NL7608923A - Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.

Info

Publication number
NL7608923A
NL7608923A NL7608923A NL7608923A NL7608923A NL 7608923 A NL7608923 A NL 7608923A NL 7608923 A NL7608923 A NL 7608923A NL 7608923 A NL7608923 A NL 7608923A NL 7608923 A NL7608923 A NL 7608923A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
manufacturing
semiconductor device
semiconductor
Prior art date
Application number
NL7608923A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Western Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Western Electric Co filed Critical Western Electric Co
Publication of NL7608923A publication Critical patent/NL7608923A/nl

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/76Unipolar devices, e.g. field effect transistors
    • H01L29/772Field effect transistors
    • H01L29/78Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
    • H01L29/792Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate with charge trapping gate insulator, e.g. MNOS-memory transistors
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/04Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
    • G11C16/0466Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells with charge storage in an insulating layer, e.g. metal-nitride-oxide-silicon [MNOS], silicon-oxide-nitride-oxide-silicon [SONOS]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/40Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/401Multistep manufacturing processes
    • H01L29/4011Multistep manufacturing processes for data storage electrodes
    • H01L29/40117Multistep manufacturing processes for data storage electrodes the electrodes comprising a charge-trapping insulator
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N70/00Solid-state devices without a potential-jump barrier or surface barrier, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
NL7608923A 1975-08-18 1976-08-11 Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting. NL7608923A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US05/605,312 US3964085A (en) 1975-08-18 1975-08-18 Method for fabricating multilayer insulator-semiconductor memory apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7608923A true NL7608923A (nl) 1977-02-22

Family

ID=24423144

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7608923A NL7608923A (nl) 1975-08-18 1976-08-11 Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.

Country Status (11)

Country Link
US (1) US3964085A (nl)
JP (1) JPS6032973B2 (nl)
BE (1) BE845154A (nl)
CA (1) CA1052009A (nl)
DE (1) DE2636961C2 (nl)
ES (1) ES450758A1 (nl)
FR (1) FR2321768A2 (nl)
GB (1) GB1552161A (nl)
IT (1) IT1071194B (nl)
NL (1) NL7608923A (nl)
SE (1) SE412818B (nl)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4329016A (en) * 1978-06-01 1982-05-11 Hughes Aircraft Company Optical waveguide formed by diffusing metal into substrate
US4206251A (en) * 1978-06-01 1980-06-03 Hughes Aircraft Company Method for diffusing metals into substrates
US6391801B1 (en) 1999-09-01 2002-05-21 Micron Technology, Inc. Method of forming a layer comprising tungsten oxide
DE19955602A1 (de) * 1999-11-18 2001-05-31 Infineon Technologies Ag Nichtflüchtige Halbleiter- Speicherzelle sowie Verfahren zu deren Herstellung
US6953730B2 (en) 2001-12-20 2005-10-11 Micron Technology, Inc. Low-temperature grown high quality ultra-thin CoTiO3 gate dielectrics
US6804136B2 (en) * 2002-06-21 2004-10-12 Micron Technology, Inc. Write once read only memory employing charge trapping in insulators
US6996009B2 (en) * 2002-06-21 2006-02-07 Micron Technology, Inc. NOR flash memory cell with high storage density
US6970370B2 (en) * 2002-06-21 2005-11-29 Micron Technology, Inc. Ferroelectric write once read only memory for archival storage
US6888739B2 (en) * 2002-06-21 2005-05-03 Micron Technology Inc. Nanocrystal write once read only memory for archival storage
US7193893B2 (en) 2002-06-21 2007-03-20 Micron Technology, Inc. Write once read only memory employing floating gates
US7154140B2 (en) * 2002-06-21 2006-12-26 Micron Technology, Inc. Write once read only memory with large work function floating gates
US7847344B2 (en) 2002-07-08 2010-12-07 Micron Technology, Inc. Memory utilizing oxide-nitride nanolaminates
US7221017B2 (en) 2002-07-08 2007-05-22 Micron Technology, Inc. Memory utilizing oxide-conductor nanolaminates
US7221586B2 (en) * 2002-07-08 2007-05-22 Micron Technology, Inc. Memory utilizing oxide nanolaminates
US6865407B2 (en) * 2002-07-11 2005-03-08 Optical Sensors, Inc. Calibration technique for non-invasive medical devices
US6903969B2 (en) * 2002-08-30 2005-06-07 Micron Technology Inc. One-device non-volatile random access memory cell
US6888200B2 (en) * 2002-08-30 2005-05-03 Micron Technology Inc. One transistor SOI non-volatile random access memory cell
US6917078B2 (en) * 2002-08-30 2005-07-12 Micron Technology Inc. One transistor SOI non-volatile random access memory cell
US8125003B2 (en) * 2003-07-02 2012-02-28 Micron Technology, Inc. High-performance one-transistor memory cell
US7145186B2 (en) 2004-08-24 2006-12-05 Micron Technology, Inc. Memory cell with trenched gated thyristor
US7927948B2 (en) 2005-07-20 2011-04-19 Micron Technology, Inc. Devices with nanocrystals and methods of formation
US7709402B2 (en) 2006-02-16 2010-05-04 Micron Technology, Inc. Conductive layers for hafnium silicon oxynitride films
JP2013197121A (ja) * 2012-03-15 2013-09-30 Toshiba Corp 半導体装置及びその製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4844581B1 (nl) * 1969-03-15 1973-12-25
US3877054A (en) * 1973-03-01 1975-04-08 Bell Telephone Labor Inc Semiconductor memory apparatus with a multilayer insulator contacting the semiconductor

Also Published As

Publication number Publication date
ES450758A1 (es) 1977-08-16
SE412818B (sv) 1980-03-17
JPS6032973B2 (ja) 1985-07-31
CA1052009A (en) 1979-04-03
FR2321768A2 (fr) 1977-03-18
JPS5224473A (en) 1977-02-23
US3964085A (en) 1976-06-15
DE2636961C2 (de) 1984-09-13
IT1071194B (it) 1985-04-02
BE845154A (fr) 1976-12-01
SE7608839L (sv) 1977-02-19
FR2321768B2 (nl) 1980-04-30
GB1552161A (en) 1979-09-12
DE2636961A1 (de) 1977-03-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL176818C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7613440A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7608923A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL161302B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting.
NL186478C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7506594A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfge- leiderinrichting en halfgeleiderinrichting ver- vaardigd met behulp van de werkwijze.
NL187508C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen.
NL161305B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting.
NL176416C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een thermo-electrische halfgeleiderinrichting.
NL7810373A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting.
NL7610283A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffekttransistor.
NL7601576A (nl) Werkwijze voor het maken van een halfgeleider- -inrichting.
NL7812385A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting.
NL7609420A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een half-geleiderinrichting.
NL188668B (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een halfgeleiderinrichting.
NL7612006A (nl) Werkwijze voor het laten groeien van een monokris- tal van een halfgeleiderverbinding.
NL158022B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL188124C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting van het ladinggekoppelde type.
NL7505134A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL186933C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleidergeheugenschakeling van het ladinggekoppelde type.
NL7509464A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL7710635A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7611057A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een halfgeleiderinrichting.
NL185044C (nl) Halfgeleider-component en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL7709411A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfge- leiderinrichting.

Legal Events

Date Code Title Description
BA A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
A85 Still pending on 85-01-01
BV The patent application has lapsed