JPH0430174B2 - - Google Patents
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- JPH0430174B2 JPH0430174B2 JP58028336A JP2833683A JPH0430174B2 JP H0430174 B2 JPH0430174 B2 JP H0430174B2 JP 58028336 A JP58028336 A JP 58028336A JP 2833683 A JP2833683 A JP 2833683A JP H0430174 B2 JPH0430174 B2 JP H0430174B2
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- Japan
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- substantially perpendicular
- coordinate axis
- tapered surface
- respect
- plate
- Prior art date
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Links
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の技術分野）
本発明は板状体の姿勢制御装置に関する。
（発明の背景）
マスクのパターンをウエハ上に転写するために
使用されるプロキシミテイ露光装置においては、
露光開始前にマスクとウエハのアライメントを行
う必要がある。このアライメントのための動作と
しては概略以下ことを要する。
使用されるプロキシミテイ露光装置においては、
露光開始前にマスクとウエハのアライメントを行
う必要がある。このアライメントのための動作と
しては概略以下ことを要する。
(1) マスク及びウエハにそれぞれ形成されたアラ
イメントマークを合致させる。このとき、マス
ク及び／又はウエハはＸ−Ｙ軸方向の移動及び
θ方向の回転を必要とする。
イメントマークを合致させる。このとき、マス
ク及び／又はウエハはＸ−Ｙ軸方向の移動及び
θ方向の回転を必要とする。
(2) マスクとウエハとを互いに平行に位置づけす
る。このとき、マスク及び／又はウエハは前記
アライメントマークのの合致を崩さぬようにし
て（Ｘ−Ｙ軸方向の横方向移動を極力抑え込ん
で）任意の方向へ傾斜可能であることが要求さ
れる。
る。このとき、マスク及び／又はウエハは前記
アライメントマークのの合致を崩さぬようにし
て（Ｘ−Ｙ軸方向の横方向移動を極力抑え込ん
で）任意の方向へ傾斜可能であることが要求さ
れる。
(3) マスクとウエハとの間の間隙を所定量に調節
する。このとき、マスク及び／又はウエハはＸ
−Ｙ軸を含む平面に垂直なＺ軸方向に平行移動
可能であることが要求される。
する。このとき、マスク及び／又はウエハはＸ
−Ｙ軸を含む平面に垂直なＺ軸方向に平行移動
可能であることが要求される。
プロキシミテイ露光装置においては基本的に以
上のようなアライメント動作を要求される。特に
有限な大きさのターゲツトでＸ線を発生し、この
Ｘ線によつてウエハ上にマスクパターンを露光す
るＸ線露光装置であつては、マスクとウエハ間の
間隙の調節誤差がＸ−Ｙ軸方向のアライメント精
度に大きく影響するために、マスクとウエハの間
隙と平行性を厳密に調節する必要がある。
上のようなアライメント動作を要求される。特に
有限な大きさのターゲツトでＸ線を発生し、この
Ｘ線によつてウエハ上にマスクパターンを露光す
るＸ線露光装置であつては、マスクとウエハ間の
間隙の調節誤差がＸ−Ｙ軸方向のアライメント精
度に大きく影響するために、マスクとウエハの間
隙と平行性を厳密に調節する必要がある。
そこでこのような要求を満足するためには、例
えば(1)の動作を果す機構に(2)の動作を果す機構を
順次結合させることが考えられるが、こうすると
全体構成が複雑となる可能性が強い。
えば(1)の動作を果す機構に(2)の動作を果す機構を
順次結合させることが考えられるが、こうすると
全体構成が複雑となる可能性が強い。
（発明の目的）
本発明の目的は、マスク又はウエハのような板
状態の平行移動々作と傾斜動作を同一機構で可能
とするとともに、該傾斜動作における任意方向の
傾斜中心点の横方向移動を実用上無視できる程度
まで抑え込めるようにした板状体の姿勢制御装置
を提供することである。
状態の平行移動々作と傾斜動作を同一機構で可能
とするとともに、該傾斜動作における任意方向の
傾斜中心点の横方向移動を実用上無視できる程度
まで抑え込めるようにした板状体の姿勢制御装置
を提供することである。
（発明の概要）
本発明によれば、互いに直交する２本の座標軸
をＸ軸、Ｙ軸とし、且つ直交座標系を含む平面を
基準平面とする時、基準平面に対して板状体を任
意の方向に傾斜させることにより、基準平面内に
配置される板状体の姿勢を制御する装置におい
て、 支持テーブル１上に設けられ、基準平面内の直
交座標系の一方の座標軸（Ｘ軸）に関して対向し
て配置される第１ばね部材３，４，５と； 第１ばね部材３，４，５を介して支持テーブル
１上に支承される第１テーブル２と； 支持テーブル１上に設けられ、Ｘ軸に関して互
いに略対称となる第１テーブル２の２ケ所
（P2-3、P3）を、直交座標系の原点（中心点P1）
を中心とし、且つＸ軸と略垂直な面内に規定され
る円の接線方向に駆動して、第１テーブル２を中
心点P1を略中心として揺動する第１駆動手段
と； 第１テーブル２上に設けられ、基準平面内でＸ
軸と交差する方向、すなわち直交座標系の他方の
座標軸（Ｙ軸）に関して対向して配置される第２
ばね部材７，８，９と； 板状体（マスク１０）を保持すると共に、第２
ばね部材７，８，９を介して第１テーブル２上に
支承される第２テーブル６と； 支持テーブル１上に設けられ、Ｙ軸に関して互
いに略対称となる第２テーブル６の２ケ所
（P2-6、P4）を、中心点P1を中心とし、且つＹ軸
と略垂直な面内に規定される円の接線方向に駆動
して、第２テーブル６を中心点P1を略中心とし
て揺動する第２駆動手段とを設けると共に、 支持テーブル１と第１テーブル２との対向面の
少なくとも一部にＸ軸に向けて傾斜する互いに略
平行なテーパ面（斜面１ａ，１ｂと斜面２ａ，２
ｂ）を形成すると共に、斜面１ａ，１ｂと２ａ，
２ｂとの間に第１ばね部材３，４，５を固着し
て、支持テーブル１と第１テーブル２とを所定の
間隔をあけた積層構造とし、且つ 第１テーブル２と第２テーブル６との対向面の
少なくとも一部にＹ軸に向けて傾斜する互いに略
平行なテーパ面（斜面２ｃ，２ｄと斜面６ａ，６
ｂ）を形成すると共に、斜面２ｃ，２ｄと６ａ，
６ｂとの間に第２ばね部材７，８，９を固着し
て、第１テーブル２と第２テーブル６とを所定の
間隔をあけた積層構造とした板状体の姿勢制御装
置が提供される。
をＸ軸、Ｙ軸とし、且つ直交座標系を含む平面を
基準平面とする時、基準平面に対して板状体を任
意の方向に傾斜させることにより、基準平面内に
配置される板状体の姿勢を制御する装置におい
て、 支持テーブル１上に設けられ、基準平面内の直
交座標系の一方の座標軸（Ｘ軸）に関して対向し
て配置される第１ばね部材３，４，５と； 第１ばね部材３，４，５を介して支持テーブル
１上に支承される第１テーブル２と； 支持テーブル１上に設けられ、Ｘ軸に関して互
いに略対称となる第１テーブル２の２ケ所
（P2-3、P3）を、直交座標系の原点（中心点P1）
を中心とし、且つＸ軸と略垂直な面内に規定され
る円の接線方向に駆動して、第１テーブル２を中
心点P1を略中心として揺動する第１駆動手段
と； 第１テーブル２上に設けられ、基準平面内でＸ
軸と交差する方向、すなわち直交座標系の他方の
座標軸（Ｙ軸）に関して対向して配置される第２
ばね部材７，８，９と； 板状体（マスク１０）を保持すると共に、第２
ばね部材７，８，９を介して第１テーブル２上に
支承される第２テーブル６と； 支持テーブル１上に設けられ、Ｙ軸に関して互
いに略対称となる第２テーブル６の２ケ所
（P2-6、P4）を、中心点P1を中心とし、且つＹ軸
と略垂直な面内に規定される円の接線方向に駆動
して、第２テーブル６を中心点P1を略中心とし
て揺動する第２駆動手段とを設けると共に、 支持テーブル１と第１テーブル２との対向面の
少なくとも一部にＸ軸に向けて傾斜する互いに略
平行なテーパ面（斜面１ａ，１ｂと斜面２ａ，２
ｂ）を形成すると共に、斜面１ａ，１ｂと２ａ，
２ｂとの間に第１ばね部材３，４，５を固着し
て、支持テーブル１と第１テーブル２とを所定の
間隔をあけた積層構造とし、且つ 第１テーブル２と第２テーブル６との対向面の
少なくとも一部にＹ軸に向けて傾斜する互いに略
平行なテーパ面（斜面２ｃ，２ｄと斜面６ａ，６
ｂ）を形成すると共に、斜面２ｃ，２ｄと６ａ，
６ｂとの間に第２ばね部材７，８，９を固着し
て、第１テーブル２と第２テーブル６とを所定の
間隔をあけた積層構造とした板状体の姿勢制御装
置が提供される。
（実施例）
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
第１図は姿勢制御装置の正面図、第２図は第１
図のＸ−Ｘ断面図、第３図は第１図のＹ−Ｙ断面
図である。第１図においてＸ−Ｘ軸はＸ座標軸、
Ｙ−Ｙ軸はＹ座標軸とそれぞれ対応している。ま
た第１〜第３図においてＸ座標軸及びＹ座標軸は
中心点P1で交差しており、該中心点P1はＸ、Ｙ
座標軸を含む平面内に存在しているものとする。
図のＸ−Ｘ断面図、第３図は第１図のＹ−Ｙ断面
図である。第１図においてＸ−Ｘ軸はＸ座標軸、
Ｙ−Ｙ軸はＹ座標軸とそれぞれ対応している。ま
た第１〜第３図においてＸ座標軸及びＹ座標軸は
中心点P1で交差しており、該中心点P1はＸ、Ｙ
座標軸を含む平面内に存在しているものとする。
さて、支持テーブル１は露光装置本体（不図
示）に固定されるか、又はＸ、Ｙ座標軸方向に可
動に載置されている。支持テーブル１は、その表
面には大きな矩形の第１開口を、またその裏面に
は小さな矩形の第２開口を形成するような一対の
斜面１ａ，１ｂを形成する如く第１孔部M1が穿
設されている。そして、この斜面は支持テーブル
１の表面の上端縁１ｃ及び下端縁１ｄからＸ座標
軸へ向う方向にのみ形成される。第１テーブル２
は、その裏面側に支持テーブル１の１対の斜面１
ａ，１ｂとほぼ同一傾斜の斜面２ａ，２ｂをそれ
ぞれ有する。第１テーブル２は、その表面には大
きな矩形の第３開口を、またその裏面には小さな
矩形の第４開口を形成するような一対の斜面２
ｃ，２ｄを形成する如く第２孔部M2が穿設され
ている。そして、この斜面２ｃ，２ｄは第１テー
ブル２の表面の右端縁２ｅ及び左端縁２ｆからＹ
座標軸へ向う方向にのみ形成される。第１テーブ
ル２は斜面２ａ，２ｂが支持テーブル１の斜面１
ａ，１ｂと対向するようにして、該支持テーブル
１に収納され、そして斜面１ａと斜面２ａとの間
にはバネ３，４が固着され、斜面１ｂと斜面２ｂ
との間にはバネ５が固着される。第２テーブル６
は、一対の斜面、即ち矩形状の表面の左、右端縁
からＹ座標軸方向に向けてそれぞれ斜いた斜面６
ａ，６ｂを備えた上部体と、第１テーブル２の第
４開口に挿通される円筒状の下部体６ｃとから成
る。この下部体６ｃは中心点P1を中心とする円
筒でありその下端は第１及び第２テーブルの裏面
より突出している。第２テーブル６の上部体と下
部体とを貫通して、中心点P1を中心とした貫通
孔M3が穿設されている。この下部体６ｃはマス
ク又はウエハを吸着支持するための支持台として
作用する。第２図及び第３図においては支持台６
ｃにマスク１０が吸着されており、該マスク１０
に対向してウエハ１１が配置されている。そし
て、露光時には光又はＸ線が貫通孔M3の上方か
らマスク及びウエハに向けて照射される。
示）に固定されるか、又はＸ、Ｙ座標軸方向に可
動に載置されている。支持テーブル１は、その表
面には大きな矩形の第１開口を、またその裏面に
は小さな矩形の第２開口を形成するような一対の
斜面１ａ，１ｂを形成する如く第１孔部M1が穿
設されている。そして、この斜面は支持テーブル
１の表面の上端縁１ｃ及び下端縁１ｄからＸ座標
軸へ向う方向にのみ形成される。第１テーブル２
は、その裏面側に支持テーブル１の１対の斜面１
ａ，１ｂとほぼ同一傾斜の斜面２ａ，２ｂをそれ
ぞれ有する。第１テーブル２は、その表面には大
きな矩形の第３開口を、またその裏面には小さな
矩形の第４開口を形成するような一対の斜面２
ｃ，２ｄを形成する如く第２孔部M2が穿設され
ている。そして、この斜面２ｃ，２ｄは第１テー
ブル２の表面の右端縁２ｅ及び左端縁２ｆからＹ
座標軸へ向う方向にのみ形成される。第１テーブ
ル２は斜面２ａ，２ｂが支持テーブル１の斜面１
ａ，１ｂと対向するようにして、該支持テーブル
１に収納され、そして斜面１ａと斜面２ａとの間
にはバネ３，４が固着され、斜面１ｂと斜面２ｂ
との間にはバネ５が固着される。第２テーブル６
は、一対の斜面、即ち矩形状の表面の左、右端縁
からＹ座標軸方向に向けてそれぞれ斜いた斜面６
ａ，６ｂを備えた上部体と、第１テーブル２の第
４開口に挿通される円筒状の下部体６ｃとから成
る。この下部体６ｃは中心点P1を中心とする円
筒でありその下端は第１及び第２テーブルの裏面
より突出している。第２テーブル６の上部体と下
部体とを貫通して、中心点P1を中心とした貫通
孔M3が穿設されている。この下部体６ｃはマス
ク又はウエハを吸着支持するための支持台として
作用する。第２図及び第３図においては支持台６
ｃにマスク１０が吸着されており、該マスク１０
に対向してウエハ１１が配置されている。そし
て、露光時には光又はＸ線が貫通孔M3の上方か
らマスク及びウエハに向けて照射される。
第２テーブル６の裏面側の斜面６ａ，６ｂは第
１テーブル２の斜面２ｃ，２ｄとほぼ同一傾斜の
斜面である。この第２テーブル６は斜面６ａ，６
ｂが第１テーブル２の斜面２ｃ，２ｄと対向する
ようにして該第１テーブル２に収納され、そし
て、斜面６ｃと斜面２ｃとの間にはバネ７，８が
固着され、斜面６ｂと斜面２ｄとの間にはバネ９
が固着されている。
１テーブル２の斜面２ｃ，２ｄとほぼ同一傾斜の
斜面である。この第２テーブル６は斜面６ａ，６
ｂが第１テーブル２の斜面２ｃ，２ｄと対向する
ようにして該第１テーブル２に収納され、そし
て、斜面６ｃと斜面２ｃとの間にはバネ７，８が
固着され、斜面６ｂと斜面２ｄとの間にはバネ９
が固着されている。
第４図はバネ３〜５及びバネ７〜９を具体的に
示す。第４図ａはバネの正面図、第４図ｂはバネ
の断面図、第４図ｃは第４図ｂのＡ矢視断面図、
第４図ｄは第４図ｂのＢ矢視断面図である。これ
らのバネ（代表的に符号３で表わす。）は円筒状
を成しており、そこに中心軸O1向けて略直交す
る方向から切込みを入れて互い違いにスリツト３
ａ，３ｂを設けている。このような形状のバネ３
はその中心軸O1の方向に伸縮し、またスリツト
３ａ及び／又は３ｂの幅によつて許容される量だ
け中心軸O1と交差する方向（傾斜方向）に曲る
ことが可能である。しかし、中心軸O1と直交す
る方向には、スリツト３ａ，３ｂを互い違いに設
けることにより変形しないようにしてある。
示す。第４図ａはバネの正面図、第４図ｂはバネ
の断面図、第４図ｃは第４図ｂのＡ矢視断面図、
第４図ｄは第４図ｂのＢ矢視断面図である。これ
らのバネ（代表的に符号３で表わす。）は円筒状
を成しており、そこに中心軸O1向けて略直交す
る方向から切込みを入れて互い違いにスリツト３
ａ，３ｂを設けている。このような形状のバネ３
はその中心軸O1の方向に伸縮し、またスリツト
３ａ及び／又は３ｂの幅によつて許容される量だ
け中心軸O1と交差する方向（傾斜方向）に曲る
ことが可能である。しかし、中心軸O1と直交す
る方向には、スリツト３ａ，３ｂを互い違いに設
けることにより変形しないようにしてある。
さて、第１〜３図において、中心点P1は支持
台６ｃに例えばマスク１０が吸着保持されたと
き、該マスク１０の回路パターンが形成された面
（例えばマスク１０の下面）に存在するように設
定される。バネ３，４は斜面１ａと２ａとが平行
になるように、またバネ５は斜面１ｂと２ｂとが
平行になるように支持テーブル１と第１テーブル
２とを接続する。バネ７，８は斜面２ｃと６ａと
が平行になるように、またバネ９は斜面２ｄと６
ｂとが平行となるように第１テーブル２と第２テ
ーブル６とを接続する。
台６ｃに例えばマスク１０が吸着保持されたと
き、該マスク１０の回路パターンが形成された面
（例えばマスク１０の下面）に存在するように設
定される。バネ３，４は斜面１ａと２ａとが平行
になるように、またバネ５は斜面１ｂと２ｂとが
平行になるように支持テーブル１と第１テーブル
２とを接続する。バネ７，８は斜面２ｃと６ａと
が平行になるように、またバネ９は斜面２ｄと６
ｂとが平行となるように第１テーブル２と第２テ
ーブル６とを接続する。
次に、バネ３〜５，７〜９と中心点P1との関
係を説明する。先ず、バネ３〜５の各中心点を
P2-1〜P2-3、バネ７〜９の各中心点をP2-4〜P2-6
と定める。バネ３，４の中心点P2-1、P2-2を結ぶ
線分の２等分点P3と中心点P1とを結ぶ線分l1の長
さ、及び、中心点P1とバネ３の中心点P2-3を結ぶ
線分l2の長さは等しい。中心点P1と各バネの中心
点P2-1〜P2-3とをそれぞれ結ぶ線分が、Ｘ、Ｙ座
標軸及び中心点P1を含む平面（基準平面）と成
す角度θ1互いに等しい。バネ７，８の中心点
P2-4、P2-5を結ぶ線分の２等分点P4と中心点P1と
を結ぶ線分l3の長さ、及び中心点P1とバネ９の中
心点P2-6を結ぶ線分l4の長さは等しい。中心点P1
と各バネ７〜９の中心点P2-4〜P2-6とをそれぞれ
結ぶ線分が、前記基準平面と成す角度θ2は互いに
等しい。
係を説明する。先ず、バネ３〜５の各中心点を
P2-1〜P2-3、バネ７〜９の各中心点をP2-4〜P2-6
と定める。バネ３，４の中心点P2-1、P2-2を結ぶ
線分の２等分点P3と中心点P1とを結ぶ線分l1の長
さ、及び、中心点P1とバネ３の中心点P2-3を結ぶ
線分l2の長さは等しい。中心点P1と各バネの中心
点P2-1〜P2-3とをそれぞれ結ぶ線分が、Ｘ、Ｙ座
標軸及び中心点P1を含む平面（基準平面）と成
す角度θ1互いに等しい。バネ７，８の中心点
P2-4、P2-5を結ぶ線分の２等分点P4と中心点P1と
を結ぶ線分l3の長さ、及び中心点P1とバネ９の中
心点P2-6を結ぶ線分l4の長さは等しい。中心点P1
と各バネ７〜９の中心点P2-4〜P2-6とをそれぞれ
結ぶ線分が、前記基準平面と成す角度θ2は互いに
等しい。
第５図は駆動装置の構成を概略的に示す説明図
である。モータ２０の回転軸にはカム２１が取付
けられている。このカム２１には駆動棒２２が接
触させられている。モータ２０が回転してカム２
１が回転すると駆動棒２２は上方又は下方に変位
する。この駆動装置は第１テーブル２、第２テー
ブル６の駆動用にそれぞれ２組使用される。そし
て、各駆動装置は支持テーブル１に据え付けられ
る。このとき、各駆動装置の駆動棒は中心点P1
と点P3、P4、P2-3、P2-6を結ぶ線分と略直交する
方向に変位して支持テーブル１に対して第１テー
ブル２及び第２テーブル６を駆動するように据え
付けられる。各駆動棒は、その中心軸が点P3、
P4、P2-3、P2-6を通るように配置されることが好
ましい。第６図は本実施例の斜視断面図である。
である。モータ２０の回転軸にはカム２１が取付
けられている。このカム２１には駆動棒２２が接
触させられている。モータ２０が回転してカム２
１が回転すると駆動棒２２は上方又は下方に変位
する。この駆動装置は第１テーブル２、第２テー
ブル６の駆動用にそれぞれ２組使用される。そし
て、各駆動装置は支持テーブル１に据え付けられ
る。このとき、各駆動装置の駆動棒は中心点P1
と点P3、P4、P2-3、P2-6を結ぶ線分と略直交する
方向に変位して支持テーブル１に対して第１テー
ブル２及び第２テーブル６を駆動するように据え
付けられる。各駆動棒は、その中心軸が点P3、
P4、P2-3、P2-6を通るように配置されることが好
ましい。第６図は本実施例の斜視断面図である。
次に動作を説明する。第１テーブル２の点P3
を＋α変位させ（持ち上げ）、点P2-3を−α変位
させ（引下げ）ると、第１テーブル２がＸ座標軸
を中心に△θ1傾斜する。また、第２テーブル６の
点P4を＋β変位させ点P2-6を−β変位させると、
第２テーブル６はＹ座標軸を中心に△θ2傾斜す
る。そして、この第１テーブル、第２テーブルの
傾斜量を同時に制御すれば支持台６ｃに吸着され
たマスクの傾きを中心点P1を中心にして任意方
向に調節することができる。また、第１テーブル
２の点P3、P2-3を同一方向に＋α又は−α変位さ
せれば第１テーブルは中心点P1を横ずれさせる
ことなく上方又は下方に平行移動する。第２テー
ブル６も同様である。従つて、第１テーブル２及
び／又は第２テーブル６の変位によつてマスクを
上下方向に平行移動させることができる。以上の
動作は変位量α、βがあまり大きくなると確実に
保証されるものではないが、数ミクロン〜数百ミ
クロン程度の変位ならば実用上充分な程度にマス
ク１０を傾斜及び／又は平行移動させることがで
きるものである。
を＋α変位させ（持ち上げ）、点P2-3を−α変位
させ（引下げ）ると、第１テーブル２がＸ座標軸
を中心に△θ1傾斜する。また、第２テーブル６の
点P4を＋β変位させ点P2-6を−β変位させると、
第２テーブル６はＹ座標軸を中心に△θ2傾斜す
る。そして、この第１テーブル、第２テーブルの
傾斜量を同時に制御すれば支持台６ｃに吸着され
たマスクの傾きを中心点P1を中心にして任意方
向に調節することができる。また、第１テーブル
２の点P3、P2-3を同一方向に＋α又は−α変位さ
せれば第１テーブルは中心点P1を横ずれさせる
ことなく上方又は下方に平行移動する。第２テー
ブル６も同様である。従つて、第１テーブル２及
び／又は第２テーブル６の変位によつてマスクを
上下方向に平行移動させることができる。以上の
動作は変位量α、βがあまり大きくなると確実に
保証されるものではないが、数ミクロン〜数百ミ
クロン程度の変位ならば実用上充分な程度にマス
ク１０を傾斜及び／又は平行移動させることがで
きるものである。
以上の実施例では第１テーブル２及び第２テー
ブル６が駆動装置の駆動棒の作用を受ける作用点
が中心点P1よりも上方に位置していることが理
解されよう。これは、基準平面と上記作用点との
間に駆動装置を収納する空間を形成できる点で有
利である。例えば、プロキシミテイ露光装置にお
いてステツプ・アンド・リピート方式の露光プロ
セスを実現しようとすると、露光のたびにウエハ
１１を移動させなければならない。そのため、マ
スク１０の姿勢制御用の駆動装置をウエハの移動
領域内に突出させることはできないから、該駆動
装置の配置に苦心することになる。露光装置の小
型化は急務であるから、基準平面と作用点との間
に形成された空間に駆動装置を収納できることは
非常に有効なことである。
ブル６が駆動装置の駆動棒の作用を受ける作用点
が中心点P1よりも上方に位置していることが理
解されよう。これは、基準平面と上記作用点との
間に駆動装置を収納する空間を形成できる点で有
利である。例えば、プロキシミテイ露光装置にお
いてステツプ・アンド・リピート方式の露光プロ
セスを実現しようとすると、露光のたびにウエハ
１１を移動させなければならない。そのため、マ
スク１０の姿勢制御用の駆動装置をウエハの移動
領域内に突出させることはできないから、該駆動
装置の配置に苦心することになる。露光装置の小
型化は急務であるから、基準平面と作用点との間
に形成された空間に駆動装置を収納できることは
非常に有効なことである。
以上の実施例において、バネ３，４は点P3の
両側に２個、またバネ７，８も点P4の両側に２
個設けられているがこれに限定されるものではな
い。例えば、第７図に示すようにバネの中心P2
を点P3又はP4と合致させて、つまり中心点P1に
対してバネ５、バネ９と対称な部位にそれぞれ１
個のバネ２５，２６を設けたものでもよい。ま
た、線分l1とl2の長さ、及び線分l3とl4の長さはそ
れぞれ等しく設定されていたが、これらは等しく
なくてもよい。そのときには第１テーブル２に関
しては点P3とP2-3の変位量、また第２テーブル６
に関しては点P4とP2-6の変位量をそれぞれ異なら
しめれば前述同様の作用が得られる。更に、駆動
装置は４組用意したが、変位量α又はβはその変
位方向が異なるもののその絶対量はそれぞれ等し
いから適当な手段をとれば２組の駆動装置でも充
分に変位量α又はβを発生することができる。ま
たその駆動源（モータ）の数は必要に応じて選択
すればよい。また、第１孔部M1、第２孔部M2等
はテーブルに穿設したものに限られるものではな
く、支持部材６ｃを囲むものであればよい。
両側に２個、またバネ７，８も点P4の両側に２
個設けられているがこれに限定されるものではな
い。例えば、第７図に示すようにバネの中心P2
を点P3又はP4と合致させて、つまり中心点P1に
対してバネ５、バネ９と対称な部位にそれぞれ１
個のバネ２５，２６を設けたものでもよい。ま
た、線分l1とl2の長さ、及び線分l3とl4の長さはそ
れぞれ等しく設定されていたが、これらは等しく
なくてもよい。そのときには第１テーブル２に関
しては点P3とP2-3の変位量、また第２テーブル６
に関しては点P4とP2-6の変位量をそれぞれ異なら
しめれば前述同様の作用が得られる。更に、駆動
装置は４組用意したが、変位量α又はβはその変
位方向が異なるもののその絶対量はそれぞれ等し
いから適当な手段をとれば２組の駆動装置でも充
分に変位量α又はβを発生することができる。ま
たその駆動源（モータ）の数は必要に応じて選択
すればよい。また、第１孔部M1、第２孔部M2等
はテーブルに穿設したものに限られるものではな
く、支持部材６ｃを囲むものであればよい。
（発明の効果）
以上のような本発明によれば第１テーブルと第
２テーブルの変位量を調節するだけで板状体の平
行移動々作と傾斜動作が達成できる。また板状体
の任意方向の傾斜に際してその中心点の横ずれは
実用上無視できるようになる。更に駆動装置の配
置空間も取れるようになる。従つて、プロキシミ
テイ露光装置等においてステツプ・アンド・リピ
ート露光を採用するのに有用な板状体の姿勢制御
装置が得られる。
２テーブルの変位量を調節するだけで板状体の平
行移動々作と傾斜動作が達成できる。また板状体
の任意方向の傾斜に際してその中心点の横ずれは
実用上無視できるようになる。更に駆動装置の配
置空間も取れるようになる。従つて、プロキシミ
テイ露光装置等においてステツプ・アンド・リピ
ート露光を採用するのに有用な板状体の姿勢制御
装置が得られる。
第１図は本発明による姿勢制御装置の実施例の
正面図、第２図は第１図のＸ−Ｘ断面図、第３図
は第１図のＹ−Ｙ断面図、第４図は第１図中にお
けるバネ３〜５，７〜９の実施例を示す説明図、
第５図は姿勢制御のための駆動装置を概略的に示
す図、第６図は本発明による姿勢制御装置の斜視
断面図、第７図は本発明による姿勢制御装置の別
の実施例の正面図。 １……支持テーブル、２……第１テーブル、３
〜５……バネ、６……第２テーブル、６ｃ……支
持台、７〜９……バネ、M1……第１孔部、M2…
…第２孔部、M3……貫通孔。
正面図、第２図は第１図のＸ−Ｘ断面図、第３図
は第１図のＹ−Ｙ断面図、第４図は第１図中にお
けるバネ３〜５，７〜９の実施例を示す説明図、
第５図は姿勢制御のための駆動装置を概略的に示
す図、第６図は本発明による姿勢制御装置の斜視
断面図、第７図は本発明による姿勢制御装置の別
の実施例の正面図。 １……支持テーブル、２……第１テーブル、３
〜５……バネ、６……第２テーブル、６ｃ……支
持台、７〜９……バネ、M1……第１孔部、M2…
…第２孔部、M3……貫通孔。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 所定の基準平面に対して板状体を任意の方向
に傾斜させることにより、該基準平面内に配置さ
れる板状体の姿勢を制御する装置において、 支持テーブル上に設けられ、前記基準平面内の
直交座標系の一方の座標軸に関して対向して配置
される少なくとも２つの第１ばね部材と； 該第１ばね部材を介して前記支持テーブル上に
支承される第１テーブルと； 前記支持テーブル上に設けられ、前記一方の座
標軸に関して互いに略対称となる前記第１テーブ
ルの少なくとも２ケ所を、前記直交座標系の原点
を中心とし、且つ前記一方の座標軸と略垂直な面
内に規定される円の接線方向に駆動して、前記第
１テーブルを前記原点を略中心として揺動する第
１駆動手段と； 前記第１テーブル上に設けられ、前記基準平面
内で前記一方の座標軸と交差する方向に関して対
向して配置される少なくとも２つの第２ばね部材
と； 前記板状体を保持すると共に、前記第２ばね部
材を介して前記第１テーブル上に支承される第２
テーブルと； 前記支持テーブル上に設けられ、前記一方の座
標軸と交差する方向に関して互いに略対称となる
前記第２テーブルの少なくとも２ケ所を、前記直
交座標系の原点を中心とし、且つ前記一方の座標
軸と交差する方向と略垂直な面内に規定される円
の接線方向に駆動して、前記第２テーブルを前記
原点を略中心として揺動する第２駆動手段とを備
え、 前記支持テーブルと第１テーブルとの対向面の
少なくとも一部に、前記一方の座標軸に向けて傾
斜する互いに平行なテーパ面を形成すると共に、
該テーパ面の間に前記第１ばね部材を固着して、
前記支持テーブルと第１テーブルとを所定の間隔
をあけた積層構造とし、且つ 前記第１テーブルと第２テーブルとの対向面の
少なくとも一部に、前記一方の座標軸と交差する
方向に向けて傾斜する互いに平行なテーパ面を形
成すると共に、該テーパ面の間に前記第２ばね部
材を固着して、前記第１テーブルと第２テーブル
とを所定の間隔をあけた積層構造としたことを特
徴とする板状体の姿勢制御装置。 ２ 前記第１ばね部材は、前記支持テーブルと第
１テーブルとの対向面に形成されるテーパ面と略
垂直な方向に弾性変形すると共に、前記テーパ面
と略垂直な方向に対して傾斜する方向に変形し、 前記第２ばね部材は、前記第１テーブルと第２
テーブルとの対向面に形成されるテーパ面と略垂
直な方向に弾性変形すると共に、前記テーパ面と
略垂直な方向に対して傾斜する方向に変形するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の板状
体の姿勢制御装置。 ３ 前記第１駆動手段は、前記支持テーブルに対
して前記第１テーブルを前記テーパ面と略垂直な
方向に押圧する部材を含み、 前記第２駆動手段は、前記第１テーブルに対し
て前記第２テーブルを前記テーパ面と略垂直な方
向に押圧する部材を含むことを特徴とする特許請
求の範囲第１項又は第２項記載の板状体の姿勢制
御装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58028336A JPS59154023A (ja) | 1983-02-22 | 1983-02-22 | 板状体の姿勢制御装置 |
| US06/581,049 US4537501A (en) | 1983-02-22 | 1984-02-17 | Apparatus for the attitude control of plate-form body |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58028336A JPS59154023A (ja) | 1983-02-22 | 1983-02-22 | 板状体の姿勢制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59154023A JPS59154023A (ja) | 1984-09-03 |
| JPH0430174B2 true JPH0430174B2 (ja) | 1992-05-21 |
Family
ID=12245763
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58028336A Granted JPS59154023A (ja) | 1983-02-22 | 1983-02-22 | 板状体の姿勢制御装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4537501A (ja) |
| JP (1) | JPS59154023A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63255916A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-24 | Nikon Corp | 投影光学装置 |
| JP2014053343A (ja) * | 2012-09-05 | 2014-03-20 | Toyota Motor Corp | 半導体位置決め装置、及び半導体位置決め方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3645622A (en) * | 1970-03-31 | 1972-02-29 | Ibm | Method and apparatus for aligning a photomask |
| FR2218805A5 (ja) * | 1973-02-16 | 1974-09-13 | Thomson Csf | |
| FR2330030A1 (fr) * | 1975-10-31 | 1977-05-27 | Thomson Csf | Nouvel appareil photorepeteur de masques de haute precision |
| US4093378A (en) * | 1976-11-01 | 1978-06-06 | International Business Machines Corporation | Alignment apparatus |
| US4189230A (en) * | 1977-10-26 | 1980-02-19 | Fujitsu Limited | Wafer holder with spring-loaded wafer-holding means |
| GB1588090A (en) * | 1978-05-16 | 1981-04-15 | Standard Telephones Cables Ltd | Mask alignment for semiconductor processing |
| FR2429447A1 (fr) * | 1978-06-23 | 1980-01-18 | Thomson Csf | Systeme optique de projection muni d'un positionneur de plaque |
| US4345836A (en) * | 1979-10-22 | 1982-08-24 | Optimetrix Corporation | Two-stage wafer prealignment system for an optical alignment and exposure machine |
| JPS5825637A (ja) * | 1981-08-08 | 1983-02-15 | Canon Inc | 投影焼付装置 |
| JPS5885338U (ja) * | 1981-12-07 | 1983-06-09 | 株式会社日立製作所 | 自動焦点装置 |
| US4441808A (en) * | 1982-11-15 | 1984-04-10 | Tre Semiconductor Equipment Corp. | Focusing device for photo-exposure system |
-
1983
- 1983-02-22 JP JP58028336A patent/JPS59154023A/ja active Granted
-
1984
- 1984-02-17 US US06/581,049 patent/US4537501A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4537501A (en) | 1985-08-27 |
| JPS59154023A (ja) | 1984-09-03 |
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