JPH0712019B2 - 投影露光方法及び投影露光装置 - Google Patents
投影露光方法及び投影露光装置Info
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- JPH0712019B2 JPH0712019B2 JP4054756A JP5475692A JPH0712019B2 JP H0712019 B2 JPH0712019 B2 JP H0712019B2 JP 4054756 A JP4054756 A JP 4054756A JP 5475692 A JP5475692 A JP 5475692A JP H0712019 B2 JPH0712019 B2 JP H0712019B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reduction
- substrate
- original image
- projection exposure
- reduction lens
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子の製造工程
で使用される縮小投影露光方法の改良に係り、特に、こ
の種の装置において寸法精度が厳しく要求される高精度
な半導体素子作成時に生じる縮小倍率誤差を自動的に補
正して縮小露光する方法に関するものである。
で使用される縮小投影露光方法の改良に係り、特に、こ
の種の装置において寸法精度が厳しく要求される高精度
な半導体素子作成時に生じる縮小倍率誤差を自動的に補
正して縮小露光する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の縮小投影露光装置は、図３に原理
構成を示したような光学系を基本として、原画４２のパ
ターンを縮小レンズ４３を用いて、基板４４の上に投影
している。縮小レンズ４３と基板４４との距離をａ、縮
小レンズ４３と原画４２との距離をｂとすると光学系内
の屈折率分布が一定である限り縮小倍率ｍはｍ＝ａ／
ｂ、焦点距離ｆは１／ｆ＝１／ａ＋１／ｂで表わされ
る。
構成を示したような光学系を基本として、原画４２のパ
ターンを縮小レンズ４３を用いて、基板４４の上に投影
している。縮小レンズ４３と基板４４との距離をａ、縮
小レンズ４３と原画４２との距離をｂとすると光学系内
の屈折率分布が一定である限り縮小倍率ｍはｍ＝ａ／
ｂ、焦点距離ｆは１／ｆ＝１／ａ＋１／ｂで表わされ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の縮小投影露光装
置においては上述距離ａとｂとが固定されているため、
原画４２から基板４４に至るまでの光学系の光路内の媒
体物の条件が変わったりなどして屈折率の分布が変化す
ると、光学系上の上述距離ａ，ｂが屈折率の関数とな
り、変化して縮小倍率ｍが変わってしまい、基板４４上
に投影されるパターンの寸法精度が劣化する欠点があっ
た。
置においては上述距離ａとｂとが固定されているため、
原画４２から基板４４に至るまでの光学系の光路内の媒
体物の条件が変わったりなどして屈折率の分布が変化す
ると、光学系上の上述距離ａ，ｂが屈折率の関数とな
り、変化して縮小倍率ｍが変わってしまい、基板４４上
に投影されるパターンの寸法精度が劣化する欠点があっ
た。
【０００４】
【課題を解決するための手段】したがって、本発明の目
的は、縮小投影光学系内の媒体物の屈折率分布等の変化
により縮小倍率誤差を生じて原画から基板上に縮小投影
されるパターンの絶対寸法精度が劣化することを防ぎ、
常に、高精度な絶対寸法の半導体素子を自動的に作るこ
とを可能ならしめる縮小投影露光方法を提供することに
ある。
的は、縮小投影光学系内の媒体物の屈折率分布等の変化
により縮小倍率誤差を生じて原画から基板上に縮小投影
されるパターンの絶対寸法精度が劣化することを防ぎ、
常に、高精度な絶対寸法の半導体素子を自動的に作るこ
とを可能ならしめる縮小投影露光方法を提供することに
ある。
【０００５】
【作用】上記目的を達成するために本発明では、基板上
のマークを縮小投影レンズとレティクルとを通して計測
し、縮小倍率誤差を演算して、縮小投影レンズを光軸方
向に微動させることによって自動的に縮小倍率誤差を補
正するように縮小投影露光方法を用いたことを特徴とし
ている。
のマークを縮小投影レンズとレティクルとを通して計測
し、縮小倍率誤差を演算して、縮小投影レンズを光軸方
向に微動させることによって自動的に縮小倍率誤差を補
正するように縮小投影露光方法を用いたことを特徴とし
ている。
【０００６】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図２により説明す
る。
る。
【０００７】原画であるレティクル２２上のパターンを
光源（図示していない）からの照明光をコンデンサレン
ズ２１で集光して照明し、縮小レンズ２３を通して基板
２４上に縮小投影させる。図２内で斜線を付した部分
は、固定されて不動状態の基準部材である。
光源（図示していない）からの照明光をコンデンサレン
ズ２１で集光して照明し、縮小レンズ２３を通して基板
２４上に縮小投影させる。図２内で斜線を付した部分
は、固定されて不動状態の基準部材である。
【０００８】基板２４は光軸方向に可動なＺ移動台３０
と光軸と直角な平面内で可動なＸＹ移動台３１とで構成
される移動台上に設置され、縮小レンズ２３により結像
される焦点位置に基板２４面が常に保持されるように、
特公昭５５−１８０４３号で示したような、自動焦点機
構が具備されている。基板２４の相対位置は、移動台の
位置をレーザ測長計３９で測長し、演算回路３５で求め
ることができる。
と光軸と直角な平面内で可動なＸＹ移動台３１とで構成
される移動台上に設置され、縮小レンズ２３により結像
される焦点位置に基板２４面が常に保持されるように、
特公昭５５−１８０４３号で示したような、自動焦点機
構が具備されている。基板２４の相対位置は、移動台の
位置をレーザ測長計３９で測長し、演算回路３５で求め
ることができる。
【０００９】縮小レンズ２３は、光軸方向のみに可動な
ように基準部材に対して案内部材３２で支持され、駆動
モータ３３によって光軸方向に微動でき、その微動量
は、例えば、差動コイル３４によって測長され、レンズ
上下制御回路３８に帰還される。
ように基準部材に対して案内部材３２で支持され、駆動
モータ３３によって光軸方向に微動でき、その微動量
は、例えば、差動コイル３４によって測長され、レンズ
上下制御回路３８に帰還される。
【００１０】ここで、縮小倍率の測定方法について、図
１（ａ），（ｂ），（ｃ）を用いて述べる。
１（ａ），（ｂ），（ｃ）を用いて述べる。
【００１１】この縮小投影露光装置はコンデンサレンズ
１、レティクル２、縮小投影レンズ３、基板４、および
第１のパターン検出器５、第２のパターン検出器６から
構成されている。原画であるレティクル２上には所定の
間隔Ｌ（図１（ｂ）参照）を隔てた位置に正方形の光透
過性の窓７，８が設けられている。図１（ｂ）は上述の
窓７，８の拡大図を示したものである。基板４上のマー
ク９を縮小レンズ３およびレティクル２の窓７を通して
見るとマーク９′のようになり、また、基板４を所定距
離ｌだけ移動して窓８から見るとマーク９″のようにな
る（図１（ｂ）参照）。
１、レティクル２、縮小投影レンズ３、基板４、および
第１のパターン検出器５、第２のパターン検出器６から
構成されている。原画であるレティクル２上には所定の
間隔Ｌ（図１（ｂ）参照）を隔てた位置に正方形の光透
過性の窓７，８が設けられている。図１（ｂ）は上述の
窓７，８の拡大図を示したものである。基板４上のマー
ク９を縮小レンズ３およびレティクル２の窓７を通して
見るとマーク９′のようになり、また、基板４を所定距
離ｌだけ移動して窓８から見るとマーク９″のようにな
る（図１（ｂ）参照）。
【００１２】パターン検出器５はレティクル２の窓７内
におけるマーク９′の位置を、またパターン検出器６は
レティクル２の窓８内におけるマーク９″の位置を各々
測長することができ、２つのマーク９′と９″との相対
距離がレティクル２の窓７と８との間隔Ｌに比べてずれ
ている量ΔＬを演算することができる。
におけるマーク９′の位置を、またパターン検出器６は
レティクル２の窓８内におけるマーク９″の位置を各々
測長することができ、２つのマーク９′と９″との相対
距離がレティクル２の窓７と８との間隔Ｌに比べてずれ
ている量ΔＬを演算することができる。
【００１３】今、縮小投影光学系の縮小倍率をｍ（ｍ＜
１）とすると、ｌ＝ｍＬとなるように、基板４のマーク
９を移動したにもかかわらずΔＬだけ大きくずれたとす
ると、ｌ＝（ｍ＋Δｍ）（Ｌ＋ΔＬ）なる関係を満す。
Δｍだけ縮小倍率誤差となり、光学系によって縮小しす
ぎていることになる。
１）とすると、ｌ＝ｍＬとなるように、基板４のマーク
９を移動したにもかかわらずΔＬだけ大きくずれたとす
ると、ｌ＝（ｍ＋Δｍ）（Ｌ＋ΔＬ）なる関係を満す。
Δｍだけ縮小倍率誤差となり、光学系によって縮小しす
ぎていることになる。
【００１４】一方、図１（ｃ）に示したように、縮小投
影光学系において、レティクル２と縮小レンズ３との間
隔ｂがΔｂだけ大きくなっている時には、上述のように
マーク９をｌだけ移動させた時に、ΔＬ／Δｂ＝Ｌ／ｂ
なる関係を満すΔＬだけ、マーク９′と９″とがずれる
ことになる。
影光学系において、レティクル２と縮小レンズ３との間
隔ｂがΔｂだけ大きくなっている時には、上述のように
マーク９をｌだけ移動させた時に、ΔＬ／Δｂ＝Ｌ／ｂ
なる関係を満すΔＬだけ、マーク９′と９″とがずれる
ことになる。
【００１５】従って、第１，第２のパターン検出器５，
６で検出されたマーク９の位置ずれ量ΔＬからΔｂ＝Δ
Ｌ・ｂ／Ｌなる関係を満す量だけ縮小レンズ３とレティ
クル２との相対距離を狭くすれば縮小倍率誤差Δｍが零
になる。ΔＬが負の値の時はΔｂだけ縮小レンズ３とレ
ティクル２との間隔を大きくすれば良い。
６で検出されたマーク９の位置ずれ量ΔＬからΔｂ＝Δ
Ｌ・ｂ／Ｌなる関係を満す量だけ縮小レンズ３とレティ
クル２との相対距離を狭くすれば縮小倍率誤差Δｍが零
になる。ΔＬが負の値の時はΔｂだけ縮小レンズ３とレ
ティクル２との間隔を大きくすれば良い。
【００１６】実施例としては、１／１０縮小投影露光装
置の場合として、ｍ＝０.１，ｆ＝４９．２mm，ａ＝５
４.１２７mm，ｂ＝５４１.２７mm，ｌ＝１０mmなる値と
なる。この時，Δｍ＝０.０００００１（１０〜4％）だ
け大きい縮小倍率誤差があると、Ｌ0＝１００mmのパタ
ーンは、Ｌ0（ｍ＋Δｍ）から（１０mm−０.１μｍ）の
寸法となり０.１μｍだけ小さな寸法誤差を生じてしま
う。このような状態を第１，第２のパターン検出器５，
６で測定すると、長さｌ＝１０mmはＬ＋ΔＬ＝ｌ／（ｍ
＋Δｍ），Ｌ＝１００mmに対してΔＬ＝１μｍ大きく検
出される。
置の場合として、ｍ＝０.１，ｆ＝４９．２mm，ａ＝５
４.１２７mm，ｂ＝５４１.２７mm，ｌ＝１０mmなる値と
なる。この時，Δｍ＝０.０００００１（１０〜4％）だ
け大きい縮小倍率誤差があると、Ｌ0＝１００mmのパタ
ーンは、Ｌ0（ｍ＋Δｍ）から（１０mm−０.１μｍ）の
寸法となり０.１μｍだけ小さな寸法誤差を生じてしま
う。このような状態を第１，第２のパターン検出器５，
６で測定すると、長さｌ＝１０mmはＬ＋ΔＬ＝ｌ／（ｍ
＋Δｍ），Ｌ＝１００mmに対してΔＬ＝１μｍ大きく検
出される。
【００１７】この際、Δｂ＝５.４μｍだけ縮小レンズ
３とレティクル２との間隔を狭くすれば、縮小倍率誤差
は消えることになる。
３とレティクル２との間隔を狭くすれば、縮小倍率誤差
は消えることになる。
【００１８】以上述べたことから判るように、所定間隔
Ｌ離れたレティクル２上から縮小レンズ３を通して所定
量ｌだけ移動した基板４上のマーク９の位置ずれ量ΔＬ
を測定するだけで、縮小倍率誤差が求まり、Δｂ＝ΔＬ
・ｂ／Ｌなる関係を満すように縮小レンズ３とレティク
ル２との間隔を微調することにより、縮小倍率誤差が補
正できる。
Ｌ離れたレティクル２上から縮小レンズ３を通して所定
量ｌだけ移動した基板４上のマーク９の位置ずれ量ΔＬ
を測定するだけで、縮小倍率誤差が求まり、Δｂ＝ΔＬ
・ｂ／Ｌなる関係を満すように縮小レンズ３とレティク
ル２との間隔を微調することにより、縮小倍率誤差が補
正できる。
【００１９】ところで、従来の縮小投影露光装置では、
一度正確にレティクル２と縮小レンズ３との距離ｂを固
定すれば、縮小倍率は変化することはなかった。
一度正確にレティクル２と縮小レンズ３との距離ｂを固
定すれば、縮小倍率は変化することはなかった。
【００２０】しかし、近年、半導体素子の高精度化に伴
って原画、つまりレティクル２面に塵埃が付着すること
を防ぐため、レティクル２をカバーガラスでおおった
り、縮小レンズ３と基板４との間に空気以外の媒体物を
介在させて作動させる縮小投影露光装置が開発されてい
る。このように、縮小投影光学系に空気以外の媒体物を
介在させる場合、その媒体物の屈折率やその媒体物の厚
さが一定値を保つ限りにおいては、一度、屈折率の異な
ることによって生じる縮小倍率誤差を修正すれば良いの
であるが、通常は、媒体物の屈折率や厚さを一定に保持
することは極めて困難であり、そのために縮小倍率誤差
を生じてしまうことになる。
って原画、つまりレティクル２面に塵埃が付着すること
を防ぐため、レティクル２をカバーガラスでおおった
り、縮小レンズ３と基板４との間に空気以外の媒体物を
介在させて作動させる縮小投影露光装置が開発されてい
る。このように、縮小投影光学系に空気以外の媒体物を
介在させる場合、その媒体物の屈折率やその媒体物の厚
さが一定値を保つ限りにおいては、一度、屈折率の異な
ることによって生じる縮小倍率誤差を修正すれば良いの
であるが、通常は、媒体物の屈折率や厚さを一定に保持
することは極めて困難であり、そのために縮小倍率誤差
を生じてしまうことになる。
【００２１】そこで、本発明では、上述したような、縮
小露光光学系の間に任意の屈折率や厚さの媒体物が存在
しても、常に上述したようなパターン検出器５，６を用
いて縮小倍率誤差を検出し、補正することを可能とする
点に特徴がある。
小露光光学系の間に任意の屈折率や厚さの媒体物が存在
しても、常に上述したようなパターン検出器５，６を用
いて縮小倍率誤差を検出し、補正することを可能とする
点に特徴がある。
【００２２】ここで、図２の実施例にもどって本発明を
さらに詳細に説明する。パターン検出器２５はレティク
ル２２、縮小レンズ２３を通して、基板２４上のマーク
２９の位置を検出し、検出信号は検出回路３７、演算回
路３６に送られ、レンズ上下制御回路３８によって、モ
ータ３３等の駆動系により、縮小レンズ２３が光軸方向
に微動されることになる。
さらに詳細に説明する。パターン検出器２５はレティク
ル２２、縮小レンズ２３を通して、基板２４上のマーク
２９の位置を検出し、検出信号は検出回路３７、演算回
路３６に送られ、レンズ上下制御回路３８によって、モ
ータ３３等の駆動系により、縮小レンズ２３が光軸方向
に微動されることになる。
【００２３】任意の屈折率や厚さの媒体物は、図示して
いないが、レティクル２２と縮小レンズ２３および基板
２４との間のどこに存在していても、本発明の機能が生
かされる。
いないが、レティクル２２と縮小レンズ２３および基板
２４との間のどこに存在していても、本発明の機能が生
かされる。
【００２４】なお、本発明の実施例では、基板４（２
４）上の１つのマーク９（２９）を所定距離ｌだけ移動
させ、レティクル２（２２）のＬだけ離れた窓７，８に
対する位置を計測しているが、基板４（２４）上のマー
ク９は、所定距離ｌだけ離れた２つのマークを、同時に
パターン検出することも可能である。また、同時にパタ
ーン検出し、そのレティクル２（２２）の窓７，８に対
するずれ量ΔＬを測長せず、所定の２つの窓７，８の決
められた位置に基板４（２４）上のマーク９が合うよう
に、縮小レンズ３（２３）を上下動させて制御すること
も応用例として考えられる。さらに、レティクル２（２
２）上の２ヶ所の窓７，８の位置は、所定の距離Ｌさえ
判れば、任意の場所で良く、２つのパターン検出器５，
６の原点の精度が良ければ、基板４（２４）上のマーク
９をレティクル２（２２）上の窓７，８に対して検出せ
ず、パターン検出器５，６の原点に対して検出しても良
い。
４）上の１つのマーク９（２９）を所定距離ｌだけ移動
させ、レティクル２（２２）のＬだけ離れた窓７，８に
対する位置を計測しているが、基板４（２４）上のマー
ク９は、所定距離ｌだけ離れた２つのマークを、同時に
パターン検出することも可能である。また、同時にパタ
ーン検出し、そのレティクル２（２２）の窓７，８に対
するずれ量ΔＬを測長せず、所定の２つの窓７，８の決
められた位置に基板４（２４）上のマーク９が合うよう
に、縮小レンズ３（２３）を上下動させて制御すること
も応用例として考えられる。さらに、レティクル２（２
２）上の２ヶ所の窓７，８の位置は、所定の距離Ｌさえ
判れば、任意の場所で良く、２つのパターン検出器５，
６の原点の精度が良ければ、基板４（２４）上のマーク
９をレティクル２（２２）上の窓７，８に対して検出せ
ず、パターン検出器５，６の原点に対して検出しても良
い。
【００２５】また、パターン検出器５，６は独立に２台
設けなくても、１台のパターン検出器を所定距離Ｌだけ
移動させ、あるいは、そのような機能や検出範囲を１台
のパターン検出器にもたせることも可能である。
設けなくても、１台のパターン検出器を所定距離Ｌだけ
移動させ、あるいは、そのような機能や検出範囲を１台
のパターン検出器にもたせることも可能である。
【００２６】本発明の実施例では、縮小レンズ３（２
３）とレティクル２（２２）との相対間隔調整を縮小レ
ンズ３（２３）を上下させることで達しているが、両者
の相対距離を調整すれば良いのであるから、縮小レンズ
３（２３）と同様に、光軸方向のみに可動な公知の案内
駆動手段でレティクル２（２２）を上下することで目的
を達することも可能である。
３）とレティクル２（２２）との相対間隔調整を縮小レ
ンズ３（２３）を上下させることで達しているが、両者
の相対距離を調整すれば良いのであるから、縮小レンズ
３（２３）と同様に、光軸方向のみに可動な公知の案内
駆動手段でレティクル２（２２）を上下することで目的
を達することも可能である。
【００２７】なお、縮小倍率の調整によって、結像面の
最適焦点位置までの距離ａが変わり、それに伴って縮小
倍率も若干変わるが、通常、縮小レンズ３（２３）は、
テレセントリックな結像光学レンズを用いるため距離ａ
の変化による縮小倍率誤差や焦点ボケはわずかである。
従って、先ず、媒体物が変化した際には、基板４（２
４）上のマーク９（２９）への焦点合わせを行なった後
に、上述の方法で、縮小倍率誤差の補正を行ない、さら
に、高精度な補正を必要とする場合には、再度、焦点合
わせを行った後、縮小倍率の補正を繰返せば良いこと
は、容易に考えられる。
最適焦点位置までの距離ａが変わり、それに伴って縮小
倍率も若干変わるが、通常、縮小レンズ３（２３）は、
テレセントリックな結像光学レンズを用いるため距離ａ
の変化による縮小倍率誤差や焦点ボケはわずかである。
従って、先ず、媒体物が変化した際には、基板４（２
４）上のマーク９（２９）への焦点合わせを行なった後
に、上述の方法で、縮小倍率誤差の補正を行ない、さら
に、高精度な補正を必要とする場合には、再度、焦点合
わせを行った後、縮小倍率の補正を繰返せば良いこと
は、容易に考えられる。
【００２８】また、本発明の応用例としては、基板の位
置にパターン検出器を設置して、原画であるレティクル
の所定間隔のマークを計測して、縮小倍率を調整するこ
とも、既述の縮小倍率誤差を補正する方法を縮小投影レ
ンズを介して逆さに考えれば、容易に類推できる。
置にパターン検出器を設置して、原画であるレティクル
の所定間隔のマークを計測して、縮小倍率を調整するこ
とも、既述の縮小倍率誤差を補正する方法を縮小投影レ
ンズを介して逆さに考えれば、容易に類推できる。
【００２９】
【発明の効果】本発明によれば、投影露光光学系の距離
の変動や、任意の屈折率や厚さの媒体物が介在すること
等により生じる、基板上に縮小投影される原画パターン
の縮小倍率誤差を検出して、自動的に焦点位置を補正し
縮小倍率を補正することができるので、従来よりさらに
解像度を劣化されることなく、またパターンの高精度な
重ね合わせ精度を達成することにより高精度な半導体素
子を本発明の縮小投影露光方法により製造できることに
なる。
の変動や、任意の屈折率や厚さの媒体物が介在すること
等により生じる、基板上に縮小投影される原画パターン
の縮小倍率誤差を検出して、自動的に焦点位置を補正し
縮小倍率を補正することができるので、従来よりさらに
解像度を劣化されることなく、またパターンの高精度な
重ね合わせ精度を達成することにより高精度な半導体素
子を本発明の縮小投影露光方法により製造できることに
なる。
【図１】本発明の原理を説明するための説明図。
【図２】本発明による縮小投影露光装置の実施例の概略
構成図である。
構成図である。
【図３】縮小投影光学系の原理説明図である。
１，２１…コンデンサレンズ、２，２２，４２…レティ
クル、３，２３，４３…縮小レンズ、４，２４，４４…
基板、５，６，２５…パターン検出器、７，８…窓、
９，９′，９″，２９…パターン、３０…Ｚ移動台、３
１…ＸＹ移動台、３２…案内部材、３３…駆動モータ、
３４…差動コイル、３５，３６…演算回路、３７…検出
回路、３８…レンズ上下制御回路。
クル、３，２３，４３…縮小レンズ、４，２４，４４…
基板、５，６，２５…パターン検出器、７，８…窓、
９，９′，９″，２９…パターン、３０…Ｚ移動台、３
１…ＸＹ移動台、３２…案内部材、３３…駆動モータ、
３４…差動コイル、３５，３６…演算回路、３７…検出
回路、３８…レンズ上下制御回路。
フロントページの続き (72)発明者 黒崎 利栄 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 寺澤 恒男 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 保坂 純男 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (56)参考文献 特開 昭53−132270（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−59883（ＪＰ，Ａ) 実開 昭53−84278（ＪＰ，Ｕ)
Claims (7)
- 【請求項１】基板を所定の位置に装着する工程と、光源
と縮小レンズとの間で所定の縮小倍率となる位置に原画
を配置する工程と、上記原画と上記基板との間の媒体の
変化に応じ自動的に上記所定の縮小倍率からの誤差をな
くすように上記原画と上記縮小レンズの結像特性を補正
する工程と、上記基板に上記原画を結像投影する工程と
を含むことを特徴とする投影露光方法。 - 【請求項２】請求項１記載の投影露光方法において、上
記媒体の屈折率の変化に応じて上記結像特性を補正する
ことを特徴とする投影露光方法。 - 【請求項３】請求項１記載の投影露光方法において、上
記補正工程として少なくとも焦点位置ないし倍率を補正
する上記補正工程であることを特徴とする投影露光方
法。 - 【請求項４】請求項３記載の投影露光方法において、上
記補正工程として上記焦点位置を補正後、上記倍率を補
正する上記補正工程であることを特徴とする投影露光方
法。 - 【請求項５】基板を所定の位置に装着する工程と、光源
と縮小レンズとの間で所定の縮小倍率となる位置に原画
を配置する工程と、原画パターンを縮小レンズを介して
基板上に結像をさせるために該基板を載せた移動台を該
縮小レンズの軸方向に移動させて焦点合わせをする工程
と、上記原画と上記基板との間の媒体の変化による上記
所定の縮小倍率誤差を検出する工程と、上記原画と上記
縮小レンズの結像特性を補正する工程と、上記基板に上
記原画を結像投影する工程とを含むことを特徴とする投
影露光方法。 - 【請求項６】光源と、原画を固定する台と、原画パター
ンを基板上に所定の縮小倍率で縮小投影する縮小レンズ
と、上記原画を固定する台と縮小レンズとの間の媒体の
変化に応じ原画を固定する台の原画に接する面と縮小レ
ンズとの光学的距離を自動的に所定の縮小倍率に補正す
る手段と、上記基板を載置し少なくとも上下方向に移動
できる移動台を備えたことを特徴とする投影露光装置。 - 【請求項７】上記移動台は、焦点位置検出手段と自動焦
点機構とを有すること特徴とする請求項６記載の投影露
光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4054756A JPH0712019B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | 投影露光方法及び投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4054756A JPH0712019B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | 投影露光方法及び投影露光装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57084787A Division JPS58202449A (ja) | 1982-05-21 | 1982-05-21 | 縮小投影露光装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8012513A Division JP2653356B2 (ja) | 1996-01-29 | 1996-01-29 | 投影露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0574680A JPH0574680A (ja) | 1993-03-26 |
| JPH0712019B2 true JPH0712019B2 (ja) | 1995-02-08 |
Family
ID=12979623
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4054756A Expired - Lifetime JPH0712019B2 (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | 投影露光方法及び投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0712019B2 (ja) |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS536716B2 (ja) * | 1972-06-26 | 1978-03-10 | ||
| JPS4890538A (ja) * | 1972-12-29 | 1973-11-26 | ||
| IT1037606B (it) * | 1974-06-06 | 1979-11-20 | Ibm | Apparecchiatura ottica perfezionata utile per la fabbricazione di circuiti integrati |
| JPS5839463Y2 (ja) * | 1976-12-14 | 1983-09-06 | 富士通株式会社 | 転写装置 |
| FR2388300A1 (fr) * | 1977-04-20 | 1978-11-17 | Thomson Csf | Dispositif optique de projection de motifs comportant un asservissement de focalisation a grandissement constant |
| JPS54114182A (en) * | 1978-02-27 | 1979-09-06 | Canon Inc | Alingment device |
| JPS5459883A (en) * | 1978-10-11 | 1979-05-14 | Hitachi Ltd | Pattern printing apparatus |
-
1992
- 1992-03-13 JP JP4054756A patent/JPH0712019B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0574680A (ja) | 1993-03-26 |
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