DE3118632C2 - - Google Patents
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Belichtungsvorrichtung
gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Bei einer derartigen Belichtungsvorrichtung, wie sie in
der DE-OS 18 03 947 gezeigt ist, ist ein Tisch bzw. eine
Tragvorrichtung entlang einer Führungsvorrichtung ver
schieblich gelagert. Dabei besteht die Führungsvorrichtung
für jede Richtung aus zwei in Fluchtung angeordneten, als
Führungselemente dienenden Schienen, deren seitliche Ober
flächen exakt eben sind. Auf jeder Schiene ist eine Lager
vorrichtung in Form eines Bügels verschiebbar angeordnet,
die am Tisch angebracht ist. In dem Bügel sind Luftlager
ausgebildet, die eine Seite des Bügels gegen eine seit
liche Oberfläche der Schiene drücken. Auf diese Weise ist
gewährleistet, daß jeder Bügel bei Verschiebung des Ti
sches sich in Anlage mit der seitlichen, als Führungsflä
che dienenden Oberfläche der Schiene befindet, so daß die
Verschiebungsbahn sehr genau definiert werden kann. Eine
derartige Belichtungsvorrichtung weist allerdings den
Nachteil auf, daß jede Schiene mit nur sehr geringen
Fertigungstoleranzen gefertigt sein muß, wodurch die Her
stellungskosten sehr hoch sind. Darüber hinaus müssen die
Schienen exakt gegeneinander ausgerichtet werden, was
nachteilig hinsichtlich der Montage und der damit verbun
denen Kosten ist, da ansonsten Ungenauigkeiten in der
Führung des Tisches auftreten, die zu Abbildungsfehlern
der Belichtungsvorrichtung führen können.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Belich
tungsvorrichtung zu schaffen, bei der für die Tragvorrich
tungen in einfacher Weise eine sehr präzise Führung er
zielbar ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale im
kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 gelöst.
Erfindungsgemäß sind ein erstes und ein zweites Führungs
element, beispielsweise in Form von Schienen, vorgesehen,
die über Luftlager mit ersten bzw. zweiten geführten Ele
menten in Eingriff stehen. Da das Luftlager zwischen dem
ersten Führungselement und dem ersten geführten Element
mit einer wesentlich größeren Steifigkeit als das Luftla
ger zwischen dem zweiten Führungselement und dem zweiten
geführten Element ausgebildet ist, bestimmt das erste
Führungselement im wesentlichen die Verschiebungsbahn. Es
wird deshalb mit sehr hoher Präzision gefertigt. Das
Luftlager zwischen dem zweiten Führungselement und dem
zweiten geführten Element dient im wesentlichen lediglich
als Auflager und nur in sehr geringem Maße als Führung und
gestattet es aufgrund seiner relativ geringen Steifigkeit,
daß die zu bewegende Tragvorrichtung exakt dem mit hoher
Präzision gefertigten ersten Führungselement folgt. Auf
diese Weise ist nicht nur der Herstellungsaufwand wesent
lich verringert, indem nur ein Element mit hoher Präzision
herzustellen ist, sondern auch die Montage ist wesentlich
erleichtert, da eine gegenseitige Ausrichtung des ersten
und des zweiten Führungselementes mit normaler bzw. üb
licher Genauigkeit ausreicht.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand
der Unteransprüche.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausfüh
rungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung
näher erläutert.
Fig. 1 zeigt die Anordnung der optischen Elemente
eines ersten Ausführungs
beispiels der Belichtungsvorrichtung in schematischer Darstellung.
Fig. 2 ist eine Außenansicht der Belichtungsvorrichtung.
Fig. 3 zeigt einen Schnitt der in Fig. 2 gezeig
ten Belichtungsvorrichtung.
Fig. 4 und 5 sind Ansichten von Versetzungsmechanis
men und
Fig. 6 zeigt einen Schnitt einer Belichtungsvorrichtung gemäß
einem zweiten Ausführungsbei
spiel.
Gemäß Fig. 1 umfaßt ein Beleuchtungssystem 1
längs der optischen Achse einen sphärischen Spiegel 3, eine
Quecksilber-Lichtbogenlampe 4 als Lichtquelle, eine Linse
5, einen 45°-Umlenkspiegel 6 und eine Linse 7. Das
Beleuchtungssystem 1 ist ferner mit einem Filter 2
zur Unterdrückung bestimmter
Lichtkomponenten versehen, das während
der Ausrichtung einer Vorlage 8 und eines zu belichtenden Materials 10 in den
Strahlengang des Beleuchtungssystems 1 einsetzbar ist.
Die in einer oberen horizontalen Ebene angeordnete Vorlage 8
in Form einer Maske wird mittels eines in Fig. 1 nicht gezeigten Vorlagenträgers in
bekannter Art gehalten. Ein optisches Abbildungs
system 9 zum Erzeugen eines Bildes der Vorlage 8 auf dem zu belichtenden
Material 10, beispielsweise einem Halbleiter-Plättchen, weist zwei 45°-Umlenkspiegel 11 und 12,
einen Konvexspiegel 13 und einen Konkavspiegel 14 auf.
Der Konvexspiegel 13 und der Konkavspiegel 14 sind auf einer
gemeinsamen optischen Achse 15 angeordnet, die zu der obe
ren und einer unteren horizontalen Ebene parallel ist.
Die Einzelheiten des Abbildungs
systems 9 sind in der japanischen Patentveröffentlichung
Sho 48-12 039 beschrieben, so daß sie daher hier nicht
erläutert werden.
Das zu belichtende Material 10 ist mittels eines bekannten
Trägers gehalten, der in X-Rich
tung, Y-Richtung und R-Richtung fein einstellbar ist.
In den Strahlengang zwischen der Linse 7 und der
Vorlage 8 kann bei der Ausrichtung ein optisches Mikroskop
system 16 eingesetzt werden, um festzustellen, ob die
Vorlage 8 und das zu belichtende Material 10 ein bestimmtes gegenseitiges
Lageverhältnis haben. Falls dies nicht zutrifft, kann
das bestimmte Lageverhältnis durch Verschiebung des zu belichtenden
Materials 10 relativ zur Vorlage 8,
mittels entsprechen
der Feineinstellvorrichtungen erreicht werden.
Fig. 2 zeigt einen Lampenkasten 20,
der das in Fig. 1 gezeigte optische Beleuchtungssystem 1
aufnimmt, eine Einheit 21, die das optische Mikroskop
system 16 enthält und die längs der
in Fig. 1 gezeigten optischen Achse 15
verschiebbar ist, einen Vorlagenträger 22, einen Träger 23
für das zu belichtende Material 10, Verbindungsglieder 24, die die
Träger 22 und 23 verbinden,
jedoch eine geringfügige Verstellung des Trä
gers 23 in bezug auf die Verbindungsglieder 24 erlauben, und
Arme 25, die ein erstes und ein zweites geführtes Element bilden und
an den Verbindungsgliedern 24 befestigt sind.
Die Arme 25 sind über Fluidlager an ersten und zweiten Führungs
elementen 26 so gelagert, daß der
Vorlagenträger 22 und der Träger 23 längs der Füh
rungselemente 26 als eine Einheit und horizontal geradlinig
versetzbar sind. Ein Gehäuse 27 enthält das das optische Abbil
dungssystem 9 und es sind des weiteren ein Sockel 28, eine Drehplatte
29 und eine automatische Zuführvorrichtung 30 vorgesehen, mittels
der das zu belichtende Material 10 automatisch über die Drehplatte 29
dem Träger 23 zugeführt werden kann.
Gemäß Fig. 3 werden
die Arme 25 mit Hilfe von Luftlagern im Schwebezustand
gehalten, wobei Luftkissen 31 mit einer
nicht gezeigten Druckluftquelle verbunden sind und eine
Druckluftströmung abgeben. Der gemäß Fig. 3 rechte Arm 25, der das erste geführte Element bildet, ist oben,
unten und an den Seiten mit sechs Luftkissen 31 versehen,
die ein in alle Richtungen begrenzendes bzw. wirksames
Luftlager bilden, während der gemäß Fig. 3 linke Arm 25, der das zweite geführte Element bildet,
Luftkissen 31 an der Oberseite und der Unterseite versehen
ist, die ein in Vertikaltrichtung begrenzendes bzw.
wirksames Luftlager bilden.
Dementsprechend hat im Vergleich zu dem Luftlager an
dem rechten Arm das Luftlager an dem linken Arm sowohl
in vertikaler Richtung als auch in seitlicher Richtung
eine geringere Steifigkeit bzw. Festigkeit.
Die Fig. 4 und 5 zeigen den Mechanismus für die
Verschiebung des Vorlagenträgers 22 und des Trägers 23
längs der Führungselemente 26. Der Vorlagen
träger 22 und der Träger 23 sind mittels eines
Gewichts 32 gemäß Fig. 4 nach links vorgespannt.
Zum Verschieben wirkt auf dem Träger 23 ein Stellstab 33 über
eine Stellrolle 34 ein. Ferner sind
eine erste Führungsrolle 35 und eine zweite Führungsrolle
36 vorgesehen, die mittels einer Feder 37 in Richtung der Stell
rolle 34 vorgespannt ist.
Die Stellrolle 34 wird mittels eines in der Fig. 5
gezeigten Motors 38 angetrieben, dessen Drehung über
eine Riemenscheibe 39, ein Schneckenrad 40 und ein Zahn
rad 41 übertragen wird und dessen Drehgeschwindigkeit
mittels einer magnetischen Skala 42, die zur Lageer
mittlung an dem Vorlagenträger 22 bzw. dem Träger
23 angebracht ist, und mittels eines codierenden Dreh
gebers 43 gesteuert wird.
Im folgenden wird die Arbeitsweise der Belichtungsvorrichtung
erläutert:
Zunächst erfolgt die gegenseitige Ausrichtung der Vorlage 8 und
des zu belichtenden Materials 10.
Bei dieser Ausrichtung wird das
Filter 2 in das Beleuchtungs
system 1 eingesetzt, so daß mit
nicht Beleuchtungswirksamen Licht über die Linsen 5 und 7 auf der Vorlage 8
ein sektorförmiges Bild der Lichtquelle 4 erzeugt wird.
Ferner wird zwischen die Linse 7 und die Vorlage 8
das Mikroskopsystem 16 eingefügt. Die Ausrichtung
wird dadurch erzielt, daß über das Mikroskopsystem 16
Richtmarken der Vorlage 8 und des zu belichtenden Materials 10 beobachtete
werden und der Träger 23 so verschoben wird, daß
die Richtmarken in Übereinstimmung kommen. Nach Abschluß
des Ausrichtens werden das Filter 2 und das Mikroskopsystem 16
aus dem Strahlengang zurückgezogen, während zugleich
die Lichtquelle 4 ausgeschaltet oder mittels einer nicht
gezeigten Verschlußvorrichtung abgeschirmt ist. Darauf
folgend wird die Lichtquelle 4 eingeschaltet oder die
Verschlußvorrichtung geöffnet, um ein sektorförmiges
Bild der Lichtquelle 4 an der Vorlage 8 zu erzeugen, wodurch
über das Abbildungssystem
9 der auf diese Weise beleuchtete Teilbereich der Vorlage 8
auf dem zu belichtenden Material 10 abgebildet wird. In diesem Zustand
wird der Motor 38 eingeschaltet, um mit konstanter Ge
schwindigkeit den Stellstab 33 zu verschieben, wodurch
der Vorlagenträger 22 und der Träger 23 längs der
Führungselemente 26 versetzt werden. Trotz eventueller Mängel
hinsichtlich der Genauigkeit des gemäß Fig. 3 linken Führungselementes 26 er
folgt dieses Versetzen
ohne Neigung in Längs- oder Querrichtung, da das
dem linken Führungselement entsprechende Luftlager eine
geringe Steifigkeit hat, während das Luftlager
an der rechten Seite eine höhere Steifigkeit hat und das
rechte Führungselement 26 mit ausreichender Genauigkeit ausgebildet ist.
Auf diese Weise wird durch die Versetzung nach und nach das
ganze Bild der Vorlage 8 auf das zu belichtende Material 10 projiziert.
Bei dem vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiel
wird die Steifigkeit eines Luftlagers dadurch gestei
gert, daß die Anzahl seiner Luftkissen erhöht wird.
Es ist aber auch möglich, statt durch Änderung der
Anzahl der Luftkissen die Steifigkeit durch Erhöhung
des Drucks der aus den Luftkissen strömenden Luft zu
steigern. Ferner ist es möglich, anstelle der Vorlage und
des zu belichtenden Materials des Abbildungssystems zu versetzen.
Die Fig. 6 zeigt ein zweites Ausführungsbeispiel
der Belichtungsvorrichtung, bei dem
zwischen den Armen bzw. den geführten Elementen
eine Dämpfungs- und Kompensationsvorrichtung so angeordnet ist.
Die Dämpfungs- und Kompensationsvorrichtung kann aus einer Kugelfassung,
die eine Pufferwirkung in alle Richtungen ergibt, einem
in nur einer Richtung wirkenden Lager oder einem ver
schiebbaren Gelenk gebildet sein und
fängt vertikale und/oder horizontale Schwankungen ab,
die von einem Führungselement geringerer Genauigkeit
hervorgerufen werden. Dadurch kann das Abbil
dungssystem 9 und/oder der Vorlagenträger 22 und der
Träger 23 mit hinreichender Genauigkeit längs der Führungselemente 26
versetzt bzw. verschoben werden, ohne daß
eine Neigung in
Längs- oder Querrichtung auftritt.
Bei dem in Fig. 6 gezeigten Ausführungsbeispiel ist
der linke Arm 25 mit einer Kugelfassung 50 versehen.
Daher wird von der Kugelfassung 50 eine eventuell durch
mangelhafte Genauigkeit des linken Führungselementes 26 verur
sachte Schwankung abgefangen und führt nicht zu einer
Neigung in Längs- oder Querrichtung, da das linke Luft
lager mit den Luftkissen 31 eine geringe Steifigkeit hat,
während das rechte Luftlager hohe Steifigkeit hat und
das rechte Führungselement 26 ausreichend genau ausgebildet ist.
Claims (3)
1. Belichtungsvorrichtung, mit einem Vorlagenträger, einem
Abbildungssystem, einem Träger für ein zu belichtendes
Material und einer Führungsvorrichtung zur Relativver
schiebung des Vorlagenträgers und/oder des Trägers für das
zu belichtende Material bezüglich des Abbildungssystems,
wobei die Führungsvorrichtung zumindest ein erstes und ein
zweites geradliniges Führungselement aufweist, die über
Luftlager mit ersten bzw. zweiten geführten Elementen in
Eingriff stehen,
dadurch gekennzeichnet, daß das Luftlager (31) zwischen
dem ersten Führungselement (26) und dem ersten geführten
Element (25) mit einer wesentlich größeren Steifigkeit als
das Luftlager (31) zwischen dem zweiten Führungselement
(26) und dem zweiten geführten Element (25) ausgebildet
ist.
2. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Luftlager (30) zwischen dem ersten Füh
rungselement (26) und dem ersten geführten Element (25)
ein in alle Richtungen wirksames Luftlager und das Luftla
ger (31) zwischen dem zweiten Führungselement (26) und dem
zweiten geführten Element (25) ein in vertikaler Richtung
wirksames Luftlager ist.
3. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß zwischen dem ersten geführten Element
(25) und dem zweiten geführten Element (25) eine
Dämpfungs- und Kompensationsvorrichtung (50) angeordnet
ist.
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