CN101030551A

CN101030551A - 载物台装置

Info

Publication number: CN101030551A
Application number: CNA2007100844683A
Authority: CN
Inventors: 南康夫; 日置一弥
Original assignee: Sumitomo Heavy Industries Ltd
Current assignee: Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date: 2006-03-02
Filing date: 2007-03-02
Publication date: 2007-09-05
Anticipated expiration: 2027-03-02
Also published as: KR20070090803A; CN101030551B; KR101087529B1; TWI457193B; TW200740550A

Abstract

本发明的目的是能够稳定且精密地控制θ工作台的转动动作。载物台装置(10A)具有在平台(20)上移动的载物台(30)、和载置在载物台(30)上的θ工作台(40)。载物台(30)具有沿Y方向移动的Y载物台(36)、和沿与Y方向正交的X方向移动的X载物台(38)。从X载物台(38)的上面垂直立起有枢轴(80)。该枢轴(80)由未图示的螺钉螺合紧固在X载物台(38)上。在该枢轴(80)的上端安装有轴承(82)，通过该轴承(82)轴支撑θ工作台(40)和枢轴(80)，使θ工作台(40)能够向θz方向转动。此外，具备从θ工作台(40)的下面向垂下方向延伸的4根支柱(60)、和设在各支柱(60)的下端的空气垫(70)。

Description

载物台装置

技术领域

本发明涉及构成为能够更稳定且精密地进行θ工作台的转动动作的载物台装置。

背景技术

例如，在载物台装置中，具有沿Y方向移动的Y载物台和沿X方向移动的X载物台，沿着固定在平台上的一对Y方向导轨在移动方向上导引Y载物台，沿着装载在Y载物台上的X方向导轨在移动方向上导引X载物台(例如参照特许文献1)。

此外，在用于半导体晶片的移动的载物台装置中，设在Y载物台的两端上的滑块由直线电动机向Y方向被并行驱动，并且在X载物台上沿θz方向可转动地支撑有载置晶片的θ工作台。

在这种台装置中，构成为，如果输送作为对象物的晶片而将其保持在θ工作台上，则为了将晶片的位置高精度地定位，进行使θ工作台向绕Z轴的θz方向转动动作而调节晶片的位置的定位控制。

【特许文献1】特开2004-317485号公报

在上述以往的载物台装置中，在可转动地支撑θ工作台的支撑部中，由于都由X工作台承受θ工作台的负荷，所以在因导轨的变形而Y载物台旋转的情况下，会通过摩擦力使θ工作台也旋转，有难以稳定且精密地控制θ工作台的转动位置的问题。

发明内容

所以，本发明的目的是提供一种解决上述以往的课题的载物台装置。

本发明的一技术方案的载物台装置，具有在平台上移动的载物台、和可与该载物台一起移动且可在该载物台上转动的θ工作台，其特征在于，包括：枢轴，在上述载物台与上述θ工作台之间垂直地立起；轴承，轴支撑上述枢轴与上述θ工作台之间、或者上述载物台与上述枢轴之间，以使上述θ工作台可相对于上述载物台转动；以及θ直线电动机，从下面侧旋转驱动上述θ工作台。

本发明的另一技术方案的载物台装置，具有在平台上移动的载物台、和可与该载物台一起移动且可在该载物台上转动的θ工作台，其特征在于，包括：枢轴，从上述载物台的上面垂直地立起；轴承，轴支撑上述枢轴与上述θ工作台之间；以及θ直线电动机，从下面侧相对于上述载物台旋转驱动上述θ工作台。

此外，也可以还具备在上述θ工作台与上述平台之间或者在上述θ工作台与上述载物台之间支撑上述θ工作台的支撑机构。

此外，上述支撑机构也可以具有：多个支柱，从上述θ工作台的下面垂直地延伸；以及多个空气垫，被配设在上述多个支柱的各自的下端上，在上述平台上或上述载物台上静压浮起。

此外，上述支撑机构也可以具有：多个支柱，从上述平台或上述载物台向垂直上方延伸；以及多个空气垫，被配设在上述支柱的上端，使上述θ工作台静压浮起。

此外，上述轴承也可以由交叉滚子轴承构成。

此外，也可以是，上述θ直线电动机的定子被配设在上述载物台上，上述θ直线电动机的可动元件被配设在上述θ工作台的下面。

此外，也可以是，上述载物台是在上述平台上可使该载物台的上面沿相互正交的两轴方向平行移动的XY载物台，上述XY载物台具有：Y载物台，沿Y方向移动；以及X载物台，搭载在上述Y载物台上，沿X方向移动，上述θ方向直线电动机的定子被搭载在上述X载物台之上。

发明的效果：

根据本发明，能够通过轴承使θ工作台以低负荷转动，并且θ直线电动机能够非接触地从下面侧驱动θ工作台，所以可起到能够将载物台的误差给θ工作台带来的影响抑制在最小限度的特有的效果。

附图说明

图1是表示实施方式1的载物台装置的立体图。

图2是表示实施方式1的载物台装置的主视图。

图3是表示实施方式1的载物台装置的俯视图。

图4是表示从侧方观察实施方式1的载物台装置的载物台及θ工作台的侧截面的图。

图5是表示实施方式2的载物台装置的主视图。

图6是表示实施方式2的载物台装置的侧截面的图。

图7是表示实施方式2的变形例的载物台装置的主视图。

图8是表示实施方式3的载物台装置的主视图。

图9是从侧方观察实施方式3的载物台装置的侧剖视图。

具体实施方式

下面，对适用了本发明的载物台装置的实施方式进行说明。

【实施方式1】

图1是表示实施方式1的载物台装置的立体图。图2是表示实施方式1的载物台装置的主视图。图3是表示实施方式1的载物台装置的俯视图。

如图1至图3所示，载物台装置10A例如组装在半导体晶片的制造工序中所使用的曝光装置中，具有平台20、在平台20的平面上移动的载物台30、装载在载物台30上并载置工件(未图示)的θ工作台40、和使载物台30沿Y方向移动的一对Y直线电动机50。

载物台30具有沿着突出到平台20的平面上、在移动方向(Y方向)上延伸的一对Y方向导轨28平行移动的一对滑块32、和通过空气压在平台20的平面上静压浮起而移动的多个空气垫(air pad)(也称作“空气轴承”)34。另外，滑块32形成为倒U字状，以使其与Y方向导轨28的左右侧面及上面对置，在各对置面上设有通过空气压而成为非接触的空气垫(未图示)。因此，滑块32相对于Y方向导轨28能够通过空气压静压浮起而非接触地在Y方向上移动。

载物台30具有沿Y方向移动的Y载物台36、和沿与Y方向正交的X方向上移动的X载物台38。Y载物台36横架在一对Y方向导轨28间，形成为在其两端上结合有滑块32的H字状。此外，X载物台38设在滑块32间，在下面上设有多个空气垫34。并且，X载物台38设计为，与上述Y载物台36一起沿Y方向移动，并且沿着X方向移动。

θ工作台40如果从上方观察则形成为四边形状，其上面42为工件载置面(在半导体用的曝光装置的情况下为晶片载置面)。此外，在上面42上，设有将来自检测θ工作台40的Y方向位置的激光干涉计(未图示)的激光反射的反射镜44。

一对Y直线电动机50排列设置在平台20的左右外侧，由在Y方向上延伸形成的磁轭(定子)52、和从滑块32的外侧面向X方向延伸的线圈单元(可动元件)54构成。磁轭52如果从正面观察则形成为コ字状，在内壁的上下面上排列设置有多个永久磁铁。此外，磁轭52被支撑部件56支撑在滑块32移动的高度位置。

并且，线圈单元54在Y方向上连结有多个线圈，从侧方插入到磁轭52的磁铁间。因此，线圈单元54如果对线圈通电则形成对永久磁铁的磁束，能够得到对永久磁铁的Y方向的推力。此外，线圈单元54结合在滑块32的侧面上。为此，线圈单元54得到的Y方向推力被施加给滑块32，驱动Y载物台36。

进而，在载物台装置10A中，是具备从θ工作台40的下面垂直地(即从θ工作台40的下面垂直朝下)延伸的4根支柱60、和设在各支柱60的下端上、通过空气压而在平台20的平面上静压浮起并移动的多个空气垫(也称作“空气轴承”)70的结构。为此，支柱60及空气垫70能够一边直接支撑θ工作台40一边在平台20上移动。由此，θ工作台40并不限于具有比X载物台38大的面积，而能够通过配置在比X载物台38的轮廓靠外侧的4根支柱60及4个空气垫70由空气压而在平台20的上面静压浮起并移动，并且能够在维持着上面42的平面精度(水平精度)的状态下与载物台30一起移动。

此外，θ工作台40由于受4根支柱60及4个空气垫70支撑4角，所以能够防止转动时以枢轴80为支点摆动，能够维持上面42的水平精度。

此外，载物台30受配置在X载物台38的下面上的4个空气垫34支撑，以使其在空气压的作用下在平台20的各上面上静压浮起并移动。为此，X载物台38与θ工作台40能够相互不干涉地移动，θ工作台40能够在维持着上面42的平面精度的状态下与X载物台38一起一体地移动。进而，空气垫34、70由于在空气压的作用下相对于平台20的平面静压浮起，所以能够非接触地移动，使X载物台38及θ工作台40移动时的摩擦变得很小，相应地移动时的推力也较小就够了。

图4是表示载物台30及θ工作台40的侧截面的图。如图4所示，从X载物台38的上面垂直立起有枢轴80。该枢轴80通过用未图示的螺钉螺合紧固在X载物台38上而固定。

在该枢轴80的上端安装有轴承82，通过该轴承82轴支撑θ工作台40和枢轴80，使θ工作台40能够沿θz方向转动。另外，θ工作台40能够转动的角度为例如1/3600度。

该轴承82设置为使其外轮与设在θ工作台40的下面中央的凹部40a嵌合，内轮与枢轴80的上端外周嵌合。

此外，由于轴承82例如由在90°的V槽的滚动面上经由挡板(retainer)交替地正交排列有圆筒滚动衬垫的交叉滚子轴承构成，所以是即使受到径向负荷(半径方向负荷)、轴向负荷(轴方向负荷)、转矩负荷(俯仰、滚动、偏转的负荷)等的所有方向的负荷也能够进行平滑的旋转的结构。

因而，θ工作台40受由枢轴80和轴承82构成的枢轴轴承构造以稳定的状态支撑。此外，轴承82设在θ工作台40的下面中心，枢轴80的轴心与θ工作台40的旋转中心一致。并且，驱动载物台30的Y直线电动机50及后述的X直线电动机的推力也经由枢轴80及轴承82传递给θ工作台40。

另外，以上对枢轴80的上端与θ工作台40被轴承82轴支撑的形态进行了说明，但轴承82的安装部位并不限于这样的部位。例如，也可以将枢轴80通过螺合紧固等固接在θ工作台40的下面中心上，并且将轴承82设在X载物台38的上面侧，通过用轴承82轴支撑枢轴80的下端与X载物台38，能够使θ工作台40相对于X载物台38转动。

进而，在X载物台38与θ工作台40之间，设有使θ工作台40向θz方向转动的一对θ直线电动机84。该θ直线电动机84配置在枢轴80的附近，由固定在X载物台38的上面的磁轭(定子)86、和固定在θ工作台40的下面的线圈单元(可动元件)88构成。磁轭86的截面形状形成为倒U字状，在其对置的内面安装有永久磁铁。并且线圈单元88非接触地插入在磁轭86的永久磁铁间。

此外，一对θ直线电动机84平行地设置，并且设置在从上方观察为以枢轴80为中心对称的位置上。为此，一对θ直线电动机84通过对线圈单元88通电而产生以枢轴80为中心的力偶，使θ工作台40从下面侧向θz方向转动。

此时，θ工作台40由于在来自配置在枢轴80附近的一对θ直线电动机84的推力的作用下绕枢轴80(θz方向)转动，所以能够通过轴承82以低摩擦、低振动而转动。此外，由于θ直线电动机84是非接触构造的驱动机构，所以在使θ工作台40转动时能够不受传递路径的驱动力的损失及变动的影响而使θ工作台40转动，能够稳定且精密地控制θ工作台40的转动动作。

因而，在载物台装置10A中，能够通过轴承82以低负荷使θ工作台40转动，并且θ直线电动机84能够非接触地从下面侧驱动θ工作台40，所以能够将载物台30的误差对θ工作台40的影响抑制在最小限度。

进而，由于θ工作台40受设在上述支柱60的下端的空气垫70支撑，以使其在空气压的作用下在平台20上静压浮起而移动，所以如果被施加来自一对θ直线电动机84的旋转力，则能够以只有轴承82的旋转阻力为负荷的低摩擦状态向θz方向转动。另外，θ直线电动机84构成为，由于对应于θ工作台40的转动角度而使磁轭86与线圈单元88的θz方向的相对位置变化，所以在磁轭86与线圈单元88之间形成对应于最大转动角度的间隙，以使磁轭86与线圈单元88不会干涉。

在X载物台38的内部中，形成有插通Y载物台36的空间120，在该空间120中设有向X方向驱动X载物台38的X直线电动机124。Y载物台36在两端上设有滑块32，被沿着导引部28导引而移动，所以与X载物台38的内壁非接触地移动。

此外，Y载物台36具有支撑对置于X载物台38的内壁的空气垫122的垂直部36a、和安装X直线电动机124的平面部36b。空气垫122构成为，由于经由空气压力对置于空间120的Y方向的内壁，所以在使X载物台38向X方向移动时，空间120的内壁能够与空气垫122非接触地移动。此外，在使Y载物台36向Y方向移动时，经由来自空气垫122的空气压将空间120的Y方向内壁向移动方向推压而使X载物台38向Y方向移动。

X直线电动机124由在X方向上延伸形成的磁轭(定子)126和线圈单元(可动元件)128构成。磁轭126从侧面观察形成为コ字状，在内壁的上下面上排列设置有多个永久磁铁。此外，磁轭126固定在Y载物台36的平面部36b上，线圈单元128支撑在固定于X载物台38的内壁上的托架130上。

并且，线圈单元128在X方向上配设有多个线圈，从前方插入到磁轭126的磁铁间。因此，线圈单元128如果对线圈通电则形成磁束，能够得到对永久磁铁的X方向的推力。此外，由于线圈单元128经由托架130与X载物台38结合，所以线圈单元128得到的X方向推力被施加给X载物台38。

因而，X载物台38被来自X直线电动机124的推力向X方向驱动。并且，装载在X载物台38上的θ工作台40由于经由枢轴80及轴承82被传递了X直线电动机124的X方向推力，所以与X载物台38一起向X方向移动。

此外，在支撑θ工作台40的支柱60上，设有能够进行高度调节的调平机构62。该调平机构62分别设在4根支柱60上，独立地进行高度调节，以维持θ工作台40的水平精度。

此外，在X载物台38向X方向及Y方向移动时，经由枢轴80及轴承82支撑在X载物台38上的θ工作台40也向X方向及Y方向移动，并且设在支柱60的下端的空气垫70在空气压的作用下在平台20上静压浮起并移动，来维持θ工作台40的水平精度。

因而，在载物台装置10A中，由于使θ工作台40以枢轴80的轴心为中心向θz方向转动，所以即使在X载物台38的X方向及Y方向的移动位置中发生了误差的情况下，也能够通过θ工作台40的转动位置防止误差增大。因此，即使在将载物台30向Y方向移动后使θ工作台40向θz方向转动的情况下，设在θ工作台40的上面42上的反射镜44也不会从来自激光干涉计的激光的照射位置偏移，能够通过激光干涉计防止位置检测精度降低。此外，在载物台装置10A中，例如在用于曝光装置的情况下，能够防止工件(晶片等)相对于光学系统的位置因θ工作台40的转动位置而偏移动。

【实施方式2】

图5是表示实施方式2的载物台装置的主视图。图6是表示实施方式2的载物台装置的侧截面的图。另外，在图5及图6中，对于与实施方式1相同的要素赋予相同的标号而省略其说明。

如图5及图6所示，实施方式2的载物台装置10B具备从θ工作台40的下面向垂下方向延伸的4根支柱60、和设在支柱60的下端并通过空气压而在X载物台38上静压浮起并移动的多个空气垫70。为此，支柱60及空气垫70能够一边直接支撑θ工作台40一边在X载物台38上移动。由此，θ工作台40能够通过4根支柱60及4个空气垫70由空气压而在X载物台38的上面静压浮起并移动，并且能够在维持上面42的平面精度(水平精度)的状态下与载物台30一起移动。

此外，由于θ工作台40受4根支柱60及4个空气垫70支撑4角，所以能够防止在转动时以枢轴80为支点摆动，能够维持上面42的水平精度。

根据本实施方式的载物台装置，由于能够将支柱60的全长(高度方向的长度)缩短，所以能够提高使X载物台38移动时的θ工作台40的稳定性。

[变形例]

图7是表示本实施方式的变形例的载物台装置的主视图。该变形例的载物台装置与图5所示的载物台装置的支柱60和空气垫70的位置关系上下颠倒。具体而言，4根支柱60固接在X载物台38上，从该X载物台38的上面垂直地立起。此外，空气垫70分别配设在各支柱60的上端，使θ工作台40静压浮起。这样，即使是将支柱60安装在X载物台38侧、通过配设在其上端的空气垫70使θ工作台40静压浮起的结构，也与图5及图6所示的载物台装置同样，能够防止在θ工作台40转动时以枢轴80为支点摆动，能够维持其上面42的水平精度。

【实施方式3】

图8是表示实施方式3的载物台装置的主视图。图9是表示实施方式3的载物台装置的侧截面的图。另外，在图8及图9中，对于与上述实施方式1、2相同的要素赋予相同的标号而省略其说明。

如图8所示，本实施方式的载物台装置10C与上述实施方式1同样，在从平台20向左右侧方离开的位置上设有一对Y直线电动机50。Y直线电动机50将线圈单元54从侧方插入到磁轭52的磁铁间，该线圈单元54从滑块32的侧面向水平方向延伸而安装。此外，磁轭52由支撑部件56支撑在对置于滑块32的侧面的高度位置上。

因而，在载物台装置10C中，Y直线电动机50的反作用力经由支撑部件56被传递给地面。为此，构成为，Y直线电动机50的反作用力不会传递给Y载物台36及X载物台38，防止了相应的载物台30的位置控制的误差，能够稳定且精密地控制载物台30的转动位置。

进而，在载物台装置10C中，与上述的实施方式1同样，是设在各支柱60的下端上的多个空气垫70在X载物台38上静压浮起并移动的结构。为此，支柱60及空气垫70通过一边支撑θ工作台40一边在X载物台38上移动，由此在维持着θ工作台40的平面精度(水平精度)的状态下与载物台30一起移动。

此外，一对θ直线电动机84与上述实施方式1同样，设在θ工作台40的下方。并且，构成θ直线电动机84的磁轭86受立起在X载物台38上的支撑部90支撑。此外，线圈单元88从X载物台38的下面向下方突出。另外，θ直线电动机84设置为从向后述的滑块32的侧方离开的底面上立起，构成为，使θ直线电动机84不会受使滑块32移动时的振动的影响。

此外，一对θ直线电动机84平行地设置在从上方观察以枢轴80为中心对称的位置上，所以通过对线圈单元88通电而产生以枢轴80为中心的力偶，使θ工作台40从侧面向θz方向转动。

如图8所示，在载物台装置10C中，与上述实施方式1同样，是设在支柱60的下端的多个空气垫70在X载物台38上静压浮起而移动的结构。为此，支柱60及空气垫70通过一边直接支撑θ工作台40一边在X载物台38上移动，由此在维持着θ工作台40的平面精度(水平精度)的状态下与载物台30一起移动。

如图8所示，在θ工作台40与X载物台38之间设有高度调节机构200。该高度调节机构200具备具有枢轴80的支撑框架210、和调节支撑框架210的高度位置的一对调平单元220。

支撑框架210在上面中央一体地立起有枢轴80，并且在上面4角上设有与θ工作台40的下面对置的空气垫212。因此，θ工作台40如果被施加来自一对θ直线电动机74的旋转力(力偶)，则能够以枢轴80的轴心为旋转中心向θz方向稳定地转动。

如上所述，θ直线电动机84由于垂直地设置，所以设置为，线圈单元88能够相对于磁轭86向Y方向及上方(Z方向)相对移动。为此，设置为，在通过高度调节机构200使θ工作台40升降时，θ直线电动机84的磁轭86与线圈单元88不会干涉，θ直线电动机84不会妨碍θ工作台40的升降动作。

如图9所示，调平单元220由支撑在空气垫70上的下部块230、在支撑框架210的下面所吊下的上部块240、和设在下部块230和上部块240之间的驱动器250构成。下部块230以向Y方向延伸的朝向设置，在下面上配置有在X载物台38上静压浮起并移动的多个空气垫70。

进而，在下部块230的上部设有一对倾斜部232、和凹部234。一对倾斜部232分别具有相对于水平面相同方向且相同角度的倾斜面，在图9中在左侧较低、右侧较高那样的倾斜方向上形成。

此外，在上部块240的上部，设有相对于支撑框架210的下面以低摩擦滑动的滑动部件260。该滑动部件260只要是高刚性、耐磨损性高、低摩擦的部件就可以，例如由不锈钢或对表面实施了特氟纶加工的硬度较高的金属构成。进而，在上部块240的下部，设有一对倾斜部242和凹部244。一对倾斜部242分别具有相对于水平面相同方向且相同角度的倾斜面，并且向与上述倾斜部232平行的倾斜方向倾斜。

此外，在上部块240的各倾斜部242的内部，形成有沿上下方向(Z方向)贯通的贯通孔246，在该各贯通孔246的内部分别插通有从倾斜部232向上方立起的支柱270。并且，支柱270的横截面形状形成为长方形(相对于图中Z轴方向的截面形状是Y轴方向上比X轴方向长的长方形)，并且其上端与支撑框架210的下面对置但离开。此外，各贯通孔246的开口形状形成为在X轴方向上较短、在Y轴方向上较长的长方形状，插通在该贯通孔246中的支柱270可相对于贯通孔246仅在Y轴方向上能够相对移动地构成。这里，支柱270连接在下部块230上，另一方面，贯通孔246形成在上部块240上。上部块240由于相对于下部块230能够沿Y轴方向移动，所以实际上成为贯通孔246相对于支柱270沿Y轴方向移动。对于该移动原理在后面叙述。

配置在凹部234与凹部244之间的驱动器250由例如通过用电动机驱动滚珠螺杆机构而产生Y方向的驱动力地构成的驱动机构等构成，左端支板252结合在上部块240上，右端支板254结合在下部块230上。

进而，在倾斜部232与倾斜部242之间，夹装有减轻滑动阻力的低摩擦部件280。该低摩擦部件280也可以由与摆动部件260相同的材质构成，只要是高刚性、耐磨损性高、低摩擦的部件就可以。例如由不锈钢或对表面实施了特氟纶加工的硬度较高的金属构成。

例如，在驱动器250的驱动力将左端支板252与右端支板254向相互接近的方向作用的情况下，上部块240的倾斜部242相对于下部块230的倾斜部232向右方移动。因此，上部块240对应于倾斜部232、242的倾斜角度而相对于下部块230上升，使支撑框架210及θ工作台40上升。

此外，在驱动器250的驱动力将左端支板252与右端支板254向相互离开的方向作用的情况下，上部块240的倾斜部242相对于下部块230的倾斜部232向左方移动。因此，上部块240对应于倾斜部232、242的倾斜角度而相对于下部块230下降，使支撑框架210及θ工作台40下降。

因而，在载物台装置10C中，能够通过来自一对θ直线电动机84的旋转力(力偶)使θ工作台40向θz方向转动，并且能够通过高度调节机构200的驱动器250的驱动方向使θ工作台40上升或下降，来调节高度位置。

在上述实施方式中，举出通过用轴承82支撑枢轴80的上端外周来可转动地支撑θ工作台40的结构为例进行了说明，但并不限于此，例如也可以将枢轴80的上端的形状形成为圆锥形状或半球形状、并设置对应于这些前端形状的轴承。

以上，对本发明的例示的实施方式的载物台装置进行了说明，但本发明并不限于具体公开的实施方式，可以在不脱离权利要求的范围内进行各种变形及变更。

工业实用性

本发明的载物台装置能够在液晶面板及半导体元件等的制造工序中使用。

Claims

1、一种载物台装置，具有在平台上移动的载物台、和可与该载物台一起移动且可在该载物台上转动的θ工作台，其特征在于，包括：

枢轴，在上述载物台与上述θ工作台之间垂直地立起；

轴承，轴支撑上述枢轴与上述θ工作台之间、或者上述载物台与上述枢轴之间，以使上述θ工作台可相对于上述载物台转动；以及

θ直线电动机，从下面侧旋转驱动上述θ工作台。

2、一种载物台装置，具有在平台上移动的载物台、和可与该载物台一起移动且可在该载物台上转动的θ工作台，其特征在于，包括：

枢轴，从上述载物台的上面垂直地立起；

轴承，轴支撑上述枢轴与上述θ工作台之间；以及

θ直线电动机，从下面侧相对于上述载物台旋转驱动上述θ工作台。

3、如权利要求1或2所述的载物台装置，其特征在于，还具备在上述θ工作台与上述平台之间或者在上述θ工作台与上述载物台之间支撑上述θ工作台的支撑机构。

4、如权利要求3所述的载物台装置，其特征在于，

上述支撑机构具有：

多个支柱，从上述θ工作台的下面垂直地延伸；以及

多个空气垫，被配设在上述多个支柱的各自的下端上，在上述平台上或上述载物台上静压浮起。

5、如权利要求3所述的载物台装置，其特征在于，

上述支撑机构具有：

多个支柱，从上述平台或上述载物台向垂直上方延伸；以及

多个空气垫，被配设在上述支柱的上端，使上述θ工作台静压浮起。

6、如权利要求1或2所述的载物台装置，其特征在于，上述轴承由交叉滚子轴承构成。

7、如权利要求1或2所述的载物台装置，其特征在于，

上述θ直线电动机的定子被配设在上述载物台上，

上述θ直线电动机的可动元件被配设在上述θ工作台的下面。

8、如权利要求7所述的载物台装置，其特征在于，

上述载物台是在上述平台上可使该载物台的上面沿相互正交的两轴方向平行移动的XY载物台，

上述XY载物台具有：

Y载物台，沿Y方向移动；以及

X载物台，搭载在上述Y载物台上，沿X方向移动，

上述θ方向直线电动机的定子被搭载在上述X载物台之上。