JPS59154023A - 板状体の姿勢制御装置 - Google Patents
板状体の姿勢制御装置Info
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- JPS59154023A JPS59154023A JP58028336A JP2833683A JPS59154023A JP S59154023 A JPS59154023 A JP S59154023A JP 58028336 A JP58028336 A JP 58028336A JP 2833683 A JP2833683 A JP 2833683A JP S59154023 A JPS59154023 A JP S59154023A
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- hole
- respect
- slopes
- spring
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の技術分野）
本発明は板状体の姿勢制御装置に関する。
（発明の背型）
マスクのパターン、ケ１ノエハ上に転写するために１史
用さ１しるプロキシミティ露元装置においては、露光開
始前にマスクとウェハのアライメントを行う必要がある
。このアライメントのための動作としては概略以下こと
を安する。
用さ１しるプロキシミティ露元装置においては、露光開
始前にマスクとウェハのアライメントを行う必要がある
。このアライメントのための動作としては概略以下こと
を安する。
（１） マスク及びウェハにそれぞれ形成されたアラ
イメントマークを合致させる。このとき、マスク及び／
又はウェハはＸ−Ｙ軸方向の移動及びθ方向の回転を必
要とする。
イメントマークを合致させる。このとき、マスク及び／
又はウェハはＸ−Ｙ軸方向の移動及びθ方向の回転を必
要とする。
（２）マスクとウェハとを互いに平行に載置つけする。
このとき、マスク及び／又はウェハは前記アライメント
マークの合致を崩さぬようにして（Ｘ−Ｙ軸方向ρ横方
向移動を極力抑え込んで）任意の方向へ傾斜用Ｔ１ヒで
あることか要求される。
マークの合致を崩さぬようにして（Ｘ−Ｙ軸方向ρ横方
向移動を極力抑え込んで）任意の方向へ傾斜用Ｔ１ヒで
あることか要求される。
（３） マスクとウーハとの間の間隙を所定量に調節
する。このとき、マスク及び／又はウェハはＸ−Ｙ軸を
含む平面に世直なＺ軸方向に平行移動可能であることが
要求される。
する。このとき、マスク及び／又はウェハはＸ−Ｙ軸を
含む平面に世直なＺ軸方向に平行移動可能であることが
要求される。
プロキンミティ露光装置に２いては基本的に以上のよう
なアライメント動作ン賛求される・特に有限な大きさの
ターゲットでＸ線を発生し、このＸ線によってウェハ上
ｔｑ？、スクパターンＹ露光ｖるＸ＃露光装置にあって
は、マスクとウェハ間ノ間隙の調節誤差がＸ−Ｙ軸方向
のアライメント精度に大きく影響するために、マスクと
ウェハノ間隙と平行性を厳密に調節する心安がある。
なアライメント動作ン賛求される・特に有限な大きさの
ターゲットでＸ線を発生し、このＸ線によってウェハ上
ｔｑ？、スクパターンＹ露光ｖるＸ＃露光装置にあって
は、マスクとウェハ間ノ間隙の調節誤差がＸ−Ｙ軸方向
のアライメント精度に大きく影響するために、マスクと
ウェハノ間隙と平行性を厳密に調節する心安がある。
そこでこのような要求を満足するためには％桝１えは（
１１の動作を果す機構に（２）の動作を果す機構を順次
結合させることが考えられるが、こうすると全体構成が
複雑となる可能性が強い。
１１の動作を果す機構に（２）の動作を果す機構を順次
結合させることが考えられるが、こうすると全体構成が
複雑となる可能性が強い。
（発明の目的）
本発明の目的は、マスク又はウェハのような板状態の平
行移動４作と傾斜動作な同一機構で可能とするとともに
、該傾斜動作における任意方向の傾斜中心点の横方向移
動を実用上無視できる程度すで抑え込めるようにした板
状体の姿勢制御装置を提供することである。
行移動４作と傾斜動作な同一機構で可能とするとともに
、該傾斜動作における任意方向の傾斜中心点の横方向移
動を実用上無視できる程度すで抑え込めるようにした板
状体の姿勢制御装置を提供することである。
（発明の概要）
本発明によれは、互いに直交する２本の座標軸をＸＩＩ
ＩＩ及びＹ軸とし、該両座振軸の旋点を中心点（？！１
７Ｌは後述のＰＩ ）とし− ぞして該Ｘ軸及びＹｌｌ
ｌｌ含む平面を基準平面とした−とき；前記中心点を囲
むように位置する第１孔部（例えば後述のＭｌ ）が設
けられた支持テーブル（ψりえは後述の］）；前記支持
テーブルに載置されるとともに。
ＩＩ及びＹ軸とし、該両座振軸の旋点を中心点（？！１
７Ｌは後述のＰＩ ）とし− ぞして該Ｘ軸及びＹｌｌ
ｌｌ含む平面を基準平面とした−とき；前記中心点を囲
むように位置する第１孔部（例えば後述のＭｌ ）が設
けられた支持テーブル（ψりえは後述の］）；前記支持
テーブルに載置されるとともに。
前記第１孔部の内側で前記中心点乞囲むように位置する
第２孔部（例えば後述のＭｌ ）が設けられた第１テー
ブル（例えば後述の２）；前記一方の座標軸に関して対
向する少なくとも２箇所に２いて、前記中心点を通って
前記基準平面と所定角度を成す線分（例えば後述のｔｌ
、ｔ２）と略直交する方向に前記第１テーブルを駆動す
る第１駆動手段；前記支持テーブルに前記第１テーブル
ηど載ｉｔｌすべく該両チーフル間の前記一方の座ｇ軸
に関して対向する征１喉に配置され、前記支持チーフル
に対して前記第１テーブルの変位方向と該変位方向にｘ
寸して１頃斜する方向とに変形する少なくとも２つの第
】バネ部材（ｊ＋ｌ＋えは後述の３〜５）；前記第１チ
ーフルに載置されるとともに、前記第２孔の内側で前記
中心点ケ含む前記基準平面上に欣定の板状体乞支持する
交付部材（例えは後述の６０）を備えた第２テーブル（
例えは後述の６）；前記他方の座標軸に関して対向する
少なくとも２箇所において、前記中心点を通って前記基
準平面と所定角度を成す線分（例えば後述のｔ３．１．
）と略直交する方向に前記第２テーブルを駆動する第
２駆動手段；及び前記第１テーブルに前記第２テーブル
を載置すべく該両テーブル間の前記他方の座標軸に関し
て対向する位置に配置され、前記第１テーブルに対して
前記第２テーブルの変位方向と該変位方向に対して１頃
斜する方向とに髪形する少なくとも２つの第２バネ部材
（例えは後述の７〜９）から成る板状体の姿勢制御装置
が提供される。
第２孔部（例えば後述のＭｌ ）が設けられた第１テー
ブル（例えば後述の２）；前記一方の座標軸に関して対
向する少なくとも２箇所に２いて、前記中心点を通って
前記基準平面と所定角度を成す線分（例えば後述のｔｌ
、ｔ２）と略直交する方向に前記第１テーブルを駆動す
る第１駆動手段；前記支持テーブルに前記第１テーブル
ηど載ｉｔｌすべく該両チーフル間の前記一方の座ｇ軸
に関して対向する征１喉に配置され、前記支持チーフル
に対して前記第１テーブルの変位方向と該変位方向にｘ
寸して１頃斜する方向とに変形する少なくとも２つの第
】バネ部材（ｊ＋ｌ＋えは後述の３〜５）；前記第１チ
ーフルに載置されるとともに、前記第２孔の内側で前記
中心点ケ含む前記基準平面上に欣定の板状体乞支持する
交付部材（例えは後述の６０）を備えた第２テーブル（
例えは後述の６）；前記他方の座標軸に関して対向する
少なくとも２箇所において、前記中心点を通って前記基
準平面と所定角度を成す線分（例えば後述のｔ３．１．
）と略直交する方向に前記第２テーブルを駆動する第
２駆動手段；及び前記第１テーブルに前記第２テーブル
を載置すべく該両テーブル間の前記他方の座標軸に関し
て対向する位置に配置され、前記第１テーブルに対して
前記第２テーブルの変位方向と該変位方向に対して１頃
斜する方向とに髪形する少なくとも２つの第２バネ部材
（例えは後述の７〜９）から成る板状体の姿勢制御装置
が提供される。
（実施例）
以下１本発明を実施例に基づいて説明する。
第１図は姿勢制御装置の正面図、第２図は第１図のＸ−
Ｘ断面図、ｉｊｇ３図は第１図のＹ−Ｙ断面図である。
Ｘ断面図、ｉｊｇ３図は第１図のＹ−Ｙ断面図である。
第１図においてｘ−Ｘ軸はＸ座標軸、Ｙ−Ｙ軸はＸ座標
軸とそれぞれ対応している。また第１〜第３図に２いて
Ｘ座標軸及びＸ座標軸は中心点Ｐ＋で交差しており、該
中心点Ｐ１はＸ１Ｙ座襟軸ケ含む平面内ｌこ存在してい
るものとする、さて、支持テーブル１は露光装置本体（
不図示）に固足されるか、又はＸ、Ｙ座標軸方向に可動
に載置されている。支持テーブル】は、その表面には大
きな矩形の第１開口を、またその表面には小さな矩形の
第２開口を形成するような一対の斜面□１ａ、１ｂを形
成する如く第１孔部Ｍ＋が穿設されている。そして、こ
の斜面ＣＩ支持テーブルｌの表面の上端縁１ｃ及び下端
縁１ｄがらＸ座標軸へ向う方向にのみ形成される６第１
テーブル２は。
軸とそれぞれ対応している。また第１〜第３図に２いて
Ｘ座標軸及びＸ座標軸は中心点Ｐ＋で交差しており、該
中心点Ｐ１はＸ１Ｙ座襟軸ケ含む平面内ｌこ存在してい
るものとする、さて、支持テーブル１は露光装置本体（
不図示）に固足されるか、又はＸ、Ｙ座標軸方向に可動
に載置されている。支持テーブル】は、その表面には大
きな矩形の第１開口を、またその表面には小さな矩形の
第２開口を形成するような一対の斜面□１ａ、１ｂを形
成する如く第１孔部Ｍ＋が穿設されている。そして、こ
の斜面ＣＩ支持テーブルｌの表面の上端縁１ｃ及び下端
縁１ｄがらＸ座標軸へ向う方向にのみ形成される６第１
テーブル２は。
その裏面側に支持テーブル１の１対の斜面１ａ、】ｂと
ほぼ同一傾斜の斜面２ａ、２ｂＹそれぞれ有する。第】
テーブル２は、その表面には大きな矩形の第３開口？、
またその裏面には小さな矩形の第４開口乞形成するよう
な一対の斜面２ｃ１２ｄを形成する如く第２孔部Ｍ、が
穿設されている。
ほぼ同一傾斜の斜面２ａ、２ｂＹそれぞれ有する。第】
テーブル２は、その表面には大きな矩形の第３開口？、
またその裏面には小さな矩形の第４開口乞形成するよう
な一対の斜面２ｃ１２ｄを形成する如く第２孔部Ｍ、が
穿設されている。
そして、この斜面２ｃ、２ｄは第１テーブル２の表面の
右端縁２ｅ及び左端縁２ｆからＸ座標軸へ向う方向にの
み形成される。第１テーブル２は斜面２ａ、２ｂが支持
テーブル１の斜面１ａ、ｌｂと対向するようにして、該
支持テーブル】に収納され、そして斜面１ａと斜面２ａ
との間にはバネ３．４が固着され、斜面１ｂと斜面２ｂ
との間にはバネ５が固着される。第２テーブル６は、一
対の斜面、即ち矩形状の表面の左、右端縁からＸ座標軸
方向に向けてそれぞれ斜ｌＡた斜面６ａ、６ｂを備えた
上部体と、第１テーブル２の第４開口に挿通される円筒
状の下部体６ｃとから成る。この下部体６ｃは中心点Ｐ
Ｒを中心とする円筒でありその下端は第１及び第２テー
ブルの裏面より突出している。第２テーブル６の上部体
と下部体とを貫通して、中心点Ｐｓを中心とした貫通孔
Ｍｓが穿設されている。この下部体６ｃはマスク又はウ
ェハな吸着支持するための支持台として作用する。
右端縁２ｅ及び左端縁２ｆからＸ座標軸へ向う方向にの
み形成される。第１テーブル２は斜面２ａ、２ｂが支持
テーブル１の斜面１ａ、ｌｂと対向するようにして、該
支持テーブル】に収納され、そして斜面１ａと斜面２ａ
との間にはバネ３．４が固着され、斜面１ｂと斜面２ｂ
との間にはバネ５が固着される。第２テーブル６は、一
対の斜面、即ち矩形状の表面の左、右端縁からＸ座標軸
方向に向けてそれぞれ斜ｌＡた斜面６ａ、６ｂを備えた
上部体と、第１テーブル２の第４開口に挿通される円筒
状の下部体６ｃとから成る。この下部体６ｃは中心点Ｐ
Ｒを中心とする円筒でありその下端は第１及び第２テー
ブルの裏面より突出している。第２テーブル６の上部体
と下部体とを貫通して、中心点Ｐｓを中心とした貫通孔
Ｍｓが穿設されている。この下部体６ｃはマスク又はウ
ェハな吸着支持するための支持台として作用する。
第２図及び第３図においては支持台６ｃにマスク】０が
吸着されており、該マスク１０に対向してウェハ１１が
配置されている。そして、蕗光時には光又はＸ？ＰＭが
貫通孔Ｍｓの上方力１らマスク及びウェハに回けて照射
ざｒＬ＝。
吸着されており、該マスク１０に対向してウェハ１１が
配置されている。そして、蕗光時には光又はＸ？ＰＭが
貫通孔Ｍｓの上方力１らマスク及びウェハに回けて照射
ざｒＬ＝。
弔２デープル６のｉ凹側の斜面６ａ、６ｂは第１チーフ
ル２の斜［［２ｃ、２ｄとはは同−佃糾の斜面である。
ル２の斜［［２ｃ、２ｄとはは同−佃糾の斜面である。
この第２テーブル６は；＄ｆｔ…６ａ、６°イ゛ｂ７Ｊ
ｉｍｌデーフル２の＄ｔｕＬ１２ ｃ 、２ ｄと対向
するよつに（、て該第２テーブル２に収納され、そして
。
ｉｍｌデーフル２の＄ｔｕＬ１２ ｃ 、２ ｄと対向
するよつに（、て該第２テーブル２に収納され、そして
。
斜面６ａと斜面２ｃとの間にげバネ７．８か固着され、
斜面６ｂ（：斜面２ｄとの間にはバネ９が固着されてい
る。
斜面６ｂ（：斜面２ｄとの間にはバネ９が固着されてい
る。
第４図はハネ３〜５及びバネ７〜９を具体的に示Ｔ、ｉ
Ｗ４〆Ｉ（ａｌ゛はバネの正凹図、第４図（ｂｌはバネ
の断面図、第４図Ｊｃｌは第４図（ｂｌのＡ矢視断面図
。
Ｗ４〆Ｉ（ａｌ゛はバネの正凹図、第４図（ｂｌはバネ
の断面図、第４図Ｊｃｌは第４図（ｂｌのＡ矢視断面図
。
第４図（ｄｉは第４図（ｂｌのＢ矢祝断田」図である・
これらのバネ（代表的に符号３で表わす。）は内筒状を
屈しており、そこに中心軸ｏＩ向けて略直交する方向か
−ら切込６ケ人１して互い違いにスリット３ａ、３ｔ）
？設けている。このような形状のバネ３はその中心物１
（Ｊ＋の方向に伸縮し、またスリット３ａ及び／又は３
ｂの幅によってｉｆｆ谷される童たけ中心軸０１と交差
する方向（傾斜方向）に曲ることか５ｆ能である。し力
）シ、中心軸０１と直交する方向には、スリット３ ａ
、３ ｂをＡい違いに設けることにより変゛形しないよ
うにしである。
これらのバネ（代表的に符号３で表わす。）は内筒状を
屈しており、そこに中心軸ｏＩ向けて略直交する方向か
−ら切込６ケ人１して互い違いにスリット３ａ、３ｔ）
？設けている。このような形状のバネ３はその中心物１
（Ｊ＋の方向に伸縮し、またスリット３ａ及び／又は３
ｂの幅によってｉｆｆ谷される童たけ中心軸０１と交差
する方向（傾斜方向）に曲ることか５ｆ能である。し力
）シ、中心軸０１と直交する方向には、スリット３ ａ
、３ ｂをＡい違いに設けることにより変゛形しないよ
うにしである。
さて、％１〜３図において、中心点Ｐ１ は支持台６
ｃに例えばマスク１ｏが吸着保持されたとき。
ｃに例えばマスク１ｏが吸着保持されたとき。
該マスク１０の回路パターンが形成された面（例えはマ
スク１０の下ｔｈ＋）に存在するように設定される。バ
ネ３，４は斜面１ａと２ａとが平行になるように、また
バネ５は斜面１．ｂと２ｂとが平行になるように支持テ
ーブル１と第１テーブル２とを接続する。バネ７゛、８
は斜面２ｃと６ａとか平行になるように、またバネ９は
斜面２ｄと６ｂとが平行となるよ６に第１テーブル２と
第２テーブル６とを従続する。
スク１０の下ｔｈ＋）に存在するように設定される。バ
ネ３，４は斜面１ａと２ａとが平行になるように、また
バネ５は斜面１．ｂと２ｂとが平行になるように支持テ
ーブル１と第１テーブル２とを接続する。バネ７゛、８
は斜面２ｃと６ａとか平行になるように、またバネ９は
斜面２ｄと６ｂとが平行となるよ６に第１テーブル２と
第２テーブル６とを従続する。
次に、バネ３〜５．７〜９と中心点Ｐ１との関係を説明
する、先ず、バネ３〜５の谷中心点をＰｌ、〜Ｐ！１、
バネ７〜９の谷中心点ケＰ鵞−４〜Ｐｔ−５と足ぬる。
する、先ず、バネ３〜５の谷中心点をＰｌ、〜Ｐ！１、
バネ７〜９の谷中心点ケＰ鵞−４〜Ｐｔ−５と足ぬる。
バネ３．４の中心点Ｐ２−Ｉ％Ｐ２−ｔｖ結ぶ軸分の２
等分点Ｐ３と中心点Ｐ１ とケ結ぶ線分１．の長さ、
及び、中心点Ｐ＋ と）＜ネ３の中心点Ｐ２−１．”
ｌ’結ぶ線分Ｌ１の長さに等しＧ）。
等分点Ｐ３と中心点Ｐ１ とケ結ぶ線分１．の長さ、
及び、中心点Ｐ＋ と）＜ネ３の中心点Ｐ２−１．”
ｌ’結ぶ線分Ｌ１の長さに等しＧ）。
中心点Ｐ１と各バネの中心点Ｐ１−ｒ〜Ｐ ２−３とを
それぞれ結ぶ線分か、Ｘ、Ｘ座標軸及び中心点Ｐｔｙ！
′宮む平面（基準平面）と成す角度ｖ１１０００こ等し
い。バネ７．８の中心点Ｐ！−４１１Ｐｔ−５を！（（
酊分の２寺分点Ｐ、と中心点Ｐ１とを結ぶ線分１１の長
さ、及び中心点Ｐｓとバネ９の中心点Ｐ！−６を結ぶ線
分ｔ４の長さは等しい。中心点Ｐ饋各〕〈不７・〜９の
中心点Ｐ宏−４〜Ｐ２−６とケそれぞれ結ぶ線分が、前
記基準平面と成す角度０才 は互Ｇ）ｌこ等しい。
それぞれ結ぶ線分か、Ｘ、Ｘ座標軸及び中心点Ｐｔｙ！
′宮む平面（基準平面）と成す角度ｖ１１０００こ等し
い。バネ７．８の中心点Ｐ！−４１１Ｐｔ−５を！（（
酊分の２寺分点Ｐ、と中心点Ｐ１とを結ぶ線分１１の長
さ、及び中心点Ｐｓとバネ９の中心点Ｐ！−６を結ぶ線
分ｔ４の長さは等しい。中心点Ｐ饋各〕〈不７・〜９の
中心点Ｐ宏−４〜Ｐ２−６とケそれぞれ結ぶ線分が、前
記基準平面と成す角度０才 は互Ｇ）ｌこ等しい。
第５図は駆動装置の構成を概略的に示す説明図である。
モータ２０の回転軸にはカム２１が取付けら７している
。このカム２１には駆動棒２２か接触させられている。
。このカム２１には駆動棒２２か接触させられている。
モータ２０が回転してカム２１か回転すると駆動棒２２
は上方又は下方に変位する。この駆動装置は第１テーブ
ル２．第２テーブル６の駆動用にそれぞれ２組１更用さ
れる・そして、釜駆動装置は支持テーブル１に据え付け
られる。このとき、谷躯動装置の駆動棒は中心点Ｐｌと
点Ｐｓ 、 Ｐ４ 、 Ｐｚ −ｓ 、 Ｐり−６を
結ぶ線分と略直交する方向に変位して支持テーブル１に
対して第１テーブル２及び第２テーブル６を駆動するよ
うに据え付けられる。各駆動棒は、その中心軸が点Ｐａ
、 Ｐ４．ＰＩ−ａ 、 ＰＩ−６を通るように配置
されるこ、とが好ましい。第６図は不夾施例の斜視断面
図である。
は上方又は下方に変位する。この駆動装置は第１テーブ
ル２．第２テーブル６の駆動用にそれぞれ２組１更用さ
れる・そして、釜駆動装置は支持テーブル１に据え付け
られる。このとき、谷躯動装置の駆動棒は中心点Ｐｌと
点Ｐｓ 、 Ｐ４ 、 Ｐｚ −ｓ 、 Ｐり−６を
結ぶ線分と略直交する方向に変位して支持テーブル１に
対して第１テーブル２及び第２テーブル６を駆動するよ
うに据え付けられる。各駆動棒は、その中心軸が点Ｐａ
、 Ｐ４．ＰＩ−ａ 、 ＰＩ−６を通るように配置
されるこ、とが好ましい。第６図は不夾施例の斜視断面
図である。
次に動作を説明する。第１テーブル２０点Ｐ８ど＋α変
位させ（持ち上げ）、点Ｐ ｚ−ｓを−α変位させ（引
下げ）ると、第１テーブル２はＸ座標軸を中心に△ＵＩ
傾斜する。また、第２テーブル６の点Ｐ、を＋β変位さ
せ点Ｐ！−６を−β変位させると、第２テーブル６はＸ
座標軸を中心に△Ｖ。
位させ（持ち上げ）、点Ｐ ｚ−ｓを−α変位させ（引
下げ）ると、第１テーブル２はＸ座標軸を中心に△ＵＩ
傾斜する。また、第２テーブル６の点Ｐ、を＋β変位さ
せ点Ｐ！−６を−β変位させると、第２テーブル６はＸ
座標軸を中心に△Ｖ。
傾斜する。そして、この第１テーブル、第２テーブルの
傾斜量を同時に制御すれは支持台６Ｃに吸着されたマス
クの１頃きを中心点ＰＩＹ中心にして任意方向に調節す
ることができる。また、第１テーブル２の点Ｐ３、Ｐｇ
ｓ を同一方向に＋α又は−α変位させれば第１テー
ブルは中心点Ｐｌ Ｙ横すれさせることなく上方又は下
方に平行移動する。
傾斜量を同時に制御すれは支持台６Ｃに吸着されたマス
クの１頃きを中心点ＰＩＹ中心にして任意方向に調節す
ることができる。また、第１テーブル２の点Ｐ３、Ｐｇ
ｓ を同一方向に＋α又は−α変位させれば第１テー
ブルは中心点Ｐｌ Ｙ横すれさせることなく上方又は下
方に平行移動する。
第２テーブル６も同様である。便って、第１テーブル２
及び／又は第２テーブル６の変位によってマスクを上下
方向に平行移動させることができる。
及び／又は第２テーブル６の変位によってマスクを上下
方向に平行移動させることができる。
以上の動作は変位置α、βがあまり大きくなると確実に
保証されるものではないが、数ミクロン−考 数百ミクロン程度の変位ならば実用上ｆ児匁程度にマス
ク１０を傾斜及び／又は平行移動させることができるも
のである。
保証されるものではないが、数ミクロン−考 数百ミクロン程度の変位ならば実用上ｆ児匁程度にマス
ク１０を傾斜及び／又は平行移動させることができるも
のである。
以上の実施例では第１テーブル２及び第２テーブル６が
駆動装置の駆動棒の作用を受ける作用点が中心点Ｐ＋よ
りも上方に位置していることが理解されよろ。これは、
基準平面と上記作用点との間に駆動装置を収納する空間
を形成できる点で有利である。例えば、プロキシミティ
蕗元装置においてステップ・アンド・リピート方式の＝
元プロセスを実現しようとすると、露光のたびにウーハ
１１を移動させなければならない。そのため、マスク１
０の姿勢制御用の駆動装置をウェハの移動憐域内に突出
させることはできないから、該駆動装置の配置に苦心す
ることになる。露光装置の小型化は急務であるから、基
準平面と作用点との間に形成された空間に駆動装置を収
納できることは１′″− 非常有効なことである。
駆動装置の駆動棒の作用を受ける作用点が中心点Ｐ＋よ
りも上方に位置していることが理解されよろ。これは、
基準平面と上記作用点との間に駆動装置を収納する空間
を形成できる点で有利である。例えば、プロキシミティ
蕗元装置においてステップ・アンド・リピート方式の＝
元プロセスを実現しようとすると、露光のたびにウーハ
１１を移動させなければならない。そのため、マスク１
０の姿勢制御用の駆動装置をウェハの移動憐域内に突出
させることはできないから、該駆動装置の配置に苦心す
ることになる。露光装置の小型化は急務であるから、基
準平面と作用点との間に形成された空間に駆動装置を収
納できることは１′″− 非常有効なことである。
以上の実施例において、バネ３．４は点Ｐｓの両側に２
個、またバネ７．８も点Ｐ４の両側に２個設けられてい
るがこれに限定されるものではない。例えば、第７図に
示すようにバネの中心Ｐ１を点Ｐ１又はＰ４と合致させ
て、つまり中心点Ｐ＋に対してバネ５．バネ９と刈称な
部位にそれぞれ１１固のバネ２５．２６を設けたもので
もよい。
個、またバネ７．８も点Ｐ４の両側に２個設けられてい
るがこれに限定されるものではない。例えば、第７図に
示すようにバネの中心Ｐ１を点Ｐ１又はＰ４と合致させ
て、つまり中心点Ｐ＋に対してバネ５．バネ９と刈称な
部位にそれぞれ１１固のバネ２５．２６を設けたもので
もよい。
また、線分Ｌ１とｔ２の長さ、及び線分ｔ、 ｌｔ４の
長さはそれぞれ等しく設定されていたが、これらは等し
くなくてもよい。そのときには第１テーブル２に関して
は点ＰｓとＰＩ ｍ の変位量、また第２テーブル６に
関しては点Ｐ４とＰ２−＠ の変位量をそれぞれ異な
らしめれば前述同様の作用が得られる。更に、駆動装置
は４組用意したが、変位量α又はβはその変位方向が異
なるもののその絶対量はそれぞれ等しいから適尚な手段
をとれば２組の駆動装置でも充分に変位置α又はβを発
生覆ることができる。またその駆動源（モータ）の数は
心安にルしして選択すればよい・また、第１孔部Ｍｌ、
第２孔部Ｍ１′＃＋はテーブルに穿設したものに限られ
るものではなく、支持部材６ｃを囲むものであれはよい
。
長さはそれぞれ等しく設定されていたが、これらは等し
くなくてもよい。そのときには第１テーブル２に関して
は点ＰｓとＰＩ ｍ の変位量、また第２テーブル６に
関しては点Ｐ４とＰ２−＠ の変位量をそれぞれ異な
らしめれば前述同様の作用が得られる。更に、駆動装置
は４組用意したが、変位量α又はβはその変位方向が異
なるもののその絶対量はそれぞれ等しいから適尚な手段
をとれば２組の駆動装置でも充分に変位置α又はβを発
生覆ることができる。またその駆動源（モータ）の数は
心安にルしして選択すればよい・また、第１孔部Ｍｌ、
第２孔部Ｍ１′＃＋はテーブルに穿設したものに限られ
るものではなく、支持部材６ｃを囲むものであれはよい
。
（発明の効果）
以上のような本発明によれば第１テーブルと第２テーブ
ルの変位量を調節するだけで板状体の平行移動４作と傾
斜動作が達成できる。また板状体の任意方向の傾斜に際
してその中心点の横ずれは実用上無視できるようになる
。史に駆動装置の配置空間も取れるようになる。従って
、プロキシミティ露光装置等においてステップ・アンド
・リピート露光を採用するのに有用な板状体の姿勢制御
装置が得られる。
ルの変位量を調節するだけで板状体の平行移動４作と傾
斜動作が達成できる。また板状体の任意方向の傾斜に際
してその中心点の横ずれは実用上無視できるようになる
。史に駆動装置の配置空間も取れるようになる。従って
、プロキシミティ露光装置等においてステップ・アンド
・リピート露光を採用するのに有用な板状体の姿勢制御
装置が得られる。
第１図は本発明による姿勢制御装置の実施例の正面図、
第２図は第１図のＸ−Ｘ断面図、第３図は第１図のＹ−
Ｙ断面図、第４図は第１図中におけるバネ３〜５．７〜
９の実施例を示す説明図、第５図は姿勢制御のための駆
動装置を概略的に示す肉、第６図は本発明による姿勢制
御装置の斜視断面図、第７図は本発明による姿勢制御装
置の別の実施例の正面図。 ｌ・・・支持テーブル％ ２ ・・第１テーブル。 ３〜５・・・・・バネ、 ６ ｍ第２テーブル。 ６ｃ・・・・支持台、 ７〜９ ・・バネ。 Ｍｌ・・・第１孔部ｂ Ｍｘ・・ 第２孔部、
Ｍ３ ・・貫通孔 出願人 日本光学工業株式会社 代理人渡辺隆男 士６ 図 矛７図
第２図は第１図のＸ−Ｘ断面図、第３図は第１図のＹ−
Ｙ断面図、第４図は第１図中におけるバネ３〜５．７〜
９の実施例を示す説明図、第５図は姿勢制御のための駆
動装置を概略的に示す肉、第６図は本発明による姿勢制
御装置の斜視断面図、第７図は本発明による姿勢制御装
置の別の実施例の正面図。 ｌ・・・支持テーブル％ ２ ・・第１テーブル。 ３〜５・・・・・バネ、 ６ ｍ第２テーブル。 ６ｃ・・・・支持台、 ７〜９ ・・バネ。 Ｍｌ・・・第１孔部ｂ Ｍｘ・・ 第２孔部、
Ｍ３ ・・貫通孔 出願人 日本光学工業株式会社 代理人渡辺隆男 士６ 図 矛７図
Claims (1)
- て該Ｘ軸及びＹ軸を含む平面を基準平面としたとき；前
記中心点を囲むように位置する第１孔部が設けられた支
持テーブル；前記支持アーフルに載置されるとともに、
１１１記第】孔部の内側で前記中心点ケ囲むように位置
する第２孔部が設けられた第１テーブル；前記一方の座
標軸に関して対向する少なくとも２箇所に２いて、前記
中心点ケ辿って前記巷準平面と所定角四ヶ成す線分と略
１１゛父する方向に前記第１チーフル乞駆動する第】駆
動手段；前記支持テーブルに前記第１テーブルケ載置す
べく該両テーブル間の前記一方の座標軸に関して対向す
る位置に配置され、前記支持テーブルに対して前記第１
チーフルの変位方向と該変位方向に対して傾斜する方向
とに変形する少なくとも２つの第１バネ部材；前記第１
テーブルに載置合れるとともに、前記第２孔の内側で前
記中心点を含む前記基準平面上に所定の板状体を支持す
る支持部材を備えた第２テーブル；前記他方の座標軸、
に関して対向する少なくとも２箇所において、前記中心
点を通って前記基準平面と所定角度を成す線分と略直交
する方向に前記第２テーブルを駆動する第２駆動手段；
及び前記第１テーブルに前記第２テーブルを載置すべく
該両テーブル間の前記他方の座標軸に関して対向する位
置に配置され、前記第１テーブルに対して前記第２テー
ブルの変位方向と該変位方向に対して傾斜する方向とに
変形する少なくとも２つの第２バネ部材から成ることを
特徴とする板状体の姿勢制御装置・
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58028336A JPS59154023A (ja) | 1983-02-22 | 1983-02-22 | 板状体の姿勢制御装置 |
| US06/581,049 US4537501A (en) | 1983-02-22 | 1984-02-17 | Apparatus for the attitude control of plate-form body |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58028336A JPS59154023A (ja) | 1983-02-22 | 1983-02-22 | 板状体の姿勢制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59154023A true JPS59154023A (ja) | 1984-09-03 |
| JPH0430174B2 JPH0430174B2 (ja) | 1992-05-21 |
Family
ID=12245763
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58028336A Granted JPS59154023A (ja) | 1983-02-22 | 1983-02-22 | 板状体の姿勢制御装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4537501A (ja) |
| JP (1) | JPS59154023A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63255916A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-24 | Nikon Corp | 投影光学装置 |
| JP2014053343A (ja) * | 2012-09-05 | 2014-03-20 | Toyota Motor Corp | 半導体位置決め装置、及び半導体位置決め方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3645622A (en) * | 1970-03-31 | 1972-02-29 | Ibm | Method and apparatus for aligning a photomask |
| FR2218805A5 (ja) * | 1973-02-16 | 1974-09-13 | Thomson Csf | |
| FR2330030A1 (fr) * | 1975-10-31 | 1977-05-27 | Thomson Csf | Nouvel appareil photorepeteur de masques de haute precision |
| US4093378A (en) * | 1976-11-01 | 1978-06-06 | International Business Machines Corporation | Alignment apparatus |
| US4189230A (en) * | 1977-10-26 | 1980-02-19 | Fujitsu Limited | Wafer holder with spring-loaded wafer-holding means |
| GB1588090A (en) * | 1978-05-16 | 1981-04-15 | Standard Telephones Cables Ltd | Mask alignment for semiconductor processing |
| FR2429447A1 (fr) * | 1978-06-23 | 1980-01-18 | Thomson Csf | Systeme optique de projection muni d'un positionneur de plaque |
| US4345836A (en) * | 1979-10-22 | 1982-08-24 | Optimetrix Corporation | Two-stage wafer prealignment system for an optical alignment and exposure machine |
| JPS5825637A (ja) * | 1981-08-08 | 1983-02-15 | Canon Inc | 投影焼付装置 |
| JPS5885338U (ja) * | 1981-12-07 | 1983-06-09 | 株式会社日立製作所 | 自動焦点装置 |
| US4441808A (en) * | 1982-11-15 | 1984-04-10 | Tre Semiconductor Equipment Corp. | Focusing device for photo-exposure system |
-
1983
- 1983-02-22 JP JP58028336A patent/JPS59154023A/ja active Granted
-
1984
- 1984-02-17 US US06/581,049 patent/US4537501A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63255916A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-24 | Nikon Corp | 投影光学装置 |
| JP2014053343A (ja) * | 2012-09-05 | 2014-03-20 | Toyota Motor Corp | 半導体位置決め装置、及び半導体位置決め方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4537501A (en) | 1985-08-27 |
| JPH0430174B2 (ja) | 1992-05-21 |
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