KR101087529B1 - 스테이지장치 - Google Patents

스테이지장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101087529B1
KR101087529B1 KR1020070020807A KR20070020807A KR101087529B1 KR 101087529 B1 KR101087529 B1 KR 101087529B1 KR 1020070020807 A KR1020070020807 A KR 1020070020807A KR 20070020807 A KR20070020807 A KR 20070020807A KR 101087529 B1 KR101087529 B1 KR 101087529B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
stage
linear motor
bearing
surface plate
axis
Prior art date
Application number
KR1020070020807A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20070090803A (ko
Inventor
야스오 미나미
가즈야 히오키
Original Assignee
스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 filed Critical 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤
Publication of KR20070090803A publication Critical patent/KR20070090803A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101087529B1 publication Critical patent/KR101087529B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716—Stages
    • G03F7/70725—Stages control
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70816—Bearings

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Machine Tool Units (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

θ 테이블의 회전운동 동작을 안정적이며 또한 정밀하게 제어할 수 있는 것을 과제로 한다.
스테이지장치(10A)는, 정반(20) 위를 이동하는 스테이지(30)와, 스테이지(30) 상에 올려 놓아진 θ 테이블(40)을 가진다. 스테이지(30)는, Y 방향으로 이동하는 Y 스테이지(36)와, Y 방향과 직교하는 X 방향으로 이동하는 X 스테이지(38)를 가진다. X 스테이지(38)의 상면(上面)으로부터는 피벗축(80)이 수직으로 기립하여 있다. 이 피벗축(80)은, 도시하지 않은 나사에 의하여 X 스테이지(38)에 나사고정된다. 이 피벗축(80)의 상단에는, 베어링(82)이 장착되어 있고, 이 베어링(82)에 의하여, θ 테이블(40)과 피벗축(80)이 축으로 지지되어, θ 테이블(40)이 θz 방향으로 회전운동 가능하게 되어 있다. 또한, θ 테이블(40)의 하면(下面)으로부터 수직 하방 방향으로 뻗어 있는 4개의 지주(支柱)(60)와, 각 지주(60)의 하단에 마련되는 에어 패드(70)를 구비한다.
스테이지, 정반, 지주, 피벗축, θ 테이블

Description

스테이지장치{Stage device}
도 1은, 실시예 1의 스테이지장치를 나타낸 사시도이다.
도 2는, 실시예 1의 스테이지장치를 나타낸 정면도이다.
도 3은, 실시예 1의 스테이지장치를 나타낸 평면도이다.
도 4는, 실시예 1의 스테이지장치의 스테이지 및 θ 테이블을 측방에서 본 측단면을 나타낸 도면이다.
도 5는, 실시예 2의 스테이지장치를 나타낸 정면도이다.
도 6은, 실시예 2의 스테이지장치의 측단면을 나타낸 도면이다.
도 7은, 실시예 2의 변형예의 스테이지장치를 나타낸 정면도이다.
도 8은, 실시예 3의 스테이지장치를 나타낸 정면도이다.
도 9는, 실시예 3의 스테이지장치를 측방에서 본 측단면도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10A, 10B, 10C : 스테이지장치
20 : 정반(定盤)
28 : Y 방향 가이드 레일
30 : 스테이지
32 : 슬라이더
34, 70 : 에어 패드
36 : Y 스테이지
38 : X 스테이지
40 : θ 테이블
50 : Y 리니어 모터
60 : 지주(支柱)
80 : 피벗축
82 : 베어링
84 : θ 리니어 모터
86 : 마그넷 요크
88 : 코일 유닛
122 : X 가이드 레일
124 : X 리니어 모터
본 발명은, θ 테이블의 회전운동 동작을 보다 안정적이고 또한 정밀하게 행할 수 있도록 구성된 스테이지장치에 관한 것이다.
예컨대, 스테이지장치에서는, Y 방향으로 이동하는 Y 스테이지와, X 방향으로 이동하는 X 스테이지를 가지며, Y 스테이지가 정반(定盤) 상에 고정된 한 쌍의 Y 방향 가이드 레일을 따라서 이동방향이 가이드되고, X 스테이지가 Y 스테이지에 탑재된 X 방향 가이드 레일을 따라서 이동방향이 가이드된다(예컨대, 특허문헌 1 참조).
또한, 반도체 웨이퍼의 이동에 이용되는 스테이지장치에서는, Y 스테이지의 양단(兩端)에 마련된 슬라이더가 리니어 모터에 의하여 Y 방향으로 병진(竝進) 구동되며, 또한 X 스테이지 상에는 웨이퍼가 올려 놓아지는 θ 테이블이 θz 방향으로 회전운동 가능하게 지지되어 있다.
이 종류의 스테이지장치에서는, 대상물로서의 웨이퍼가 반송되어 θ 테이블에 지지되면, 웨이퍼의 위치를 높은 정밀도로 위치결정하기 위하여, θ 테이블을 Z축 둘레의 θz 방향으로 회전운동 동작시켜서 웨이퍼의 위치를 조정하는 위치결정 제어를 행하도록 구성되어 있다.
[특허문헌 1] 일본국 특허공개 2004-317485호 공보
상기 종래의 스테이지장치에서는, θ 테이블을 회전운동 가능하게 지지하는 지지부에 있어서, θ 테이블의 하중을 모두 X 테이블에서 받고 있으므로, 예컨대, 가이드 레일의 변형에 의하여 Y 스테이지가 회전한 경우, 마찰력에 의하여 θ 테이블도 회전하여 버려서, θ 테이블의 회전운동 위치를 안정적이며 또한 정밀하게 제 어하는 것이 어렵다고 하는 문제가 있었다.
그래서, 본 발명은, 상술한 바와 같은 과제를 해결한 스테이지장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일국면(一局面)의 스테이지장치는, 정반(定盤) 위를 이동하는 스테이지와, 그 스테이지와 함께 이동 가능하며 또한 그 스테이지 상에서 회전운동 가능한 θ 테이블을 가지는 스테이지장치에 있어서, 상기 스테이지와 상기 θ 테이블 사이에서 수직으로 기립하는 피벗축과, 상기 스테이지에 대하여 상기 θ 테이블이 회전운동 가능하게 되도록, 상기 피벗축과 상기 θ 테이블 사이, 또는, 상기 스테이지와 상기 피벗축 사이를 축으로 지지하는 베어링과, 상기 θ 테이블을 하면(下面)측으로부터 회전 구동하는 θ 리니어 모터를 포함한다.
본 발명의 다른 국면(局面)의 스테이지장치는, 정반 위를 이동하는 스테이지와, 그 스테이지와 함께 이동 가능하며 또한 그 스테이지 상에서 회전운동 가능한 θ 테이블을 가지는 스테이지장치에 있어서, 상기 스테이지의 상면(上面)으로부터 수직으로 기립하는 피벗축과, 상기 피벗축과 상기 θ 테이블 사이를 축으로 지지하는 베어링과, 상기 θ 테이블을 하면측으로부터 상기 스테이지에 대하여 회전 구동하는 θ 리니어 모터를 포함한다.
또한, 상기 정반 또는 상기 스테이지와의 사이에서 상기 θ 테이블을 지지하는 지지수단을 더욱 구비하여도 좋다.
또한, 상기 지지수단은, 상기 θ 테이블의 하면으로부터 수직으로 뻗어 있는 복수의 지주(支柱)와, 상기 복수의 지주 각각의 하단(下端)에 설치되고, 상기 정반 위 또는 상기 스테이지 위를 정압(靜壓) 부상(浮上)하는 복수의 에어 패드를 포함하여도 좋다.
또한, 상기 지지수단은, 상기 정반 또는 상기 스테이지로부터 수직 상방으로 뻗어 있는 복수의 지주와, 이 지주의 상단에 설치되고, 상기 θ 스테이지를 정압 부상시키는 복수의 에어 패드를 포함하여도 좋다.
또한, 상기 베어링은, 크로스 롤러 베어링으로 구성되어도 좋다.
또한, 상기 θ 리니어 모터의 고정자(固定子)는 상기 스테이지 상에 설치되고, 상기 θ 리니어 모터의 가동자(可動子)는 상기 θ 테이블의 하면에 설치되어도 좋다.
또한, 상기 스테이지는, 상기 정반 상에서 그 스테이지의 상면을 서로 직교하는 2축방향으로 평행이동 가능한 XY 스테이지이고, 상기 XY 스테이지는, Y 방향으로 이동하는 Y 스테이지와, 상기 Y 스테이지 상에 탑재(搭載)되고, X 방향으로 이동하는 X 스테이지를 포함하며, 상기 θ방향 리니어 모터의 고정자는, 상기 X 스테이지 상에 탑재되어도 좋다.
[실시예]
이하, 본 발명의 스테이지장치를 적용한 실시예에 대하여 설명한다.
[실시예 1]
도 1은, 실시예 1의 스테이지장치를 나타낸 사시도이다. 도 2는, 실시예 1의 스테이지장치를 나타낸 정면도이다. 도 3은, 실시예 1의 스테이지장치를 나타낸 평면도이다.
도 1 내지 도 3에 나타낸 바와 같이, 스테이지장치(10A)는, 예컨대, 반도체 웨이퍼의 제조공정에 이용되는 노광장치에 설치되어 있고, 정반(定盤)(20)과, 정반(20)의 평면 위를 이동하는 스테이지(30)와, 스테이지(30) 상에 탑재(搭載)되고, 워크(work; 대상물)(미도시)가 올려 놓아지는 θ 테이블(40)과, 스테이지(30)를 Y 방향으로 이동시키는 한 쌍의 Y 리니어 모터(50)를 가진다.
스테이지(30)는, 정반(20)의 평면 상에 돌출되고, 이동방향(Y 방향)으로 뻗어 있는 한 쌍의 Y 방향 가이드 레일(28)을 따라서 평행 이동하는 한 쌍의 슬라이더(32)와, 정반(20)의 평면 위를 공기압에 의하여 정압(靜壓) 부상(浮上)하여 이동하는 복수의 에어 패드(「에어 베어링」이라고도 불린다)(34)를 가진다. 여기서, 슬라이더(32)는, Y 방향 가이드 레일(28)의 좌우 측면 및 상면에 대향하도록 역(逆) U자 형상으로 형성되어 있고, 각 대향면에는 공기압에 의하여 비접촉이 되는 에어 패드(미도시)가 마련되어 있다. 그로 인하여, 슬라이더(32)는, Y 방향 가이드 레일(28)에 대하여 공기압에 의하여 정압 부상하여 비접촉으로 Y 방향으로 이동할 수 있다.
스테이지(30)는, Y 방향으로 이동하는 Y 스테이지(36)와, Y 방향과 직교하는 X 방향으로 이동하는 X 스테이지(38)를 가진다. Y 스테이지(36)는, 한 쌍의 Y 방향 가이드 레일(28) 사이에 가로 걸쳐져 있고, 그 양단(兩端)에는 슬라이더(32)가 결합된 H자 형상으로 형성되어 있다. 또한, X 스테이지(38)는, 슬라이더(32) 사이에 마련되고, 하면에 복수의 에어 패드(34)가 마련되어 있다. 그리고, X 스테이지(38)는, 상기 Y 스테이지(36)와 함께 Y 방향으로 이동하며, 또한 Y 스테이지(36)를 따라서 X 방향으로 이동하도록 마련되어 있다.
θ 테이블(40)은, 윗쪽에서 보면 사각형 형상으로 형성되어 있고, 그 상면(42)이 워크 재치면(載置面)(반도체용 노광장치의 경우에는, 웨이퍼 재치면)이 된다. 또한, 상면(42)에는, θ 테이블(40)의 Y 방향 위치를 검출하는 레이저 간섭계(미도시)로부터의 레이저광을 반사하는 미러(44)가 마련되어 있다.
한 쌍의 Y 리니어 모터(50)는, 정반(20)의 좌우 외측에 병설(竝設)되어 있고, Y 방향으로 뻗어 있도록 형성된 마그넷 요크(고정자)(52)와, 슬라이더(32)의 외측면으로부터 X 방향으로 뻗어 있는 코일 유닛(가동자)(54)으로 구성되어 있다. 마그넷 요크(52)는, 정면에서 보면 ㄷ자 형상으로 형성되어 있고, 내벽(內壁)의 상하면에 복수의 영구자석이 병설되어 있다. 또한, 마그넷 요크(52)는, 지지부재(56)에 의하여 슬라이더(32)가 이동하는 높이 위치에 지지되어 있다.
그리고, 코일 유닛(54)은, 복수의 코일이 Y 방향으로 연결되어 있고, 마그넷 요크(52)의 자석 사이에 측면으로부터 삽입되어 있다. 그로 인하여, 코일 유닛(54)은, 코일에 통전되면, 영구자석에 대한 자속(磁束)을 형성하여, 영구자석에 대한 Y 방향의 추력(推力)을 얻을 수 있다. 또한, 코일 유닛(54)은, 슬라이더(32)의 측면에 결합되어 있다. 그로 인하여, 코일 유닛(54)이 얻은 Y 방향 추력은, 슬라이 더(32)에 부여되어, Y 스테이지(36)를 구동한다.
또한, 스테이지장치(10A)에서는, θ 테이블(40)의 하면으로부터 수직으로 (즉 θ 테이블(40)의 하면으로부터 수직 하향으로) 뻗어 있는 4개의 지주(支柱)(60)와, 각 지주(60)의 하단(下端)에 마련되고, 정반(20)의 평면 위를 공기압에 의하여 정압 부상하여 이동하는 복수의 에어 패드(「에어 베어링」이라고도 불린다)(70)를 구비하는 구성으로 되어 있다. 그로 인하여, 지주(60) 및 에어 패드(70)는, θ 테이블(40)을 직접 지지하면서 정반(20) 위를 이동할 수 있다. 따라서, θ 테이블(40)은, X 스테이지(38)보다도 큰 면적을 가짐에도 불구하고, X 스테이지(38)의 윤곽보다도 외측에 배치된 4개의 지주(60) 및 4개의 에어 패드(70)에 의하여 정반(20)의 상면을 공기압에 의하여 정압 부상하여 이동할 수 있음과 함께, 상면(42)의 평면 정밀도(수평 정밀도)를 유지한 채로 스테이지(30)와 함께 이동할 수 있다.
또한, θ 테이블(40)은, 4개의 지주(60) 및 4개의 에어 패드(70)에 의하여 4 코너가 지지되어 있으므로, 회전운동할 때에 피벗축(80)을 지지점으로 하여 요동하는 것을 방지할 수 있어, 상면(42)의 수평 정밀도를 유지할 수 있다.
또한, 스테이지(30)는, X 스테이지(38)의 하면에 배치된 4개의 에어 패드(34)에 의하여 정반(20)의 각 상면을 공기압에 의하여 정압 부상하여 이동하도록 지지되어 있다. 그로 인하여, X 스테이지(38)와 θ 테이블(40)이 서로 간섭하지 않고 이동할 수 있어, θ 테이블(40)은 상면(42)의 평면 정밀도를 유지한 상태 그대로 X 스테이지(38)와 함께 일체로 이동할 수 있다. 또한, 에어 패드(34, 70)는, 공 기압에 의하여 정반(20)의 평면에 대하여 정압 부상하므로, 비접촉으로 이동할 수 있어, X 스테이지(38) 및 θ 테이블(40)을 이동시킬 때의 마찰이 극히 작게 되어 있고, 그만큼 이동시의 추력도 작아도 된다.
도 4는, 스테이지(30) 및 θ 테이블(40)의 측단면을 나타낸 도면이다. 도 4에 나타낸 바와 같이, X 스테이지(38)의 상면으로부터는 피벗축(80)이 수직으로 기립하여 있다. 이 피벗축(80)은, 도시하지 않은 나사에 의하여 X 스테이지(38)에 나사고정됨으로써 고정되어 있다.
이 피벗축(80)의 상단에는, 베어링(82)이 장착되어 있고, 이 베어링(82)에 의하여, θ 테이블(40)과 피벗축(80)이 축으로 지지되어, θ 테이블(40)이 θz 방향으로 회전운동 가능하게 되어 있다. 다만, θ 테이블(40)이 회전운동 가능한 각도는, 예컨대, 1/3600도이다.
이 베어링(82)은, 그 외륜(外輪)이 θ 테이블(40)의 하면 중앙에 마련된 오목부(40a)에 끼워 맞춰지도록 마련되고, 내륜(內輪)은 피벗축(80)의 상단(上端) 외주(外周)에 끼워 맞춰져 있다.
또한, 베어링(82)은, 예컨대, 90°의 V홈 전동면(轉動面)에 원통 롤링 스페이서가 리테이너를 개재하여 번갈아 직교 배열된 크로스 롤러 베어링으로 이루어지므로, 레이디얼 하중(반경(半徑)방향 하중), 액셜 하중(축방향 하중), 모멘트 하중(피칭ㆍ롤링ㆍ요잉에 의한 하중) 등 어떤 방향의 하중을 받아도 원활한 회전을 가능하게 하는 구성으로 되어 있다.
따라서, θ 테이블(40)은, 피벗축(80)과 베어링(82)으로 구성된 피벗 베어링 구조에 의하여 안정된 상태로 지지되어 있다. 또한, 베어링(82)은, θ 테이블(40)의 하면 중심에 마련되어 있고, 피벗축(80)의 축심이 θ 테이블(40)의 회전중심과 일치한다. 그리고, 스테이지(30)를 구동하는 Y 리니어 모터(50) 및 후술하는 X 리니어 모터의 추력은, 피벗축(80) 및 베어링(82)을 통하여 θ 테이블(40)에도 전달된다.
다만, 이상에서는, 피벗축(80)의 상단이 베어링(82)에 의하여 θ 테이블(40)과 축으로 지지되는 형태에 대하여 설명했지만, 베어링(82)의 장착 부위는 이와 같은 부위에 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 피벗축(80)을 θ 테이블(40)의 하면 중심에 나사고정 등에 의하여 고착(固着)함과 함께, 베어링(82)을 X 스테이지(38)의 상면측에 마련하고, 피벗축(80)의 하단과 X 스테이지(38)를 베어링(82)으로 축으로 지지함으로써, X 스테이지(38)에 대하여 θ 테이블(40)을 회전운동 가능하게 하여도 좋다.
또한, X 스테이지(38)와 θ 테이블(40) 사이에는, θ 테이블(40)을 θz 방향으로 회전운동시키는 한 쌍의 θ 리니어 모터(84)가 마련되어 있다. 이 θ 리니어 모터(84)는, 피벗축(80)의 근방에 배치되고, X 스테이지(38)의 상면에 고정된 마그넷 요크(고정자)(86)와, θ 테이블(40)의 하면에 고정되어 코일 유닛(가동자)(88)으로 구성되어 있다. 마그넷 요크(86)는 단면(斷面)형상이 역(逆) U자 형상으로 형성되어 있고, 그 대향하는 내면에는 영구자석이 장착되어 있다. 그리고, 코일 유닛(88)은, 마그넷 요크(86)의 영구자석 사이에 비접촉으로 삽입되어 있다.
또한, 한 쌍의 θ 리니어 모터(84)는, 평행하게 마련되며, 또한 윗쪽에서 보 면 피벗축(80)을 중심으로 대칭이 되는 위치에 마련되어 있다. 그로 인하여, 한 쌍의 θ 리니어 모터(84)는, 코일 유닛(88)에 통전함으로써 피벗축(80)을 중심으로 하는 짝힘(偶力)을 발생시켜서 θ 테이블(40)을 하면측으로부터 θz 방향으로 회전운동시킨다.
그 때, θ 테이블(40)은, 피벗축(80)의 근방에 배치된 한 쌍의 θ 리니어 모터(84)로부터의 추력에 의하여 피벗축(80)의 축 둘레(θz 방향)로 회전운동하므로, 베어링(82)에 의하여 저(低)마찰, 저(低)진동으로 회전운동할 수 있다. 또한, θ 리니어 모터(84)는 비접촉 구조의 구동수단이므로, θ 테이블(40)을 회전운동시킬 때에 전달 경로에 의한 구동력의 손실이나 변동에 의한 영향을 받지 않고 θ 테이블(40)을 회전운동시키는 것이 가능하게 되어, θ 테이블(40)의 회전운동 동작을 안정적이며 또한 정밀하게 제어할 수 있다.
따라서, 스테이지장치(10A)에서, θ 테이블(40)을 베어링(82)에 의하여 저부하로 회전운동시킬 수 있으며, 또한 θ 리니어 모터(84)가 비접촉으로 θ 테이블(40)을 하면측으로부터 구동시킬 수 있으므로, 스테이지(30)의 오차가 θ 테이블(40)에 영향을 주는 것을 최소한으로 억제할 수 있다.
또한, θ 테이블(40)은, 상술한 지주(60)의 하단에 마련된 에어 패드(70)에 의하여 정반(20) 위를 공기압에 의하여 정압 부상하여 이동하도록 지지되어 있으므로, 한 쌍의 θ 리니어 모터(84)로부터의 회전력이 인가되면, 베어링(82)의 회전 저항만이 부하가 되는 저마찰 상태로 θz 방향으로 회전운동할 수 있다. 다만, θ 리니어 모터(84)는, θ 테이블(40)의 회전운동 각도에 따라서 마그넷 요크(86)와 코일 유닛(88)의 θz 방향의 상대위치가 변화되므로, 최대 회전운동 각도에 따른 간극이 마그넷 요크(86)와 코일 유닛(88) 사이에 형성되어 있어, 마그넷 요크(86)와 코일 유닛(88)이 간섭하지 않도록 구성되어 있다.
X 스테이지(38)의 내부에는, Y 스테이지(36)가 삽입 관통되는 공간(120)이 형성되어 있고, 이 공간(120)에는, X 스테이지(38)를 X 방향으로 구동하는 X 리니어 모터(124)가 마련되어 있다. Y 스테이지(36)는, 양단에 슬라이더(32)가 마련되어, 가이드(28)를 따라서 가이드되어서 이동하므로, X 스테이지(38)의 내벽과 비접촉으로 이동한다.
또한, Y 스테이지(36)는, X 스테이지(38)의 내벽에 대향하는 에어 패드(122)를 지지하는 수직부(36a)와, X 리니어 모터(124)가 장착된 평면부(36b)를 가진다. 에어 패드(122)는, 공간(120)의 Y 방향의 내벽에 공기압을 개재하여 대향하므로, X 스테이지(38)를 X 방향으로 이동시키는 때에는, 공간(120)의 내벽이 에어 패드(122)에 비접촉으로 이동할 수 있다. 또한, Y 스테이지(36)를 Y 방향으로 이동시킬 때는, 에어 패드(122)로부터의 공기압을 개재하여 공간(120)의 Y 방향 내벽이 이동방향으로 가압되어서 X 스테이지(38)를 Y 방향으로 이동시키도록 구성되어 있다.
X 리니어 모터(124)는, X 방향으로 뻗어 있도록 형성된 마그넷 요크(고정자)(126)와, 코일 유닛(가동자)(128)으로 구성되어 있다. 마그넷 요크(126)는, 측면에서 보면 ㄷ자 형상으로 형성되어 있고, 내벽의 상하면에 복수의 영구자석이 병설되어 있다. 또한, 마그넷 요크(126)는, Y 스테이지(36)의 평면부(36b)에 고정되 어 있고, 코일 유닛(128)은, X 스테이지(38)의 내벽에 고정된 브래킷(130)에 지지되어 있다.
그리고, 코일 유닛(128)은, 복수의 코일이 X 방향으로 설치되어 있고, 마그넷 요크(126)의 자석 사이에 전방으로부터 삽입되어 있다. 따라서, 코일 유닛(128)은, 코일에 통전되면, 자속을 형성하여, 영구자석에 대한 X 방향의 추력을 얻을 수 있다. 또한, 코일 유닛(128)은, 브래킷(130)을 통하여 X 스테이지(38)에 결합되어 있으므로, 코일 유닛(128)이 얻은 X 방향 추력은, X 스테이지(38)에 부여된다.
따라서, X 스테이지(38)는, X 리니어 모터(124)로부터의 추력에 의하여 X 방향으로 구동된다. 그리고, X 스테이지(38) 상에 탑재된 θ 테이블(40)은, X 리니어 모터(124)의 X 방향 추력이 피벗축(80) 및 베어링(82)을 통하여 전달되므로, X 스테이지(38)와 함께 X 방향으로 이동한다.
또한, θ 테이블(40)을 지지하는 지주(60)에는, 높이 조정을 행할 수 있는 레벨링 기구(62)가 마련되어 있다. 이 레벨링 기구(62)은, 4개의 지주(60) 각각에 마련되어 있고, θ 테이블(40)의 수평 정밀도를 유지하도록 개별적으로 높이 조정이 행하여진다.
또한, X 스테이지(38)가 X 방향 및 Y 방향으로 이동할 때는, X 스테이지(38)상에 피벗축(80) 및 베어링(82)을 통하여 지지된 θ 테이블(40)도 X 방향 및 Y 방향으로 이동하며, 또한 지주(60)의 하단에 마련된 에어 패드(70)가 정반(20) 위를 공기압에 의하여 정압 부상하여 이동하여 θ 테이블(40)의 수평 정밀도를 유지한다.
따라서, 스테이지장치(10A)에서는, θ 테이블(40)을 피벗축(80)의 축심을 중심으로 θz 방향으로 회전운동시키므로, X 스테이지(38)의 X 방향 및 Y 방향의 이동위치에 오차가 생긴 경우이더라도, θ 테이블(40)의 회전운동 위치에 의하여 오차가 증대하는 것이 방지된다. 그로 인하여, 스테이지(30)를 Y 방향으로 이동한 후에 θ 테이블(40)을 θz 방향으로 회전운동시키는 경우이더라도, θ 테이블(40)의 상면(42)에 마련된 미러(44)가 레이저 간섭계로부터의 레이저광의 조사위치로부터 어긋나지 않아, 레이저 간섭계에 의하여 위치검출 정밀도가 저하하는 것이 방지된다. 또한, 스테이지장치(10A)에서는, 예컨대, 노광장치에 이용한 경우에 광학계에 대한 워크(웨이퍼 등) 위치가 θ 테이블(40)의 회전운동 위치에 의하여 어긋나는 것이 방지된다.
[실시예 2]
도 5는, 실시예 2의 스테이지장치를 나타낸 정면도이다. 도 6은, 실시예 2의 스테이지장치의 측단면을 나타낸 도면이다. 다만, 도 5 및 도 6에 있어서, 실시예 1과 동일 요소에는 동일 부호를 부여하여 그 설명을 생략한다.
도 5 및 도 6에 나타낸 바와 같이, 실시예 2의 스테이지장치(10B)는, θ 테이블(40)의 하면에서 수직 하방 방향으로 뻗어 있는 4개의 지주(60)와, 각 지주(60)의 하단에 마련되고, X 스테이지(38) 상을 공기압에 의하여 정압 부상하여 이동하는 복수의 에어 패드(70)를 구비한다. 그로 인하여, 지주(60) 및 에어 패드(70)는, θ 테이블(40)을 직접 지지하면서 X 스테이지(38) 상을 이동할 수 있다. 따라서, θ 테이블(40)은, 4개의 지주(60) 및 4개의 에어 패드(70)에 의하여 X 스테이지(38)의 상면을 공기압에 의하여 정압 부상하여 이동할 수 있음과 함께, 상면(42)의 평면 정밀도(수평 정밀도)를 유지한 채 스테이지(30)와 함께 이동할 수 있다.
또한, θ 테이블(40)은, 4개의 지주(60) 및 4개의 에어 패드(70)에 의하여 4 코너가 지지되어 있으므로, 회전운동할 때에 피벗축(80)을 지지점으로 하여 요동하는 것을 방지할 수 있어, 상면(42)의 수평 정밀도를 유지할 수 있다.
본 실시예의 스테이지장치에 의하면, 지주(60)의 전체길이(높이방향의 길이)를 짧게 할 수 있으므로, X 스테이지(38)를 이동시킬 때의 θ 테이블(40)의 안정성을 높일 수 있다.
[변형예]
도 7은, 본 실시예의 변형예의 스테이지장치를 나타낸 정면도이다. 이 변형예의 스테이지장치는, 도 5에 나타낸 스테이지장치와는 지주(60)와 에어 패드(70)의 위치관계가 상하 반대이다. 구체적으로는, 4개의 지주(60)는, X 스테이지(38)에 고착되고, 이 X 스테이지(38)의 상면으로부터 수직으로 세워져 있다. 또한, 에어 패드(70)는, 각 지주(60)의 상단에 각각 설치되어, θ 테이블(40)을 정압 부상시킨다. 이와 같이, 지주(60)를 X 스테이지(38)측에 장착하고, 그 상단에 설치되는 에어 패드(70)로 θ 테이블(40)을 정압 부상시키는 구성이더라도, 도 5 및 도 6에 나타낸 스테이지장치와 마찬가지로, θ 테이블(40)이 회전운동할 때에, 피벗축(80)을 지지점으로 하여 요동하는 것을 방지할 수 있어, 그 상면(42)의 수평 정밀도를 유지할 수 있다.
[실시예 3]
도 8은 실시예 3의 스테이지장치를 나타낸 정면도이다. 도 9는 실시예 3의 스테이지장치의 측단면을 나타낸 도면이다. 다만, 도 8 및 도 9에 있어서, 상기 실시예 1, 2와 동일 요소에는 동일 부호를 부여하여 그 설명을 생략한다.
도 8에 나타낸 바와 같이, 본 실시예의 스테이지장치(10C)는, 상술한 실시예 1과 마찬가지로, 정반(20)으로부터 좌우 측방으로 이격한 위치에 한 쌍의 Y 리니어 모터(50)가 마련되어 있다. Y 리니어 모터(50)는, 슬라이더(32)의 측면으로부터 수평방향으로 뻗어 있도록 장착된 코일 유닛(54)이, 측면으로부터 마그넷 요크(52)의 자석 사이에 삽입되어 있다. 또한, 마그넷 요크(52)는, 지지부재(56)에 의하여 슬라이더(32)의 측면에 대향하는 높이 위치에 지지되어 있다.
따라서, 스테이지장치(10B)에서는, Y 리니어 모터(50)의 반력이 지지부재(56)를 통하여 바닥면에 전파(傳播)된다. 그로 인하여, Y 리니어 모터(50)의 반력이 Y 스테이지(36) 및 X 스테이지(38)에 전하여지지 않도록 구성되어 있고, 그만큼 스테이지(30)의 위치제어의 오차가 생기는 것이 방지되어, 스테이지(30)의 회전운동 위치를 안정적이며 또한 정밀하게 제어할 수 있다.
또한, 스테이지장치(10C)에서는, 상술한 실시예 1과 마찬가지로, 각 지주(60)의 하단에 마련된 복수의 에어 패드(70)가 X 스테이지(38) 상을 정압 부상하 여 이동하는 구성으로 되어 있다. 그로 인하여, 지주(60) 및 에어 패드(70)는, θ 테이블(40)을 지지하면서 X 스테이지(38) 상을 이동함으로써, θ 테이블(40)의 평면 정밀도(수평 정밀도)를 유지한 채 스테이지(30)와 함께 이동한다.
또한, 한 쌍의 θ 리니어 모터(84)는, 상술한 실시예 1과 마찬가지로, θ 테이블(40)의 아래쪽에 마련되어 있다. 그리고, θ 리니어 모터(84)를 구성하는 마그넷 요크(86)는, X 스테이지(38) 상에 기립한 지지부(90)에 지지되어 있다. 또한, 코일 유닛(88)은, X 스테이지(38)의 하면으로부터 아래쪽으로 돌출하고 있다. 다만, θ 리니어 모터(84)는, 후술하는 슬라이더(32)의 측방으로 이격한 바닥면 상에 기립하도록 마련되어 있어, θ 리니어 모터(84)가 슬라이더(32)를 이동시킬 때의 진동의 영향을 받지 않도록 구성되어 있다.
또한, 한 쌍의 θ 리니어 모터(84)는, 윗쪽에서 보면 피벗축(80)을 중심으로 대칭이 되는 위치에 평행하게 마련되어 있으므로, 코일 유닛(88)에 통전함으로써 피벗축(80)을 중심으로 하는 짝힘(偶力)을 발생시켜서 θ 테이블(40)을 측면으로부터 θz 방향으로 회전운동시킨다.
도 8에 나타낸 바와 같이, 스테이지장치(10C)에서는, 상술한 실시예 1과 마찬가지로, 각 지주(60)의 하단에 마련된 복수의 에어 패드(70)가 X 스테이지(38) 상을 정압 부상하여 이동하는 구성으로 되어 있다. 따라서, 지주(60) 및 에어 패드(70)는, θ 테이블(40)을 직접 지지하면서 X 스테이지(38) 상을 이동함으로써, θ 테이블(40)의 평면 정밀도(수평 정밀도)를 유지한 채 스테이지(30)와 함께 이동한다.
도 8에 나타낸 바와 같이, θ 테이블(40)과 X 스테이지(38) 사이에는, 높이 조정기구(200)가 마련되어 있다. 이 높이 조정기구(200)는, 피벗축(80)을 가지는 지지 플레이트(210)와, 지지 플레이트(210)의 높이 위치를 조정하는 한 쌍의 레벨링 유닛(220)을 가진다.
지지 플레이트(210)는, 상면 중앙에 피벗축(80)이 일체적으로 기립하여 있고, 또한, 상면 4 코너에는 θ 테이블(40)의 하면에 대향하는 에어 패드(212)가 마련되어 있다. 그로 인하여, θ 테이블(40)은, 한 쌍의 θ 리니어 모터(74)로부터의 회전력(짝힘)이 인가되면, 피벗축(80)의 축심을 회전중심으로 하여 θz 방향으로 안정적으로 회전운동할 수 있다.
상술한 바와 같이 θ 리니어 모터(84)는, 수직으로 마련되어 있으므로, 마그넷 요크(86)에 대하여 코일 유닛(88)이 Y 방향 및 상방(Z 방향)으로 상대이동 가능하게 마련되어 있다. 그로 인하여, 높이 조정기구(200)에 의하여 θ 테이블(40)을 승강시킬 때는, θ 리니어 모터(84)의 마그넷 요크(86)와 코일 유닛(88)이 간섭하지 않아, θ 리니어 모터(84)가 θ 테이블(40)의 승강 동작을 방해하지 않도록 마련되어 있다.
도 9에 나타낸 바와 같이, 레벨링 유닛(220)은, 에어 패드(70)에 지지된 하부 블럭(230)과, 지지 플레이트(210)의 하면에 매달린 상부 블럭(240)과, 하부 블럭(230)과 상부 블럭(240)의 사이에 마련된 액츄에이터(250)로 구성되어 있다. 하부 블럭(230)은, Y 방향으로 뻗어 있는 방향으로 마련되어 있고, 하면에 X 스테이지(38) 상을 정압 부상하여 이동하는 복수의 에어 패드(70)가 배치되어 있다.
또한, 하부 블럭(230)의 상부에는, 한 쌍의 경사부(232)와, 오목부(234)가 마련되어 있다. 한 쌍의 경사부(232)는, 각각 수평면에 대하여 동일 방향, 또한 동일 각도의 경사면을 가지고 있으며, 도 9에 있어서는 좌측이 낮고, 우측이 높아지게 되는 경사방향으로 형성되어 있다.
또한, 상부 블럭(240)의 상부에는, 지지 플레이트(210)의 하면에 대하여 저마찰로 슬라이딩하는 슬라이딩 부재(260)가 마련되어 있다. 이 슬라이딩 부재(260)는, 높은 강성(剛性)으로 내마모성이 높고, 저마찰인 부재이면 좋고, 예컨대, 스테인리스강(鋼)이나 표면에 테플론(Teflon)(등록상표) 가공을 실시한 경도(硬度)가 높은 금속으로 구성된다. 또한, 상부 블럭(240)의 하부에는, 한 쌍의 경사부(242)와, 오목부(244)가 마련되어 있다. 한 쌍의 경사부(242)는, 각각 수평면에 대하여 동일 방향, 또한 동일 각도의 경사면을 가지고 있으며, 또한 상기 경사부(232)와 평행이 되는 경사방향으로 경사져 있다.
또한, 상부 블럭(240)의 각 경사부(242)의 내부에는, 상하방향(Z 방향)으로 관통하는 관통구멍(246)이 형성되어 있고, 이 각 관통구멍(246)의 내부에는 경사부(232)로부터 상방으로 기립한 지주(270)가 각각 삽입 관통되어 있다. 그리고, 지주(270)는, 횡단면 형상이 직사각형(도면 중 Z축 방향에 대한 단면 형상이 X축 방향보다도 Y축 방향으로 긴 직사각형)으로 형성되며, 또한 그 상단은, 지지 플레이트(210)의 하면에 대향하고 있지만 이격되어 있다. 또한, 각 관통구멍(246)은, 그 개구(開口) 형상이 X축 방향으로 짧고, Y축 방향으로 긴 직사각 형상으로 형성되어 있어, 이 관통구멍(246)에 삽입 관통되는 지주(270)가 관통구멍(246)에 대하여 Y축 방향으로만 상대이동 가능하게 구성되어 있다. 여기서, 지주(270)는 하부 블럭(230)에 접속되어 있고, 한편, 관통구멍(246)은 상부 블럭(240)에 형성되어 있다. 상부 블럭(240)은 하부 블럭(230)에 대하여 Y축 방향으로 이동 가능하게 되므로, 실제로는, 지주(270)에 대하여 관통구멍(246)이 Y축 방향으로 이동하게 된다. 이 이동원리에 대하여는 후술한다.
오목부(234)과 오목부(244) 사이에 배치된 액츄에이터(250)는, 예컨대, 볼 나사 기구를 모터로 구동함으로써 Y 방향의 구동력을 발생시키도록 구성된 구동수단 등으로 이루어지고, 좌측단 스테이(252)가 상부 블럭(240)에 결합되고, 우측단 스테이(254)가 하부 블럭(230)에 결합되어 있다.
또한, 경사부(232)와 경사부(242) 사이에는, 슬라이딩 저항을 경감하는 저마찰부재(280)가 개재되어 있다. 이 저마찰부재(280)는, 슬라이딩 부재(260)와 동일재질로 구성되어도 좋으며, 높은 강성으로 내마모성이 높고, 저마찰인 부재이면 좋다. 예컨대, 스테인리스강이나 표면에 테플론 가공을 실시한 경도가 높은 금속으로 구성된다.
예컨대, 액츄에이터(250)의 구동력이 좌측단 스테이(252)와 우측단 스테이(254)를 서로 근접하는 방향으로 작용한 경우에는, 상부 블럭(240)의 경사부(242)가 하부 블럭(230)의 경사부(232)에 대하여 오른쪽으로 이동한다. 그로 인하여, 상부 블럭(240)은, 하부 블럭(230)에 대하여 경사부(232, 242)의 경사각도에 따라서 상승하여, 지지 플레이트(210) 및 θ 테이블(40)을 상승시킨다.
또한, 액츄에이터(250)의 구동력이 좌측단 스테이(252)와 우측단 스테이(254)를 서로 이격하는 방향으로 작용한 경우에는, 상부 블럭(240)의 경사부(242)가 하부 블럭(230)의 경사부(232)에 대하여 왼쪽으로 이동한다. 그로 인하여, 상부 블럭(240)은, 하부 블럭(230)에 대하여 경사부(232, 242)의 경사각도에 따라서 하강하여, 지지 플레이트(210) 및 θ 테이블(40)을 강하시킨다.
따라서, 스테이지장치(10C)에서는, 한 쌍의 θ 리니어 모터(84)로부터의 회전력(짝힘)에 의하여 θ 테이블(40)을 θz 방향으로 회전운동시킴과 함께, 높이 조정기구(200)의 액츄에이터(250)의 구동방향에 따라서 θ 테이블(40)을 상승 또는 강하시켜서 높이 위치를 조정할 수 있다.
상기 실시예에서는, 피벗축(80)의 상단 외주를 베어링(82)으로 축받이 함으로써 θ 테이블(40)을 회전운동 가능하게 지지하는 구성을 예로 들어서 설명했지만, 이에 한정되지 않고, 예컨대, 피벗축(80)의 상단의 형상을 원추(圓錐)형상이나 반구(半球)형상으로 형성하고, 이들의 선단 형상에 따른 베어링을 마련하여도 좋다.
이상, 본 발명의 예시적인 실시예의 스테이지장치에 대하여 설명했지만, 본 발명은, 구체적으로 개시된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 특허청구의 범위에서 일탈하지 않고, 다양한 변형이나 변경이 가능하다.
[산업상의 이용 가능성]
본 발명의 스테이지장치는, 액정패널이나 반도체소자 등의 제조공정에 이용 가능하다.
본 발명에 의하면, 베어링에 의하여 θ 테이블을 저(低)부하로 회전운동시킬 수 있으며, 또한 θ 리니어 모터가 비접촉으로 θ 테이블을 하면측으로부터 구동시킬 수 있으므로, 스테이지의 오차가 θ 테이블에 영향을 주는 것을 최소한으로 억제할 수 있다고 하는 특유의 효과를 가진다.

Claims (8)

  1. 정반 위를 이동하는 스테이지와, 그 스테이지와 함께 이동 가능하며 또한 그 스테이지 상에서 회전운동 가능한 θ 테이블을 가지는 스테이지장치에 있어서,
    상기 스테이지와 상기 θ 테이블 사이에서 수직으로 기립하는 피벗축과,
    상기 스테이지에 대하여 상기 θ 테이블이 회전운동 가능하게 되도록, 상기 피벗축과 상기 θ 테이블 사이, 또는, 상기 스테이지와 상기 피벗축 사이를 축으로 지지하는 베어링과,
    상기 θ 테이블을 하면(下面)측으로부터 회전 구동하는 θ 리니어 모터를 포함하고,
    상기 정반 또는 상기 스테이지와의 사이에서 상기 θ 테이블을 지지하는 지지수단을 구비하고,
    상기 지지수단은,
    상기 θ 테이블의 하면으로부터 수직으로 뻗어 있는 복수의 지주(支柱)와,
    상기 복수의 지주 각각의 하단(下端)에 설치되고, 상기 정반 위 또는 상기 스테이지 위를 정압(靜壓) 부상(浮上)하는 복수의 에어 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 스테이지장치.
  2. 정반 위를 이동하는 스테이지와, 그 스테이지와 함께 이동 가능하며 또한 그 스테이지 상에서 회전운동 가능한 θ 테이블을 가지는 스테이지장치에 있어서,
    상기 스테이지의 상면(上面)으로부터 수직으로 기립하는 피벗축과,
    상기 피벗축과 상기 θ 테이블 사이를 축으로 지지하는 베어링과,
    상기 θ 테이블을 하면측으로부터 상기 스테이지에 대하여 회전 구동하는 θ 리니어 모터를 포함하고,
    상기 정반 또는 상기 스테이지와의 사이에서 상기 θ 테이블을 지지하는 지지수단을 구비하고,
    상기 지지수단은,
    상기 θ 테이블의 하면으로부터 수직으로 뻗어 있는 복수의 지주(支柱)와,
    상기 복수의 지주 각각의 하단(下端)에 설치되고, 상기 정반 위 또는 상기 스테이지 위를 정압(靜壓) 부상(浮上)하는 복수의 에어 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 스테이지장치.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 지지수단은,
    상기 정반 또는 상기 스테이지로부터 수직 윗쪽으로 뻗어 있는 복수의 지주와,
    이 지주의 상단(上端)에 설치되고, 상기 θ테이블을 정압 부상시키는 복수의 에어 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 스테이지장치.
  6. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 베어링은, 크로스 롤러 베어링으로 구성되는 것을 특징으로 하는 스테이지장치.
  7. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 θ 리니어 모터의 고정자(固定子)는 상기 스테이지 상에 설치되고,
    상기 θ 리니어 모터의 가동자(可動子)는 상기 θ 테이블의 하면에 설치되는 것을 특징으로 하는 스테이지장치.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 스테이지는, 상기 정반 상에서 그 스테이지의 상면을 서로 직교하는 2축방향으로 평행이동 가능한 XY 스테이지이고,
    상기 XY 스테이지는,
    Y 방향으로 이동하는 Y 스테이지와,
    상기 Y 스테이지의 위에 탑재(搭載)되어, X 방향으로 이동하는 X 스테이지를 포함하고,
    상기 θ 리니어 모터의 고정자는, 상기 X 스테이지의 위에 탑재되는 것을 특징으로 하는 스테이지장치.
KR1020070020807A 2006-03-02 2007-03-02 스테이지장치 KR101087529B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2006-00056722 2006-03-02
JP2006056722 2006-03-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070090803A KR20070090803A (ko) 2007-09-06
KR101087529B1 true KR101087529B1 (ko) 2011-11-28

Family

ID=38689086

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070020807A KR101087529B1 (ko) 2006-03-02 2007-03-02 스테이지장치

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR101087529B1 (ko)
CN (1) CN101030551B (ko)
TW (1) TWI457193B (ko)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101503128B (zh) * 2008-02-04 2010-12-22 北京京东方光电科技有限公司 装载箱和装卸系统
CN101290808B (zh) * 2008-06-06 2010-04-14 华中科技大学 一种三自由度超精密微动工作台
US8084896B2 (en) * 2008-12-31 2011-12-27 Electro Scientific Industries, Inc. Monolithic stage positioning system and method
JP5026455B2 (ja) * 2009-03-18 2012-09-12 住友重機械工業株式会社 Ｘｙステージ装置、半導体検査装置、及び半導体露光装置
CN101898683B (zh) * 2010-03-05 2012-07-04 东莞宏威数码机械有限公司 移动式旋转装载机构
CN102563330B (zh) * 2010-12-30 2016-07-06 上海微电子装备有限公司 工件台安全保护装置
CN103730400B (zh) * 2012-10-16 2016-06-29 沈阳芯源微电子设备有限公司 一种多尺寸晶圆对中装置
KR101403458B1 (ko) * 2012-11-13 2014-06-30 삼성디스플레이 주식회사 기판 이송 장치 및 기판 처리 장치
JP5776812B1 (ja) * 2014-04-01 2015-09-09 日本精工株式会社 テーブル装置、及び搬送装置
KR102314667B1 (ko) * 2015-10-04 2021-10-20 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 작은 열 질량의 가압 챔버
JP6723642B2 (ja) * 2016-05-16 2020-07-15 住友重機械工業株式会社 ステージ装置
DE102016123362B3 (de) * 2016-12-02 2018-03-08 Asm Assembly Systems Gmbh & Co. Kg Bestückmaschine mit einer Verschiebevorrichtung zum Verschieben einer Aufnahmevorrichtung für einen Träger mit Bestückmedium und ein Verfahren zum Bestücken
CN107958859B (zh) * 2017-11-30 2023-08-15 扬州虹扬科技发展有限公司 一种摆动装置
WO2020044685A1 (ja) * 2018-08-30 2020-03-05 住友重機械工業株式会社 ステージ装置
JP7486093B2 (ja) * 2019-11-12 2024-05-17 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 位置決め装置
KR102134789B1 (ko) * 2019-11-14 2020-07-16 시너스텍 주식회사 로테이트 유닛
CN112268549A (zh) * 2020-10-14 2021-01-26 温州职业技术学院 一种信息技术的可调影像测试装置
CN112104097B (zh) * 2020-11-18 2021-04-27 深圳赫兹创新技术有限公司 一种无线充电线圈组件及无线电能传输装置
WO2023101215A1 (ko) * 2021-11-30 2023-06-08 주식회사 프로텍 마이크로 led 칩 전사 장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000155186A (ja) * 1998-11-24 2000-06-06 Sumitomo Heavy Ind Ltd Ｘ−ｙステージ装置
JP2002328191A (ja) * 2001-05-02 2002-11-15 Nippon Thompson Co Ltd リニアモータを内蔵したステージ装置
JP2004317485A (ja) * 2003-03-28 2004-11-11 Sumitomo Heavy Ind Ltd Ｘ−ｙステージ装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0618007B2 (ja) * 1984-11-07 1994-03-09 株式会社日立製作所 非接触駆動形平面移動台
JPH0839375A (ja) * 1994-07-27 1996-02-13 Mitsutoyo Corp テーブル装置
US5894173A (en) * 1996-11-27 1999-04-13 Texas Instruments Incorporated Stress relief matrix for integrated circuit packaging
TWI233535B (en) * 1999-04-19 2005-06-01 Asml Netherlands Bv Motion feed-through into a vacuum chamber and its application in lithographic projection apparatuses
JP4475483B2 (ja) * 2000-06-14 2010-06-09 住友重機械工業株式会社 ＸＹθステージ装置及びその制御方法
JP2003022960A (ja) * 2001-07-09 2003-01-24 Canon Inc ステージ装置及びその駆動方法
JP3940277B2 (ja) * 2001-07-13 2007-07-04 住友重機械工業株式会社 ステージ装置
JP2004072076A (ja) * 2002-06-10 2004-03-04 Nikon Corp 露光装置及びステージ装置、並びにデバイス製造方法
TWI239607B (en) * 2002-12-13 2005-09-11 Sanyo Electric Co Method for making a semiconductor device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000155186A (ja) * 1998-11-24 2000-06-06 Sumitomo Heavy Ind Ltd Ｘ−ｙステージ装置
JP2002328191A (ja) * 2001-05-02 2002-11-15 Nippon Thompson Co Ltd リニアモータを内蔵したステージ装置
JP2004317485A (ja) * 2003-03-28 2004-11-11 Sumitomo Heavy Ind Ltd Ｘ−ｙステージ装置

Also Published As

Publication number Publication date
TW200740550A (en) 2007-11-01
KR20070090803A (ko) 2007-09-06
CN101030551B (zh) 2012-05-30
TWI457193B (zh) 2014-10-21
CN101030551A (zh) 2007-09-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101087529B1 (ko) 스테이지장치
JP4782710B2 (ja) ステージ装置
CN100580545C (zh) 用于样本检测和处理的高分辨率动态定位机构
CN112276384B (zh) 半导体晶圆激光切割用气浮平台
KR100909585B1 (ko) 스테이지장치
JPH0737771A (ja) 支持装置
JP2010153644A (ja) 昇降テーブル
JP2007171015A (ja) 平面ステージ装置
WO2014120082A1 (en) A planar positioning system and method of using the same
JP4877925B2 (ja) ステージ装置
CN102333615A (zh) 用于短冲程载物台的挠曲件导引轴承
JP2007232648A (ja) ステージ装置
KR100919391B1 (ko) 스테이지장치
JP2011112625A (ja) ２軸直交案内装置、３軸直交案内装置、３軸直交・回転案内装置及びテーブル装置
JP2005195606A (ja) Ｘ−ｙステージ装置
JP4130838B2 (ja) ステージ装置
KR20120091189A (ko) 마스크 유지 기구
JP2006287033A (ja) ステージ装置およびその露光装置
CN210486802U (zh) 一种用于大尺寸晶圆厚度检测平台
KR101011951B1 (ko) 스테이지장치
JP2000028344A (ja) 位置決めテーブル
JP2006083964A (ja) ステージスライダ機構
KR100264394B1 (ko) 6축초정밀위치결정기구
JP5406507B2 (ja) 平面移動ステージ装置
JP6025905B2 (ja) 三次元座標測定機

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee