DE2817401A1 - Optische vorrichtung zum projizieren von motiven - Google Patents
Optische vorrichtung zum projizieren von motivenInfo
- Publication number
- DE2817401A1 DE2817401A1 DE19782817401 DE2817401A DE2817401A1 DE 2817401 A1 DE2817401 A1 DE 2817401A1 DE 19782817401 DE19782817401 DE 19782817401 DE 2817401 A DE2817401 A DE 2817401A DE 2817401 A1 DE2817401 A1 DE 2817401A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- devices
- slide
- carriage
- objective
- distance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70833—Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/34—Means for automatic focusing therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Variable Magnification In Projection-Type Copying Machines (AREA)
Description
Optische Vorrichtung zum Projizieren von Motiven
Die Erfindung bezieht sich auf optische Projektionsvorrichtungen
und betrifft insbesondere Photowiederholvorrichtungen, die im Hinblick auf die Herstellung von elektronischen
Schaltungen und elektronischen Bauelementen in Maskierungstechnik für die Übertragung von Motiven auf eine lichtempfindliche
Platte bestimmt sindo
Eine Photowiederholvorrichtung enthält eine Lichtquelle, die ein modulierendes Objekt beleuchtet, dessen ungleichmäßige
Lichtdurchlässigkeit das zu übertragende Motiv kennzeichnet, und ein Objektiv, das das Bild des Motivs mit einer Vergrößerung,
die im allgemeinen gleich 1:10 ist, auf eine lichtempfindliche Platte projiziert,, Das Motiv wird in einer Anordnung
aus Zeilen und Spalten wiederholt, wobei die lichtempfind-
809843/0980
liehe Platte durch eine Platine abgestützt ist, die mit einem
Tisch fest verbunden ist, welcher Verschiebeeinrichtungen aufweist,
die gestatten, das Objektiv nach Belieben über gewisse Bereiche der Platte zu bringen« Die optische Vorrichtung
nach der Erfindung ist vor allem dadurch gekennzeichnet, daß einerseits das Objekt und andererseits das Objektiv in einer
zu der optischen Achse der Vorrichtung parallelen Richtung verschoben werden können, was gestattet, sowohl die Vergrößerung
als auch die Scharfeinstellung zu regulieren, ohne daß die Ausrichtung der Elemente in bezug auf die optische Achse
gestört wirdo Sie enthält eine Regelung für die Scharfeinstellung
ohne Modifizierung der Vergrößerung. Sie gestattet außerdem die Verwendung von verschiedenen Arten von Objektiven.
Die Erfindung kann bei der Herstellung von Masken benutzt werden,
die für die spätere Übertragung einer Sammlung von Motiven
mit reduzierten Abmessungen in wahrer Größe auf ein Substrat oder für das direkte Abziehen der Motive in verkleinertem
Maßstab auf das Substrat selbst durch das Verfahren der direkten Photowiederholung bestimmt sind.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird im folgenden unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen näher beschrieben.
Es zeigen:
Fig. 1 ein Gesamtschema einer optischen Vor
richtung zum Projizieren von Motiven, und
Fig. 2 ■ eine Photowiederholvorrichtung nach
der Erfindung.
8O98A3/O90Q
— O ~
Fig. 1 zeigt das Gesamtschema einer Projektionsvorrichtung mit einem Objektiv,, Sie enthält eine Lichtquelle 30, beispielsweise
eine Quecksilberdampflampe oder jede andere Art von Lichtquelle für im wesentlichen monochromatisches Licht
der Wellenlänge λ, die für eine vorbestimmte Dauer ein
Lichtbündel 33 mit der Achse ζ liefert, welches ein Objekt über einen Kondensor 31 beleuchtet» Das Objekt befindet sich in einer Ebene, die zu der optischen Achse ζ senkrecht isto Es wird durch einen Objektträger 38 gehalten„ Das Motiv 39, das auf dem Objekt 32 eingetragen ist, wird auf eine Platte 5, deren Oberfläche für Licht der Wellenlänge λ empfindlich ist, durch ein Objektiv 34 projiziert, dessen Vergrößerung kleiner als 1 ist» In dem besonderen Fall der Photowiederholung erfolgt die Projektion vielmals auf verschiedene Zonen der Platte 5, beispielsweise in einer Anordnung in Zeilen und Spalten» Die Platte 5 ruht auf einem Tisch 4, der in Richtung der X- und der Y-Achse durch eine Verschiebeeinrichtung 37 verschoben werden kann, die Schrittmotoren enthält a Die Platte 5
kann eine Maske sein, die aus einer lichtdurchlässigen dünnen Platte besteht, welche mit einer photographischen Emulsion oder mit einer Photolackschicht, die einen lichtundurchlässigen feinen Überzug bedeckt, der graviert werden soll, bedeckt ist. Sie kann ein halbleitendes Substrat sein, das mit einem lichtempfindlichen Harz überzogen isto Weitere Verschiebeeinrichtungen 36 können vorgesehen sein, mittels welchen das Objekt in bezug die Bezugsachsen X und Y positioniert
wird.
Lichtbündel 33 mit der Achse ζ liefert, welches ein Objekt über einen Kondensor 31 beleuchtet» Das Objekt befindet sich in einer Ebene, die zu der optischen Achse ζ senkrecht isto Es wird durch einen Objektträger 38 gehalten„ Das Motiv 39, das auf dem Objekt 32 eingetragen ist, wird auf eine Platte 5, deren Oberfläche für Licht der Wellenlänge λ empfindlich ist, durch ein Objektiv 34 projiziert, dessen Vergrößerung kleiner als 1 ist» In dem besonderen Fall der Photowiederholung erfolgt die Projektion vielmals auf verschiedene Zonen der Platte 5, beispielsweise in einer Anordnung in Zeilen und Spalten» Die Platte 5 ruht auf einem Tisch 4, der in Richtung der X- und der Y-Achse durch eine Verschiebeeinrichtung 37 verschoben werden kann, die Schrittmotoren enthält a Die Platte 5
kann eine Maske sein, die aus einer lichtdurchlässigen dünnen Platte besteht, welche mit einer photographischen Emulsion oder mit einer Photolackschicht, die einen lichtundurchlässigen feinen Überzug bedeckt, der graviert werden soll, bedeckt ist. Sie kann ein halbleitendes Substrat sein, das mit einem lichtempfindlichen Harz überzogen isto Weitere Verschiebeeinrichtungen 36 können vorgesehen sein, mittels welchen das Objekt in bezug die Bezugsachsen X und Y positioniert
wird.
Die Vergrößerung G, die durch das Objektiv 34 hervorgerufen wird, ist gleich d/H, wobei d der Abstand zwischen dem Objektiv
und der Oberfläche der Platte 5 und H der Abstand
809843/096Q
zwischen dem Objektiv und der Oberfläche des Objekts 32 ist»
Wenn f die Brennweite des Objektivs ist, gilt für die optische Konjugation des Objekts 32 und der Platte 5 die Gleichung
_T_ J_ _ J_ Bei dem Anbringen der verschiedenen Elemente ist
es erforderlich, die Abstände H und d einzustellen, um die
Scharfeinstellung und die gewünschte Vergrößerung zu gewährleisten,,
Darüber hinaus müssen im Verlauf einer Übertragungsoperation diese Einstellungen beibehalten werden, und zwar
unter Berücksichtigung evtlo Planheitsfehler der Platte 5
und Translationsfehler des Tisches 4„ Schließlich sollen diese
Einstellungen die Ausrichtung der verschiedenen Elemente in bezug auf die Referenzachsen X und Y nicht beeinträchtigen„
Zu diesem Zweck sieht die Erfindung Verschiebeeinrichtungen vor, die auf das Objekt und auf das Objektiv einwirken und gestatten,
die Abstände d und H einzustellen, ohne die Parallelität und die Ausrichtung der verschiedenen Elemente längs der
optischen Achse ζ zu modifizieren,;,
Figo 2 zeigt eine Ansicht einer Ausführungsform der Photowiederholvorrichtung
und insbesondere der Verschiebeeinrichtungen 35 ο Die verschiedenen Elemente der Vorrichtung ruhen auf
zwei Granitblöcken: einem unteren Granitblock 1 und einem oberen, in seiner Mitte ausgesparten Granitblock 2, die durch
verstellbare Stäbe voneinander getrennt sind, von denen lediglich ein Stab 3 in Fig. 2 sichtbar ist. Die beiden Granitblöcke
legen zwei parallele Ebenen fest. Die Einstellung der Parallelität kann an dem Autokollimationsokular auf + 5 Bogensekunden
kontrolliert werden» Auf dem unteren Granitblock ruht der Tisch 4, der die Platte 5 trägt, deren Verschiebungen in der
X- und in der Y-Richtung in der durch den Granitblock festgelegten Bezugsebene erfolgen. Zwischen den beiden Ebenen ist
8O9843/09SG
ein Ständer 11 angeordnet, von welchem lediglich der mit dem
Granitblock 1 fest verbundene untere Teil 110 und der mit dem Granitblock 2 fest verbundene obere Teil 111 in Figo 2 sichtbar
sind. Die unteren Seitenwände des Ständers tragen Führungsschienen 9 und 10, die zu der optischen Achse ζ parallel sind
und das Verschieben des Objekts und des Objektivs gestatteno
Die verschiedenen Teile sind in einer zu der z-Achse parallelen Richtung von unten nach oben folgendermaßen übereinander angeordnet:
Auf dem unteren Teil des Ständers 110 sind elektromechanische
Wandlereinrichtungen befestigt, beispielsweise ein Stapel von piezoelektrischen Keramiken 12, die mit Fühlern,
welche dem Objektiv zugeordnet sind, im Hinblick auf eine Regelung der Scharfeinstellung zusammenwirken. Auf den
Keramiken 12 ist ein auslegerartiges Teil 13 angeordnet,
das einen verjüngten Bereich 130 hat und dessen unterer Teil auf dem Ständerteil 110 befestigt isto Diese Anordnung ist
aus der FR-OS 76O34 914 bekannte Über dieser Anordnung befindet
sich ein keilförmiges Teil 14, dessen untere Fläche eine gegen die z-Achse geneigte Ebene bildete Dieses Teil ist
an dem Teil 13 über zwei Rollen 15 und 16 befestigt, die feste, mit dem Teil 13 verbundene Achsen haben» Diese Rollen können
sich frei drehen, so daß sie eine Verschiebung unter der Einwirkung einer Mikrometerschraube 17, die durch den Ständer 11
hindurchgeführt und daher für die Bedienungsperson zugänglich ist, in einer zu der z-Achse senkrechten Richtung t zulassen»
Das Teil 14 dient als Stütze für einen Schlitten 18, der mit einem Objektivträger 6 fest verbunden ist, welcher seinerseits
das Objektiv 34 trägt. Der Schlitten 18 kann längs des Ständers auf den Führungsschienen 9 und 10 in einer zu der
z-Achse parallelen Richtung verschoben werden. Ein Lagersystem 20,
809843/0980
das aus Kugeln oder Rollen gebildet sein kann, gestattet die
Verschiebung des Teils 14 in bezug auf den Schlitten 18 in der Richtung t. Die aus dem Teil 14, dem Schlitten 18, den
Rollen 15 und 16 und dem Lagersystem 20 gebildete Anordnung
gestattet, eine Bewegung in einer Richtung t, die durch die Schraube 17 hervorgerufen wird, in eine Bewegung in einer
dazu senkrechten und zu der z-Achse parallelen Richtung umzuwandeln
„ Auf diese Weise kann der Abstand d zwischen dem Objektiv 34 und der Platte 5 mit Hilfe der Schraube 17 verändert
werden., Im übrigen ist zu erkennen, daß die Kontraktion
oder die Ausdehnung des Stapels der Keramiken 12 durch die Regelung gestattet, durch Verschieben des Objektivs den Abstand
d konstant zu halten, ohne daß der Abstand H und daher die Vergrößerung modifiziert werden. Oberhalb des Schlittens
10 ist eine zweite Verschiebeeinrichtung angeordnet, die der vorstehend beschriebenen fast gleicht und aus einer einzigen
Rolle 22 mit fester Achse in der Mitte des Schlittens 18, einem keilförmigen Teil 21, das in der Richtung t unter der
Einwirkung einer Mikrometerschraube 24 verschoben werden kann, deren Ende für die Bedienungsperson außerhalb des Ständers
zugänglich ist, und einem Lagersystem 23, das einen mit dem Objektträger 38 fest verbundenen Schlitten 19 trägt, gebildet
isto Der Schlitten 19 kann längs der Schienen 9 und 10
verschoben werden und die Bewegung in der Richtung t, die durch die Schraube 24 hervorgerufen wird, wird durch das
Teil 21 in eine Bewegung in der Richtung der z-Achse umgewandelt, was das Regulieren des Abstandes H gestattet., Da
die Position der beiden Schlitten durch Schienen geführt wird, ist zu erkennen, daß es wichtig ist, eine einzige Rolle 22 zu
haben, um einen Betrieb der Anordnung zu verhindern, der sta-
809843/0960
tisch überbestimmt wäre. Dagegen sind zwei Rollen 15 und 16
für das Teil 14 vorzuziehen, da sich dieses Teil zwischen dem durch die Schienen 9 und 10 geführten Schlitten 18 und
dem Teil 13, das Teil einer elastischen Vorrichtung ist, befindet.
Die Position des Teils 14 soll eine Referenzposition in bezug auf den Schlitten sein, was durch zwei Berührungspunkte
mittels der beiden Rollen 15 und 16 realisiert wird, deren Radien in Anpassung an den durch das Teil 14 gebildeten
Winkel unterschiedlich gewählt sind. Die Übereinanderanordnung der verschiedenen Elemente in der vorzugsweise vertikalen
z-Richtung führt zu einer einzigen Drucklinie, die zur Herstellung eines Gleichgewichts mit der Schwerkraft zusammenwirkt.
Zur Verringerung der Druckkraft, die auf die Keramiken aufgrund des hohen Gewichts der Elemente, insbesondere des Objektträgers,
ausgeübt wird, können zwischen dem oberen Ständerteil 111 und dem Objektträger 19 Federn angeordnet werden.
In Fig. 2 sind drei Federn 39, 40, 41 sichtbar. Weitere Federn 25, 26 und 27, 28 sind außerdem beispielsweise zwischen
den Schlitten 18 und 19 bzwQ zwischen dem Schlitten 18 und
dem unteren Ständerteil 110 vorgesehen, um jegliches Spiel zu beseitigen und die Stabilität der Regelschleife zu gewährleisten.
Die Justierungen der Vergrößerung und der Scharfeinstellung vor einer Operation der Übertragung von Motiven werden vorgenommen,
indem gleichzeitig die beiden Mikrometerschrauben 17 und 24 verstellt werden. Die Änderung des Abstandes d und
die Änderung des Abstandes H wirken sich nämlich gleichzeitig auf die Vergrößerung und auf die Scharfeinstellung aus. Die
Justierungen dienen dem Zweck, die Scharfeinstellung an das
809843/0989
benutzte Objektiv anzupassen, da die Kenndaten von einem Objektiv zum anderen differieren können, und die gewünschte Vergrößerung
zu erzielen» Die Vergrößerung G beträgt im typischen Fall 1:10. Für ein Objektiv mit der Brennweite f = 50 mm erhält
man H + d = 600 mm, d = 54,6 mm. In einer Ausführungsform
der Erfindung hat die maximale Abweichung für d den Wert 4 mm und für H den Wert 1 mm, Die erzielte Genauigkeit für
die Vergrößerung beträgt 10 .Im Verlauf einer Übertragungsoperation werden die Mikrometerschrauben 17 und 24 nicht mehr
verstellto Vielmehr wird der Abstand d durch eine Fokussierungsregelung
mit Hilfe der Keramiken 12 konstant gehalten. In derselben Ausführungsform beträgt die Dynamik der Keramiken — 40
um, bei Betätigungsspannungen von — 1000 V. Wenn aufgrund der
Nichtplanheit der Platte 5 oder eines Translationsfehlers des Tisches 4 sich der Abstand d etwas ändert, bringt die Regelung
durch die Ausdehnung oder die Zusammenziehung der Keramiken den Abstand d wieder auf seinen Nennwert, indem sie nicht nur
eine Verschiebung des Objektivs, sondern auch eine Verschiebung des Objekts hervorruft und somit dabei den Abstand H beibehält
ο Der Abstand d kann bis auf 0,2 um geregelt werden.
8O98A3/0960
Claims (8)
1. Optische Vorrichtung zum Projizieren von Motiven, die gestattet, mit einer vorbestimmten Vergrößerung das
Bild eines Objekts, das eine ungleichmäßige Lichtdurchlässigkeit hat, auf einer lichtempfindlichen Oberfläche
zu reproduzieren, mit einer Quelle, die ein Bündel zur Beleuchtung der lichtempfindlichen Oberfläche liefert,
und mit, überlagert auf ein und derselben optischen Achse, einem durch einen Objektivträger gehalterten Objektiv,
einer Probe mit einer lichtempfindlichen Oberfläche und einem Objekt, das zwischen der Quelle und dem Objektiv
angeordnet und durch einen Objektträger gehaltert istf wobei das Bild des Objekts durch das Objektiv auf die
lichtempfindliche Oberfläche projiziert wird, und mit elektromechanischen Wandlereinrichtungen, die eine Fokussierungsregelung
vornehmen, indem sie eine Verschiebung
809843/0960
ORIGINAL INSPECTED
des Objektivträgers in der optischen Achse hervorruf en^, und
die einer Vorrichtung zum Einstellen des Abstandes d zwischen der lichtempfindlichen Fläche und dem Objektiv zugeordnet
sind, welche gestattet, ihren Betriebsbereich zu zentrieren^, dadurch gekennzeichnet, daß der Objektträger und der Objektivträger
mit zwei Schlitten fest verbunden sind, die längs eines festen Ständers verschiebbar sind, wobei der relative
Abstand der Schlitten durch zwischengeschaltete Einstelleinrichtungen beliebig verstellt werden kann, und daß die Wandlereinrichtungen
und die zugeordneten Verschiebeeinrichtungen gleichzeitige Verschiebungen der beiden Schlitten mit
gleicher Amplitude hervorrufen, um die Vergrößerung konstant zu haltenο
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtungen zum Verstellen des Abstandes ein Teil
enthalten, dessen beide Flächen, die den Stirnflächen der Schlitten gegenüberliegen, einen Keil bilden, wobei einer
der beiden Flächen des Teils wenigstens zwei Lagerelemente zugeordnet sind, die dieser Fläche gestatten, sich parallel
zu einem der Schlitten zu verschieben, während sich die andere Fläche auf einer Rolle verschiebt, die in der Mitte der
entsprechenden Fläche des anderen Schlittens befestigt ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zum Verstellen des Abstandes d ein zweites
Keilförmiges Teil enthält, das zwischen den mit dem Objektivträger
fest verbundenen Schlitten und die Wandlereinrichtungen geschaltet ist, wobei einer der Flächen wenigstens
zwei Lagerelementen zugeordnet sind, während der anderen zwei
Rollen mit unterschiedlichen Radien zugeordnet sind, die dem Teil gestatten, sich parallel zu dem Schlitten zu verschieben.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Schlitten, die Wandlereinrichtungen und die Einrichtungen
zum Verschieben der Schlitten parallel zu der optischen Achse übereinander angeordnet sind.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß zur Spielbeseitigung Federeinrichtungen vorgesehen sind, die bestrebt sind, die Schlitten einander
und beide Schlitten den Wandlereinrichtungen zu nähern„
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, gekennzeichnet durch Federn, die zwischen dem oberen Teil des Ständers
und dem mit dem Objektträger fest verbundenen Schlitten angeordnet sind, um das Gewicht des Objektträgers zu kompensieren.
7 ο Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet,
daß die Wandlereinrichtungen einen Stapel piezoelektrischer Keramiken, die durch ein elektrisches Signal
aus einer Regelschleife angesteuert werden, welche einen dem Objektiv zugeordneten Abstandsfühler und Verstärkereinrichtungen
enthält, und ein auslegerartiges Teil mit elastischem Gelenk enthalten, dessen Arm durch den Stapel abgestützt ist.
809843/0960
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7711910A FR2388300A1 (fr) | 1977-04-20 | 1977-04-20 | Dispositif optique de projection de motifs comportant un asservissement de focalisation a grandissement constant |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2817401A1 true DE2817401A1 (de) | 1978-10-26 |
Family
ID=9189664
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19782817401 Withdrawn DE2817401A1 (de) | 1977-04-20 | 1978-04-20 | Optische vorrichtung zum projizieren von motiven |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4140392A (de) |
JP (1) | JPS53132270A (de) |
DE (1) | DE2817401A1 (de) |
FR (1) | FR2388300A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3422149A1 (de) * | 1983-06-15 | 1984-12-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa | Verfahren mit selbsttaetiger scharfeinstellung und vorrichtung zur herstellung von diaabzuegen |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2035610B (en) * | 1978-10-20 | 1983-03-23 | Hitachi Ltd | Wafer projection aligner |
DE2905636C2 (de) * | 1979-02-14 | 1985-06-20 | Censor Patent- Und Versuchs-Anstalt, Vaduz | Verfahren zum Kopieren von Masken auf ein Werkstück |
JPS55164840U (de) * | 1979-05-14 | 1980-11-27 | ||
US4345836A (en) * | 1979-10-22 | 1982-08-24 | Optimetrix Corporation | Two-stage wafer prealignment system for an optical alignment and exposure machine |
JPS57181119A (en) * | 1981-05-01 | 1982-11-08 | Agency Of Ind Science & Technol | Forming method for pattern |
JPS5817446A (ja) * | 1981-07-24 | 1983-02-01 | Hitachi Ltd | 投影露光方法および装置 |
JPS58108745A (ja) * | 1981-12-23 | 1983-06-28 | Canon Inc | 転写装置 |
US4580900A (en) * | 1982-04-02 | 1986-04-08 | Eaton Corporation | Auto focus alignment and measurement system and method |
US4615621A (en) * | 1982-04-02 | 1986-10-07 | Eaton Corporation | Auto-focus alignment and measurement system and method |
JPS58179834A (ja) * | 1982-04-14 | 1983-10-21 | Canon Inc | 投影露光装置及び方法 |
JPS5990929A (ja) * | 1982-11-17 | 1984-05-25 | Canon Inc | 投影露光装置のピント合わせ方法 |
JPS59150424A (ja) * | 1983-02-14 | 1984-08-28 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造装置および方法 |
JPS59200227A (ja) * | 1983-04-27 | 1984-11-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | レンズ選択時における露光量補正方法 |
JPS6018918A (ja) * | 1983-07-13 | 1985-01-31 | Canon Inc | ステージ装置 |
JPS61256636A (ja) * | 1985-05-09 | 1986-11-14 | Nec Corp | 縮小投影露光装置 |
JPS6232613A (ja) * | 1985-08-05 | 1987-02-12 | Canon Inc | 投影露光装置 |
NL8601547A (nl) * | 1986-06-16 | 1988-01-18 | Philips Nv | Optisch litografische inrichting met verplaatsbaar lenzenstelsel en werkwijze voor het regelen van de afbeeldingseigenschappen van een lenzenstelsel in een dergelijke inrichting. |
JPS63172148A (ja) * | 1987-01-12 | 1988-07-15 | Hitachi Ltd | 基板表面変形装置 |
NL9100202A (nl) * | 1991-02-05 | 1992-09-01 | Asm Lithography Bv | Lithografische inrichting met een hangende objecttafel. |
JPH0712019B2 (ja) * | 1992-03-13 | 1995-02-08 | 株式会社日立製作所 | 投影露光方法及び投影露光装置 |
JP2689408B2 (ja) * | 1994-11-18 | 1997-12-10 | 株式会社シゲル工業 | 理容鋏 |
JP2653356B2 (ja) * | 1996-01-29 | 1997-09-17 | 株式会社日立製作所 | 投影露光方法 |
WO2003105459A2 (en) * | 2002-06-05 | 2003-12-18 | Nokia Corporation | Digital camera system with piezoelectric actuators |
US6710950B2 (en) * | 2002-06-05 | 2004-03-23 | Nokia Mobile Phones Limited | Piezoelectric actuator for digital camera optical system |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2030468A5 (de) * | 1969-01-29 | 1970-11-13 | Thomson Brandt Csf | |
US3625607A (en) * | 1969-05-22 | 1971-12-07 | Warren Childers | Automatic focusing camera |
US3704657A (en) * | 1971-05-05 | 1972-12-05 | Computervision Corp | Adaptive optical focusing system |
US3728019A (en) * | 1971-09-13 | 1973-04-17 | Eastman Kodak Co | Auto-focus printing below 1,1 {33 {0 magnification |
-
1977
- 1977-04-20 FR FR7711910A patent/FR2388300A1/fr active Granted
-
1978
- 1978-04-17 US US05/897,168 patent/US4140392A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-04-20 JP JP4715878A patent/JPS53132270A/ja active Pending
- 1978-04-20 DE DE19782817401 patent/DE2817401A1/de not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3422149A1 (de) * | 1983-06-15 | 1984-12-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa | Verfahren mit selbsttaetiger scharfeinstellung und vorrichtung zur herstellung von diaabzuegen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2388300A1 (fr) | 1978-11-17 |
FR2388300B1 (de) | 1982-06-25 |
US4140392A (en) | 1979-02-20 |
JPS53132270A (en) | 1978-11-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2817401A1 (de) | Optische vorrichtung zum projizieren von motiven | |
DE69735016T2 (de) | Lithographisches Gerät mit zwei Objekthaltern | |
DE69829614T2 (de) | Lithographiegerät mit einer positioniervorrichtung mit zwei objekthaltern | |
DE2905636C2 (de) | Verfahren zum Kopieren von Masken auf ein Werkstück | |
DE19949044B4 (de) | Vorrichtung zur Feinfokussierung eines Objektives in einem optischen Sytstem und Koordinaten-Messgerät mit einer Vorrichtung zur Feinfokussierung eines Objektivs | |
DE2942388A1 (de) | Halbleiterplaettchen-positioniervorrichtung | |
DE2751415A1 (de) | Masken-photowiederholgeraet | |
DE2817364A1 (de) | Positioniervorrichtung und damit ausgeruestetes optisches projektionssystem | |
DE3342719C2 (de) | Positionierungseinrichung in einem Projektionsbelichter | |
DE2817400A1 (de) | Verfahren zum ausrichten eines halbleiterplaettchens und nach diesem verfahren arbeitender photowiederholer | |
DE69727016T2 (de) | Belichtungsapparat | |
DE3019869A1 (de) | Vorrichtung zum erzeugen eines bildes einer aetz- bzw. druckvorlage fuer eine gedruckte schaltung | |
DE2657705C3 (de) | Vorrichtung zum Weiterbearbeiten eines entwickelten fotografischen Films | |
EP0746800A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur photomechanischen herstellung strukturierter oberflächen, insbesondere zum belichten von offsetdruckplatten | |
DE3910048C2 (de) | ||
DE3118632C2 (de) | ||
DE4007069C2 (de) | Vorrichtung zur optischen Abbildung | |
DE2745769A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum abgleichen des brennweitenfehlers eines objektivs | |
DE2411508C2 (de) | Vorrichtung zum Erzeugen von Masken für Mikroschaltkreise | |
AT413305B (de) | Verfahren und vorrichtung zum ausrichten eines justier-mikroskops mittels verspiegelter justiermaske | |
EP1664934B1 (de) | Immersions-lithographie-verfahren und vorrichtung zum belichten eines substrats | |
DE60317008T2 (de) | Mechanismus für ein bewegliches Teil und Steuerungsverfahren für den selben | |
DE3338727A1 (de) | Ausrichtsystem | |
DE2460914C2 (de) | Photolithographische Projektionsvorrichtung | |
DE1902782C3 (de) | Fotorepetierkamera |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8141 | Disposal/no request for examination |