JPS63158494A - ステ−ジ移動機構 - Google Patents

ステ−ジ移動機構

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Publication number
JPS63158494A
JPS63158494A JP61305309A JP30530986A JPS63158494A JP S63158494 A JPS63158494 A JP S63158494A JP 61305309 A JP61305309 A JP 61305309A JP 30530986 A JP30530986 A JP 30530986A JP S63158494 A JPS63158494 A JP S63158494A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
plate
movable plate
guide
movable
Prior art date
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Pending
Application number
JP61305309A
Other languages
English (en)
Inventor
瀬戸口 節男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority to JP61305309A priority Critical patent/JPS63158494A/ja
Publication of JPS63158494A publication Critical patent/JPS63158494A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は半導体生産用露光装置に係り、特に。
半導体ウェハー等の試料が載置されたステージを高精度
に位置決め移動するだめのステージ移動装置に関する。
(従来の技術) 近年、半導体集積回路の微細化によシ、高精度の露光装
置が要求されている。この露光装置に不可欠のものが高
精度の移動9位置決め装置である。
ところで、X線露光装置の場合、光源からのSOR光は
水平に放射されるから、半導体ウニ/・−等の試料が載
置されるステージ移動装置は鉛直に。
即ち、縦方向に配置しなければならない。
従来の縦型ステージ移動機構の場合、鉛直方向(Y軸方
向)に移動可能にステージ(Y軸ステージ)が配置され
、このY軸ステージ上に水平方向に移動可能にウェハー
等の試料が載置されるステージ(X軸ステージ)が配置
されておシ、Y軸ステージをY軸方向に移動し、一方、
X軸ステージをX軸方向に移動することによって、X軸
ステージを所定の位置に移動2位置決めしている。
(発明が解決しようとする問題点) ところで、従来の縦型ステージ移動機構の場合。
Y軸ステージにX軸ステージが支持されているのでY軸
ステージを上向きに移動する場合と下向きに移動する場
合とでは、ステージ駆動機構にかかる負荷変動が大きく
異なり、その結果、X軸ステージの位置決め精度が悪い
という問題点がある。
さらに、Y軸ステージ上にX軸ステージが取り付けられ
ているため、相互にガタ、振動の影響を受ける。また、
Y軸ステージ上においてX軸ステージが移動し、XYス
テージ全体の重心位置が変化するので、ガタの量が変化
し、X軸ステージの位置決め精度が悪くなるという問題
点がある。
本発明の目的は位置決め精度のよいステージ移動機構を
提供することにある。
(問題点を解決するだめの手段) 本発明によるステージ移動機構は、所定の第1の方向に
移動可能に第1の案内ガイドに静圧軸受で支持された第
1の移動板体と、第1の移動板体の下側に所定の間隔を
おいて位置し、第1の方向と直交する第2の方向に移動
可能に第2の案内ガイドに静圧軸受で支持された第2の
移動板体とを備え、第1の移動板体には第2の方向に延
びる方形状の案内孔が形成され、第2の移動板体には第
1の方向に延びる方形状の第2の案内孔が第1の案内孔
と一部重なり合うようにして形成され、第1及び第2の
案内孔を通して支持体が挿通されて。
この支持体の一端にはステージ板が取り付けられ。
他端にはステージ板と対向する板体が取り付けられてお
り、この支持体は静圧軸受で前記第1及び第2の案内孔
に支持されて、さらに、ステージ板は第1の移動板体に
対し静圧軸受によって滑動可能に支持され、上記の板体
は第2の移動板体に対し静圧軸受により滑動可能に支持
されており、第1及び第2の移動板体をそれぞれ第1及
び第2の方向に移動することによってステージ板を移動
するようにしたことを特徴としている。
(実施例) 以下本発明について実施例によって説明する。
まず、第1図(a) 、 (b) l及び(C)を参照
して、鉛直方向に延び込固定板l上には支持固定台2が
複数箇所に配置固定されており、これら支持固定台2に
は、第1図(b)に示すように正方形状に4本のガイド
棒3a 、 3b 、 3c 、及び3dがそれぞれの
両端部で支持され、しかもガイド棒3a及び3bは同一
の高さに、ガイド棒3C及び3dはガイド棒3a及び3
bよシ低い位置で、同一の高さに配置されている。
ガイド棒3a及び3bには移動板体4の両端が支持され
、これによって、移動板体4はガイド棒3a及び3bに
沿って移動可能である。一方、ガイド棒3C及び3dに
は移動板体5の両端が支持され、これによって、移動板
体5はガイド棒3C及び3dに沿って移動可能である。
即ち、移動体5は移動体4の下側に所定の間隔をおいて
配置され、移動体4の移動方向と直交する方向に移動す
ることになる。
第2図(b)に示すように、移動板体4は両端にそれぞ
れ案内ガイド棒3a及び3bが挿通される貫通孔4bを
備える支持部4aが設けられている。
この支持部3aに静圧気体軸受(図示せず)を介して案
内ガイド棒3a及び3bが挿通されて、案内ガイド棒3
a及び3bに移動板体4が滑動可能に支持されている。
さらに、移動板体4の中央部には長手方向に延びる方形
状の案内孔部4Cが形成されている。
同様にして、第2図(c)に示すように、移動板体5は
両端にそれぞれ案内ガイド棒3c及び3dが挿通される
貫通孔5bを備える支持部5aが設けられている。この
支持部3bに静圧気体軸受(図示せず)を介して案内ガ
イド棒3c及び3dが挿通されて、案内ガイド棒3c及
び3dに移動板体5が滑動可能に支持されている。さら
に、移動板体4の中央部には長手方向に延びる方形状の
案内孔部5cが形成されている。
移動板体4及び5をそれぞれ案内ガイド棒3a。
3b及び3c 、3dに支持した状態で、案内孔部4c
の一部と案内孔部5cの一部とは、第1図(b)に示す
ように重複している。また、移動板体4の支持部4a及
び移動板体5の支持部5aの下面にはおのおのリニアモ
ータ6の駆動子6aが配設されており、一方、案内ガイ
ド棒3a、3b、3c及び3dに対応して固定板1上に
はリニアモータ6の固定子6bが配設されている。そし
て、これら駆動子6a及び固定子6bによってリニアモ
ータ6が構成されている。
上述の案内孔部4c及び5cの各長辺部と支持棒体7b
の一一圧気体軸受(図示せず)が形成されており、さら
に、移動板体4の上面には案内孔部4cに沿って移動板
体4の上面とステージ板体7aの下面の間に静圧気体軸
受(図示せず)が形成されている。
案内孔部4cと5cとの重複部には第2図(、)に示す
角形状の支持棒体7bが挿入され、案内孔部4cと5c
の長辺部と支持棒体7bとの間に構成された静圧気体軸
受によって支持され、案内孔部−ジ板体7aが取り付け
られており、ステージ板体7aの上面にはウェハチャッ
ク8が取り付けられている。ステージ板体7aはその下
面と移動板体4の上面部(第2図(b)の斜線部)の間
に静圧気体軸受(第2図(b)に斜線で示す)を構成し
、移動板体4の長手方向に移動可能になっている。板体
7cと移動板体5の下面部の間(第2図(d)に斜線で
示す)に静圧気体軸受を形成し、移動板体5の長手方向
に滑動可能である。そして、ステージ板体7a、支持棒
体7b、及び−≠≠塙板体7Cによってステージ台7が
構成される。
ウェハチャック8上にウェハ(図示せず)が支持され、
リニアモータ6を駆動して、移動板体4を案内ガイド棒
3a及び3bに沿って移動し、移動板体5を案内ガイド
棒3c及び3dに沿って移動させる。移動板体4の移動
によって、支持棒体7bは案内孔部5aの長手方向に静
圧気体軸受に支持されて移動する。一方、移動板体5の
移動によって、支持棒体7bは案内孔部4aの長手方向
に静圧気体軸受に支持されて移動する。従って。
移動板体4及び5を移動させることによって、ステージ
板体7aを所望の位置(例えば露光位置)に移動させる
ことができる。なお、ステージ板体7a、即ち、ウェハ
の位置は例えばレーザ干渉計(図示せず)によって検出
され、レーザ干渉計の検出結果に基づいてリニアモータ
6が駆動制御される。
なお、板体7aと板体7cの重量をバランスさせるよう
にしておくと、ステージ台7の動きがより安定する。さ
らに上述の説明では、駆動装置(アクチーエータ)とし
てリニアモータを用いた場合について説明しだが、DC
モータ等を用いてもよい。また、第3図に示すように、
案内ガイドとして、角筒状の棒体9を用いて、この棒体
の−゛端面に沿って開口部を設け、移動板体4(移動板
体5)の両端部を棒体9内に静圧気体軸受を介して配設
し、移動板体4(移動板体5)を開口部(即ち、棒体9
)に沿って移動させてもよい。
(発明の効果) XステージとXステージが機械的に独立であるので、上
下方向(Y軸方向)に制御される質量は。
従来型よ)、Xステージの分だけ少なくなる。即ち、上
下方向の負荷変動はそれだけ少なくなる。
また、XステージとXステージが独立しているので、X
ステージのガタ及び振動がXステージに直接には影響し
ない。さらに、Xステージが動いても、X軸の重心の移
動はXステージに何ら影響を及ぼさない。加えて、ガイ
ド部は静圧気体軸受であるので動きが極めて滑かである
。従って、高い位置決め精度が得られる大きな効果があ
る。
以下偵日
【図面の簡単な説明】
第1図(、)は本発明によるステージ移動装置の一実施
例を側面から示す図、第1図(b)は本発明によるステ
ージ移動装置の一実施例を示す平面図、第1図(c)は
本発明によるステージ移動装置の一実施例を示す断面図
、第2図(、)〜(d)はそれぞれステージ板体と支持
棒体、第1の移動板体、第2の移動板体、及び対向する
板体を示す斜視図、第3図は移動板体と案内ガイドとの
支持の他の例を示す図である。 1・・・固定板、2・・・支持台、3a〜3d・・・案
内ガイド棒、4,5・・・移動板体、6・・・リニアモ
ータ。 7・・・ステージ台、8・・・ウェハチャック。 第1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、所定の第1の方向に移動可能に第1の案内ガイドに
    静圧軸受で支持された第1の移動板体と、該第1の移動
    板体の下側に所定の間隔をおいて位置し、前記第1の方
    向と直交する第2の方向に移動可能に第2の案内ガイド
    に静圧軸受で支持された第2の移動板体とを備え、前記
    第1の移動板体には前記第2の方向に延びる方形状の第
    1の案内孔が形成され、前記第2の移動板体には前記第
    1の方向に延びる方形状の第2の案内孔が前記第1の案
    内孔と一部重なり合うようにして形成され、前記第1及
    び第2の案内孔を通して支持体部が挿通されて、該支持
    体の一端にはステージ板が取り付けられ、他端には該ス
    テージ板と対向する板体が取り付けられており、該支持
    体は静圧軸受で前記第1及び第2の案内孔内に支持され
    て、さらに前記ステージ板は前記第1の移動板体に対し
    静圧軸受によって滑動可能であり、前記板体は前記第2
    の移動板体に対し静圧軸受により滑動可能であり、前記
    第1及び第2の移動板体をそれぞれ前記第1及び第2の
    方向に移動することによって前記ステージ板を移動する
    ようにしたことを特徴とするステージ移動機構。
JP61305309A 1986-12-23 1986-12-23 ステ−ジ移動機構 Pending JPS63158494A (ja)

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JP61305309A JPS63158494A (ja) 1986-12-23 1986-12-23 ステ−ジ移動機構

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JP61305309A JPS63158494A (ja) 1986-12-23 1986-12-23 ステ−ジ移動機構

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JPS63158494A true JPS63158494A (ja) 1988-07-01

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ID=17943546

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JP61305309A Pending JPS63158494A (ja) 1986-12-23 1986-12-23 ステ−ジ移動機構

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JP (1) JPS63158494A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002130281A (ja) * 2000-10-27 2002-05-09 Sigma Technos Kk Xyステージ
JP2010151322A (ja) * 2010-04-01 2010-07-08 Sigma Technos Kk Xyステージ
JP2012128417A (ja) * 2010-12-10 2012-07-05 Leica Microsystems Cms Gmbh 顕微鏡ステージ

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002130281A (ja) * 2000-10-27 2002-05-09 Sigma Technos Kk Xyステージ
JP4580537B2 (ja) * 2000-10-27 2010-11-17 シグマテクノス株式会社 Xyステージ
JP2010151322A (ja) * 2010-04-01 2010-07-08 Sigma Technos Kk Xyステージ
JP2012128417A (ja) * 2010-12-10 2012-07-05 Leica Microsystems Cms Gmbh 顕微鏡ステージ

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