JPS62182692A - Ｘｙステ−ジ - Google Patents
Ｘｙステ−ジInfo
- Publication number
- JPS62182692A JPS62182692A JP2522886A JP2522886A JPS62182692A JP S62182692 A JPS62182692 A JP S62182692A JP 2522886 A JP2522886 A JP 2522886A JP 2522886 A JP2522886 A JP 2522886A JP S62182692 A JPS62182692 A JP S62182692A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- guide
- movable
- coil bobbin
- movable guide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、例えば光学測定機器、半導体製造装置、精
密工作機等の位置決め装置に適用するＸＹステージに関
する。
密工作機等の位置決め装置に適用するＸＹステージに関
する。
〈発明の背景〉
従来この種のＸＹステージは、第３図に示す如く、定盤
７上の４辺に縦横ベースガイド７１および各ベースガイ
ド７１に沿ってリニアモータ７２を固定し、対向するリ
ニアモータ７２の可動体７３間に縦横可動ガイド７４．
７５を取付けて、その交叉部にステージ７６をスライド
自在に保合支持している。斯るステージ装置では、可動
体７３には空気軸受８を取付けてＸ。
７上の４辺に縦横ベースガイド７１および各ベースガイ
ド７１に沿ってリニアモータ７２を固定し、対向するリ
ニアモータ７２の可動体７３間に縦横可動ガイド７４．
７５を取付けて、その交叉部にステージ７６をスライド
自在に保合支持している。斯るステージ装置では、可動
体７３には空気軸受８を取付けてＸ。
Ｙ軸荷重をベースガイド７１、Ｚ軸荷重を定盤７に支承
し、またステージ７６は、同様な空気軸受９を取付けて
Ｘ、Ｙ軸荷重を可動ガイド７４゜７５、Ｚ軸荷重を定盤
７に支承している。
し、またステージ７６は、同様な空気軸受９を取付けて
Ｘ、Ｙ軸荷重を可動ガイド７４゜７５、Ｚ軸荷重を定盤
７に支承している。
従って、装置の構成が複雑且つ大型化すると共に、特に
定盤７の表面は、Ｚ軸荷重を受けるため高精度な平面度
が要求され、製作コストが高くつき、しかも、軸受精度
を維持するため常に定盤表面を清掃し、クリーンな状態
に保つ必要がある、等の問題があった。
定盤７の表面は、Ｚ軸荷重を受けるため高精度な平面度
が要求され、製作コストが高くつき、しかも、軸受精度
を維持するため常に定盤表面を清掃し、クリーンな状態
に保つ必要がある、等の問題があった。
〈発明の目的〉
この発明は、平行するベースガイドおよび可動ガイドを
リニアモータにて構成し、且つ、ステージおよび可動ガ
イドのＺ軸荷重を含んだＸ。
リニアモータにて構成し、且つ、ステージおよび可動ガ
イドのＺ軸荷重を含んだＸ。
Ｙ軸荷重を可動ガイド、ベースガイドに支持することに
より、上記の諸問題を一挙に解消し、装置の小型化およ
び簡略化、ステージの走り精度を向上し得る新規なＸＹ
ステージを提供することを目的とする。
より、上記の諸問題を一挙に解消し、装置の小型化およ
び簡略化、ステージの走り精度を向上し得る新規なＸＹ
ステージを提供することを目的とする。
〈発明の構成および効果〉
上記の目的を達成するため、この発明では、平行するベ
ースガイドおよびベースガイド間に支持した可動ガイド
をモータヨークとコイルボビンからなるリニアモータに
て構成すると共に、モータヨークとコイルボビンとの間
には、コイルボビンに加わるＸ、 Ｙ、 Ｚ軸荷重を
支持する空気軸受を構成してなる。上記の構成によると
、この発明では、ベースガイドおよび可動ガイドをリニ
アモータにて構成し、可動ガイドの案内と駆動をベース
ガイドにより、またステージの案内と駆動を可動ガイド
にて行うから、従来装置に比べて構成が一段と簡略化し
、しかも、ベースガイドおよび可動ガイドをなすモータ
ヨークとコイルボビンとの間にコイルボビンに加わるＸ
、Ｙ、Ｚ軸荷重を支持する空気軸受を構成したから、定
盤を省略できる。
ースガイドおよびベースガイド間に支持した可動ガイド
をモータヨークとコイルボビンからなるリニアモータに
て構成すると共に、モータヨークとコイルボビンとの間
には、コイルボビンに加わるＸ、 Ｙ、 Ｚ軸荷重を
支持する空気軸受を構成してなる。上記の構成によると
、この発明では、ベースガイドおよび可動ガイドをリニ
アモータにて構成し、可動ガイドの案内と駆動をベース
ガイドにより、またステージの案内と駆動を可動ガイド
にて行うから、従来装置に比べて構成が一段と簡略化し
、しかも、ベースガイドおよび可動ガイドをなすモータ
ヨークとコイルボビンとの間にコイルボビンに加わるＸ
、Ｙ、Ｚ軸荷重を支持する空気軸受を構成したから、定
盤を省略できる。
従って、定盤の製作および清浄管理を要せず装置の大幅
なコストダウンを実現し得ると共に、ステージ下方の空
間を利用できる効果を有す。
なコストダウンを実現し得ると共に、ステージ下方の空
間を利用できる効果を有す。
また、モータヨークの両側面、上下面を空気軸受により
拘束するため、上下動、ピッチングの抑制効果が向上す
る等、構成簡易にして発明目的を達成した効果を奏する
。
拘束するため、上下動、ピッチングの抑制効果が向上す
る等、構成簡易にして発明目的を達成した効果を奏する
。
〈実施例の説明〉
第１図はこの発明にがかるＸＹステージの一実施例を示
す。
す。
該ＸＹステージは、固定基板１上に平行配備された一対
のベースガイド２と、このベースガイド２に支持された
可動ガイド３と、この可動ガイド３に支持されたステー
ジ４とからなり、両ベースガイド２および可動ガイド３
は、内面に永久磁石板を貼着したモータヨーク２１．３
１とコイルボビン２２．３２からなるリニアモータ２ａ
、３ａにて構成し、ベースガイド２をなすリニアモータ
２ａのコイルボビン２２に可動ガイド３を、また可動ガ
イド３をなすリニアモータ３ａのコイルボビン３２にス
テージ４を取付けており、ステージ４は、ベースガイド
２に対する可動ガイド３の移行と、可動ガイド３に対す
るステージ４の移行によりＸＹ軸方向の任意位置に移行
する。
のベースガイド２と、このベースガイド２に支持された
可動ガイド３と、この可動ガイド３に支持されたステー
ジ４とからなり、両ベースガイド２および可動ガイド３
は、内面に永久磁石板を貼着したモータヨーク２１．３
１とコイルボビン２２．３２からなるリニアモータ２ａ
、３ａにて構成し、ベースガイド２をなすリニアモータ
２ａのコイルボビン２２に可動ガイド３を、また可動ガ
イド３をなすリニアモータ３ａのコイルボビン３２にス
テージ４を取付けており、ステージ４は、ベースガイド
２に対する可動ガイド３の移行と、可動ガイド３に対す
るステージ４の移行によりＸＹ軸方向の任意位置に移行
する。
前記ベースガイド２、可動ガイド３におけるコイルボビ
ン２２．３２には、モータヨーク２１゜３１の両側面、
上下面に対向して圧力空気源に連通した空気噴出孔５１
．６１を対向して開設し、モータヨーク２１．３１の両
側面と噴出孔５１によってコイルボビン２２．３２に加
わるＸＹ軸荷重を支える両側拘束型のＸＹ軸受５を、ま
たモータヨーク２１．３１の上下面と対応する噴出孔６
１によってコイルボビン２２．３２に加わる２軸筒重を
支える両側拘束型Ｚ軸受６を構成してなるものである。
ン２２．３２には、モータヨーク２１゜３１の両側面、
上下面に対向して圧力空気源に連通した空気噴出孔５１
．６１を対向して開設し、モータヨーク２１．３１の両
側面と噴出孔５１によってコイルボビン２２．３２に加
わるＸＹ軸荷重を支える両側拘束型のＸＹ軸受５を、ま
たモータヨーク２１．３１の上下面と対応する噴出孔６
１によってコイルボビン２２．３２に加わる２軸筒重を
支える両側拘束型Ｚ軸受６を構成してなるものである。
尚、上記Ｚ軸受６は、モータヨークの上面と下面の噴出
孔の設置数、孔径あるいは空気噴出圧力を、荷重に応じ
て調整制御し、モータヨークの各側面に均等な軸受すき
まを形成するようになすことは勿論である。
孔の設置数、孔径あるいは空気噴出圧力を、荷重に応じ
て調整制御し、モータヨークの各側面に均等な軸受すき
まを形成するようになすことは勿論である。
然して、ベースガイド２をなすリニアモータ２ａの作動
により、ステージ４を含む可動ガイド３はベースガイド
２に沿って移行し、また可動ガイド３をなすリニアモー
タ３ａの作動によりステージ４は可動ガイド３方向に移
行し、従ってステージ４はＸＹ軸方向の目標位置に移行
する。かかる移行時、ステージ４は、モータヨーク３１
に対するコイルボビン３２のＸＹ軸受５、Ｚ軸受６によ
り、またステージ４を含む可動ガイド３は、ベースガイ
ド２におけるコイルボビン２２のＸＹ軸受５、Ｚ軸受６
に軸承されて安定した移動を行う。
により、ステージ４を含む可動ガイド３はベースガイド
２に沿って移行し、また可動ガイド３をなすリニアモー
タ３ａの作動によりステージ４は可動ガイド３方向に移
行し、従ってステージ４はＸＹ軸方向の目標位置に移行
する。かかる移行時、ステージ４は、モータヨーク３１
に対するコイルボビン３２のＸＹ軸受５、Ｚ軸受６によ
り、またステージ４を含む可動ガイド３は、ベースガイ
ド２におけるコイルボビン２２のＸＹ軸受５、Ｚ軸受６
に軸承されて安定した移動を行う。
本発明は上記の如く、平行するベースガイド２およびベ
ースガイド２間に支持された可動ガイド３を、各々、モ
ータヨーク２１．３１とコイルボビン２２．３２からな
るリニアモータ２ａ、３ａにて構成し、モータヨークと
コイルボビンとの間に、コイルボビンに加わるＸＹ軸受
５およびＺ軸受６を構成したから、本発明は特に、従来
のＸＹステージの如く定盤を要せず。
ースガイド２間に支持された可動ガイド３を、各々、モ
ータヨーク２１．３１とコイルボビン２２．３２からな
るリニアモータ２ａ、３ａにて構成し、モータヨークと
コイルボビンとの間に、コイルボビンに加わるＸＹ軸受
５およびＺ軸受６を構成したから、本発明は特に、従来
のＸＹステージの如く定盤を要せず。
以て、構造の簡略化および小型化を実現できる。
しかも、定盤を要しないため、ステージ４の下方が開放
し、これを作業空間に利用できる。
し、これを作業空間に利用できる。
更にベースガイド２、可動ガイド３をリニアモータ２ａ
、３ａにて構成し、それぞれモータヨークの縦横側面に
対向して両側拘束型のＸＹ軸受５、およびＺ軸受６を構
成したから、軸受部の剛性が高まり、上下動、ピッチン
グを抑制し得る等、構成簡易にして実用上の顕著な効果
を有す。
、３ａにて構成し、それぞれモータヨークの縦横側面に
対向して両側拘束型のＸＹ軸受５、およびＺ軸受６を構
成したから、軸受部の剛性が高まり、上下動、ピッチン
グを抑制し得る等、構成簡易にして実用上の顕著な効果
を有す。
第１図はこの発明に係るＸＹステージの一実施例を示す
斜面図、第２図は第１図中ｎ−ｎ線に沿う拡大断面図、
第３図は従来例を示す斜面図である。 ２・・・・ベースガイド ２ａ・・・・リニアモータ２
１・・・・モータヨーク ２２・・・・ボビン３・・・
・可動ガイド ３ａ・・・・リニアモータ３１・・・
・モータヨーク ３２・・・・ボビン４・・・・ステー
ジ ５・・・・ＸＹ軸受５１・・・・噴出孔
６・・・・Ｚ軸受６１・・・・噴出孔 特許 出願人 立石電機株式会社 う子３図 従朶ｇ偏斜面＋２ ２−−−ペースｎ゛イド Ｚλ・−リｔ−７’七−タ
２／−−モー７−１−７ ２２ よ−ｒ／３
−・り勤η７ド ３ａ−１ニアそ一タ ３ｔ−−モ
ータｓ−７，３２−−ホ゛ド／、１ｆ４−一〜ズテーシ
゛
斜面図、第２図は第１図中ｎ−ｎ線に沿う拡大断面図、
第３図は従来例を示す斜面図である。 ２・・・・ベースガイド ２ａ・・・・リニアモータ２
１・・・・モータヨーク ２２・・・・ボビン３・・・
・可動ガイド ３ａ・・・・リニアモータ３１・・・
・モータヨーク ３２・・・・ボビン４・・・・ステー
ジ ５・・・・ＸＹ軸受５１・・・・噴出孔
６・・・・Ｚ軸受６１・・・・噴出孔 特許 出願人 立石電機株式会社 う子３図 従朶ｇ偏斜面＋２ ２−−−ペースｎ゛イド Ｚλ・−リｔ−７’七−タ
２／−−モー７−１−７ ２２ よ−ｒ／３
−・り勤η７ド ３ａ−１ニアそ一タ ３ｔ−−モ
ータｓ−７，３２−−ホ゛ド／、１ｆ４−一〜ズテーシ
゛
Claims (3)
- （１）平行配備されたベースガイドと、このベースガイ
ドに対しガイド方向に往復動可能に支持された可動ガイ
ドと、この可動ガイドに対しガイド方向に往復動可能に
支持されたステージを具備し、両ベースガイドおよび可
動ガイドは、モータヨークとコイルボビンからなるリニ
アモータにて構成すると共に、それぞれモータヨークと
コイルボビンとの間には、コイルボビンに加わるＸ、Ｙ
、Ｚ軸荷重を支持する空気軸受を構成して成るＸＹステ
ージ。 - （２）ベースガイドをなすリニアモータのコイルボビン
には可動ガイドが支持されている特許請求の範囲第１項
記載のＸＹステージ。 - （３）可動ガイドをなすリニアモータのコイルボビンに
はステージが支持されている特許請求の範囲第１項記載
のＸＹステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2522886A JPS62182692A (ja) | 1986-02-06 | 1986-02-06 | Ｘｙステ−ジ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2522886A JPS62182692A (ja) | 1986-02-06 | 1986-02-06 | Ｘｙステ−ジ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62182692A true JPS62182692A (ja) | 1987-08-11 |
Family
ID=12160110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2522886A Pending JPS62182692A (ja) | 1986-02-06 | 1986-02-06 | Ｘｙステ−ジ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62182692A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6583597B2 (en) | 2000-07-07 | 2003-06-24 | Nikon Corporation | Stage apparatus including non-containing gas bearings and microlithography apparatus comprising same |
| US6693284B2 (en) | 2000-10-04 | 2004-02-17 | Nikon Corporation | Stage apparatus providing multiple degrees of freedom of movement while exhibiting reduced magnetic disturbance of a charged particle beam |
| JP2010151322A (ja) * | 2010-04-01 | 2010-07-08 | Sigma Technos Kk | Ｘｙステージ |
-
1986
- 1986-02-06 JP JP2522886A patent/JPS62182692A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6583597B2 (en) | 2000-07-07 | 2003-06-24 | Nikon Corporation | Stage apparatus including non-containing gas bearings and microlithography apparatus comprising same |
| US6693284B2 (en) | 2000-10-04 | 2004-02-17 | Nikon Corporation | Stage apparatus providing multiple degrees of freedom of movement while exhibiting reduced magnetic disturbance of a charged particle beam |
| JP2010151322A (ja) * | 2010-04-01 | 2010-07-08 | Sigma Technos Kk | Ｘｙステージ |
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