JPH0720755B2 - 疑似円形描画用光学作図装置 - Google Patents

疑似円形描画用光学作図装置

Info

Publication number
JPH0720755B2
JPH0720755B2 JP6190685A JP6190685A JPH0720755B2 JP H0720755 B2 JPH0720755 B2 JP H0720755B2 JP 6190685 A JP6190685 A JP 6190685A JP 6190685 A JP6190685 A JP 6190685A JP H0720755 B2 JPH0720755 B2 JP H0720755B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aperture
blades
blade
pseudo
photosensitive material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP6190685A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61220895A (ja
Inventor
忠夫 櫛田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP6190685A priority Critical patent/JPH0720755B2/ja
Publication of JPS61220895A publication Critical patent/JPS61220895A/ja
Publication of JPH0720755B2 publication Critical patent/JPH0720755B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はガーバーフォト作図機等の光学作図装置に関
し,特にシャドウマスク用マスク原版作成に用いるに好
適な光学作図装置に関する。
従来の技術 シャドウマスク用原版作成のため,感光材料に所定のパ
ターンを焼付ける方法として,ガーバーフォト作図機等
の光学作図装置が用いられている。光学作図装置は,一
般に,互いに接近及び離れるように移動可能な2枚の第
一ブレードと,該第一ブレードと直交する方向で互いに
接近及び離れるように移動可能な2枚の第二ブレードと
からなる可変アパーチャーを有し,該アパーチャーを通
してフラッシュ露光することにより,感光材料にアパー
チャーと同一形状の図形を焼付けている。可変アパーチ
ャーを構成するブレードのアパーチャー形成エッジはい
ずれも直線状であり,従ってアパーチャー形状は矩形状
である。この可変アパーチャーは,スロットタイプのシ
ャドウマスクの製造に好適に使用されている。
発明が解決しようとする問題点 最近シャドウマスクパターンのファインピッチ化が進み
且つファインピッチでは矩形でなく,丸孔タイプが使用
されている。感光材料に光学作図装置を用いて丸孔を焼
付けるには,上記した従来の可変アパーチャーに代え
て,所定の大きさの円形の固定アパーチャーが用いられ
ている。ところが,固定アパーチャーでは一定大きさの
孔しか感光材料に焼付けできず,従って,シャドウマス
クパターンにグレーディングを形成できないと言う問題
がある。
本発明はかかる従来の問題を解消せんとするもので,円
形に近い形状を任意の大きさに調整して焼付けることの
できる光学作図装置を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段 即ち,本発明は互いに接近及び離れるように移動可能な
2枚の第一ブレードと,該第一ブレードと交叉する方向
で互いに接近及び離れるように移動可能な2枚の第二ブ
レードとからなる可変アパーチャーを有する光学作図装
置において,前記第一及び第二ブレードの少なくとも一
方のアパーチャー形成エッジに凹部を形成したことを特
徴とする疑似円形描画用光学作図装置を要旨とする。
作用 本発明の可変アパーチャーは,アパーチャーを構成する
第一ブレード,第二ブレードの少なくとも一方のエッジ
に凹部を形成したので,アパーチャーの断面形状が従来
の矩形に比べ,少なくとも向い合う一対の辺が外側に膨
らんだ形状となり,矩形よりも円形に近い。このような
円形に近い断面(以下疑似円形と言う)のアパーチャー
を通して感光材料を露光することにより,感光材料に疑
似円形を焼付けることができる。また,本発明の可変ア
パーチャーは移動可能な第一ブレード,第二ブレードで
構成されているので,アパーチャーの大きさを任意に調
整可能であり,従って,感光材料に任意の大きさの疑似
円形を焼付けることができる。かくして形成した原版を
用いて通常の方法でシャドウマスクを製造すると,シャ
ドウマスクのエッチング時に,上記疑似円形の角部に丸
みが生じる為,シャドウマスクには最終的にほぼ円形の
孔が形成される。
実施例 以下,図面に示す本発明の好適な実施例を説明する。
第1図は本発明の光学作図装置の一実施例を示す概略斜
視図である。図に於いて,1は露光ヘッド,2は露光される
べき感光材料3を乗せたテーブルである。露光ヘッド1
は光源5,可変アパーチャー6,レンズ系7を有し,感光材
料3上に可変アパーチャー6のアパーチャー即ち開口6A
を適当な大きさに縮小して露光する。可変アパーチャー
6は,互いに向い合って配置され且つX軸方向で接近及
び離れるように移動可能な2枚の第一ブレード8と,互
いに向い合って配置され,前記第一ブレード8の移動方
向に直角な方向(Y軸方向)で互いに接近及び離れるよ
うに移動可能な2枚の第二ブレード9からなる。各ブレ
ード8,9にはそれぞれ駆動機構(図示せず)が連結さ
れ,制御装置(図示せず)の信号によりブレード8,9で
形成される開口6Aの大きさを任意に調整する。露光ヘッ
ド1とテーブル2との一方若しくは双方には,両者を相
対的にX軸方向,Y軸方向に移動させる駆動装置(図示せ
ず)が連結され,制御装置からの信号により露光ヘッド
1を感光材料3上方の所定位置に位置決めする。かくし
て,露光ヘッド1により感光材料3上の所定の位置に,
所定の大きさの図形が露光される。なお,これらの機構
は公知であるので,詳細な説明は省略する。
本実施例では上記ブレード8,9として,第2図に拡大し
て示すように,開口6Aを形成するアパーチャー形成エッ
ジに頂角が135度をなすV字状の凹部8A,9Aを設けたもの
を用いる。これらの凹部8A,9Aにより形成される開口6A
は,常に正八角形であり,従って,ブレード8,9のX軸
方向,Y軸方向への移動により種々な大きさの正八角形が
形成される。この正八角形の開口6Aを通して露光するこ
とにより,感光材料3上には正八角形の図形が描画され
る。
ブレード8,9に形成する凹部は種々の変形が可能であ
る。第3図はブレード8,9の一変形例を示すもので,一
方のブレード8に頂角が120度のV字状の凹部8Bが形成
され,他方のブレード9は直線状のまである。本例で
は,ブレード8,9により種々な大きさの正六角形が形成
されるので,この可変アパーチャーを用いることによ
り,正六角形の図形を描画できる。
第4図,第5図はそれぞれ,ブレード8,9の更に他の変
形例を示すもので,第4図は一方のブレード8のみに円
弧状の凹部8Cを,第5図は各ブレードに円弧状の凹部8
C,9Cを形成したものである。これらの例では円弧状の二
辺或いは四辺を持った開口6Aが形成でき,感光材料3
(第1図)に対しこの形状に相似な図形を描画できる。
なお,上記実施例はいずれも第一ブレード8と第二ブレ
ード9とが直角方向に移動するものであるが,本発明は
この場合に限定されず,ブレード8,9は両者が交叉して
閉じた開口を形成でき,且つ交叉する方向に移動可能で
あればよい。
発明の効果 以上に説明したように,本発明の光学作図装置は可変ア
パーチャー6として,少なくとも一対のブレードのアパ
ーチャー形成エッジに凹部を設けたものを用いているの
で,ブレードに依って形成される開口6Aが,従来の矩形
に比べ円形に近い形状(疑似円形)となっており,しか
も開口6Aの大きさは可変であるので,種々な大きさの,
且つ円形に近い図形を感光材料3に焼付けることができ
る。本発明装置により,シャドウマスク用のパターンを
形成し,これを用いてシャドウマスクを製作すると,シ
ャドウマスクには所望大きさの,ほぼ円形断面の多数の
孔を形成することができる。
なお,上記説明は本発明装置をシャドウマスク製造に用
いた場合を示したが,本発明装置の用途はこの場合に限
定されないことは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の概略斜視図,第2図は可変
アパーチャーの平面図,第3図〜第5図はそれぞれ可変
アパーチャーの変形例を示す平面図である。 1……露光ヘッド、2……テーブル 3……感光材料、5……光源 6……可変アパーチャー、6A……開口 7……レンズ系、8……第一ブレード 9……第二ブレード、8A,8B,8C……凹部 9A,9C……凹部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】互いに接近及び離れるように移動可能な2
    枚の第一ブレードと,該第一ブレードと交叉する方向で
    互いに接近及び離れるように移動可能な2枚の第二ブレ
    ードとからなる可変アパーチャーを有する光学作図装置
    において,前記第一及び第二ブレードの少なくとも一方
    のアパーチャー形成エッジに凹部を形成したことを特徴
    とする疑似円形描画用光学作図装置。
JP6190685A 1985-03-28 1985-03-28 疑似円形描画用光学作図装置 Expired - Lifetime JPH0720755B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6190685A JPH0720755B2 (ja) 1985-03-28 1985-03-28 疑似円形描画用光学作図装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6190685A JPH0720755B2 (ja) 1985-03-28 1985-03-28 疑似円形描画用光学作図装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61220895A JPS61220895A (ja) 1986-10-01
JPH0720755B2 true JPH0720755B2 (ja) 1995-03-08

Family

ID=13184663

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6190685A Expired - Lifetime JPH0720755B2 (ja) 1985-03-28 1985-03-28 疑似円形描画用光学作図装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0720755B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0812843B2 (ja) * 1989-03-15 1996-02-07 日本精工株式会社 光学結像装置及び方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58136500A (ja) * 1982-02-09 1983-08-13 横河電機株式会社 フォトプロッタによる閉図形塗りつぶし方法
JPS58150867U (ja) * 1982-04-02 1983-10-08 ソニー株式会社 長ランド用アパ−チヤ−

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61220895A (ja) 1986-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960010026B1 (ko) 마스크가 사용되고 위상전이를 이용하는 패턴 노광 방법
KR950009365A (ko) 노광장치 및 노광방법
KR20130027609A (ko) 노광 시스템과, 이 시스템으로 제조되는 포토마스크 및 웨이퍼
KR930006840A (ko) 포토마스크 및 그것을 사용한 레지스터패턴 형성방법
JP2006126823A (ja) 可変矩形型電子ビーム露光装置及びパターン露光・形成方法
US6661498B1 (en) Projection exposure apparatus and method employing rectilinear aperture stops for use with periodic mask patterns
US5598250A (en) Prefabricated modified illumination apparatus for forming fine patterns in a semiconductor device
JPH0720755B2 (ja) 疑似円形描画用光学作図装置
US3697178A (en) Method of projection printing photoresist masking layers, including elimination of spurious diffraction-associated patterns from the print
KR100506938B1 (ko) 2차원적으로 반복하는 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한포토마스크 및 그것을 제조하는 방법
CN108170009B (zh) 曝光设备、曝光方法、彩膜基板及其制作方法
US4806987A (en) Projection-exposing apparatus
JP4022389B2 (ja) 微細パターン形成方法
JPS61220896A (ja) 特殊図形描画用光学作図装置
JPH01175730A (ja) 露光装置
US3836916A (en) Apparatus for exposing lines on a photosensitive surface
JPH03156459A (ja) メモリ半導体構造及び位相シフトマスク
JPH0697648B2 (ja) 電子ビーム露光装置
JPS59192248A (ja) レテイクル
TWI602029B (zh) 圖刻一基材之方法
JPH10142769A (ja) フォトマスク及び半導体装置のパターン形成方法
JPS61255022A (ja) 電子ビ−ム露光方法
JPH11195592A (ja) 変形照明用可変式アパーチャ、露光装置およびパターン形成方法
JPH0618171B2 (ja) アパーチャ絞り
JPH03191348A (ja) 縮小投影露光用レティクル