JPH01172796A - 微動ステージ - Google Patents
微動ステージInfo
- Publication number
- JPH01172796A JPH01172796A JP62332827A JP33282787A JPH01172796A JP H01172796 A JPH01172796 A JP H01172796A JP 62332827 A JP62332827 A JP 62332827A JP 33282787 A JP33282787 A JP 33282787A JP H01172796 A JPH01172796 A JP H01172796A
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- JP
- Japan
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- clamp
- optical axis
- chuck plate
- actuator
- voltage
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- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 19
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 241001026509 Kata Species 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、半導体生産用露光装置に係り、特に、半導体
ウェハー等が載置されるテーブルの姿勢を高精度に調節
するための微動ステージに関する。
ウェハー等が載置されるテーブルの姿勢を高精度に調節
するための微動ステージに関する。
〈従来の技術〉
近年、半導体集積回路の微細化に伴い、高精度の露光装
置が要求されている。この装置に不可欠のものが高精度
のテーブル姿勢倣調機横である。
置が要求されている。この装置に不可欠のものが高精度
のテーブル姿勢倣調機横である。
ところで、通常の露光装置の場合、光入射方向が垂直下
向きであるため、ウェハーが載置されるテーブルはその
表面が水平に構成される。従って、位置決め、移動の際
、テーブル自重が作用し、いわゆるガタが抑圧されるか
ら、安定した姿勢で位置調節ができる。また、光軸廻り
の回転調節機構、及びテーブル傾斜の調節機構もそれぞ
れ簡単な構成のものが用いられている。例えば、第３図
に一般的なテーブル傾斜調節装置を掲げる。第３図に示
したテーブル傾斜調節装置は立体的に均等に分布して配
置された三明の板バネ３１を介してフレーム３２に支持
されたウェハーチャック３０を有し、フレーム３２上に
は、更に、ウェハーチャック３０を局部的に昇降させる
ための偏心カム３４とＤＣモータ３３とが三組配設され
ている。
向きであるため、ウェハーが載置されるテーブルはその
表面が水平に構成される。従って、位置決め、移動の際
、テーブル自重が作用し、いわゆるガタが抑圧されるか
ら、安定した姿勢で位置調節ができる。また、光軸廻り
の回転調節機構、及びテーブル傾斜の調節機構もそれぞ
れ簡単な構成のものが用いられている。例えば、第３図
に一般的なテーブル傾斜調節装置を掲げる。第３図に示
したテーブル傾斜調節装置は立体的に均等に分布して配
置された三明の板バネ３１を介してフレーム３２に支持
されたウェハーチャック３０を有し、フレーム３２上に
は、更に、ウェハーチャック３０を局部的に昇降させる
ための偏心カム３４とＤＣモータ３３とが三組配設され
ている。
〈発明が解決しようとする問題点〉
しかしながら、近年注目を集めているＳ、’−ＯＲｉｔ
光装置においては、ＳＯＲ光が水平方向に放射されるか
ら、テーブルは鉛直に、即ち重力方向に平行に配置しな
ければならない、このように鉛直に配置されたテーブル
には、位置決め移動の際に位ｆｆ ：ＪＪｆｆｉ方向に
テーブル自重が作用しないから、従来のテーブル姿勢微
調機構を用いると、ガタ、振動の影響をうける。これを
防止するためには、高精度のガタ防止ａｍとガイド機構
を付加する必要がある。更に微動ステージは全体がＸＹ
ステージに取付けられて、ＸＹ面内で高速に移動し、高
精度に位置決めされるので、微動ステージは極力軽量・
小型にする必要がある。
光装置においては、ＳＯＲ光が水平方向に放射されるか
ら、テーブルは鉛直に、即ち重力方向に平行に配置しな
ければならない、このように鉛直に配置されたテーブル
には、位置決め移動の際に位ｆｆ ：ＪＪｆｆｉ方向に
テーブル自重が作用しないから、従来のテーブル姿勢微
調機構を用いると、ガタ、振動の影響をうける。これを
防止するためには、高精度のガタ防止ａｍとガイド機構
を付加する必要がある。更に微動ステージは全体がＸＹ
ステージに取付けられて、ＸＹ面内で高速に移動し、高
精度に位置決めされるので、微動ステージは極力軽量・
小型にする必要がある。
そこで、本発明の目的は、上記問題点に掌み、ＳＯＲ露
光装置にも適用できる小型軽量、かつ高精度のテーブル
姿勢微調機構を備えた微動ステージを提供することであ
る。
光装置にも適用できる小型軽量、かつ高精度のテーブル
姿勢微調機構を備えた微動ステージを提供することであ
る。
く問題点を解決するための手段〉
本発明によれば、１端面を′ウェハ等を装着するための
平坦面とするチャック板部材と、該チャック板部材の周
囲に等角度間隔で配置し、協働してチャック板部材を周
囲よりクランプする複数のクランプ部材と、水平方向へ
の光軸に平行な摺動面に沿って前記クランプ部材を個別
的に摺動支持するフレーム部材とによりなり、該フレー
ム部材と前記クランプ部材との間にはクランプ部材を個
別に光軸方向に移動させる移ｇｊＪ調整手段が設けられ
ていることを特徴とする微動ステージが得られるる。
平坦面とするチャック板部材と、該チャック板部材の周
囲に等角度間隔で配置し、協働してチャック板部材を周
囲よりクランプする複数のクランプ部材と、水平方向へ
の光軸に平行な摺動面に沿って前記クランプ部材を個別
的に摺動支持するフレーム部材とによりなり、該フレー
ム部材と前記クランプ部材との間にはクランプ部材を個
別に光軸方向に移動させる移ｇｊＪ調整手段が設けられ
ていることを特徴とする微動ステージが得られるる。
即ち、より具体的には、互いに対向する両端面を有し当
該一端面をウェハ（１）等を搭載するための平坦面とす
るチャック板部材（２）と、該チャック板部材（２）の
ａ端面に対向する底面部１０（ａ）と該底面部１０（ａ
）の周縁より延在して前記他端面側にｕｎ口面を形成す
る周壁ｇ１０（ｂ）とを有するフレーム部材１０と、該
フレーム部材１０の周壁部１０（ｂ）と対向する周面を
有し前記底面部１０（ａ）及び周壁部１０（ｂ）とｗ１
間して前記他端面に接続してなる支持部材３と、該支持
部材３の周面（４）に枢着する枢着部１２（ｂ）と前記
周面部１０ （ｂ）に沿って前記平坦面と垂直方向にス
ライドするスライダ部１２（、ｄ ）とを各々有する複
数のクランプ部材１２と、該複数のクランプ部材１２の
各々の枢着部１２（ｂ）とスライダ部１２（ｄ）との間
に位置し当該各々の枢着部１２（ｂ）を介して前記支持
部材１２を前記平坦面と平行方向に互いに共面して押圧
する任意に設けられる複数の第１の移動調整手段８と、
前記複数のクランプ部材１２各々と前記フレーム部材１
０の底面部１０（ａ）との間に位置し、当該各々のクラ
ンプ部材１２を介して前記支持部材１２を前記平坦面と
直交方向に互いに共働して押圧する複数の第２の移動Ｆ
Ｊ整手段６とを有することを特徴とする微動ステージが
得られる。
該一端面をウェハ（１）等を搭載するための平坦面とす
るチャック板部材（２）と、該チャック板部材（２）の
ａ端面に対向する底面部１０（ａ）と該底面部１０（ａ
）の周縁より延在して前記他端面側にｕｎ口面を形成す
る周壁ｇ１０（ｂ）とを有するフレーム部材１０と、該
フレーム部材１０の周壁部１０（ｂ）と対向する周面を
有し前記底面部１０（ａ）及び周壁部１０（ｂ）とｗ１
間して前記他端面に接続してなる支持部材３と、該支持
部材３の周面（４）に枢着する枢着部１２（ｂ）と前記
周面部１０ （ｂ）に沿って前記平坦面と垂直方向にス
ライドするスライダ部１２（、ｄ ）とを各々有する複
数のクランプ部材１２と、該複数のクランプ部材１２の
各々の枢着部１２（ｂ）とスライダ部１２（ｄ）との間
に位置し当該各々の枢着部１２（ｂ）を介して前記支持
部材１２を前記平坦面と平行方向に互いに共面して押圧
する任意に設けられる複数の第１の移動調整手段８と、
前記複数のクランプ部材１２各々と前記フレーム部材１
０の底面部１０（ａ）との間に位置し、当該各々のクラ
ンプ部材１２を介して前記支持部材１２を前記平坦面と
直交方向に互いに共働して押圧する複数の第２の移動Ｆ
Ｊ整手段６とを有することを特徴とする微動ステージが
得られる。
また、前記フレーム部材１０は、前記複数のクランプ部
材１２の各々に対応して互いに離間して配置され、前記
底面部１０（ａ）を突出部とする複数のブラケット状の
フレーム部材１０゛でも良い。
材１２の各々に対応して互いに離間して配置され、前記
底面部１０（ａ）を突出部とする複数のブラケット状の
フレーム部材１０゛でも良い。
〈実施例〉
以下、本発明に係る微動ステージの一実施例を図面を参
照して説明する。
照して説明する。
第１図及び第２図を参照すると、本実施例に係る微動ス
テージはウェハー１を載置する高平面度の平坦面を皓え
たチャック板２を有している。ここで、チャック板２は
５ＯＦ（光の光軸と実質上直交するように配置され、ウ
ェハーｌはチャック板２に真空吸着により吸着されてい
る。チャック板２の裏面には、チャック板支持体３が固
定されている。チャック板支持体３の形状は、例えば円
筒状であり、側面部には、その外周を角度的に三等分し
た位置に四部が形成され、四部４には１＆述する鋼球が
収容される。チャック板支持体３とチャック板２とは一
体化したものでも、あるいは個々に製作後、７体化した
ものとしても良い。
テージはウェハー１を載置する高平面度の平坦面を皓え
たチャック板２を有している。ここで、チャック板２は
５ＯＦ（光の光軸と実質上直交するように配置され、ウ
ェハーｌはチャック板２に真空吸着により吸着されてい
る。チャック板２の裏面には、チャック板支持体３が固
定されている。チャック板支持体３の形状は、例えば円
筒状であり、側面部には、その外周を角度的に三等分し
た位置に四部が形成され、四部４には１＆述する鋼球が
収容される。チャック板支持体３とチャック板２とは一
体化したものでも、あるいは個々に製作後、７体化した
ものとしても良い。
本実施例に係る微動ステージは、前記チャック板支持体
３を支持し、且つ、光軸方向に移動可能に構成された三
個のクランプ装置５を有している。
３を支持し、且つ、光軸方向に移動可能に構成された三
個のクランプ装置５を有している。
詳しく云えば、クランプ装置５は、ρ１えば一端を開放
された円筒状フレーム１０を有し、第２図に示すように
、その内周を角度的に三等分した位置に各々リニアガイ
ドのレール１１とスライダ１２（ｄ）が光軸と平行にな
るように配置されている。光軸方向に滑動できるように
、クランプ台１２がリニアガイド１１及び１２（ｄ）に
よって案内されている。クランプ台１２は、例えば第１
図及び第２図に示すように、互いに平行な部材１２ （
ａ ）及び１２（ｂ）（ここでは、上底板と下底板と呼
ぶ）と、両部材の一端を結合するブリッジ部１２（Ｃ）
とを有し、その上底部外面１２（ａ）は、前記リニアガ
イドのスライダ１２（ｄ）に取付られる。また、下底部
外面１２（ｅ）には、Ｍ球１５を把持するためのくぼみ
部１３が形成され、下底部内面１２ （ｆ）には下底部
１２（ｂ）の微動の際の支点となる切欠き部１４が形成
されている。
された円筒状フレーム１０を有し、第２図に示すように
、その内周を角度的に三等分した位置に各々リニアガイ
ドのレール１１とスライダ１２（ｄ）が光軸と平行にな
るように配置されている。光軸方向に滑動できるように
、クランプ台１２がリニアガイド１１及び１２（ｄ）に
よって案内されている。クランプ台１２は、例えば第１
図及び第２図に示すように、互いに平行な部材１２ （
ａ ）及び１２（ｂ）（ここでは、上底板と下底板と呼
ぶ）と、両部材の一端を結合するブリッジ部１２（Ｃ）
とを有し、その上底部外面１２（ａ）は、前記リニアガ
イドのスライダ１２（ｄ）に取付られる。また、下底部
外面１２（ｅ）には、Ｍ球１５を把持するためのくぼみ
部１３が形成され、下底部内面１２ （ｆ）には下底部
１２（ｂ）の微動の際の支点となる切欠き部１４が形成
されている。
更に、クランプ台の平行部材１２（ａ）及び１２（ｂ）
の開放端側には、クランプ台下底部１２（ｂ）に光軸と
直交する方向の押圧力を付与する第１のアクチュエータ
８と、押圧力を検出するロードセル１６と、第１のアク
チュエータ８に与圧を付与するバネ９が配設され、また
、ブリッジ部１２（ｃ）の外側面１２（ｇ）とフレーム
内底面１０（ａ）との間隙には、クランプ台１２に光軸
方向の位置決めを行う第２のアクチュエータ６と、第２
のアクチュエータ６に与圧を１ｆ与するバネ７が配設さ
れている。第１及び第２のアクチュエータとしては所定
の電圧を印加することにより、その形状（長さ）が変位
する圧電素子が用いられる。
の開放端側には、クランプ台下底部１２（ｂ）に光軸と
直交する方向の押圧力を付与する第１のアクチュエータ
８と、押圧力を検出するロードセル１６と、第１のアク
チュエータ８に与圧を付与するバネ９が配設され、また
、ブリッジ部１２（ｃ）の外側面１２（ｇ）とフレーム
内底面１０（ａ）との間隙には、クランプ台１２に光軸
方向の位置決めを行う第２のアクチュエータ６と、第２
のアクチュエータ６に与圧を１ｆ与するバネ７が配設さ
れている。第１及び第２のアクチュエータとしては所定
の電圧を印加することにより、その形状（長さ）が変位
する圧電素子が用いられる。
第１図及び第２図に示すように３個のクランプ装置５は
、各々の第１のアクチュエータ８の押圧力の方向が、チ
ャック板支持体３の光軸方向の中心線上に向かうように
配置されている。
、各々の第１のアクチュエータ８の押圧力の方向が、チ
ャック板支持体３の光軸方向の中心線上に向かうように
配置されている。
次に、上記構成に基づいて、本実施例に係る微動ステー
ジの作用を説明する。
ジの作用を説明する。
まず、各々のクランプ装置のクランプ力が各ロードセル
１６により検出され、この値が所定の値になるように第
１のアクチュエータ８に加えられる電圧が制御される。
１６により検出され、この値が所定の値になるように第
１のアクチュエータ８に加えられる電圧が制御される。
発生した押圧力は、鋼球１５を介してチャック板支持体
３に伝達される。
３に伝達される。
この構成では、チャック板支持体３に対し、角度的に等
間隔に配置された鋼球１５によって３方向から挟持され
かつ、押圧力が最適値に常に制御されるので剛性が高く
かつ安定しており、カタが押圧される。
間隔に配置された鋼球１５によって３方向から挟持され
かつ、押圧力が最適値に常に制御されるので剛性が高く
かつ安定しており、カタが押圧される。
更に、第２のアクチュエータ６に電圧を印加すれば、同
様に、圧電効果によって、クランプ台外側面ｔ２（ｇ）
とフレーム内底面１０（ａ）との間隔が変位する。この
変位量が光軸方向の変位量となるから、鋼球１５を介し
てチャック板支持体３の位置を光軸方向に変位させるこ
とが可能である。各々の第２のアクチュエータに印加す
る電圧を異なった値にすれは変位量を個々に変化させる
ことかできるから、チャック板支持体３に傾斜をもたせ
ることができる。従って、ウェハ１の傾斜修正も第２の
アクチュエータに印加する電圧値を制御することによっ
て容易に行なうことができる。
様に、圧電効果によって、クランプ台外側面ｔ２（ｇ）
とフレーム内底面１０（ａ）との間隔が変位する。この
変位量が光軸方向の変位量となるから、鋼球１５を介し
てチャック板支持体３の位置を光軸方向に変位させるこ
とが可能である。各々の第２のアクチュエータに印加す
る電圧を異なった値にすれは変位量を個々に変化させる
ことかできるから、チャック板支持体３に傾斜をもたせ
ることができる。従って、ウェハ１の傾斜修正も第２の
アクチュエータに印加する電圧値を制御することによっ
て容易に行なうことができる。
尚、本実施例に係る微動ステージはチャック板体の表面
傾斜角度を任意に選択することができる。
傾斜角度を任意に選択することができる。
なお、本実施ρ１では、アクチュエータ８により加える
押圧力が一定になる様に制御したが、最低の押圧力を確
保した状態で３ケ所のアクチュエータ８の変位を共同し
て制御することにより光軸と直交する平面上において任
意の方向にチャック板支持体３の微少位置の調整が可能
となる。従って、振動等によってウェハ１の位置が基に
す二位置からずれた場合の修正が第１のアクチュエータ
８に印加する電圧の制御により行うことも可能である。
押圧力が一定になる様に制御したが、最低の押圧力を確
保した状態で３ケ所のアクチュエータ８の変位を共同し
て制御することにより光軸と直交する平面上において任
意の方向にチャック板支持体３の微少位置の調整が可能
となる。従って、振動等によってウェハ１の位置が基に
す二位置からずれた場合の修正が第１のアクチュエータ
８に印加する電圧の制御により行うことも可能である。
また、前記実施例では、有底部状のフレーム部材１０と
したが、第４図の如く１分雛されたブラケット状のフレ
ーム部材１０−を用いてもよい。
したが、第４図の如く１分雛されたブラケット状のフレ
ーム部材１０−を用いてもよい。
更に、レール１１によりブラケット１１Ａを大股し、第
２のアクチュエータ６をこのブラケット１１Ａとクラン
プ部材１２との間に設りても良い。
２のアクチュエータ６をこのブラケット１１Ａとクラン
プ部材１２との間に設りても良い。
く効果〉
以上の説明のとおり１本発明によれば、ＳＯＲ露光装置
に適した縦型ステージにして使用することができ、高精
度、かつ小型軽量のテーブル姿勢を微調整できる微動ス
テージ得られる。
に適した縦型ステージにして使用することができ、高精
度、かつ小型軽量のテーブル姿勢を微調整できる微動ス
テージ得られる。
第１図は本発明の実施例に係る微動ステージの側面図、
第２図は同正面図、第３図は従来のテーブル姿勢調節装
置の構成図の一例をそれぞれ示している図、第４図は本
発明のなの実施例に係わる微動ステージの側面図である
。 図中、 １：ウェハ、２：チャック板、３：チャック板支持体、
４，１３：＜ぼみ体、５：クランプ装置、６．８＝アク
チユエータ、７．９＝バネ、１０：フレーム。 第１図 ＸＹステージ 第２図 第３図 第４図 ｘＹステージ
第２図は同正面図、第３図は従来のテーブル姿勢調節装
置の構成図の一例をそれぞれ示している図、第４図は本
発明のなの実施例に係わる微動ステージの側面図である
。 図中、 １：ウェハ、２：チャック板、３：チャック板支持体、
４，１３：＜ぼみ体、５：クランプ装置、６．８＝アク
チユエータ、７．９＝バネ、１０：フレーム。 第１図 ＸＹステージ 第２図 第３図 第４図 ｘＹステージ
Claims (1)
- １、１端面をウェハ等を装着するための平坦面とするチ
ャック板部材と、該チャック板部材の周囲に等角度間隔
で配置し、協働してチャック板部材を周囲よりクランプ
する複数のクランプ部材と、水平方向への光軸に平行な
摺動面に沿って前記クランプ部材を個別的に摺動支持す
るフレーム部材とによりなり、該フレーム部材と前記ク
ランプ部材との間にはクランプ部材を個別に光軸方向に
移動させる移動調整手段が設けられていることを特徴と
する微動ステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62332827A JPH01172796A (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 微動ステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62332827A JPH01172796A (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 微動ステージ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01172796A true JPH01172796A (ja) | 1989-07-07 |
Family
ID=18259245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62332827A Pending JPH01172796A (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 微動ステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01172796A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015521369A (ja) * | 2012-04-27 | 2015-07-27 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ装置 |
-
1987
- 1987-12-28 JP JP62332827A patent/JPH01172796A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015521369A (ja) * | 2012-04-27 | 2015-07-27 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ装置 |
| JP2017083911A (ja) * | 2012-04-27 | 2017-05-18 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ装置 |
| US9946168B2 (en) | 2012-04-27 | 2018-04-17 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
| JP2018092199A (ja) * | 2012-04-27 | 2018-06-14 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ装置 |
| US10234774B2 (en) | 2012-04-27 | 2019-03-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
| US10663872B2 (en) | 2012-04-27 | 2020-05-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
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