DE4007069A1 - Verfahren und vorrichtung zur optischen abbildung - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zur optischen abbildungInfo
- Publication number
- DE4007069A1 DE4007069A1 DE4007069A DE4007069A DE4007069A1 DE 4007069 A1 DE4007069 A1 DE 4007069A1 DE 4007069 A DE4007069 A DE 4007069A DE 4007069 A DE4007069 A DE 4007069A DE 4007069 A1 DE4007069 A1 DE 4007069A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- lens
- illuminating
- image
- pattern
- imaging lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft Verbesserungen in Verfahren
und Vorrichtungen zur optischen Abbildung, beispielsweise
zur Verwendung in Verkleinerungsprojektionsausrichtgeräten
oder anderen optischen Abbildungsgeräten, wobei ein
Projektionsmuster einer Musterquelle auf ein belichtetes
Material, z. B. mit Hilfe von Beleuchtungslicht von einer
Lichtquelle, projiziert wird.
Bislang wurde üblicherweise für Lithographiemusterdruck
ein Mustergenerator mit variabler Apertur verwendet,
der ein nicht rechtwinkliges Muster auf ein Belichtungsmaterial
druckte. Solche bekannten Mustergeneratoren
liefern ein rechtwinkliges Muster, das normalerweise
von zwei Paaren sich gegenüberliegender Blendenflügel vorgesehen
wird, wobei beide Paare gemeinsam eine Vorrichtung
zur Definition einer variablen Apertur bilden. Ein
solcher Mustergenerator projiziert das rechtwinklige
Muster schrittweise und wiederholt nach Art eines Kopier-
und Repetiervorgangs durch ein optisches Linsensystem auf
ein belichtetes Material, um auf diese Weise ein wahlweise
exponiertes Muster in Form eines geeigneten Kreises, eines
geeigneten Dreiecks, Quadrates oder anderen Formen zu
erzeugen.
Bekannte Musterlithographien mit solchen Mustergeneratoren
beinhalten das Problem, daß sie eine große Druckzeit
erfordern, da eine Anordnung rechtwinkliger Muster
ein vorbestimmtes Expositionsmuster liefert, ein einziger
Belichtungsvorgang kein wahlfreies Muster auf dem Belichtungsmaterial
erzeugen kann und die Dimensionierungen
jedes rechtwinkligen Musters angewiesen werden müssen sowie
auch das belichtete Material zweidimensional bewegt
werden muß, um das jeweils gewählte Muster zu erzeugen.
Um diese Probleme zu lösen, hat die
Anmelderin eine Vorrichtung zur Definition einer variablen
Apertur vorgeschlagen, die zumindest ein Paar zwei
sich gegenüberliegender Blendenflügel oder Abdeckblenden
umfaßt, die jeweils relativ zueinander bewegbar sind, wobei
zumindest eine der beiden sich gegenüberliegenden
Blendenflügel einen V-förmigen Schlitz bzw. eine entsprechende
Aussparung aufweist, so daß ein wahlfreies
polygonales Muster erzeugt werden kann (japanische
Gebrauchsmusteranmeldung Nr. SHO 36-42 799). In dieser
Auslegung besteht jedoch noch ein Problem darin, daß
diese Vorrichtung zur Definition einer variablen Apertur
zwar ein angenähert kreisförmiges Muster erzeugen kann,
jedoch kein vollständig kreisförmiges Muster erzeugen
kann und die Dimensionen des polygonalen Musters zwar
schrittweise, jedoch nicht stufenlos geändert werden
können. Die ungeprüfte japanische Patentanmeldung Nr.
SHO 61-2 20 895 beschreibt ebenfalls einen optischen
Drucker zum Zeichnen eines geeigneten Kreises, wobei
dieser Kreis mittels zwei Paaren von Blendenflügeln erzeugt
wird, die jeweils einen Schlitz oder eine Aussparung
aufweisen. Auch dieser bekannte Drucker oder Plotter
beinhaltet die Problematik der obengenannten Gebrauchsmusteranmeldung.
Die Anmelderin schlug daraufhin ein
Musterdruckverfahren und eine entsprechende vorrichtung
vor, in der ein Musterbild der die Apertur definierenden
Vorrichtung nicht mechanisch geändert wurde, sondern die
Vergrößerung eines Musterbildes optisch geändert wurde
(japanische Patentanmeldung Nr. SHO 63-24 629). Die Lehre
dieser Anmeldung besteht darin, daß Beleuchtungslicht von
einer Lichtquelle auf eine Musterquelle projiziert wird,
ein optisches Linsensystem das resultierende Projektionsbild
der Musterquelle auf einem belichteten Material
hervorruft, daß zumindest die Musterquelle oder das belichtete
Material oder beide entlang einer optischen
Achse bewegt wird bzw. werden oder daß zwischen der
Musterquelle und dem optischen Linsensystem eine Vergrößerungskorrekturlinse
vorgesehen wird, wobei entweder
die Musterquelle oder die Vergrößerungskorrekturlinse
oder beide auf der optischen Achse bewegt werden
und daraufhin die Musterquelle und die Vergrößerungskorrekturlinse
bewegt werden, während ihre Bewegungspositionen
so beibehalten werden, daß die Abbildungsposition
der Vergrößerungskorrekturlinse mit einer vorbestimmten
Position zusammenfällt, wodurch die Vergrößerung
des projizierten Musters auf dem belichteten Material
stufenlos geändert wird.
In diesem früheren Druckverfahren bzw. in der entsprechenden
Vorrichtung der obigen japanischen Patentanmeldung
besteht jedoch ein Problem darin, daß die
Vergrößerung zwischen dem Projektionsmuster der Musterquelle
und einem diesem ähnlichen projizierten Muster,
das auf dem belichteten Material hervorgerufen wird,
wahlfrei geändert werden kann, während jede der einzelnen
Komponenten, die Musterquelle, das belichtete Material
und die Vergrößerungskorrekturlinse entlang der
optischen Achse bewegt werden müssen, um die Vergrößerung
zu ändern, und während, da die Abbildungsposition des
projizierten Musters, das auf dem belichteten Material
hervorgerufen wird, durch jede Bewegung verschoben wird,
eine entsprechende Verschiebung kompensiert werden muß,
so daß eine Einstellung zur Änderung der Vergrößerung
kompliziert ist und die Auflösung des auf dem belichteten
Material projizierten Musters herabgesetzt ist.
Vor dem Hintergrund der oben aufgezeigten Schwierigkeiten
wurde die Erfindung gemacht.
Ihre Aufgabe besteht
darin, ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zur optischen
Abbildung anzugeben, bei denen die Vergrößerung eines
Musterbildes geändert werden kann, während ein Öffnungsverhältnis
eines Lichtquellenbildes, das an der Eintrittspupillenlage
einer Projektionslinse hervorgerufen wird,
in einen zulässigen Bereich fällt. Im Verfahren
und der Vorrichtung werden mehrere Linsen auf der optischen
Achse zur Ausbildung eines optischen Systems gemeinsam
angeordnet, wobei ein Paar von Linsen des optischen
Systems eine Musterquelle sandwichartig zwischen
sich einschließen und die Musterquelle und dieses
Linsenpaar relativ zueinander so bewegt werden, daß der
Abstand zwischen dem Linsenpaar unverändert bleibt.
Zur Lösung der Aufgabe wird durch die Erfindung
einerseits ein Verfahren zur optischen Abbildung vorgeschlagen,
bei dem Beleuchtungslicht von einer Lichtquelle
(irgendeiner Beleuchtungslicht erzeugenden Vorrichtung,
einem Illuminant) auf ein Belichtungsmaterial
mit Hilfe eines optischen Systems übertragen wird, das
zumindest eine Musterquelle mit einem Projektionsmuster
und eine Projektionslinse umfaßt, die dem Belichtungsmaterial
gegenüberliegt und dazu dient, das Projektionsmuster
auf das Belichtungsmaterial zu projizieren. Das
optische Linsensystem weist eine Anordnung auf, in der
eine erste Beleuchtungslinse,, eine zweite Beleuchtungslinse,
die Musterquelle, eine erste Abbildungslinse und
eine zweite Abbildungslinse in dieser Reihenfolge auf
einer optischen Achse angeordnet sind. Die erste Beleuchtungslinse
erzeugt ein erstes Beleuchtungslichtbild
(Abbildung der Lichtquelle) außerhalb des bildraumseitigen
Brennpunktes der ersten Abbildungslinse. Die zweite
Beleuchtungslinse erzeugt ein zweites Beleuchtungslichtbild
vom ersten Beleuchtungslichtbild außerhalb des
objekt- oder gegenstandsseitigen Brennpunktes der ersten
Abbildungslinse, die erste Abbildungslinse erzeugt ein
drittes Beleuchtungslichtbild vom zweiten Beleuchtungslichtbild
mit derselben Vergrößerung wie der des ersten
Beleuchtungslichtbildes auf diesem ersten Beleuchtungslichtbild
außerhalb des bildseitigen Brennpunktes der
ersten Abbildungslinse und erzeugt darüber hinaus ein
erstes Musterbild von der Musterquelle. Die zweite Abbildungslinse
erzeugt ein viertes Bleuchtungslichtbild
vom dritten Beleuchtungslichtbild an einer zulässigen
Eintrittspupillenposition der Projektionslinse und
erzeugt darüber hinaus ein zweites Musterbild vom ersten
Musterbild innerhalb einer zulässigen objektraumseitigen
Brennweite der Projektionslinse. Ein von der zweiten
Beleuchtungslinse und der ersten Abbildungslinse gebildetes
Paar und die Musterquelle werden relativ zueinander
derart verschoben, daß die Distanz zwischen
der zweiten Beleuchtungslinse und der ersten Abbildungslinse
dabei festbleibt, wodurch die Vergrößerung des
zweiten Musterbildes derart wahlfrei festlegbar ist, daß
das zweite Musterbild innerhalb der zulässigen objektraumseitigen
Brennweite der Projektionslinse auftritt
und das vierte Bleuchtungslichtbild auf die Eintrittspupillenposition
oder innerhalb eines entsprechenden
Eintrittspupillentoleranzbereiches der Projektionslinse
fällt.
Gemäß der erfindungsgemäßen Vorrichtung nach Anspruch 2
wird eine Vorrichtung zur optischen Abbildung
angegeben, in der Beleuchtungslicht von einer Lichtquelle
(einem Illuminant) auf ein zu belichtendes Material
mit Hilfe eines optischen Systems übertragen
wird, das zumindest eine Musterquelle mit einem Projektionsmuster
und eine Projektionslinse umfaßt, die dem
Belichtungsmaterial gegenüberliegend angeordnet ist und
dazu dient, das Projektionsmuster auf das Belichtungsmaterial
abzubilden, wobei das optische System umfaßt:
eine erste Beleuchtungslinse, die ein erstes Beleuchtungslichtbild
von dieser Lichtquelle außerhalb des
bildraumseitigen Brennpunktes der ersten Beleuchtungslinse
erzeugt; eine zweite Beleuchtungslinse, die ein
zweites Beleuchtungslichtbild von diesem ersten Beleuchtungslichtbild
innerhalb des bildseitigen Brennpunktes
des zweiten Beleuchtungslichtbildes erzeugt,
so daß das erste Beleuchtungslichtbild hierbei als virtuelles
Bild aufgenommen wird; eine erste Abbildungslinse
erzeugt ein erstes Musterbild vom Projektionsmuster
der Musterquelle, die innerhalb des bildseitigen
Brennpunktes der zweiten Beleuchtungslinse
angeordnet ist, außerhalb des bildseitigen Brennpunktes
der ersten Abbildungslinse und erzeugt darüber hinaus
ein drittes Beleuchtungslichtbild vom zweiten Beleuchtungslichtbild
mit derselben Vergrößerung wie der des
ersten Beleuchtungslichtbildes auf dem ersten Beleuchtungslichtbild;
und eine zweite Abbildungslinse, der
das erste Musterbild und das dritte Beleuchtungslichtbild,
die von der ersten Abbildungslinse erzeugt werden,
außerhalb des objektraumseitigen Brennpunktes
dieser zweiten Abbildungslinse angeboten werden, erzeugt
(bildet ab) das erste Musterbild innerhalb einer
zulässigen objektraumseitigen Brennweite der Projektionslinse
und erzeugt ein viertes Beleuchtungslichtbild
vom dritten Beleuchtungslichtbild an einer zulässigen
Eintrittspupillenposition oder -lage der Projektionslinse,
wobei die erste Beleuchtungslinse, zweite
Beleuchtungslinse, erste Abbildungslinse und zweite
Abbildungslinse aufeinanderfolgend auf der optischen
Achse angeordnet sind und wobei ein aus der zweiten
Beleuchtungslinse und der ersten Beleuchtungslinse gebildetes
Paar und die Musterquelle relativ zueinander
derart bewegbar sind, daß die Distanz zwischen der
zweiten Beleuchtungslinse und ersten Abbildungslinse
bei dieser Bewegung festbleibt.
Gemäß Anspruch 3 wird in einer Weiterbildung eine
Vorrichtung angegeben, bei der die Distanz zwischen der
zweiten Beleuchtungslinse und ersten Abbildungslinse
kleiner als die Gesamtheit oder Summe der Brennweiten
der zweiten Beleuchtungslinse und ersten Abbildungslinse
ist, so daß die Musterquelle und das zweite Beleuchtungslichtbild
innerhalb des bildseitigen Brennpunktes der
zweiten Beleuchtungslinse außerhalb des objektseitigen
Brennpunktes der ersten Abbildungslinse liegen.
Entsprechend dem erfindungsgemäßen Verfahren und
der Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2 ändert
ein Bewegen des Paares aus der zweiten Beleuchtungslinse
und der ersten Abbildungslinse und der Musterquelle
relativ zueinander die Vergrößerung des zweiten Musterbildes,
das an einem Punkt außerhalb des bildseitigen
Brennpunktes der zweiten Abbildungslinse erzeugt wird.
In diesem Fall kann eine Verschiebung des zweiten Musterbildes,
die begleitend zur Änderung der Vergrößerung
des zweiten Musterbildes auftritt, innerhalb des zulässigen
Bereiches des objektseitigen Brennpunktes der
Projektionslinse fallen. Ferner kann eine Verschiebung
des vierten Beleuchtungslichtbildes von der Lichtquelle,
welches an der Eintrittspupillenposition der Projektionslinse
erzeugt werden soll, in einen zulässigen
Toleranzbereich um diese Eintrittspupillenlage fallen,
und ein Öffnungsverhältnis des vierten Beleuchtungslichtbildes
kann in einen zulässigen Toleranzbereich
fallen, so daß eine einfache Relativbewegung zwischen
dem Paar aus der zweiten Beleuchtungslinse und ersten
Abbildungslinse und der Musterquelle die Vergrößerung
des zweiten Musterbildes ändern kann, ohne daß die Notwendigkeit
für eine Korrektur der Distanz zwischen der
zweiten Abbildungslinse und der Projektionslinse besteht.
Die Vorrichtung nach Anspruch 3 erzeugt das zweite
Beleuchtungslichtbild unter Aufnahme des ersten Beleuchtungslichtbildes,
das als erstes Beleuchtungslichtbild
mit der ersten Beleuchtungslinse erzeugt worden ist, als
virtuelles Bild außerhalb des objektseitigen Brennpunktes
der ersten Abbildungslinse und erzeugt das
dritte Beleuchtungsbild vom zweiten Beleuchtungsbild
mittels der ersten Abbildungslinse an der Position
des ersten Beleuchtungsbildes mit derselben Vergrößerung
wie der des ersten Beleuchtungsbildes, so daß
eine Verschiebung des dritten Beleuchtungsbildes
reduzierbar ist, wenn die zweite Beleuchtungslinse
und die erste Abbildungslinse als eine Einheit bewegt
werden.
Entsprechend des erfindungsgemäßen optischen
Abbildungsverfahrens und der erfindungsgemäßen Vorrichtung
nach den Ansprüchen 1 und 2 kann ein Beleuchtungslichtbild
(Abbildung der Lichtquelle) mit
hohem Kontrast und guter Telezentrizität erzeugt
werden. Bei der Vergrößerungseinstellung des Musterbildes
braucht die Distanz zwischen der zweiten Abbildungslinse
und der Projektionslinse nicht korrigiert
zu werden, jedoch können die zweite Beleuchtungslinse
und die erste Abbildungslinse in einfacher Weise als
eine Einheit bewegt werden. Infolgedessen ist die
Steuerung der Bewegung der Einheit aus der zweiten
Beleuchtungslinse und der ersten Abbildungslinse
einfach und mit hoher Genauigkeit ausführbar.
Im folgenden wird die Erfindung an Hand der Zeichnungen
näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels
der erfindungsgemäßen optischen Abbildungsvorrichtung,
Fig. 2(a) einen Grundriß eines Mechanismus zur
Definition einer variablen Apertur aus dieser Vorrichtung,
Fig. 2(b) einen Schnitt durch den Mechanismus aus
Fig. 2(a) entlang der Linie B-B,
Fig. 2(c) einen Schnitt durch den Mechanismus aus
Fig. 2(a) entlang der Linie C-C,
Fig. 2(d) einen Schnitt durch den Mechanismus aus
Fig. 2(a) entlang der Linie D-D,
Fig. 3 ein Blockschaltbild eines Ausführungsbeispiels
für eine Mustersteuervorrichtung, die im erfindungsgemäßen
Verfahren bzw. der erfindungsgemäßen Vorrichtung
verwendet wird, und
Fig. 4 bis 11 schematische Darstellungen des
Strahlengangs optischer Systeme zur Veranschaulichtung
der Funktion der erfindungsgemäßen Vorrichtung bzw. des
erfindungsgemäßen Verfahrens.
Die Fig. 1 zeigt in schematischer Weise ein erstes
Ausführungsbeispiel eines Verkleinerungsprojektionsausrichtgerätes,
auf das die Erfindung angewandt ist.
Ein XYZ-Objekttisch, der belichtetes Material 2,
beispielsweise ein Master für eine Schattenmaske, trägt,
ist durch die Bezugszahl 1 angedeutet und ist in XYZ-
Richtungen bewegbar. Ein optisches Linsensystem 4 mit
einem Mechanismus 12 zur Definition einer variablen
Apertur ist oberhalb des XYZ-Objekttisches 1 angeordnet.
Ein Illuminant bzw. eine Lichtquelle 5 mit einer Xenonlampe
5 a und einer Facettenaugenlinse 5 b (fly array
lense) ist über Reflexion mittels eines Reflektors 7
oberhalb des optischen Linsensystems 4 angeordnet.
Beleuchtungs- oder Belichtungslicht von der Lichtquelle 5
wird über den Reflektor 7 und das optische Linsensystem 4
auf das Material 2 übertragen, welches auf dem XYZ-
Objekttisch 1 angeordnet ist, um ein Projektionsmuster,
das am Mechanismus 12 zur Definition einer variablen
Apertur des opstischen Linsensystems 4 vorgesehen ist,
auf dem belichteten Material 2 verkleinert zu projizieren
und abzubilden.
Der XYZ-Objekttisch bzw. die XYZ-Stufe 1 umfaßt
eine Basis 1 b, die eine schräge obere Führungsfläche 1 a
aufweist, die zur rechten Seite der Abbildung hin fortschreitend
abfällt, ferner einen Z-Achsentisch 1 f,
dessen untere schräge Fläche 1 c sich der schrägen Führungsfläche
1 a der Basis 1 b anpaßt und der eine horizontale
obere Fläche 1 d aufweist und von links nach
rechts und umgekehrt mit Hilfe eines linearen Antriebsmechanismus
1 e, der einen Antriebsmotor und beispielsweise
eine Kugelumlaufspindel usw. umfaßt, bewegbar ist.
Ferner umfaßt der XYZ-Objekttisch einen X-Achsentisch 1 h,
der auf Wälzelementen 1 g, beispielsweise Kugeln, auf
dem Z-Achsentisch 1 f zwischen der linken und rechten
Seite gleitend angebracht ist. Ferner ist auf dem X-
Achsentisch 1 h ein Y-Achsentisch 1 i angebracht und in
Richtung von vorn nach hinten gleitbar. Der lineare
Antriebsmechanismus 1 e läßt den Z-Achsentisch 1 f entlang
der schrägen Führungsfläche 1 a in Fig. 1 von
rechts nach links und umgekehrt gleiten, um das belichtete
Material 2, das auf dem Y-Achsentisch 1 i
plaziert ist, längs einer optischen Achse 6 zu bewegen.
Das optische Linsensystem 4 umfaßt eine erste Be-
oder Ausleuchtungslinse L L 1, die der Lichtquelle 5
über die Reflexion über den Reflektor 7 gegenüberliegt,
ferner eine zweite Beleuchtungslinse L L 2 und eine
erste Abbildungslinse L I 1, die beide vor oder innerhalb
des Bildpunktes O L 1 der ersten Beleuchtungslinse L L 1
liegen. Ein Fadenkreuz oder eine Strichplatte 11 sind
zwischen den beiden Linsen L L 2 und L I 1 vorgesehen und
bilden eine Musterquelle, beispielsweise für ein kreisrundes
Muster. Eine zweite Abbildungslinse L I 2 ist
außerhalb des Bildpunktes O L 1 der ersten Beleuchtungslinse
L L 1 angeordnet und eine Verkleinerungs- oder
Reduktionslinse L R, die eine Projektionslinse darstellt,
ist so vorgesehen, daß ein Bildpunkt O I 2 der zweiten
Abbildungslinse L I 2 in die Objektraumfokaldistanz der
Reduktionslinse L R fällt (d. h. innerhalb der objektseitigen
Brennweite der Linse L R liegt). Die obengenannten
Elemente des optischen Linsensystems 4 sind
auf der optischen Achse 6 hintereinander angeordnet.
Eine Distanz l zwischen der zweiten Beleuchtungslinse
L L 2 und der ersten Abbildungslinse L I 1 ist so
ausgewählt, daß sie kürzer als die Gesamtheit oder
Summe (f L 2+f I 1) der Brennweite oder des Brennpunktabstandes
f L 2 der zweiten Beleuchtungslinse L L 2 und
der Brennweite f I 1 der ersten Abbildungslinse L I 1 ist,
so daß die Strichplatte 11 und ein virtuelles Bild i₂,
das, wie später näher erläutert wird, von der zweiten
Beleuchtungslinse L L 2 geliefert wird, in die bildseitige
Brennweite f L 2 der zweiten Beleuchtungslinse
L L 2 und außerhalb der objektseitigen Brennweite f I 1
der ersten Abbildungslinse L I 1 fallen, wie in der
Zeichnung durch die entsprechenden Brennpunkte f I 1
und f L 2 angedeutet ist. Das Paar aus der zweiten
Beleuchtungslinse L L 2 und der ersten Abbildungslinse
L I 1 ist entlang der optischen Achse 6 relativ zur
Strichplatte 11 so bewegbar, daß die Länge l konstant
gehalten wird.
Die Linsen L L 2 und L I 1 sowie die Strichplatte 11
werden von einem Trag- oder Halterungsmechanismus 13
[Fig. 2(a) bis 2(d) ] gehaltert, der am Mechanismus 12
zur Definition einer variablen Apertur entfernbar
angebracht ist. Der Aperturdefinitionsmechanismus 12
umfaßt: eine Führung 14 mit einem Querschnitt, der
einer rechtwinkligen U-Form entspricht und an einem
fixierten Rahmentragwerk befestigt ist, wobei sich
die Führung entlang der X-Achse erstreckt und eine
quadratische oder rechtwinklige Öffnung 14 a in der
Mitte der Führung 14 aufweist; ein Paar von Gleitplatten 15 a und 15 b, die von der Führung 14 gleitend
geführt werden; ein Paar Blendenflügel 16 a und 16 b,
jeweils mit einer Schneidkante an ihren vorderen Enden,
die jeweils an den sich gegenüberliegenden Öffnungsenden
14 a der Gleitplatten 15 a und 15 b befestigt sind;
eine weitere Führung 17 mit einem Querschnitt, der
der Form eines umgekehrten rechtwinkligen U's entspricht,
wobei die Führung 17 am Zentrum der Führung 14
befestigt ist, sich entlang der Y-Achse erstreckt und
eine quadratische oder rechtwinklige Öffnung 17 a im
Zentrum der Führung 17 aufweist; ein weiteres Paar von
Gleitplatten 18 a und 18 b, das in der in Fig. 2(c)
gezeigten Weise gleitend von der Führung 17 bewegt wird;
und ein weiteres Paar von Blendenflügeln 19 a und 19 b,
die jeweils wiederum Schneidkantenvorderenden aufweisen
und an den jeweiligen sich gegenüberliegenden Öffnungsseitenenden
14 a der Gleitplatten 18 a und 18 b
angebracht sind. Auf diese Weise bilden die beiden
Paare von Blendenflügeln oder Abdeckflügeln 16 a, 16 b,
19 a und 19 b gemeinsam ein rechtwinkliges bzw. quadratisches
Blendenmuster. Ein Kugelumlaufspindelmechanismus
(Fig. 3) umfaßt einen Antriebsmotor 20, eine
Gewindespindel oder eine Gewindestange 21, die vom
Antriebsmotor 20 angetrieben wird, und eine Kugelmutter
22, die auf die Spindel 21 paßt und jeweils
an jedem Blendenflügel 16 a, 16 b, 19 a und 19 b befestigt
ist und diesen an ihr befestigten Blendenflügel
bewegt. In den Fig. 2(a) bis 2(d) sind die Antriebsmechanismen
für die Blendenflügel 16 b, 19 a und 19 b
nicht dargetellt, und es ist statt dessen nur der
Mechanismus für den Blendenflügel 16 a bzw. dessen
Gleitplatte 15 a zu sehen.
Der Halterungsmechanismus 13 umfaßt einen Rahmentragwerk
23, dessen mittlerer Abschnitt lösbar innerhalb
der Öffnung 17 a in der Führung 17 des Aperturdefinitionsmechanismus
12 angebracht ist und die
Strichplatte 11 hält. Ferner umfaßt der Halterungsmechanismus
13 einen oberen Halter 25, der an den
oberen Enden von Gleit- oder Schiebewellen 24 a und
24 b befestigt ist, welche mittels linearer Kugellager
23 a und 23 b vertikal geführt werden, welche
innerhalb des Rahmentragwerks 23 befestigt sind, und
hält die zweite Beleuchtungslinse L L 2. Ein unterer
Halter 26 ist an den unteren Enden der Schiebewellen
oder Gleitstücke 24 a und 24 b befestigt und hält die
erste Abbildungslinse L I 1. Ferner umfaßt der Mechanismus 13 ein Paar von Kompressions- oder Druckschraubenfedern
27 a und 27 b, die jeweils um die Schiebewellen
24 a und 24 b herum angeordnet zwischen der
Unterseite des Rahmentragwerks 23 und der Oberseite
des unteren Halters 26 liegen. Darüber hinaus weist
der Mechanismus 13 einen Vertilantriebsmechanismus 28
auf, der den oberen Halter 24 vertikal bewegt.
Das Rahmentragwerk 23 umfaßt einen horizontalen
Plattenabschnitt 23 c und einen vertikalen Abschnitt 23 d
in Form eines umgekehrten rechtwinkligen U's, der integral
an die Unterseite des horizontalen Plattenabschnitts
23 c angefügt ist. Eine Durchbohrung oder
durchgehende Öffnung 23 e erstreckt sich durch den
Mittelpunkt des horizontalen Plattenabschnitts 23 und
des Abschnitts 23 d in Form eines auf dem Kopf stehenden
rechtwinkligen U's. Ein Zwischenbereich der Oberfläche
der inneren Wandung der durchgehenden Öffnung
23 e weist eine Öffnung oder Aussparung auf, die einen
Flansch definiert, dessen Unterseite die ein kreisrundes
Muster liefernde Strichplatte 11 lösbar hält.
Links und rechts von der durchgehenden Aussparung 23 e
liegende Durchgangslöcher 23 f und 23 g erstrecken sich
durch den horizontalen Plattenabschnitt 23 c und den
Abschnitt 23 d in Form eines vertikalen umgedrehten
rechtwinkligen U's. Die entsprechenden Linearkugellager
23 a und 23 b sind innerhalb der Durchgangslöcher
23 f und 23 g angeordnet.
Wie aus den Fig. 2(a) und 2(d) hervorgeht, erstreckt
sich entsprechend einem vertikalen Antriebsmechanismus
28 ein Paar von Schiebewellen 29 a und 29 b zwischen der
rechten und linken Seite durch die Zentren von
Vorder/Hinter-(antero-posterior-)Achsen von im Rahmentragwerk
23 definierten rechtwinkligen Ausnehmungen
oder Einstichen 23 h und 23 i symmetrisch auf der Vorder-
und Rückseite der durchgehenden Öffnung 23 e, die im
horizontalen Plattenabschnitt des Rahmentragwerks 23
definiert ist, eine Verbindungsstange 30 a verbindet
die linksseitigen, sich außerhalb des Rahmentragwerks 23
erstreckenden Enden der Schiebewellen 29 a und 29 b, eine
weitere Verbindungsstange 23 b verbindet die rechtsseitigen,
sich außerhalb des Rahmentragwerks 23 erstreckenden
Enden der Schiebewellen 29 a und 29 b, ein Paar von
Nocken 31 a und 31 b, die jeweils eine sich nach rechts
fortschreitend absenkende Nockensteuerfläche aufweisen,
sind jeweils an Abschnitten der Schiebewellen 29 a und
29 b befestigt, welche Abschnitte den Aussparungen 23 h
und 23 i entsprechen. Ein Paar von Nockenstößeln 32 a
und 32 b, die jeweils mit Wälzlagern, deren äußere
Laufflächen in Kontakt mit den Nockensteuerflächen
der Nocken 31 a und 31 b sind, ausgestattet sind, sind
am oberen Halter 25 befestigt, ein Paar von Zug- oder
Spannfedern 34 a und 34 b verbindet die Verbindungsstange
30 a mit einem Ständer oder einer Stütze 33, die
an der oberen Fläche der Gleitplatte 15 a befestigt ist,
und ferner können in diesem vertikalen Antriebsmechanismus
28 ein Vorsprung 35 a, der an der Verbindungsstange
30 a vorgesehen ist, und ein Anschlag 35 b, der
am Ständer 33 vorgesehen ist und ein einstellbares
Vorsprungausmaß aufweist, in Kontakt miteinander sein.
Eine Bewegung der Gleitplatte 15 a bewegt die Schiebewellen
29 a und 29 b so, daß der obere und untere Halter
25 und 26 als eine Einheit vertikal bewegt werden.
Ein Träger 36, der auf der Unterseite der Führung 14
des Aperturdefinitionsmechanismus 12 angebracht ist,
geht in eine Blendenflügelhalterungsstütze über. Das
Zentrum des Trägers 36 hält die zweite Abbildungslinse
L I 1. Die Position der zweiten Abbildungslinse L I 2 ist
derart ausgewählt, daß der Bildpunkt O′ I 1, bei dem
das erste Musterbild I₁ des ring- oder kreisförmigen
Musters der Strichplatte 11 durch die zweite Abbildungslinse
L I 2 hervorgerufen wird, mit einer Position zusammenfällt,
an der die beiden Blendenpaare 16 a, 16 b und 19 a,
19 b gemeinsam ein quadratisches oder rechteckiges Muster
definieren.
Eine Mustersteuervorrichtung 37 steuert den Antriebsmotor
20 des Mechanismus 12 zur Definition einer
variablen Apertur.
Die Mustersteuervorrichtung 37 umfaßt: einen Mikrocomputer
38, der zumindest ein Eingangs/Ausgangs-Interface
38 a, einen Prozessor 38 b und einen Speicher 38 c umfaßt;
eine Motorantriebsschaltung 39 und eine Musterauswahleingabeeinheit
40 zur Eingabe von Projektionsvergrößerungswerten
eines projizierten Musters in den Mikrocomputer
38.
Wenn die Musterauswahleingabeeinheit 40 Daten, die
die Projektionsvergrößerung festlegen, eingibt, so
nimmt der Prozessor 38 b des Mikrocomputers ansprechend
auf die eingegebenen, die Projektionsvergrößerung
festlegenden Daten auf eine gespeicherte Tabelle Bezug,
die vorab im Speicher 38 c gespeichert worden ist,
berechnet eine Zielverschiebung der Einheit aus der
zweiten Beleuchtungslinse L L 2 und der ersten Abbildungslinse
L I 1, die der gewünschten Projektionsvergrößerung
entspricht, und erzeugt eine Verschiebungsanweisung
für die Motorantriebsschaltung 39 in Abhängigkeit von
einer Differenz zwischen der Zielverschiebung bzw.
dem Verschiebungszielpunkt und einer gerade vorliegenden
Position der Einheit aus den Linsen L L 2 und L I 1,
um den Antriebsmotor 20 zu steuern, so daß auf diese
Weise die Projektionsvergrößerung festgelegt wird.
In der Fig. 1 weist die dem belichteten Material 2
gegenüberliegende Unterseite eines feststehenden, eine
Verkleinerungslinse L R halternden hohlen Zylinders 41
eine Aperturöffnung 42 auf, die Belichtungslicht hindurchläßt,
und es sind vier Luftzuführdüsen 43 um den
Umfang dieser Öffnung 42 in gleichen Intervallen beabstandet
angeordnet. Jede der Düsen 43 ist mit einer gemeinsamen
Lufteinspeisungsquelle 44 über eine Verengung
45 und mit einer Einlaßöffnung eines gemeinsamen
Differentialdruckwandlers 46 verbunden. Der andere
Eingangsanschluß des Differentialdruckwandlers 46 steht
mit der Lufteinspeisungsquelle 44 über eine weitere
Verengung oder Drosselstelle 47 und mit der Atmosphäre
in Verbindung. Die Düsen 43, die Lufteinspeisungsquelle
44, die Verengungen 45 und 47 und der Differentialdruckwandler
46 bilden gemeinsam ein Luftmikrometer
48.
Ein Erfassungs- oder Detektorsignal des Differentialdruckwandlers
46 wird zu einer Brennpunkteinstellsteuervorrichtung
oder -stufe 50 geleitet. Die Brennpunkteinstellsteuervorrichtung
50 vergleicht das Detektorsignal
des Differentialwandlers 46 mit einem Zielwert,
der von einer Zielwertbestimmungseinheit 50 a bestimmt
worden ist, und erzeugt ein Abweichungssignal, das
einen Differenzwert aus diesem Vergleich darstellt und
einer Antriebsschaltung 50 b, die einen Verstärker usw.
umfaßt, zugeführt wird. Die Antriebsschaltung 50 b
erzeugt ein Antriebsausgangssignal, das eine Betätigungseinheit,
beispielsweise einen Motor für den linearen
Antriebsmechanismus 1 e des XYZ-Objekttisches 1
so steuert, daß der lineare Antriebsmechanismus 1 e
die Distanz zwischen den Düsen 43 und dem belichteten
Material 2 auf einen geeigneten Wert einstellt.
Die XYZ-Achsenbewegungen des XYZ-Objekttisches 1
werden mit Hilfe von Meßwertrückkopplungssignalen von
einem Detektor 52 in aufeinanderfolgender Kopier- und
Repetiervorgangsweise (step-and-repeat manner) derart
gesteuert bzw. geregelt, daß eine ursprüngliche (nicht
dargestellte) Markierung, die auf dem Belichtungsmaterial
2 vorgesehen ist, optisch ausgelesen wird, ein
Steuerursprung oder -ausgangspunkt auf der Grundlage
der ausgelesenen ursprünglichen Markierung bestimmt
wird der der Detektor 52, beispielsweise eine Laserlängenmeßeinrichtung,
die die absoluten Distanzen entlang
der XY-Achsen, ansprechend auf einen Belichtungszyklus
des projizierten Musters, erfaßt, die auf den gemessenen
Wert zurückgehenden Rückkopplungssignale erzeugt.
Im folgenden wird die Funktionsweise des oben erläuterten
Ausführungsbeispiels näher erläutert.
Wie aus Fig. 4 hervorgeht, wird Belichtungslicht
vom Austrittsende der Facettenaugenlinse 5 b der Lichtquelle
5 vom Reflektor 7 zur ersten Beleuchtungslinse
L L 1 reflektiert. Die erste Beleuchtungslinse L L 1
erzeugt das erte Lichtquellenbild i₁ an ihrem entsprechenden
Bildpunkt O L 1. Die zweite Beleuchtungslinse
L L 2 erzeugt das zweite Lichtquellenbild i₂ vom ersten
Lichtquellenbild i₁ innerhalb des bildraumseitigen
Brennpunktes F′ L 2 und außerhalb des objekt- oder
gegenstandsraumseitigen Brennpunktes F I 1 der ersten
Abbildungslinse L I 1, um auf diese Weise das erste Lichtquellenbild
i₁ als virtuelles Bild aufzunehmen. Die
erste Abbildungslinse L I 1 erzeugt das dritte Lichtquellenbild
i₃ so groß wie das erste Lichtquellenbild i₁
aus dem zweiten Lichtquellenbild i₂ bei einer Position,
die mit der der ersten Abbildung der Lichtquelle i₁
zusammenfällt. Die zweite Abbildungslinse L I 2 erzeugt
das vierte Lichtquellenbild i₄ aus dem dritten Lichtquellenbild
i₃ an der Eintrittspupillenposition der
Reduktions- oder Verkleinerungslinse L R. (Mit Eintrittspupille
ist das dingseitige, den Strahlenraum
der optischen Abbildung begrenzende Blendenbild gemeint.)
Andererseits erzeugt, wie aus Fig. 5 hervorgeht,
die erste Abbildungslinse L I 1 das erste Musterbild I₁
an ihrem Bildpunkt O′ I 1 vom kreis- oder ringförmigen
Muster der Strichplatte 11, die innerhalb des bildseitigen
Brennpunktes F′ L 2, d. h. der Brennweite,
der zweiten Beleuchtungslinse L L 2 vorgesehen ist.
Die zweite Abbildungslinse L I 2 erzeugt ein zweites
Musterbild I₂ aus dem ersten Musterbild I₁ am Bildpunkt O′ I 2
der Reduktionslinse L R innerhalb der
zulässigen Objektraumbrennweite der -fokaldistanz
der Reduktionslinse L R. Die Reduktionslinse L R reduziert
das zweite Musterbild I₂, um dieses auf dem
belichteten Materil 2 vorzusehen, das auf dem
XYZ-Objekttisch 1 plaziert ist. Da das ring- oder
kreisförmige Muster der Strichplatte 11 am Bildpunkt
O′ I 2 der zweiten Abbildungslinse L I 2 abgebildet wird,
der innerhalb der zulässigen Objektraumbrennweite der
Reduktionslinse L R fällt, wird die Strichplatte 11
äquivalent am Bildpunkt O′ I 2 plaziert, so daß die
Linsen L L 1, L L 2, L I 1 und L I 2 gemeinsam eine einzige
Kondensorlinse zu bilden scheinen.
Entsprechend dieser Anordnung ändert die gleichzeitige
Bewegung der zweiten Beleuchtungslinse L L 2
und der ersten Abbildungslinse L I 1 bezüglich der
Strichplatte 11 mittels der Mustersteuervorrichtung 15
die Vergrößerung des Musterbildes, das am Bildpunkt O′ I 2
der zweiten Abbildungslinse L I 2 erzeugt wird, in der
Weise, daß das Öffnungsverhältnis des Beleuchtungslichtbildes
der Lichtquelle 5, das auf die Eintrittspupille
der Reduktionslinse L R einfällt, innerhalb
eines zulässigen Bereiches fallen kann.
Im folgenden wird das Prinzip, das die Änderung
der Distanz der Einheit der zweiten Beleuchtungslinse
L L 2 und der ersten Abbildungslinse L I 1 von der Strichplatte
11 die Vergrößerung des zweiten Musterbildes I₂
ändert, näher erläutert.
Zunächst wird die Beziehung zwischen einer Verschiebung
Δ eines Objektpunktes O einer einzigen dünnen Linse
und einer Verschiebung Δ′ eines entsprechenden Bildpunktes
O′ der einzigen dünnen Linse erläutert,
wobei diese Beziehung der vorliegenden Erfindung
zugrundeliegt.
In der Fig. 6 ist die objektseitige Brennweite
einer dünnen Linse mit f angedeutet, die bildseitige
Brennweite ist mit f′ angedeutet, die Distanz vom
Hauptpunkt H der dünnen Linse zum Objektpunkt O ist
mit S angezeigt, die Distanz vom Hauptpunkt H zum
Bildpunkt O′ ist mit S′ angezeigt, die Größe eines
Objektes, das am Objektpunkt O liegt, ist mit A
angedeutet, die Größe eines entsprechenden Bildes,
das am Bildpunkt O′ erzeugt wird, ist mit B angedeutet,
und die Vergrößerung wird mit m bezeichnet. Damit
ergibt sich die folgende Abbildungsgleichung:
Die Vergrößerung m wird durch die folgende
Gleichung ausgedrückt:
Infolgedessen werden die Distanzen S und S′ aus
den Gleichungen (1) und (2) wie folgt abgeleitet:
S′ = f′ [1-m ] (4)
Die Beziehung zwischen der Verschiebung Δ des Objektpunktes
O und der Verschiebung Δ′ des Bildpunktes O′
wird aus Gleichung (1) wie folgt abgeleitet:
In diesem Fall ist die Rate der Änderung K einer
Vergrößerung m* nach einer Verschiebung zur Vergrößerung
m vor der Verschiebung durch die folgende
Gleichung ausdrückbar:
Substitution der Gleichungen (1), (3) und (5) für m*
und m aus Gleichung (7) und darauffolgende Umformung
der resultierenden Gleichung ergeben die folgende Gleichung:
Die Bildpunktverschiebung Δ′ wird wie folgt ausgedrückt:
Δ′ = mf′ (1-K ) (9)
In ähnlicher Weise wird die Rate der Änderung K,
bezogen auf die Objektverschiebung Δ, wie folgt
ausgedrückt:
Die Objektverschiebung Δ ergibt sich wei folgt:
Subtraktion der Gleichung (11) von Gleichung (9)
liefert die folgende Gleichung:
Infolgedessen kann die Beziehung zwischen der Bildpunktverschiebung
Δ′ und Objektpunktverschiebung Δ wie folgt
ausgedrückt werden:
Δ′ = Δ (m²K-1) + Δ = Δ m²K (13)
Da, wenn die erste Abbildungslinse L I 1 um eine
Verschiebung Δ₁ so verschoben wird, daß das kreisrunde
Muster der Strichplatte 11 am Bildpunkt O′ I 2 der
zweiten Abbildungslinse L I 2 abgebildet wird, wie in
Fig. 5 gezeigt ist, die Beziehung zwischen der Verschiebung
Δ₁ der ersten Abbildungslinse L I 1 und einer
Verschiebung Δ″ I des Bildpunktes O′ I 2 der zweiten
Abbildungslinse L I 2 mit Bezug auf die erste Abbildungslinse
L I 1 äquivalent zu der Beziehung zwischen
einer Verschiebung Δ₁, um die die Strichplatte 11 in
einer bezüglich der Verschiebung der ersten Abbildungslinse
L I 1 entgegengesetzten Richtung verschoben wird,
und der Verschiebung Δ″ I des Bildpunktes O′ I 2 der
zweiten Abbildungslinse L I 2 ist, so wird folglich eine
Verschiebung des ersten Musterbildes I₁, die von der
ersten Abbildungslinse L I 1 hervorgerufen wird, durch
den Ausdruck Δ′ I -Δ I ausgedrückt. Wird eine Vergrößerung
vor der Verschiebung durch m I 1 ausgedrückt,
eine Vergrößerung nach einer Verschiebung durch m I 1*
ausgedrückt und die Rate der Änderung in der Vergrößerung
durch K I 1 (=m I 1*/m I 1) ausgedrückt, so wird aus
Gleichung (12) die folgende Gleichung abgeleitet:
Δ′ I - Δ I = Δ I (m² I 1 K I 1-1) (14)
Eine Bildpunktverschiebung Δ″ I der zweiten Abbildungslinse
L I 2 wird folgendermaßen ausgedrückt,
wenn eine Vergrößerung vor der Verschiebung durch
m I 2, eine Vergrößerung nach der Verschiebung durch
m I 2* ausgedrückt werden und die Rate der Änderung in
der Vergrößerung K I 2 (=m I 2*/m I 2) dargestellt
wird, wobei die folgende Gleichung aus Gleichung (13)
abgeleitet wird:
Δ″ I = (Δ′ I -Δ I ] m I 2 K I 2 = (m² I 1 K I 1-1) m I 2 K I 2 (15)
Andererseits kann die Objektpunktverschiebung Δ I
der ersten Abbildungslinse L I 1 aus Gleichung (11)
wie folgt abgeleitet werden:
Eine Objektpunktverschiebung (Δ′ I -Δ I ) der zweiten
Abbildungslinse L I 2 kann ebenfalls aus Gleichung (11)
wie folgt abgeleitet werden:
Eine Änderungsrate der Vergrößerung K I 1 kann aus
Gleichung (10) wie folgt abgeleitet werden:
Eine Änderungsrate der Vergrößerung K I 1 kann ebenfalls aus Gleichung (10) wie folgt abgeleitet werden:
Wird die erste Abbildungslinse L I 1 um die Verschiebung
Δ I verschoben, wird eine generelle Vergrößerung K I ,
die am Bildpunkt O′ I 2 der zweiten Abbildungslinse L I 2
geliefert wird, folgendermaßen ausgedrückt:
Ein Umformen dieser Gleichung (20) liefert die
Verschiebung Δ I der ersten Abbildungslinse L I 1, die
wie folgt ausgedrückt werden kann:
Wird der zulässige Bereich der Objektraumbrennweite
der Reduktionslinse L R beispielsweise zu 0,4 mm
angenommen, so ergeben sich die folgenden Dimensionierungen
für die jeweiligen Linsen: Im Fall der ersten
Beleuchtungslinse L L 1 betragen die Brennweite f L 1=
394,40 mm, der effektive Durchmesser ⌀=79 mm, die
f-Zahl (Lichtstärke)=4,99, der Abstand von der
Hauptebene zum Objektpunkt S L 1=-1095,56 mm, der
Abstand von der Hauptebene zum Bildpunkt S′ L 1-3290 mm
und die Vergrößerung m L 1=-1/3,7778; im Fall der
zweiten Beleuchtungslinse L L 2 betragen die Brennweite
f L 2=76,77 mm, der effektive Durchmesser ⌀=25 mm,
die f-Zahl=3,07, der Abstand von der Hauptebene zum
Objektpunkt S L 2=-256,04 mm, der Abstand von der
Hauptebene zum Bildpunkt S′ L 2=59,06 mm und die Vergrößerung
m L 2=1/4,3353; im Fall der ersten Abbildungslinse
L I 1 betragen die Brennweite f I 1=30 mm, der
effektive Durchmesser ⌀=17 mm, die f-Zahl=1,76,
der Abstand von der Hauptebene zum Objektpunkt S I 1=
-36,92 mm, der Abstand von der Hauptebene zum
Bildpunkt S′ I 1=160,06 mm und die Vergrößerung m I 2=
-4,3353 (S I 1=-60 mm, S′ I 1=60 mm und die Vergrößerung
m I 1=-1 für ein Musterbild); im Fall der
zweiten Abbildungslinse L I 2 betragen die Brennweite
f I 2=81 mm, der effektive Durchmesser ⌀=32 mm, die
f-Zahl=2,53, der Abstand von der Hauptebene zum
Objektpunkt S I 2=102,44 mm, der Abstand von der
Hauptebene zum Bildpunkt S′ I 2=387 mm, die Vergrößerung
m I 2=-3,7778 (S I 2=-202,5 mm, S′ I 2=135 mm
und die Vergrößerung m I 2=-1/1,5 für ein Musterbild).
Die Verschiebung Δ I von L I 1 wird für die angegebenen Werte
durch die Gleichung (21) hervorgerufen, wobei eine
gewünschte allgemeine oder generelle Vergrößerung K₁
gegeben wird. Fällt die Verschiebung Δ″ I des Bildpunktes
O′ I 2 der zweiten Abbildungslinse L I 2 innerhalb des
zulässigen Bereiches der objektseitigen Brennweite von
0,4 mm, so kann in diesem Fall ein gutes defokussiertes
bzw. unscharfes freies Musterbild auf die Reduktionslinse
L R fallen.
Die folgende Tabelle 1 zeigt die Verschiebung Δ₁,
die Änderungsrate der Vergrößerung K I 1 und die Bildpunktverschiebung
Δ′ I -Δ I der ersten Abbildungslinse
L I 1 und die Änderungsrate der Vergrößerung K I 2
und die Bildpunktverschiebung Δ″ I der zweiten Abbildungslinse
L I 2 für verschiedene gegebene generelle
oder insgesamte Vergrößerungen K I.
Wie aus dieser Tabelle 1 hervorgeht, wird beim
Verschieben der ersten Abbildungslinse L I 1 aus
einer Position, die das zweite Musterbild des kreisförmigen
Musters der Strichplatte 11 am Bildpunkt O′ I 2
der zweiten Abbildungslinse L I 2 mit einer gleichbleibenden
Größe (Vergrößerung von 1) erzeugt, nach links das
zweite Musterbild I₂ vergrößert, andererseits wird
beim Verschieben der ersten Abbildungslinse L I 1
aus dieser Position nach rechts das zweite Musterbild
I₂ verkleinert. Werden derartige Vergrößerungs-
und Verkleinerungsbereiche mit ±15% angesetzt, so
wird dafür gesorgt, daß die Bildpunktverschiebung Δ″ I
in den zulässigen Bereich der Objektraumbrennweite
(0,4 mm) der Reduktionslinse L R fällt, so daß die
Brennweite der Reduktionslinse L R nicht speziell eingestellt
werden muß.
Wie oben erläutert wurde, erzeugt das Beleuchtungslicht
von der Lichtquelle 5 das erste Beleuchtungs- oder
Lichtquellenbild i₁ am Bildpunkt O′ L 1 außerhalb des
bildseitigen Brennpunktes F′ I 1 der ersten Abbildungslinse
L I 1 mittels der ersten Beleuchtungslinse L L 1,
wie in Fig. 7 gezeigt ist. Wie in Fig. 8 gezeigt ist,
erzeugt die zweite Beleuchtungslinse L L 2 das zweite
Lichtquellenbild (die zweite Abbildung des Beleuchtungslichtes)
i₂, welches ein virtuelles Bild innerhalb des
bildseitigen Brennpunktes F L 2 der zweiten Beleuchtungslinse
L L 2 außerhalb des objektraumseitigen Brennpunktes
F I 1 der ersten Abbildungslinse L I 1 vom ersten Lichtquellenbild
i₁ darstellt. Wie in Fig. 4 dargestellt ist,
erzeugt die erste Abbildungslinse L I 1 das dritte Lichtquellen-
oder Beleuchtungsbild i₃ ebenso groß wie
das erste Lichtquellenbild i₁ am Bildpunkt O′ L 1 der
ersten Beleuchtungslinse L L 1 aus dem zweiten Lichtquellenbild
i₂. Wie ferner aus Fig. 4 hervorgeht, erzeugt die
Abbildungslinse L I 2 das vierte Lichtquellenbild i₄ an
der Eintrittspupillenlage der Reduktionslinse L R aus
dem dritten Lichtquellenbild i₃.
In diesem Fall ist die Verschiebung der Einheit
aus der zweiten Beleuchtungslinse L L 2 und der ersten
Abbildungslinse L I 1 um die Verschiebung Δ L , wie
in Fig. 9 gezeigt, äquivalent zu einer virtuellen
Objektpunktverschiebung Δ L des ersten Beleuchtungslichtbildes
i₁, so daß der Bildpunkt O′ L 2 der zweiten
Beleuchtungslinse L L 2, bei dem das Beleuchtungslichtbild
i₂ erzeugt wird, relativ zur zweiten Beleuchtungslinse
L L 2 und die Verschiebung Δ′ L verschoben wird.
Infolgedessen wird die Beziehung der Objektpunktverschiebung
Δ L und der Bildpunktverschiebung Δ′ L
aus Gleichung (13) wie folgt ausgedrückt:
Δ′ L = Δ L m² L 2 K L 2 (22)
Da die Änderungsrate in der Vergrößerung K L 2 sich aus
Gleichung (10) wie folgt ergibt:
ergibt sich bei Substitution von K L 2 in Gleichung (23)
mit Hilfe von Gleichung (22) die folgende Gleichung
für die Bildpunktverschiebung Δ′ L 2:
Da ein Verschieben des Bildpunktes O′ L 2, bei
dem das zweite Beleuchtungslichtbild i₂ erzeugt wird,
um die Verschiebung Δ′ L aus der Anfangsposition der
Fig. 10(a) zur Position der Fig. 10(b) äquivalent
einer Verschiebung des Objektpunktes O I 1 der ersten
Abbildungslinse L I 1 um die Verschiebung Δ I 2 (=Δ′ L )
in der Beziehung zwischen dem zweiten Beleuchtungslichtbild
i₂ und der ersten Abbildungslinse L I 1 ist, so
ergibt sich folglich die Beziehung zwischen der
Objektpunktverschiebung Δ I 1 und der Bildpunktverschiebung
Δ′ I 1 aus Gleichung (13) wie folgt:
Δ′ I = Δ I 1 m² I 1 K I 1 (25)
Die Änderungsrate in der Vergrößerung K I 1 wird aus
Gleichung (10) wie folgt abgeleitet:
Die Substitution von K I 1 in Gleichung (26) durch
den entsprechenden Wert aus Gleichung (25) liefert die
Bildpunktverschiebung Δ′ I 1 mit folgender Gleichung:
Da die Objektverschiebung Δ I 1 gleich der Bildpunktverschiebung
Δ′ L 2 der zweiten Beleuchtungslinse L L 2 ist,
ergibt die Substitution der Objektpunktverschiebung Δ I 1
in Gleichung (24), d. h. von Δ′ L 2, durch die Gleichung (27)
die folgende Gleichung für die Objektpunktverschiebung:
Infolgedessen ergibt sich, wie in Fig. 11 gezeigt
ist, bei Verschiebung der ersten Abbildungslinse L I 1
um eine Verschiebung Δ L eine Verschiebung des dritten
Beleuchtungslichtbildes i₃, das am Bildpunkt O′ I 1
erzeugt wird, um die Verschiebung Δ₃, in der die Verschiebung Δ L von der Verschiebung Δ′ I 1 subtrahiert ist.
Infolgedessen ist die Verschiebung Δ₃ durch die
folgende Gleichung darstellbar:
Δ₃ = Δ′ I 1 - Δ L (29)
Wird in Gleichung (28) Δ′ I 1 aus Gleichung (29)
ersetzt und dann die resultierende Gleichung (29)
umgeformt, so ergibt sich die Gleichung:
worin
A = Δ L fI 1 f L 2 m² I 1 m² L 2
B = Δ L [f I 1 f L 2- L (f I 1 m L 2+f L 2 m I 1 m² L 2) -]
C = f I 1 f L 2- L (f I 1 m L 2+f L 2 m I 1 m² L 2)
B = Δ L [f I 1 f L 2- L (f I 1 m L 2+f L 2 m I 1 m² L 2) -]
C = f I 1 f L 2- L (f I 1 m L 2+f L 2 m I 1 m² L 2)
In Gleichung (30) sind die Bedingungen, die erforderlich
sind, um die Vergrößerungen des ersten Beleuchtungslichtbildes
i₁ und dritten Beleuchtungslichtbildes i₃
gleich zu machen und um das erste und dritte Beleuchtungsbild
i₁ und i₃ an derselben Position, jedoch umgekehrt
bezüglich einander abzubilden, wie folgt:
m I 1 · m L 2 = -1 (31)
m² I 1 · m² L 2 = 1 (32)
Substituiert man in den Gleichungen (31) und (32)
m I 1 mit Hilfe von Gleichung (30) und formt die
resultierende Gleichung um, so ergibt sich die folgende
Gleichung:
Da die zweite Abbildungslinse L I 2 das vierte
Beleuchtungslichtbild i₄ an der Eintrittspupillenlage
der Reduktionslinse L R aus dem dritten Beleuchtungslichtbild
i₃ erzeugt, wird die Bildpunktverschiebung Δ′ L 4
der zweiten Abbildungslinse L I 2 mit Gleichung (13) wie
folgt ausgedrückt:
Δ′ L 4 = Δ₃ · m I 2 · K I 2 (34)
Da in diesem Fall die Änderungsrate der Vergrößerung K I 2
mit Hilfe von Gleichung (10) wie folgt ausgedrückt werden
kann:
ergibt sich beim Einsetzen von Gleichung (34) in
Gleichung (35) die Bildpunktverschiebung Δ′ L 4 in
folgender Weise:
Bei Substitution von Δ₃ in Gleichung (36) mit Hilfe
von Gleichung (33) und darauffolgendes Umformen der resultierenden
Gleichung (36) gewinnt man die Beziehung
zwischen der Bildpunktverschiebung Δ′ L 4 der zweiten
Abbildungslinse L I 2 und der Verschiebung Δ L der Einheit
aus der zweiten Beleuchtungslinse L L 2 und der ersten
Abbildungslinse L I 1 wie folgt:
Die insgesamte oder generelle Vergrößerung K L des
vierten Beleuchtungsbildes i₄, das an der Eintrittspupillenposition
oder -lage der Reduktionslinse L R
erzeugt wird, wird wie folgt ausgedrückt:
Die Objektpunktverschiebung Δ I 1, die gleich der
Bildpunktverschiebung Δ′ L 2 ist, wird aus der Verschiebung
Δ L der Einheit aus der zweiten Beleuchtungslinse L L 2
und der ersten Abbildungslinse L I 1 mit Hilfe von Gleichung
(24) berechnet. Ferner wird mit Hilfe von Gleichung
(33) die Bildverschiebung Δ₃ aus der Verschiebung
Δ L berechnet.
Ist folglich die Verschiebung Δ′ L 4 des vierten Beleuchtungslichtbildes
i₄ (in dem die objektseitige
Brennweite f L 2 der zweiten Beleuchtungslinse L L 2
-76,77 mm beträgt, die objektseitige Brennweite f I 1 der
ersten Abbildungslinse L I 1 -30 mm beträgt, die objektseitige
Brennweite f I 2 der zweiten Abbildungslinse L I 2
-81 mm beträgt, die Vergrößerung m L 2 1/4,3353 beträgt,
die Vergrößerung m I 1 -4,3353 (d. h. ein invertiertes Bild)
und die Vergrößerung m I 2 -3,7778 in Übereinstimmung
mit den oben beschriebenen Dimensionierungen betragen,
für den Fall, daß der zulässige Bereich der Eintrittspupillenlage
der Reduktionslinse L R beispielsweise
2 mm beträgt) innerhalb eines vorbestimmten Toleranzbereiches
(beispielsweise ±0,02), bezogen auf den
Referenzwert eines Öffnungsverhältnisses, das als
ein Verhältnis des Durchmessers eines Beleuchtungslichtbildes
(Abbildung der Lichtquelle) zum Durchmesser
einer Eintrittspupille definiert ist und im
allgemeinen auf einen Wert von 1 oder weniger ausgewählt
ist, unter dem zulässigen Eintrittspupillenlagenbereich
von 2 mm, so fällt das Beleuchtungslicht
von der Lichtquelle 5 effektiv auf die Reduktionslinse
L R.
Die folgende Tabelle 2 zeigt Berechnungsergebnisse
von Bildpunktverschiebungen Δ L 4 für Verschiebungen Δ L
der Einheit aus der zweiten Beleuchtungslinse L L 2 und
der ersten Abbildungslonse L I 1 sowie Öffnungsverhältnisse
s des Durchmessers d des von der zweiten Abbildungslinse
entworfenen vierten Beleuchtungslichtbildes
i₄, das hervorgerufen wird, wenn das Musterbild
I₂ mit der Vergrößerung K I vergrößert bzw. verkleinert
wird.
Wie aus der Tabelle 2 hervorgeht, wird, wenn die
zweiten Musterbilder I₂, in denen das kreisförmige
Muster der Strichplatte 11 mit gewünschten Vergrößerungswerten
vergrößert bzw. verkleinert abgebildet
wird, die Verschiebung Δ′ L 4 des Beleuchtungslichtbildes
i₄ im wesentlichen innerhalb des zulässigen Eintrittspupillenlagebereiches
von 2 mm der Reduktionslinse
L R innerhalb des Toleranzberieches von ±0,02
des Öffnungsverhältnisses eingegrenzt und auf diesen
Bereich beschränkt, so daß die Eintrittspupillenlage
der Verkleinerungs- oder Reduktionslinse L R nicht in
besonderer Weise eingestellt werden muß.
Infolgedessen kann durch Speichern der Verhältnisse
zwischen den Vergrößerungswerten K I der Musterbilder
und der entsprechenden Verschiebungen Δ L der Einheit
aus der zweiten Beleuchtungslinse L L 2 und der ersten
Abbildungslinse L I 1 als Tabelle im Speicher 38 c der Mustersteuervorrichtung
37 die Möglichkeit gegeben werden,
sofort den Vergrößerungen K I entsprechende Verschiebungen
der Einheit aus den Linsen L L 2 und L I 1 zu
berechnen, wenn der Prozessor 38 b die ausgewählten Vergrößerungsdaten
empfängt. Diese Berechnung verursacht,
daß der Antriebsmotor 20 die Vergrößerung des Musterbildes
entsprechend einstellt. Unmittelbar von dieser
Vergrößerungseinstellung ausgehend, kann eine einfache
Verschiebung der Einheit aus der zweiten Beleuchtungslinse
L L 2 und der ersten Abbildungslinse L I 1 mit einer
vorbestimmten fixierten Distanz zwischen den Linsen
bewirken, daß das zweite Musterbild I₂ innerhalb der
zulässigen objektraumseitigen Brennweite der Reduktionslinse
L R eingegrenzt wird und das vierte Beleuchtungslichtbild
i₄ so begrenzt wird, daß es innerhalb eines
zulässigen Öffnungsverhältnistoleranzbereiches in den
zulässigen Eintrittspupillenlagebereich der Reduktionslinse
L R fällt, so daß die fixierte Distanz zwischen der
zweiten Abbildungslinse L I 2 und der Reduktionslinse L R
nicht korrigiert zu werden braucht.
Infolgedessen wird nach einem Abschluß der Einstellung
des optischen Systems 4 eine Brennpunkteinstellung
zwischen der Reduktionslinse L R und dem
belichteten Material 2 ausgeführt. Die Bewegung des
XYZ-Objekttisches 1 längs der optischen Achse ruft
diese Brennpunkteinstellung hervor. Da eine Distanz k
zwischen dem optischen Zentrum der Reduktionslinse L R
und der Unterseite des fixierten Hohlzylinders 41
festliegt, wird zunächst mittels einer Zielwerteinstelleinheit
50 a ein Zielwert festgelegt, in dem der Wert
der Distanz k von einem Zielwert b subtrahiert wird.
In diesem Betriebszustand führt die Lufteinspeisungsquelle
44 durch die Verengung 45 unter Druck stehende
Luft zu den Düsen 43, um auf diese Weise das Luftmikrometer
48 und die Brennpunkteinstellsteuervorrichtung 50
in ihre Betriebsstellungen zu bringen.
Wenn die Brennpunkteinstellsteuervorrichtung 50
sich in ihrer Betriebsstellung befindet, wird der
Antriebsschaltung 50 b das Abweichungssignal einer Differenz
zwischen dem vorgegebenen Zielwert der Zielwerteinstelleinheit
oder -bestimmungseinheit 50 a und einem
Differentialdruckdetektorsignal vom Differentialdruckwandler
46 zugeführt. Die Antriebsschaltung 50 b erzeugt
ein Antriebssignal für den linearen Antriebsmechanismus
1 e zur Bewegung des XYZ-Objekttisches 1 vertikal oder
längs der Z-Achse, so daß auf diese Weise das Abweichungssignal
Null wird. Auf diese Weise wird die Brennpunkteinstellung
zwischen der Reduktionslinse L R und
dem belichteten Material 2 abgeschlossen.
Nachdem die Brennpunkteinstellung abgeschlossen
ist, wird der XYZ-Objekttisch 1 längs der XY-Achsen in
geeigneter Weise so verschoben, daß das Material 2
an einer vorbestimmten Musterbelichtungsposition
oder -expositionsposition positioniert wird. Dann
wird ein geeigneter Ausschnitt des zu belichtenden
Materials 2 mit dem projizierten Muster belichtet.
Daraufhin wird der XYZ-Objekttisch 1 wiederum längs
der XY-Achse bewegt, um das zu belichtende Material 2
in die nächste Musterbelichtungsposition zu bewegen.
Auf diese Weise wird der Kopier- und Repetiervorgang
einer Belichtung des Materials 2 durch das projizierte
Muster so lange wiederholt, bis sämtliche Belichtungen
an sämtlichen Belichtungspositionen des Materials 2
ausgeführt worden sind. Das belichtete Material 2,
das allen Belichtungsstufen unterworfen worden ist,
wird vom XYZ-Objekttisch 1 abgenommen. Daraufhin wird
ein nächstfolgend zu belichtendes Material 2 auf den
Objekttisch 1 gelegt und wiederum dem oben erläuterten
Verfahren unterzogen.
Soll die Größe des projizierten Musters, das zur
Exposition des Materials 2 verwendet wird, geändert
werden, so wird die gewünschte Vergrößerung K I der
Musterauswahleingabeeinheit 40 der Mustersteuervorrichtung
37 zugeführt, um dafür zu sorgen, daß der Antriebsmotor
20 die Einheit aus der zweiten Beleuchtungslinse
L L 2 und der ersten Abbildungslinse L I 1 um
die dieser Vergrößerung K I entsprechende Verschiebung
Δ L verschiebt, um die Vergrößerung des zweiten
Musterbildes I₂ einzustellen.
Wird z. B. andererseits ein polygonales Muster,
beispielsweise ein rechtwinkliges Muster vorbestimmter
Ausmaße auf das belichtete Material 2 projiziert, so
wird das Rahmentragwerk 23 entfernt, und die vier Blendenflügel
16 a, 16 b, 19 a und 19 b können so eingestellt
werden, daß sie gemeinsam das gewünschte polygonale
Muster erzeugen und dieses lediglich mittels der Reduktionslinse
L R auf das Material projizieren.
Entsprechend der oben erläuterten Erfindung kann
durch Verschieben der zweiten Beleuchtungslinse L L 2
und der ersten Abbildungslinse L I 1, die die Strichplatte
11 sandwichartig einschließen, in einer feststehenden
Einheit die Vergrößerung des zweiten Musterbildes
I₂, das am Bildpunkt O′ L 2 der zweiten Abbildungslinse
L I 2 hervorgerufen wird, stufenlos so
geändert werden, daß die Verschiebung Δ″ I des
zweiten Musterbildes I₂ auf den zulässigen objektraumseitigen
Brennweitenbereich der Reduktionslinse L R
beschränkt wird und die Verschiebung Δ′ L 4 des vierten
Beleuchtungslichtbildes i₄, welches an der Eintrittspupillenlage
der Reduktionslinse L R erzeugt wird,
auf den zulässigen Eintrittspupillenlagebereich der
Reduktionslinse L R innerhalb des vorbestimmten Öffnungsverhältnistoleranzbereiches
beschränkt wird. Auf
diese Weise wird das Musterbild effektiv projiziert,
eine Belichtungsungleichmäßigkeit im projizierten
Muster, mit dem das belichtete Material 2 belichtet
wird, wird eliminiert, so daß eine hohe Auflösung
erzielt wird, und die Distanz zwischen der zweiten
Abbildungslinse L I 2 und der Reduktionslinse L R
braucht nicht korrigiert zu werden.
Entsprechend dem ersten Ausführungsbeispiel ist
jede der Linsen L L 1, L L 2, L I 1 und L I 2 mit einer
einzelnen Linse verwirklicht. Jedoch können alternativ
auch mehrere Linsen zur Realisierung jeder einzelnen
dieser Linsen L L 1, L L 2, L I 1 und L I 2 verwendet werden.
Entsprechend dem ersten Ausführungsbeispiel wird
der Teil der Einheit der zweiten Beleuchtungslinse L L 2
und der ersten Abbildungslinse L I 1 bewegt. Jedoch ist
die Art und Weise dieser Bewegung nicht auf diese
Möglichkeit beschränkt, es kann jedoch auch als
Bewegungsteil die Strichplatte 11 bewegt werden.
Entsprechend dem ersten Ausführungsbeispiel
bildet das kreis- oder ringförmige Muster der Strichplatte
11 die Musterquelle. Jedoch ist die Form
der Musterquelle nicht auf derartige kreisförmige
Muster beschränkt, sondern es können z. B. mehrere
Strichplatten 11 mit Mustern unterschiedlicher Formen
am Umfang eines Kreises auf einer Scheibe angeordnet
werden, die rotiert, um auf diese Weise ein gewünschtes
Muster auf der optischen Achse 6 zu
positionieren. Auch können wahlweise andere Musterquellen,
z. B. andere Masken, verwendet werden.
Entsprechend des ersten Ausführungsbeispiels
werden ein Paar von Nocken 31 a und 31 b und entsprechende
Nockenstößeln 32 a und 32 b für den vertikalen
Antriebsmechanismus 28 verwendet, mit dem die Einheit
aus der zweiten Beleuchtungslinse L L 2 und der ersten
Abbildungslinse L I 1 bewegt wird. Jedoch ist der
vertikale Antriebsmechanismus 28 nicht auf eine
solche Ausführung beschränkt, sondern es kann statt
dessen z. B. auch ein Antriebsmechanismus mit einer
Vorschubspindel linear die Schiebewellen 24 a und 24 b
antreiben.
In der Beschreibung des ersten Ausführungsbeispiels
wurde die Erfindung auf ein Verkleinerungsprojektionsausrichtgerät
angewandt. Jedoch ist die Erfindung nicht
auf solche Geräte beschränkt, sondern ist ebenfalls auf
alle möglichen anderen Optischen Abbildungsgeräte,
beispielsweise auf Musterschreibgeräte, anwendbar, die
ein Muster einer Musterquelle, beispielsweise eines
Mustergenerators, auf ein belichtetes Material schreiben.
Claims (3)
1. Verfahren zur optischen Abbildung, in welchem
Beleuchtungslicht von einer Lichtquelle auf ein zu
belichtendes Material mittels eines optischen Systems
übertragen wird, welches zumindest eine Musterquelle
mit einem zu projizierenden Muster und eine Projektionslinse
umfaßt, die dem Belichtungsmaterial
gegenüberliegt, um das Projektionsmuster auf das
Belichtungsmaterial abzubilden,
dadurch gekennzeichnet,
daß im optischen Linsensystem eine Anordnung verwendet wird, in der eine erste Beleuchtungslinse, eine zweite Beleuchtungslinse, die Musterquelle, eine erste Abbildungslinse und eine zweite Abbildungslinse in dieser Reihenfolge von der Lichtquelle zur Projektionslinse auf der optischen Achse angeordnet sind,
daß die erste Beleuchtungslinse ein erstes Beleuchtungslichtbild (Abbildung der Lichtquelle) außerhalb des bildseitigen Brennpunktes der ersten Abbildungslinse erzeugt,
daß die zweite Beleuchtungslinse ein zweites Beleuchtungslichtbild von diesem ersen Beleuchtungslichtbild außerhalb des objektseitigen Brennpunktes der ersten Abbildungslinse erzeugt,
daß die erste Abbildungslinse ein drittes Beleuchtungslichtbild vom zweiten Beleuchtungslichtbild mit derselben Vergrößerung wie der des ersten Beleuchtungslichtbildes auf dem ersten Beleuchtungslichtbild außerhalb des bildseitigen Brennpunktes der ersten Abbildungslinse erzeugt und ein erstes Musterbild von der Musterquelle erzeugt,
daß die zweite Abbildungslinse ein viertes Beleuchtungslichtbild vom dritten Beleuchtungslichtbild an einer zulässigen Eintrittspupillenlage der Projektionslinse erzeugt und ein zweites Musterbild vom ersten Musterbild innerhalb einer zulässigen objektraumseitigen Brennweite der Projektionslinse,
daß ein aus der zweiten Beleuchtungslinse und der ersten Abbildungslinse gebildetes Paar und die Musterquelle relativ so zueinander verschoben werden, daß die Distanz zwischen der zweiten Beleuchtungslinse und der ersten Abbildungslinse hierbei festbleibt, wodurch die Vergrößerung des zweiten Musterbildes wahlweise derart einstellbar ist, daß das zweite Musterbild in die zulässige objektraumseitige Brennweite der Projektionslinse fällt und das vierte Beleuchtungslichtbild auf die Eintrittspupillenposition oder in einen zulässigen Eintrittspupillenbereich der Projektionslinse fällt.
daß im optischen Linsensystem eine Anordnung verwendet wird, in der eine erste Beleuchtungslinse, eine zweite Beleuchtungslinse, die Musterquelle, eine erste Abbildungslinse und eine zweite Abbildungslinse in dieser Reihenfolge von der Lichtquelle zur Projektionslinse auf der optischen Achse angeordnet sind,
daß die erste Beleuchtungslinse ein erstes Beleuchtungslichtbild (Abbildung der Lichtquelle) außerhalb des bildseitigen Brennpunktes der ersten Abbildungslinse erzeugt,
daß die zweite Beleuchtungslinse ein zweites Beleuchtungslichtbild von diesem ersen Beleuchtungslichtbild außerhalb des objektseitigen Brennpunktes der ersten Abbildungslinse erzeugt,
daß die erste Abbildungslinse ein drittes Beleuchtungslichtbild vom zweiten Beleuchtungslichtbild mit derselben Vergrößerung wie der des ersten Beleuchtungslichtbildes auf dem ersten Beleuchtungslichtbild außerhalb des bildseitigen Brennpunktes der ersten Abbildungslinse erzeugt und ein erstes Musterbild von der Musterquelle erzeugt,
daß die zweite Abbildungslinse ein viertes Beleuchtungslichtbild vom dritten Beleuchtungslichtbild an einer zulässigen Eintrittspupillenlage der Projektionslinse erzeugt und ein zweites Musterbild vom ersten Musterbild innerhalb einer zulässigen objektraumseitigen Brennweite der Projektionslinse,
daß ein aus der zweiten Beleuchtungslinse und der ersten Abbildungslinse gebildetes Paar und die Musterquelle relativ so zueinander verschoben werden, daß die Distanz zwischen der zweiten Beleuchtungslinse und der ersten Abbildungslinse hierbei festbleibt, wodurch die Vergrößerung des zweiten Musterbildes wahlweise derart einstellbar ist, daß das zweite Musterbild in die zulässige objektraumseitige Brennweite der Projektionslinse fällt und das vierte Beleuchtungslichtbild auf die Eintrittspupillenposition oder in einen zulässigen Eintrittspupillenbereich der Projektionslinse fällt.
2. Vorrichtung zur optischen Abbildung, in welcher
Beleuchtungslicht von einer Lichtquelle mittels eines
optischen Systems, das zumindest eine Musterquelle
mit einem Projektionsmuster und eine Projektionslinse
umfaßt, die zur Abbildung des Projektionsmusters auf
Belichtungsmaterial diesem gegenüberliegend angeordnet
ist, auf das Belichtungsmaterial übertragen
wird,
dadurch gekennzeichnet,
daß das optische System umfaßt:
eine erste Beleuchtungslinse (L L 1), die ein erstes Beleuchtungslichtbild (i₁) von der Lichtquelle (5) außerhalb des bildraumseitigen Brennpunktes der ersten Beleuchtungslinse erzeugt;
eine zweite Beleuchtungslinse (L L 2), die ein zweites Beleuchtungslichtbild (i₂) innerhalb des bildraumseitigen Brennpunktes (F′ L 2) der zweiten Beleuchtungslinse vom von der ersten Beleuchtungslinse erzeugten Beleuchtungsbild so erzeugt, daß das erste Beleuchtungsbild (i₁) als virtuelles Bild aufgenommen wird;
eine erste Abbildungslinse (L I 1), die vom Projektionsmuster der Musterquelle (11), die innerhalb des bildraumseitigen Brennpunktes der zweiten Beleuchtungslinse (L L 2) vorgesehen ist, ein erstes Musterbild (I₁) außerhalb des bildraumseitigen Brennpunktes (F′ I 1) der ersten Abbildungslinse erzeugt und die ein drittes Beleuchtungslichtbild (i₃) vom zweiten Beleuchtungslichtbild (i₂) mit derselben Vergrößerung wie der des ersten Beleuchtungslichtbildes (i₁) auf dem ersten Beleuchtungslichtbild (i₁) erzeugt und
eine zweite Abbildungslinse (L I 1), der das erste Musterbild (I₁) und das dritte Beleuchtungslichtbild (i₃), die von der ersten Abbildungslinse (L I 1) erzeugt werden, außerhalb des objektraumseitigen Brennpunktes (F I 2) der zweiten Abbildungslinse angeboten werden und die das erste Musterbild innerhalb einer zulässigen objektraumseitigen Brennweite der Projektionslinse (L R) abbildet und ein viertes Beleuchtungslichtbild (i₄) vom dritten Beleuchtungslichtbild an einer zulässigen Eintrittspupillenposition der Projektionslinse (L R) erzeugt, daß die erste Beleuchtungslinse (L L 1), die zweite Beleuchtungslinse (L L 2), die erste Abbildungslinse (L I 1) und die zweite Abbildungslinse (L I 2) aufeinanderfolgend auf der optischen Achse angeordnet sind und daß ein aus der zweiten Beleuchtungslinse und der ersten Abbildungslinse gebildetes Paar und die Musteruqelle relativ zueinander derart bewegbar sind, daß die Distanz zwischen der zweiten Beleuchtungslinse und der ersten Abbildungslinse bei dieser Bewegung festbleibt.
eine erste Beleuchtungslinse (L L 1), die ein erstes Beleuchtungslichtbild (i₁) von der Lichtquelle (5) außerhalb des bildraumseitigen Brennpunktes der ersten Beleuchtungslinse erzeugt;
eine zweite Beleuchtungslinse (L L 2), die ein zweites Beleuchtungslichtbild (i₂) innerhalb des bildraumseitigen Brennpunktes (F′ L 2) der zweiten Beleuchtungslinse vom von der ersten Beleuchtungslinse erzeugten Beleuchtungsbild so erzeugt, daß das erste Beleuchtungsbild (i₁) als virtuelles Bild aufgenommen wird;
eine erste Abbildungslinse (L I 1), die vom Projektionsmuster der Musterquelle (11), die innerhalb des bildraumseitigen Brennpunktes der zweiten Beleuchtungslinse (L L 2) vorgesehen ist, ein erstes Musterbild (I₁) außerhalb des bildraumseitigen Brennpunktes (F′ I 1) der ersten Abbildungslinse erzeugt und die ein drittes Beleuchtungslichtbild (i₃) vom zweiten Beleuchtungslichtbild (i₂) mit derselben Vergrößerung wie der des ersten Beleuchtungslichtbildes (i₁) auf dem ersten Beleuchtungslichtbild (i₁) erzeugt und
eine zweite Abbildungslinse (L I 1), der das erste Musterbild (I₁) und das dritte Beleuchtungslichtbild (i₃), die von der ersten Abbildungslinse (L I 1) erzeugt werden, außerhalb des objektraumseitigen Brennpunktes (F I 2) der zweiten Abbildungslinse angeboten werden und die das erste Musterbild innerhalb einer zulässigen objektraumseitigen Brennweite der Projektionslinse (L R) abbildet und ein viertes Beleuchtungslichtbild (i₄) vom dritten Beleuchtungslichtbild an einer zulässigen Eintrittspupillenposition der Projektionslinse (L R) erzeugt, daß die erste Beleuchtungslinse (L L 1), die zweite Beleuchtungslinse (L L 2), die erste Abbildungslinse (L I 1) und die zweite Abbildungslinse (L I 2) aufeinanderfolgend auf der optischen Achse angeordnet sind und daß ein aus der zweiten Beleuchtungslinse und der ersten Abbildungslinse gebildetes Paar und die Musteruqelle relativ zueinander derart bewegbar sind, daß die Distanz zwischen der zweiten Beleuchtungslinse und der ersten Abbildungslinse bei dieser Bewegung festbleibt.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Distanz zwischen der zweiten Beleuchtungslinse
(L L 2) und der ersten Abbildungslinse (L I 1)
geringer als die Gesamtheit der Brennweiten der
zweiten Beleuchtungslinse und der ersten Abbildungslinse
ist, so daß die Musterquelle (11) und das
zweite Beleuchtungslichtbild (i₂) innerhalb des
bildraumseitigen Brennpunktes (F′ L 2) der zweiten
Beleuchtungslinse (L L 2) und außerhalb des objektraumseitigen
Brennpunktes (F I 1) der ersten Abbildungslinse
(L I 1) liegen.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6327589A JPH0812843B2 (ja) | 1989-03-15 | 1989-03-15 | 光学結像装置及び方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4007069A1 true DE4007069A1 (de) | 1990-09-20 |
DE4007069C2 DE4007069C2 (de) | 1995-06-29 |
Family
ID=13224596
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4007069A Expired - Fee Related DE4007069C2 (de) | 1989-03-15 | 1990-03-07 | Vorrichtung zur optischen Abbildung |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5061956A (de) |
JP (1) | JPH0812843B2 (de) |
DE (1) | DE4007069C2 (de) |
NL (1) | NL9000599A (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1118909A1 (de) * | 1991-02-22 | 2001-07-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Abbildungsverfahren zur Herstellung von Mikrovorrichtungen |
DE102006038455A1 (de) * | 2006-08-16 | 2008-02-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System für die Halbleiterlithographie |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5229811A (en) * | 1990-06-15 | 1993-07-20 | Nikon Corporation | Apparatus for exposing peripheral portion of substrate |
NL9100202A (nl) * | 1991-02-05 | 1992-09-01 | Asm Lithography Bv | Lithografische inrichting met een hangende objecttafel. |
US6128068A (en) * | 1991-02-22 | 2000-10-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection exposure apparatus including an illumination optical system that forms a secondary light source with a particular intensity distribution |
NL9100421A (nl) * | 1991-03-08 | 1992-10-01 | Asm Lithography Bv | Ondersteuningsinrichting met een kantelbare objecttafel alsmede optisch lithografische inrichting voorzien van een dergelijke ondersteuningsinrichting. |
JPH0536586A (ja) * | 1991-08-02 | 1993-02-12 | Canon Inc | 像投影方法及び該方法を用いた半導体デバイスの製造方法 |
US5424803A (en) * | 1991-08-09 | 1995-06-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection exposure apparatus and semiconductor device manufacturing method |
JP3210123B2 (ja) * | 1992-03-27 | 2001-09-17 | キヤノン株式会社 | 結像方法及び該方法を用いたデバイス製造方法 |
JP3278896B2 (ja) * | 1992-03-31 | 2002-04-30 | キヤノン株式会社 | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
KR20090116333A (ko) * | 2008-05-07 | 2009-11-11 | 주식회사 프로텍 | 상하 독립구동 방식의 양면 동시 노광시스템 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4737823A (en) * | 1986-06-16 | 1988-04-12 | U.S. Philips Corporation | Opto-lithographic device comprising a displaceable lens system and method of controlling the imaging properties of lens system in such a device |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU406392B2 (en) * | 1966-12-05 | 1970-10-07 | Method and apparatus forthe production of masks for use inthe manufacture of planar transistors and integrated circuits | |
US4811055A (en) * | 1984-02-27 | 1989-03-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection exposure apparatus |
JPS6119129A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-28 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 投影光学装置 |
JPH0720755B2 (ja) * | 1985-03-28 | 1995-03-08 | 大日本印刷株式会社 | 疑似円形描画用光学作図装置 |
JPS63246296A (ja) * | 1987-03-31 | 1988-10-13 | 三菱電機株式会社 | Icカ−ド装置 |
JP2690960B2 (ja) * | 1988-09-07 | 1997-12-17 | 株式会社日立製作所 | 拡大投影露光方法及びその装置 |
-
1989
- 1989-03-15 JP JP6327589A patent/JPH0812843B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-03-07 DE DE4007069A patent/DE4007069C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-03-12 US US07/491,505 patent/US5061956A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-03-15 NL NL9000599A patent/NL9000599A/nl not_active Application Discontinuation
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4737823A (en) * | 1986-06-16 | 1988-04-12 | U.S. Philips Corporation | Opto-lithographic device comprising a displaceable lens system and method of controlling the imaging properties of lens system in such a device |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1118909A1 (de) * | 1991-02-22 | 2001-07-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Abbildungsverfahren zur Herstellung von Mikrovorrichtungen |
US6473160B2 (en) | 1991-02-22 | 2002-10-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection exposure apparatus and device manufacturing method including an aperture member having a circular light transmitting portion and a light blocking member |
US6654101B2 (en) | 1991-02-22 | 2003-11-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method including changing a photo-intensity distribution of a light source and adjusting an illuminance distribution on a substrate in accordance with the change |
DE102006038455A1 (de) * | 2006-08-16 | 2008-02-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System für die Halbleiterlithographie |
US9383544B2 (en) | 2006-08-16 | 2016-07-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical system for semiconductor lithography |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL9000599A (nl) | 1990-10-01 |
JPH02241018A (ja) | 1990-09-25 |
US5061956A (en) | 1991-10-29 |
DE4007069C2 (de) | 1995-06-29 |
JPH0812843B2 (ja) | 1996-02-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4133037C2 (de) | Belichtungsvorrichtung | |
DE3318980C2 (de) | Vorrichtung zum Justieren beim Projektionskopieren von Masken | |
DE69233508T2 (de) | Bilderzeugungsgerät und -Verfahren zur Herstellung von Mikrovorrichtungen | |
DE102008064504B4 (de) | Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie | |
DE69728948T2 (de) | Projektionsbelichtungsvorrichtung und Verfahren | |
DE69434080T2 (de) | Abtastbelichtungsvorrichtung | |
DE3116190C2 (de) | ||
DE60219404T2 (de) | Beleuchtungsvorrichtung | |
DE3104007A1 (de) | Projektions-druckgeraet | |
DE3342719C2 (de) | Positionierungseinrichung in einem Projektionsbelichter | |
DE2817364A1 (de) | Positioniervorrichtung und damit ausgeruestetes optisches projektionssystem | |
DE2817401A1 (de) | Optische vorrichtung zum projizieren von motiven | |
DE102008007449A1 (de) | Beleuchtungsoptik zur Beleuchtung eines Objektfeldes einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie | |
DE3872705T2 (de) | Vorrichtung und verfahren zum feststellen/regulieren des freiraums bei einer lithographiemaschine. | |
DE2817400A1 (de) | Verfahren zum ausrichten eines halbleiterplaettchens und nach diesem verfahren arbeitender photowiederholer | |
DE60120825T2 (de) | Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, sowie durch dieses Verfahren hergestellte Vorrichtung | |
EP0746800B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur photomechanischen herstellung strukturierter oberflächen, insbesondere zum belichten von offsetdruckplatten | |
DE69727016T2 (de) | Belichtungsapparat | |
DE4007069C2 (de) | Vorrichtung zur optischen Abbildung | |
DE102004014766A1 (de) | Verfahren zur Verzeichnungskorrektur in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage | |
DE3404063C2 (de) | ||
DE19809395A1 (de) | Beleuchtungssystem und REMA-Objektiv mit Linsenverschiebung und Betriebsverfahren dafür | |
DE2948646C2 (de) | Projektionskopiervorrichtung | |
DE3118632A1 (de) | Belichtungsprojektionsgeraet | |
EP3559724A1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur belichtung einer lichtempfindlichen schicht |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8125 | Change of the main classification |
Ipc: G03F 7/20 |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |