NL7710358A - Werkwijze voor het justeren van een belich- tingsmasker ten opzichte van een substraat- schijf. - Google Patents

Werkwijze voor het justeren van een belich- tingsmasker ten opzichte van een substraat- schijf.

Info

Publication number
NL7710358A
NL7710358A NL7710358A NL7710358A NL7710358A NL 7710358 A NL7710358 A NL 7710358A NL 7710358 A NL7710358 A NL 7710358A NL 7710358 A NL7710358 A NL 7710358A NL 7710358 A NL7710358 A NL 7710358A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
approaching
exposure mask
substrate disk
mask against
disk
Prior art date
Application number
NL7710358A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Publication of NL7710358A publication Critical patent/NL7710358A/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Projection-Type Copiers In General (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
NL7710358A 1976-09-22 1977-09-21 Werkwijze voor het justeren van een belich- tingsmasker ten opzichte van een substraat- schijf. NL7710358A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19762642634 DE2642634A1 (de) 1976-09-22 1976-09-22 Verfahren zum justieren von belichtungsmasken relativ zu einer substratscheibe

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7710358A true NL7710358A (nl) 1978-03-28

Family

ID=5988556

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7710358A NL7710358A (nl) 1976-09-22 1977-09-21 Werkwijze voor het justeren van een belich- tingsmasker ten opzichte van een substraat- schijf.

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4118230A (nl)
JP (1) JPS5341984A (nl)
BE (1) BE858958A (nl)
DE (1) DE2642634A1 (nl)
FR (1) FR2365824A1 (nl)
GB (1) GB1551631A (nl)
IT (1) IT1086953B (nl)
NL (1) NL7710358A (nl)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2066487B (en) * 1979-12-18 1983-11-23 Philips Electronic Associated Alignment of exposure masks
JPS5764921A (en) * 1980-10-08 1982-04-20 Toshiba Corp Manufacture of gaas integrated circuit
US4343878A (en) * 1981-01-02 1982-08-10 Amdahl Corporation System for providing photomask alignment keys in semiconductor integrated circuit processing
US4883359A (en) * 1984-02-28 1989-11-28 Canon Kabushiki Kaisha Alignment method and pattern forming method using the same
DE3910048A1 (de) * 1989-03-28 1990-08-30 Heidelberg Instr Gmbh Laser Un Verfahren zur herstellung oder inspektion von mikrostrukturen auf grossflaechigen substraten
JP3163666B2 (ja) * 1991-07-29 2001-05-08 ソニー株式会社 位相シフトマスクを用いたパターン形成方法
US5316984A (en) * 1993-03-25 1994-05-31 Vlsi Technology, Inc. Bright field wafer target
US6576529B1 (en) * 1999-12-07 2003-06-10 Agere Systems Inc. Method of forming an alignment feature in or on a multilayered semiconductor structure

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3477848A (en) * 1964-12-14 1969-11-11 Texas Instruments Inc Method for producing sets of photomask having accurate registration
US3607267A (en) * 1967-10-09 1971-09-21 Motorola Inc Precision alignment of photographic masks
US3506442A (en) * 1968-09-27 1970-04-14 Bell Telephone Labor Inc Photomask modification and registration test methods
US3690881A (en) * 1970-09-28 1972-09-12 Bell Telephone Labor Inc Moire pattern aligning of photolithographic mask
US3963489A (en) * 1975-04-30 1976-06-15 Western Electric Company, Inc. Method of precisely aligning pattern-defining masks
US4060643A (en) * 1976-02-02 1977-11-29 Blanks William L Method and apparatus for identifying color separation film

Also Published As

Publication number Publication date
FR2365824B1 (nl) 1981-05-08
DE2642634A1 (de) 1978-03-23
US4118230A (en) 1978-10-03
GB1551631A (en) 1979-08-30
BE858958A (fr) 1978-01-16
FR2365824A1 (fr) 1978-04-21
IT1086953B (it) 1985-05-31
JPS5341984A (en) 1978-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7612028A (nl) Inrichting voor het fotografisch aanbrengen van een masker.
NL7606035A (nl) Werkwijze voor het maken van een resistief masker.
NL7714538A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een magnetisch registratie-medium.
NL183244C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een elastisch vlies.
NL7704529A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een fotopoly- meriseerbaar preparaat op een substraat.
NL7707103A (nl) Werkwijze voor het ontwikkelen van een latent elektrisch potentiaalpatroon.
NL7713063A (nl) Werkwijze voor het opbrengen van een foto- resistfoelie op een vooraf van een beeld voorzien ondermateriaal.
NL7613440A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7613487A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een buig- zame lamellaire tussenlaag.
NL7706596A (nl) Werkwijze voor het selectief blokkeren van aminogratpen.
NL7602349A (nl) Werkwijze voor het uitlijnen van masker en een plaatje.
NL7608923A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7713852A (nl) Origineel van een informatiedrager en werkwijze voor het vervaardigen van het origineel.
NL186720B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een fotografisch registratiemateriaal.
NL7900497A (nl) Werkwijze voor het positioneren van een substraat.
NL7802571A (nl) Topografisch masker voor een substraat.
NL7603939A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfge- leiderelement.
NL160351C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een ballastloos spoor.
NL7710358A (nl) Werkwijze voor het justeren van een belich- tingsmasker ten opzichte van een substraat- schijf.
BE847443A (nl) Werkwijze voor het verharden van fotografische lagen,
BE846758A (nl) Werkwijze voor het verharden van fotografische lagen
NL7701256A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een openingenmasker en aldus vervaardigd openingenmasker.
NL7710635A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL190725C (nl) Werkwijze voor het bekleden van een substraat.
NL7709411A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfge- leiderinrichting.

Legal Events

Date Code Title Description
BV The patent application has lapsed