DE2817401A1 - Optische vorrichtung zum projizieren von motiven - Google Patents

Optische vorrichtung zum projizieren von motiven

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Description

Optische Vorrichtung zum Projizieren von Motiven
Die Erfindung bezieht sich auf optische Projektionsvorrichtungen und betrifft insbesondere Photowiederholvorrichtungen, die im Hinblick auf die Herstellung von elektronischen Schaltungen und elektronischen Bauelementen in Maskierungstechnik für die Übertragung von Motiven auf eine lichtempfindliche Platte bestimmt sindo
Eine Photowiederholvorrichtung enthält eine Lichtquelle, die ein modulierendes Objekt beleuchtet, dessen ungleichmäßige Lichtdurchlässigkeit das zu übertragende Motiv kennzeichnet, und ein Objektiv, das das Bild des Motivs mit einer Vergrößerung, die im allgemeinen gleich 1:10 ist, auf eine lichtempfindliche Platte projiziert,, Das Motiv wird in einer Anordnung aus Zeilen und Spalten wiederholt, wobei die lichtempfind-
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liehe Platte durch eine Platine abgestützt ist, die mit einem Tisch fest verbunden ist, welcher Verschiebeeinrichtungen aufweist, die gestatten, das Objektiv nach Belieben über gewisse Bereiche der Platte zu bringen« Die optische Vorrichtung nach der Erfindung ist vor allem dadurch gekennzeichnet, daß einerseits das Objekt und andererseits das Objektiv in einer zu der optischen Achse der Vorrichtung parallelen Richtung verschoben werden können, was gestattet, sowohl die Vergrößerung als auch die Scharfeinstellung zu regulieren, ohne daß die Ausrichtung der Elemente in bezug auf die optische Achse gestört wirdo Sie enthält eine Regelung für die Scharfeinstellung ohne Modifizierung der Vergrößerung. Sie gestattet außerdem die Verwendung von verschiedenen Arten von Objektiven.
Die Erfindung kann bei der Herstellung von Masken benutzt werden, die für die spätere Übertragung einer Sammlung von Motiven mit reduzierten Abmessungen in wahrer Größe auf ein Substrat oder für das direkte Abziehen der Motive in verkleinertem Maßstab auf das Substrat selbst durch das Verfahren der direkten Photowiederholung bestimmt sind.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird im folgenden unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen näher beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 ein Gesamtschema einer optischen Vor
richtung zum Projizieren von Motiven, und
Fig. 2 ■ eine Photowiederholvorrichtung nach
der Erfindung.
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— O ~
Fig. 1 zeigt das Gesamtschema einer Projektionsvorrichtung mit einem Objektiv,, Sie enthält eine Lichtquelle 30, beispielsweise eine Quecksilberdampflampe oder jede andere Art von Lichtquelle für im wesentlichen monochromatisches Licht der Wellenlänge λ, die für eine vorbestimmte Dauer ein
Lichtbündel 33 mit der Achse ζ liefert, welches ein Objekt über einen Kondensor 31 beleuchtet» Das Objekt befindet sich in einer Ebene, die zu der optischen Achse ζ senkrecht isto Es wird durch einen Objektträger 38 gehalten„ Das Motiv 39, das auf dem Objekt 32 eingetragen ist, wird auf eine Platte 5, deren Oberfläche für Licht der Wellenlänge λ empfindlich ist, durch ein Objektiv 34 projiziert, dessen Vergrößerung kleiner als 1 ist» In dem besonderen Fall der Photowiederholung erfolgt die Projektion vielmals auf verschiedene Zonen der Platte 5, beispielsweise in einer Anordnung in Zeilen und Spalten» Die Platte 5 ruht auf einem Tisch 4, der in Richtung der X- und der Y-Achse durch eine Verschiebeeinrichtung 37 verschoben werden kann, die Schrittmotoren enthält a Die Platte 5
kann eine Maske sein, die aus einer lichtdurchlässigen dünnen Platte besteht, welche mit einer photographischen Emulsion oder mit einer Photolackschicht, die einen lichtundurchlässigen feinen Überzug bedeckt, der graviert werden soll, bedeckt ist. Sie kann ein halbleitendes Substrat sein, das mit einem lichtempfindlichen Harz überzogen isto Weitere Verschiebeeinrichtungen 36 können vorgesehen sein, mittels welchen das Objekt in bezug die Bezugsachsen X und Y positioniert
wird.
Die Vergrößerung G, die durch das Objektiv 34 hervorgerufen wird, ist gleich d/H, wobei d der Abstand zwischen dem Objektiv und der Oberfläche der Platte 5 und H der Abstand
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zwischen dem Objektiv und der Oberfläche des Objekts 32 ist» Wenn f die Brennweite des Objektivs ist, gilt für die optische Konjugation des Objekts 32 und der Platte 5 die Gleichung _T_ J_ _ J_ Bei dem Anbringen der verschiedenen Elemente ist es erforderlich, die Abstände H und d einzustellen, um die Scharfeinstellung und die gewünschte Vergrößerung zu gewährleisten,, Darüber hinaus müssen im Verlauf einer Übertragungsoperation diese Einstellungen beibehalten werden, und zwar unter Berücksichtigung evtlo Planheitsfehler der Platte 5 und Translationsfehler des Tisches 4„ Schließlich sollen diese Einstellungen die Ausrichtung der verschiedenen Elemente in bezug auf die Referenzachsen X und Y nicht beeinträchtigen„ Zu diesem Zweck sieht die Erfindung Verschiebeeinrichtungen vor, die auf das Objekt und auf das Objektiv einwirken und gestatten, die Abstände d und H einzustellen, ohne die Parallelität und die Ausrichtung der verschiedenen Elemente längs der optischen Achse ζ zu modifizieren,;,
Figo 2 zeigt eine Ansicht einer Ausführungsform der Photowiederholvorrichtung und insbesondere der Verschiebeeinrichtungen 35 ο Die verschiedenen Elemente der Vorrichtung ruhen auf zwei Granitblöcken: einem unteren Granitblock 1 und einem oberen, in seiner Mitte ausgesparten Granitblock 2, die durch verstellbare Stäbe voneinander getrennt sind, von denen lediglich ein Stab 3 in Fig. 2 sichtbar ist. Die beiden Granitblöcke legen zwei parallele Ebenen fest. Die Einstellung der Parallelität kann an dem Autokollimationsokular auf + 5 Bogensekunden kontrolliert werden» Auf dem unteren Granitblock ruht der Tisch 4, der die Platte 5 trägt, deren Verschiebungen in der X- und in der Y-Richtung in der durch den Granitblock festgelegten Bezugsebene erfolgen. Zwischen den beiden Ebenen ist
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ein Ständer 11 angeordnet, von welchem lediglich der mit dem Granitblock 1 fest verbundene untere Teil 110 und der mit dem Granitblock 2 fest verbundene obere Teil 111 in Figo 2 sichtbar sind. Die unteren Seitenwände des Ständers tragen Führungsschienen 9 und 10, die zu der optischen Achse ζ parallel sind und das Verschieben des Objekts und des Objektivs gestatteno Die verschiedenen Teile sind in einer zu der z-Achse parallelen Richtung von unten nach oben folgendermaßen übereinander angeordnet: Auf dem unteren Teil des Ständers 110 sind elektromechanische Wandlereinrichtungen befestigt, beispielsweise ein Stapel von piezoelektrischen Keramiken 12, die mit Fühlern, welche dem Objektiv zugeordnet sind, im Hinblick auf eine Regelung der Scharfeinstellung zusammenwirken. Auf den Keramiken 12 ist ein auslegerartiges Teil 13 angeordnet, das einen verjüngten Bereich 130 hat und dessen unterer Teil auf dem Ständerteil 110 befestigt isto Diese Anordnung ist aus der FR-OS 76O34 914 bekannte Über dieser Anordnung befindet sich ein keilförmiges Teil 14, dessen untere Fläche eine gegen die z-Achse geneigte Ebene bildete Dieses Teil ist an dem Teil 13 über zwei Rollen 15 und 16 befestigt, die feste, mit dem Teil 13 verbundene Achsen haben» Diese Rollen können sich frei drehen, so daß sie eine Verschiebung unter der Einwirkung einer Mikrometerschraube 17, die durch den Ständer 11 hindurchgeführt und daher für die Bedienungsperson zugänglich ist, in einer zu der z-Achse senkrechten Richtung t zulassen» Das Teil 14 dient als Stütze für einen Schlitten 18, der mit einem Objektivträger 6 fest verbunden ist, welcher seinerseits das Objektiv 34 trägt. Der Schlitten 18 kann längs des Ständers auf den Führungsschienen 9 und 10 in einer zu der z-Achse parallelen Richtung verschoben werden. Ein Lagersystem 20,
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das aus Kugeln oder Rollen gebildet sein kann, gestattet die Verschiebung des Teils 14 in bezug auf den Schlitten 18 in der Richtung t. Die aus dem Teil 14, dem Schlitten 18, den Rollen 15 und 16 und dem Lagersystem 20 gebildete Anordnung gestattet, eine Bewegung in einer Richtung t, die durch die Schraube 17 hervorgerufen wird, in eine Bewegung in einer dazu senkrechten und zu der z-Achse parallelen Richtung umzuwandeln „ Auf diese Weise kann der Abstand d zwischen dem Objektiv 34 und der Platte 5 mit Hilfe der Schraube 17 verändert werden., Im übrigen ist zu erkennen, daß die Kontraktion oder die Ausdehnung des Stapels der Keramiken 12 durch die Regelung gestattet, durch Verschieben des Objektivs den Abstand d konstant zu halten, ohne daß der Abstand H und daher die Vergrößerung modifiziert werden. Oberhalb des Schlittens 10 ist eine zweite Verschiebeeinrichtung angeordnet, die der vorstehend beschriebenen fast gleicht und aus einer einzigen Rolle 22 mit fester Achse in der Mitte des Schlittens 18, einem keilförmigen Teil 21, das in der Richtung t unter der Einwirkung einer Mikrometerschraube 24 verschoben werden kann, deren Ende für die Bedienungsperson außerhalb des Ständers zugänglich ist, und einem Lagersystem 23, das einen mit dem Objektträger 38 fest verbundenen Schlitten 19 trägt, gebildet isto Der Schlitten 19 kann längs der Schienen 9 und 10 verschoben werden und die Bewegung in der Richtung t, die durch die Schraube 24 hervorgerufen wird, wird durch das Teil 21 in eine Bewegung in der Richtung der z-Achse umgewandelt, was das Regulieren des Abstandes H gestattet., Da die Position der beiden Schlitten durch Schienen geführt wird, ist zu erkennen, daß es wichtig ist, eine einzige Rolle 22 zu haben, um einen Betrieb der Anordnung zu verhindern, der sta-
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tisch überbestimmt wäre. Dagegen sind zwei Rollen 15 und 16 für das Teil 14 vorzuziehen, da sich dieses Teil zwischen dem durch die Schienen 9 und 10 geführten Schlitten 18 und dem Teil 13, das Teil einer elastischen Vorrichtung ist, befindet. Die Position des Teils 14 soll eine Referenzposition in bezug auf den Schlitten sein, was durch zwei Berührungspunkte mittels der beiden Rollen 15 und 16 realisiert wird, deren Radien in Anpassung an den durch das Teil 14 gebildeten Winkel unterschiedlich gewählt sind. Die Übereinanderanordnung der verschiedenen Elemente in der vorzugsweise vertikalen z-Richtung führt zu einer einzigen Drucklinie, die zur Herstellung eines Gleichgewichts mit der Schwerkraft zusammenwirkt. Zur Verringerung der Druckkraft, die auf die Keramiken aufgrund des hohen Gewichts der Elemente, insbesondere des Objektträgers, ausgeübt wird, können zwischen dem oberen Ständerteil 111 und dem Objektträger 19 Federn angeordnet werden. In Fig. 2 sind drei Federn 39, 40, 41 sichtbar. Weitere Federn 25, 26 und 27, 28 sind außerdem beispielsweise zwischen den Schlitten 18 und 19 bzwQ zwischen dem Schlitten 18 und dem unteren Ständerteil 110 vorgesehen, um jegliches Spiel zu beseitigen und die Stabilität der Regelschleife zu gewährleisten.
Die Justierungen der Vergrößerung und der Scharfeinstellung vor einer Operation der Übertragung von Motiven werden vorgenommen, indem gleichzeitig die beiden Mikrometerschrauben 17 und 24 verstellt werden. Die Änderung des Abstandes d und die Änderung des Abstandes H wirken sich nämlich gleichzeitig auf die Vergrößerung und auf die Scharfeinstellung aus. Die Justierungen dienen dem Zweck, die Scharfeinstellung an das
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benutzte Objektiv anzupassen, da die Kenndaten von einem Objektiv zum anderen differieren können, und die gewünschte Vergrößerung zu erzielen» Die Vergrößerung G beträgt im typischen Fall 1:10. Für ein Objektiv mit der Brennweite f = 50 mm erhält man H + d = 600 mm, d = 54,6 mm. In einer Ausführungsform der Erfindung hat die maximale Abweichung für d den Wert 4 mm und für H den Wert 1 mm, Die erzielte Genauigkeit für die Vergrößerung beträgt 10 .Im Verlauf einer Übertragungsoperation werden die Mikrometerschrauben 17 und 24 nicht mehr verstellto Vielmehr wird der Abstand d durch eine Fokussierungsregelung mit Hilfe der Keramiken 12 konstant gehalten. In derselben Ausführungsform beträgt die Dynamik der Keramiken — 40 um, bei Betätigungsspannungen von — 1000 V. Wenn aufgrund der Nichtplanheit der Platte 5 oder eines Translationsfehlers des Tisches 4 sich der Abstand d etwas ändert, bringt die Regelung durch die Ausdehnung oder die Zusammenziehung der Keramiken den Abstand d wieder auf seinen Nennwert, indem sie nicht nur eine Verschiebung des Objektivs, sondern auch eine Verschiebung des Objekts hervorruft und somit dabei den Abstand H beibehält ο Der Abstand d kann bis auf 0,2 um geregelt werden.
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Claims (8)

Dipl.-Ing. Oipl.-Chem. Dipl -IrKj E. Prinz - Dr. G. Hauser - G. Leiser E ι η B b e r Cj e ι s 11 η S S e 19 8 München 60 THOMSON - CSP 19. April 1978 173f Bd. Haussmann 75008 PARIS / Frankreich Unser Zeichen: T 3084- Patentansprüche :
1. Optische Vorrichtung zum Projizieren von Motiven, die gestattet, mit einer vorbestimmten Vergrößerung das Bild eines Objekts, das eine ungleichmäßige Lichtdurchlässigkeit hat, auf einer lichtempfindlichen Oberfläche zu reproduzieren, mit einer Quelle, die ein Bündel zur Beleuchtung der lichtempfindlichen Oberfläche liefert, und mit, überlagert auf ein und derselben optischen Achse, einem durch einen Objektivträger gehalterten Objektiv, einer Probe mit einer lichtempfindlichen Oberfläche und einem Objekt, das zwischen der Quelle und dem Objektiv angeordnet und durch einen Objektträger gehaltert istf wobei das Bild des Objekts durch das Objektiv auf die lichtempfindliche Oberfläche projiziert wird, und mit elektromechanischen Wandlereinrichtungen, die eine Fokussierungsregelung vornehmen, indem sie eine Verschiebung
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ORIGINAL INSPECTED
des Objektivträgers in der optischen Achse hervorruf en^, und die einer Vorrichtung zum Einstellen des Abstandes d zwischen der lichtempfindlichen Fläche und dem Objektiv zugeordnet sind, welche gestattet, ihren Betriebsbereich zu zentrieren^, dadurch gekennzeichnet, daß der Objektträger und der Objektivträger mit zwei Schlitten fest verbunden sind, die längs eines festen Ständers verschiebbar sind, wobei der relative Abstand der Schlitten durch zwischengeschaltete Einstelleinrichtungen beliebig verstellt werden kann, und daß die Wandlereinrichtungen und die zugeordneten Verschiebeeinrichtungen gleichzeitige Verschiebungen der beiden Schlitten mit gleicher Amplitude hervorrufen, um die Vergrößerung konstant zu haltenο
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtungen zum Verstellen des Abstandes ein Teil enthalten, dessen beide Flächen, die den Stirnflächen der Schlitten gegenüberliegen, einen Keil bilden, wobei einer
der beiden Flächen des Teils wenigstens zwei Lagerelemente zugeordnet sind, die dieser Fläche gestatten, sich parallel zu einem der Schlitten zu verschieben, während sich die andere Fläche auf einer Rolle verschiebt, die in der Mitte der entsprechenden Fläche des anderen Schlittens befestigt ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zum Verstellen des Abstandes d ein zweites Keilförmiges Teil enthält, das zwischen den mit dem Objektivträger fest verbundenen Schlitten und die Wandlereinrichtungen geschaltet ist, wobei einer der Flächen wenigstens zwei Lagerelementen zugeordnet sind, während der anderen zwei
Rollen mit unterschiedlichen Radien zugeordnet sind, die dem Teil gestatten, sich parallel zu dem Schlitten zu verschieben.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Schlitten, die Wandlereinrichtungen und die Einrichtungen zum Verschieben der Schlitten parallel zu der optischen Achse übereinander angeordnet sind.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß zur Spielbeseitigung Federeinrichtungen vorgesehen sind, die bestrebt sind, die Schlitten einander und beide Schlitten den Wandlereinrichtungen zu nähern„
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, gekennzeichnet durch Federn, die zwischen dem oberen Teil des Ständers und dem mit dem Objektträger fest verbundenen Schlitten angeordnet sind, um das Gewicht des Objektträgers zu kompensieren.
7 ο Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Wandlereinrichtungen einen Stapel piezoelektrischer Keramiken, die durch ein elektrisches Signal aus einer Regelschleife angesteuert werden, welche einen dem Objektiv zugeordneten Abstandsfühler und Verstärkereinrichtungen enthält, und ein auslegerartiges Teil mit elastischem Gelenk enthalten, dessen Arm durch den Stapel abgestützt ist.
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Applications Claiming Priority (1)

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Publications (1)

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DE (1) DE2817401A1 (de)
FR (1) FR2388300A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3422149A1 (de) * 1983-06-15 1984-12-20 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa Verfahren mit selbsttaetiger scharfeinstellung und vorrichtung zur herstellung von diaabzuegen

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2035610B (en) * 1978-10-20 1983-03-23 Hitachi Ltd Wafer projection aligner
DE2905636C2 (de) * 1979-02-14 1985-06-20 Censor Patent- Und Versuchs-Anstalt, Vaduz Verfahren zum Kopieren von Masken auf ein Werkstück
JPS55164840U (de) * 1979-05-14 1980-11-27
US4345836A (en) * 1979-10-22 1982-08-24 Optimetrix Corporation Two-stage wafer prealignment system for an optical alignment and exposure machine
JPS57181119A (en) * 1981-05-01 1982-11-08 Agency Of Ind Science & Technol Forming method for pattern
JPS5817446A (ja) * 1981-07-24 1983-02-01 Hitachi Ltd 投影露光方法および装置
JPS58108745A (ja) * 1981-12-23 1983-06-28 Canon Inc 転写装置
US4580900A (en) * 1982-04-02 1986-04-08 Eaton Corporation Auto focus alignment and measurement system and method
US4615621A (en) * 1982-04-02 1986-10-07 Eaton Corporation Auto-focus alignment and measurement system and method
JPS58179834A (ja) * 1982-04-14 1983-10-21 Canon Inc 投影露光装置及び方法
JPS5990929A (ja) * 1982-11-17 1984-05-25 Canon Inc 投影露光装置のピント合わせ方法
JPS59150424A (ja) * 1983-02-14 1984-08-28 Toshiba Corp 半導体装置の製造装置および方法
JPS59200227A (ja) * 1983-04-27 1984-11-13 Fuji Photo Film Co Ltd レンズ選択時における露光量補正方法
JPS6018918A (ja) * 1983-07-13 1985-01-31 Canon Inc ステージ装置
JPS61256636A (ja) * 1985-05-09 1986-11-14 Nec Corp 縮小投影露光装置
JPS6232613A (ja) * 1985-08-05 1987-02-12 Canon Inc 投影露光装置
NL8601547A (nl) * 1986-06-16 1988-01-18 Philips Nv Optisch litografische inrichting met verplaatsbaar lenzenstelsel en werkwijze voor het regelen van de afbeeldingseigenschappen van een lenzenstelsel in een dergelijke inrichting.
JPS63172148A (ja) * 1987-01-12 1988-07-15 Hitachi Ltd 基板表面変形装置
NL9100202A (nl) * 1991-02-05 1992-09-01 Asm Lithography Bv Lithografische inrichting met een hangende objecttafel.
JPH0712019B2 (ja) * 1992-03-13 1995-02-08 株式会社日立製作所 投影露光方法及び投影露光装置
JP2689408B2 (ja) * 1994-11-18 1997-12-10 株式会社シゲル工業 理容鋏
JP2653356B2 (ja) * 1996-01-29 1997-09-17 株式会社日立製作所 投影露光方法
WO2003105459A2 (en) * 2002-06-05 2003-12-18 Nokia Corporation Digital camera system with piezoelectric actuators
US6710950B2 (en) * 2002-06-05 2004-03-23 Nokia Mobile Phones Limited Piezoelectric actuator for digital camera optical system

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2030468A5 (de) * 1969-01-29 1970-11-13 Thomson Brandt Csf
US3625607A (en) * 1969-05-22 1971-12-07 Warren Childers Automatic focusing camera
US3704657A (en) * 1971-05-05 1972-12-05 Computervision Corp Adaptive optical focusing system
US3728019A (en) * 1971-09-13 1973-04-17 Eastman Kodak Co Auto-focus printing below 1,1 {33 {0 magnification

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3422149A1 (de) * 1983-06-15 1984-12-20 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa Verfahren mit selbsttaetiger scharfeinstellung und vorrichtung zur herstellung von diaabzuegen

Also Published As

Publication number Publication date
FR2388300A1 (fr) 1978-11-17
FR2388300B1 (de) 1982-06-25
US4140392A (en) 1979-02-20
JPS53132270A (en) 1978-11-17

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