf
Publication of NL7612028A publication Critical patent/NL7612028A/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
NL7612028A 1975-10-31 1976-10-29 Inrichting voor het fotografisch aanbrengen van een masker. NL7612028A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR7533464A FR2330030A1 (fr) 1975-10-31 1975-10-31 Nouvel appareil photorepeteur de masques de haute precision

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7612028A true NL7612028A (nl) 1977-05-03

Family

ID=9161914

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7612028A NL7612028A (nl) 1975-10-31 1976-10-29 Inrichting voor het fotografisch aanbrengen van een masker.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4084903A (nl)
JP (1) JPS5255472A (nl)
DE (1) DE2649687A1 (nl)
FR (1) FR2330030A1 (nl)
GB (1) GB1556028A (nl)
NL (1) NL7612028A (nl)

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2429447A1 (fr) * 1978-06-23 1980-01-18 Thomson Csf Systeme optique de projection muni d'un positionneur de plaque
GB2063523B (en) * 1978-10-20 1982-12-15 Hitachi Ltd Wafer position setting apparatus
US4198159A (en) * 1978-12-29 1980-04-15 International Business Machines Corporation Optical alignment system in projection printing
EP0097380A3 (en) * 1979-04-02 1984-08-29 Eaton-Optimetrix Inc. A system for positioning a utilization device
US4540278A (en) * 1979-04-02 1985-09-10 Optimetrix Corporation Optical focusing system
DE2915313A1 (de) * 1979-04-14 1980-10-23 Ibm Deutschland Piezoelektrische antriebsanordnung, insbesondere fuer fokussiersysteme
DE3110341C2 (de) * 1980-03-19 1983-11-17 Hitachi, Ltd., Tokyo Verfahren und Vorrichtung zum Ausrichten eines dünnen Substrats in der Bildebene eines Kopiergerätes
US4344160A (en) * 1980-05-02 1982-08-10 The Perkin-Elmer Corporation Automatic wafer focusing and flattening system
CA1171555A (en) 1981-05-15 1984-07-24 Ronald S. Hershel Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer
NL8220224A (nl) * 1981-05-15 1983-04-05 Gen Signal Corp Inrichting voor het projecteren van een reeks beelden op vormplaatsen van een halfgeleiderwafel.
US4391494A (en) * 1981-05-15 1983-07-05 General Signal Corporation Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer
JPS5830128A (ja) * 1981-08-17 1983-02-22 Hitachi Ltd ウエハのチヤツク装置
US4431304A (en) * 1981-11-25 1984-02-14 Mayer Herbert E Apparatus for the projection copying of mask patterns on a workpiece
JPS5885338U (ja) * 1981-12-07 1983-06-09 株式会社日立製作所 自動焦点装置
JPS58156937A (ja) * 1982-03-12 1983-09-19 Hitachi Ltd 露光装置
JPS58179834A (ja) * 1982-04-14 1983-10-21 Canon Inc 投影露光装置及び方法
US4444492A (en) * 1982-05-15 1984-04-24 General Signal Corporation Apparatus for projecting a series of images onto dies of a semiconductor wafer
US4504144A (en) * 1982-07-06 1985-03-12 The Perkin-Elmer Corporation Simple electromechanical tilt and focus device
JPS5975625A (ja) * 1982-10-22 1984-04-28 Fujitsu Ltd 基板支持方法
US4441808A (en) * 1982-11-15 1984-04-10 Tre Semiconductor Equipment Corp. Focusing device for photo-exposure system
JPS59154023A (ja) * 1983-02-22 1984-09-03 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 板状体の姿勢制御装置
JPS59155919A (ja) * 1983-02-25 1984-09-05 Hitachi Ltd 自動焦点合せ方法およびその装置
JPS59169134A (ja) * 1983-03-16 1984-09-25 Hitachi Ltd 縮小投影露光装置
JPS6018918A (ja) * 1983-07-13 1985-01-31 Canon Inc ステージ装置
US4600282A (en) * 1983-11-14 1986-07-15 Canon Kabushiki Kaisha Alignment apparatus
JPS60105232A (ja) * 1983-11-14 1985-06-10 Canon Inc 自動焦点合わせ装置
JP2516194B2 (ja) * 1984-06-11 1996-07-10 株式会社日立製作所 投影露光方法
US4708467A (en) * 1984-09-21 1987-11-24 Cameronics Technology Corporation, Ltd. Camera
DE3447488A1 (de) * 1984-10-19 1986-05-07 Canon K.K., Tokio/Tokyo Projektionseinrichtung
JPH0618168B2 (ja) * 1985-02-27 1994-03-09 株式会社日立製作所 原画パターンを半導体ウエハ上面に露光する露光方法
US4714331A (en) * 1985-03-25 1987-12-22 Canon Kabushiki Kaisha Method and apparatus for automatic focusing
US4624553A (en) * 1985-05-28 1986-11-25 Harvey Alwood E Photographic enlarger apparatus with critical focusing platform for photosensitive medium
JPS61278141A (ja) * 1985-05-31 1986-12-09 Canon Inc 投影倍率調整方法
US4669868A (en) * 1986-04-18 1987-06-02 Ovonic Imaging Systems, Inc. Step and repeat exposure apparatus and method
JPS63172148A (ja) * 1987-01-12 1988-07-15 Hitachi Ltd 基板表面変形装置
WO1989006376A1 (en) * 1987-12-30 1989-07-13 Hampshire Instruments, Inc. Positioning subassembly for a lithography machine
JPH02228658A (ja) * 1989-03-01 1990-09-11 Nec Kyushu Ltd 縮小投影型露光装置
US5087927A (en) * 1990-01-31 1992-02-11 Ateo Corporation On-axis air gage focus system
JP3401769B2 (ja) * 1993-12-28 2003-04-28 株式会社ニコン 露光方法、ステージ装置、及び露光装置
KR19980019031A (ko) 1996-08-27 1998-06-05 고노 시게오 스테이지 장치(a stage apparatus)
JPH10270535A (ja) 1997-03-25 1998-10-09 Nikon Corp 移動ステージ装置、及び該ステージ装置を用いた回路デバイス製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2030468A5 (nl) * 1969-01-29 1970-11-13 Thomson Brandt Csf
US3704946A (en) * 1969-02-20 1972-12-05 Opt Omechanisms Inc Microcircuit art generating means
DE2025280A1 (de) * 1970-05-23 1971-12-09 Licentia Patent Verwaltungs GmbH, 6000 Frankfurt Halterung fur ein Objektiv
US3704657A (en) * 1971-05-05 1972-12-05 Computervision Corp Adaptive optical focusing system
FR2223865B1 (nl) * 1973-03-27 1978-10-20 Thomson Csf
SU497551A1 (ru) * 1973-06-26 1975-12-30 Московский институт электронной техники Устройство дл ориентации
DE2413551C2 (de) * 1974-03-21 1985-03-21 Western Electric Co., Inc., New York, N.Y. Einrichtung zum Korrigieren der Lage einer lichtempfindlichen Fläche in einer Masken-Projektionsvorrichtung

Also Published As

Publication number Publication date
GB1556028A (en) 1979-11-14
FR2330030A1 (fr) 1977-05-27
JPS5255472A (en) 1977-05-06
DE2649687A1 (de) 1977-05-05
US4084903A (en) 1978-04-18
FR2330030B1 (nl) 1979-05-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7612028A (nl) Inrichting voor het fotografisch aanbrengen van een masker.
NL184351C (nl) Inrichting voor gelijkmatige ultraviolet-bestraling van een persoon.
NL7606035A (nl) Werkwijze voor het maken van een resistief masker.
NL7609203A (nl) Werkwijze voor het met gemengde belichting illumineren.
NL183244C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een elastisch vlies.
NL7611893A (nl) Ontwikkelaar voor elektrostatische fotografie.
NL7515234A (nl) Handverzorgingsinrichting voor kopieerinrichting.
NL7610283A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffekttransistor.
NL7609420A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een half-geleiderinrichting.
NL7602349A (nl) Werkwijze voor het uitlijnen van masker en een plaatje.
NL7609557A (nl) Inrichting voor het verwijderen van overtollig magnetisch ontwikkelmateriaal.
NL7605183A (nl) Inrichting voor het ontwikkelen van elektro- statische beelden.
NL7613897A (nl) Bevestigingselement voor leidingbuizen.
BE847443A (nl) Werkwijze voor het verharden van fotografische lagen,
NL7502943A (nl) Fotografische werkwijze, werkwijze voor het bereiden van lichtgevoelige verbindingen en inrichting voor het toepassen ervan.
BE846758A (nl) Werkwijze voor het verharden van fotografische lagen
NL7711280A (nl) Inrichting voor de fotografische registratie van gegevens.
NL7602867A (nl) Inrichting voor het lokaliseren van lichtver- schijnselen.
BE861189A (nl) Belichtingssysteem voor kopieerapparaten
NL7710358A (nl) Werkwijze voor het justeren van een belich- tingsmasker ten opzichte van een substraat- schijf.
NL7609970A (nl) Werkwijze voor het ontwikkelen van een foto- grafisch materiaal.
NL7705732A (nl) Werkwijze voor het belichten voor gekleurde schaduwen.
NL7509874A (nl) Inrichting voor de verwijdering van een gevatte bevestiging.
NL7700155A (nl) Inrichting voor het afdekken van de belichtings- plaat van een fotokopieermachine.
NL7610307A (nl) Inrichting voor het inramen van een aantal roent- genopnamen van een bepaald formaat.

Legal Events

Date Code Title Description
BV The patent application has lapsed