DE1795089C3 - Photopolymerisierbares Material - Google Patents

Photopolymerisierbares Material

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DE1795089C3 DE1795089A DE1795089A DE1795089C3 DE 1795089 C3 DE1795089 C3 DE 1795089C3 DE 1795089 A DE1795089 A DE 1795089A DE 1795089 A DE1795089 A DE 1795089A DE 1795089 C3 DE1795089 C3 DE 1795089C3
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    • Y10S522/904Monomer or polymer contains initiating group

Description

R2-C = N-O-R3
xler
R2—C = N — O — R4—O — N = C — R2
entspricht, worin bedeuten:
R- — Alkyl mit 1 oder 2 Kohlenstoffatomen, Aryl, Alkaryl, Aralkyl, eine hydroxysubstituierte Aralkylgmppe oder eine Acyigruppe;
R2 = Wasserstoff, Alkyl mit 1 oder 2 Kohlenstoffatomen, Aryl oder Acyl oder Ri und R2 bedeuten die zusammen mit dem Kohlenstoffatom notwendigen Atome zur Bildung einer Cycloalkylgruppe, einer Phenanthrongruppe oder einer Indanongruppe;
R3 = eine Acylgruppe und
R4 = einen Diacylrest oder
b) ein Mischpolymeres aus Methyl-(meth)-acrylat und 2,3-Butandion-O-methacrylyloxim darstellt, das die Oximestergruppen in seitlichen Substituenten enthält, oder
c) ein Polykondensationsprodukt von p-Hydroxyphenyl-l,2-propandion-2-oxim oder von p-HydiOxyphenylglyoxaloxim mit einer Mischung von Terephthal- und Isophthalsäure, gegebenenfalls in Gegenwart von 2,2-Bis(4-hydroxyphenyl)-propan, darstellt, das die Oximestergruppen in der Polymerkette enthält.
2. Verwendung des photopolymerisierbaren Materials nach Anspruch 1 zur Herstellung photographischer Reliefbilder.
Masse verwandelt (VgL Ellis; The Chemistry of Synthetic Resins, Vol. II (1935) Seite 1072). Die durch Licht allein bewirkte Polymerisation läuft aber im Vergleich zu Polymerisationsreaktionen, die durch freie Radikale oder durch Hitze katalysiert werden, sehr viel langsamer ab. Darüberhinaus erfordert die Verwendung von Licht allein ohne zusätzliche Hilfsmittel sehr lange Belichtungszeiten, wenn eine hinreichende Polymerisation des Monomeren erreicht werden soll. Andererseits
ίο macht die geringe Polymerisationsgeschwindigkeit die Anwendung von Lichtquellen mit extremer Intensität notwendig, also beispielsweise von Kohlelichtbogen.
Es ist bereits eine Vielzahl von Photopolymerisationsinitiatoren beschrieben worden, wie unter dem Einfluß
υ von aktinischem Licht die Photopolymerisation beschleunigen. Eine Übersicht über derartige Photopolymerisationsinitiatoren gibt beispielsweise G. Delzenne in Industrie Chimique Beige,24(1959) 739-764.
Aus der DE-AS 10 99 166 ist es bekannt N-Nitrosoacylamine, N-Nitrosoaroylamine oder N-Nitrososulfamid als Sensibilisatoren für die Polymerisation R1 olefinisch ungesättigter Verbindungen zu verwenden.
Die Verbindungen sind jedoch für ihre cancerogenen Eigenschaften bekannt so daß ihre Handhabung nicht unbedenktlich ist Außerdem ist die Thermostabili tat der Nitrosoverbindungen relativ gering.
Nach der DE-PS 9 00 275 werden für den gleichen Zweck «-Oxycarbonylverbindungen verwendet Nachteilig an diesen Verbindungen ist jedoch ihre relativ
jo lange Inhibitionsperiode und ihr geringer Einfluß auf die Polymerisationsgeschwindigkeit.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, ein Material mit verbesserter Photopolymerisationsfähigkeit zu entwickeln, das einen Photopolymerisationsinitiator enthält der eine gefahrlose Handhabung des Materials ermöglicht
Diese Aufgabe wird mit einem photopolymerisierbaren Material gelöst, das wenigstens eine photopolymerisierbare äthylenisch ungesättigte Verbindung und einen stickstoffhaltigen Photopolymerisationsinitiator enthält und das durch Licht aus dem Wellenlängenbereich von 2500 bis 4000 A photopolymerisierbar ist, wobei das Material dadurch gekennzeichnet ist daß der Photoinitiator eine Verbindung ist, die wenigstens eine Oximestergruppe enthält und die
a) der Formel
R1
50
R2-C = N-O-R3
oder
55
R1
R1
Die Erfindung betrifft ein photopolymerisierbares Material auf der Basis olefinisch ungesättigter Verbindungen, das als Polymerisationsinitiator eine stickstoffhaltige Verbindung enthält
Die Photopolymerisation äthylenisch ungesättigter organischer Verbindungen kann durch Belichten mit Strahlung hoher Intensität beispielsweise mit Ultravio· lettlich'l, eingeleitet werden. So wird z. B. Methylacrylat bei längerem Stehen in Sonnenlicht in eine transparente R2-C = N-O-R4-O-N = C-R2
entspricht, worin bedeuten:
Ri = Alkyl mit 1 oder 2 Kohlenstoffatomen, Aryl, Alkaryl, Aralkyl, eine hydroxysubstituierte Aralkylgruppe oder eine Acylgruppe;
R2 = Wasserstoff, Alkyl mit 1 oder 2 Kohlenstoff atomen, Aryl oder Acyl oder Ri und R2 bedeuten die zusammen mit dem Kohlenstoffatom notwendigen Atome zur Bildung einer Cycloalkylgruppe, einer Phenanthrongruppe oder einer Indanongruppe;
H3C-CO —C = N-O —CO-<f
10.
H3C-CO — C = N-O- CO
R] = eine Acylgruppe und
Rt = einen Diacylrest oder
b) ein Mischpolymeres aus Methyl-(meth)-acrylat und 2,3-Butandion-O-methacrylyloxim darstellt, das die Oximestergruppen in seitlichen Substituenten enthält, oder
c) ein Polykondensationsprodukt von p-Hydroxyphenyl-l,2-propandion-2-oxim oder von p-Hydroxyphenylglyoxaloxim mit einer Mischung von Terephthal- und Isophthalsäure, gegebenenfalls in Gegenwart von 2,2-Bis(4-hydroxyphenyl)-propan, darstellt, das die Oximestergruppen in der Polymerkette enthält.
Diese Oximester werden aus den Oximen hergestellt, π H3^-CO-C = N-O-die man durch Behandlung von Diketonen in alkali- |
schem Medium bei O bis 5°C mit Hydroxylaminhydro- CH3
chlorid oder durch Behandlung von Ketonen mit Alkylnitriten in salzsaurer ätherischer Lösung erhäit Die so hergestelkcn Monoxime werden in Natriumhy-
droxid gelöst und die nach Zugabe des entsprechenden HjC CO C-=N O Säurechlorids entstehenden Oximester isoliert !
Geeignete Oximester sind in der folgenden Tabelle zusammengestellt:
OCH3
H3C-CO-CH = N-O-CO^f
H3C-CO-C = N-O-CO-C = CH
-C = N-O-CO-CH =
H1C-CO-C = N-O-CO CO-CH = N-O-CO
C — N-O-CO-CH3
C = N- O — CO-/ \ CO —C = N
H3C-CO-C = N-O-CO CO-C = N-O-CO CH,
H1C-CO-C = N-O-
H, C — C O — C = N — O — C O
N,
io2 CH,
23.
I CH3
CO
fV— CO — C = N- Ο — CO—«f ^
CO — C = N-O — CO
I Cl
26.
CO —
27.
H2C = C-CO-O-
CH3
28. 24.
<^~\-CO-C=N-O-CO-CH;!-/?j> CH3
25.
y s. • s.
<f "V-CO-C=N-O-CO-CH=CH^1' "S \=/ I \=/
CH3
CO—-CH = N-O-CO
CO — C = N-O- C = CH2 CH3 CK3
30.
= N —O —CO
C = N — 0 —CO—<r ι CH2
31.
H3C- CO — C = N-O- CO—A\— CO — 0-N = C-CO- CH3 CH3 ^/ CH3
32.
Q-C = N-O-
Die anzuwendende Menge der Oximester hang! von verschiedenen Faktoren ab. Da/u gehören der im Einzelfall verwendete Oximester selbst, der benutzte Wellenlängenbereich, die Belichtungszeit sowie das oder die anwesenden Monomeren. Gewöhnlich werden die Oximester innerhalb des Bereiches von 0,01 — 5 Gew.-°/o, bezogen auf das monomere Material, eingesetzt. Um zu ausreichenden Polymerisationsgeschwindigkeiten zu gelangen, ist es selten erforderlich, mehr als 0,2 —2 Gew.-°/o anzuwenden.
Die äthylenisch ungesättigten organischen Verbindungen können mit jeder Lichtquelle belichtet werden, die Licht aus dem Wellenlängenbereich von 2500 bis 4000 A und vorzugsweise im Bereich von 3000 — 4000 Λ ausstrahlt. Geeignete Lichtquellen sind Kohlelichlbogcn und Quecksilberdampflampen.
Fine Schicht mit einer Lösung äthylenisch ungcsättigier organischer Verbindungen in einem geeigneten Lösungsmittel, die gelöst oder homogen disnergierl einen Oximester als Photopolymerisationsinitiator enthalt, kann man auf einen Schichtträger auftragen, das Lösungsmittel verdampfen lassen und auf diese Weise eine mehr oder weniger dünne Schicht der organischen Verbindung herstellen. Diese Schicht kann mit aktinischem Licht belichte, werden.
Die Polymerisation des photopolymerisierbaren Materials setzt nicht sofort bei der Belichtung ein. Die Verzögerung hängt unter anderem ab von der Art des äthylenisch ungesättigten organischen Materials selbst, dem Photopolymerisationsiiiitiators und der verwendeten Lichtintensität. Die Zeit, die erforderlich ist. um eine wahrnehmbare Polymerisation zu erhalten ist ein Mali fur üie Wirksamkeit des Photopolymerisationsinitiators und wird als Latentzeit bezeichnet.
Unter gewissen Umständen ist es wünschenswert, daß das photopolymerisierbare Material ein hydrophiles oder hydrophobes Colloid als Bindemittel für die äthylenisch ungesättigte organische Verbindung und den Oximester enthält. Die Eigenschaften der lichtempfindlichen Schicht werden durch die Anwesenheit dieses Bindemittels verständlicherweise stark beeinflußt. Die Auswahl des Bindemittels muß deshalb abhängig gemacht werden von seiner Löslichkeit in Lösungsmitteln, die gleichzeitig als Lösungsmittel für die äthylenisch ungesättigten organischen Verbindungen und für die Oximester gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet werden können. Beispiele für solche Bindemittel sind Polys'yrol. Polvmethylrr.ethacrylat. Polyvinylacetat. Polyvinylbutyral, teilweise verseiftes Celluloseacetat und andere Polymere, die in den Lösungsmitteln für Initiatoren und Monomeren löslich sind. In gewissen Fällen können auch wasserlösliche Polymere, wie Gelatine. Casein. Stärke. Carboxymethylcellulose und Polyvinylalkohol verwendet werden. Auch das Verhältnis von photopolymerisierbarer Verbindung zu Bindemittel hat einen Einfluß auf die Photopolymerisation. Je größer dieses Verhältnis ist. desto größer ist im allgemeinen auch die Photopolymerisationsgeschwindigkeit einer bestimmten äthylenisch ungesättigten organischen Verbindung.
Falls das photopolymerisierbare Material wasserlöslich ist. kann zur Herstellung einer Schicht Wasser verwendet werden. Andererseits können wasserunlösliche photopolymerisierbare Materialien in organischen Lösungsmitteln. Mischungen solcher Lösungsmittel oder in Mischungen vor! organischen Lösungsmitteln mit Wasser angewandt werden.
Das hier verwendete äthylenisch ungesättigte polymerisierbare Material kann aus einer oder mehreren Verbindungen wie Styrol. Acrylamid, Methacrylamid. Methylmethacrylat, Diäthylaminoäthylmethzcrylat und Acrylnitril bestehen. Falls zwei dieser Monomeren in dem gleichen photopolymerisierbaren Material angewandt werden oder wenn man sie gemischt mit anderen polymeriserbaren Verbindungen anwendet, dann entstehen während der Photopolymerisation Mischpolymerisate. Es wird ferner vermutet, daß dann, wenn das photopolymerisierbare Material zusammen mit einem polymeren Bindemittel eingesetzt wird, die beiden Komponenten Pfropfpolymere bilden.
Fs ist ferner möglich, daß das photopolymerisierbare Material aus ungesättigten Verbindungen besteht oder solche enthält, die mehr als eine Kohlcnstoffdoppelbindung aufweisen, beispielsweise Verbindungen mit 2 endständigen Vinylgruppen. Bei der Polymerisation solcher Verbindungen findet gewöhnlich eine Vernetzung stillt. Roispiele für Verbindungen mit mrhr ak einer Kohlenstoff-Kohlenstoffdoppclbindiing sind Divinylben/ol. Diglykoldiacryluii* und N.N-alkylenbis acrylamide. Heispiele für die m diesem Zusammenhang ebenfalls zu erwähnenden Äthvlenbindungen enthaltenden Polymeren sind Allylester der Polyacrylsäure. Maleinester des Polyvinylalkohol. Polykohlenwasserstoffe, die noch Kohlenstoff-Kohlenstoffdoppelbindungen enthalten, ungesättigte Polyester, Cellulose."~etomaleate und Allylccllulose. Die eingangs beschriebenen Oximester haben relativ kleine Molekulargewichte. Es ist jedoch auch möglich, Polymere, die Oximestergrtippen enthalten erfindungsgemäß als Photopolymerisationsinitia'.oren einzusetzen. Solche Polymere lassen sich in zwei Gruppen trennen. Zur ersten Gruppe gehören Polymere mit seitlichen eine Oximestergruppe tragenden Substituenten. Wenn man beispielsweise Methacrylchlorid im Dunkeln mit Diacetylmonoxim reagieren läßt, erhält man ein polymerisierbares Monomeres mit einer Oximestergruppe. Dieses Monomere kann in acetonischer Lösung im Dunkeln unter Verwendung von Azodiisobutyronitril als Katalysator polymerisiert werden. Um eine Zersetzung der Oximestergruppen zu vermeiden, hält man die Polymerisationstemperatur unterhalb von 60; C.
Wenn ein derartiges Polymeres oder Copolymeres mit Oximestergruppen in den Seitenketten belichtet wird, dann werden die Oximestergruppen wie im Falle der niedermolekularen Oximester zersetzt. Dabei entstehen entlang der Polymerketten freie Radikale. In Anwesenheit von äthylenisch ungesättigten organischen Verbindungen, die einer Radikalpolymerisation zugänglich sind, initiieren die obengenannten freien Radi1 >le. die Polymerisation des vorliegenden Monomeren. Hierbei entstehen Pfropfpolvmere. in denen die ursprüngliche polymere Verbindung mit den seitlichen Oximestergruppen enthaltenden Substituenten die Polymerkette bildet. Bei einer zweiten Klasse von Polymeren sind die Oximestergruppen ein Teil der Polymerkette selbst. Hierunter fallen z. B. die Polykondensate aus p-Hydroxyphenylglyoxalaidoxim. 2.2-Bis(4-hydroxyphenyi)-propan und einer Mischung von Terephthal- und Isophthalsäurechloriden. Die Polykondensationsreaktionen werden jeweils im Dunkeln durchgeführt. Wenn ein Polymeres, dessen Oximestergruppen Bestandteile der Polymerkette sind, belichtet wird, dann zersetzen sich die Oximestergruppen. die
Wenn man die Belichtung in Anwesenheit äthylenisch ungesättigter organischer Verbindungen durchführt, die
einer Radikalpolymerisation liihig sind, dann bewirken die freien Radikale an den (Inden der polymeren Bruchstücke eine Polymerisation der anwesenden Monomeren. Das Resultat sind Blockpolymerisate.
Höhere Temperaturen sind für die Photopolymerisation gemäß der vorliegenden Erfindung nicht erforderlich. Andererseits liefert die intensive Belichtung aus rt'l°tiv kurzem Abstand eine gewisse Erwärmung des zu pulynerisierenden Materials, welche die Polymerisation ginstig beeinflußt. Die Oximester enthaltenden photopulymerisierbaren Materialien eignen sich zur Herstellt ig photographischer Bilder.
Das erfindungsgemäße Material eignet sich auch als Klebstoff. Beschichtungs- und Imprägniermittel, ;iK 7. vischenschicht für Sicherheitsgläser. Falls die Photop »lymerisation der Materialien in Form einer Schmelze el irchgeführt wird, eignet sich das Verfahren zur erstellung optischer Artikel z. B. von Linsen.
Als weitere Anwendungen sind das Aufsprühen des ρ »lymerisierbaren Materials auf eine Oberfläche, beispielsweise aus Metall und die photographische Herstellung eines Bildes durch Ausbelichtung einer geeigneten Vorlage zu nennen. Dabei verursacht das 1. cht an den belichteten Stellen des photopolymerisierbi ren Materials eine Polymerisation, durch die die pi lymere Schicht in den für die Herstellung der Schicht vi rwandten Lösungsmittel unlöslich wird. Die nicht b( lichteten Schichtstellen werden anschließend mit ehern Lösungsmittel für das monomere Material ai sgewaschen. Man erhält auf diese Weise Druckplatte ι und photographische Ätzresistagen. die als Druckformen verwendet werden können.
Die bildweise Photopolymerisation kann auch dazu bt nutzt werden, eine Schicht in differenzierter Weise zu erweichen. Damit wird ein Reproduktionsprozeß möglich, der darin besteht, die bildweise photopolymerisit rte Schicht zu erwärmen und gegen ein Empfangsbl.itt zu pressen, so daß die erweichten Schichtstellen au' das Empfangsblatt übertragen werden.
Beispiel 2
Beispiel I wird wiederholt, indem man 4,68 Mol pro Liter Methylmethacrylat in Benzol löst und die Menge des Initiators variiert. Nach einer Belichtungszeit von 120 Minuten erhält man folgende Ausbeuten:
10 ' Mole Initiator Ausheule
pro Liter in mg
0,5 740
I I.K)I
1.5 1,373
5 2.236
10 3.060
50 6.431
Beispiel i
Die in Beispiel 1 beschriebene Arbeitsweise wird auf 1S Lösungen angewandt, die als Initiatoren verschiedene Oximesler in Konzentrationen von 10 ' Mol pro Liter enthalten. Die Konzentration von Methylmethacrylat beträgt 4,68 Mol pro Liter. Nach einer Belichtung von 120 Minuten gelangt man zu folgenden Ergebnissen:
Nr. des als Initiator Ausbeute an
verwandten Oximesters Polymeren!
in mg
Il
21
32
1.224
1,368
1.039
952
1.922
Beispiel 1
Viethylmethacrylat. dessen Stabilisierungsmittel entfei nt wurde, wird in Benzol gelöst und mit 10-' Mol 1- 'henyl-l^-propandion^-O-benzoyloxim (Oximester Ni. 17) pro Liter als Initiator versetzt. Die so erhaltene Lesung gießt man in ein Reaktionsrohr aus Borsilikatgli s, das mit Stickstoff sauerstofffrei gespült wurde. Das Rf aktionsrohr wird abgeschmolzen.
Die Lösung bestrahlt man 120 Minuten mit einer 300 W itt Quecksilberdampflampe aus 18 cm Abstand. Nach de· Belichtung wird das entstandene Polymere durch Ar gießen in überschüssigem Methanol gefällt, abgetrennt und unter vermindertem Druck getrocknet Man erhält abhängig von der Konzentration folgende Ai sbeuten an Polymeren!:
Mole Moncmeres Ausbeute
pro Liter in mg
2.34 300
3,74 762
4,68 1,101
ς <■) 1,424
7.02 L908
8.42 2,238
Beispiel 4
Man wiederholt Beispiel 1, löst aber anstelle von Methylmethacrylat 16 ecm Styrol in 4 ecm Benzol zusammen mit 21 mg 1-Phenyl-l,2-propandion-2-0-benzoyloxim (Oximester Nr. 17, 5, 10"3MoI pro Liter Lösung). Abhängig von der Belichtungszeit werden folgende Ergebnisse erhalten:
Belichtungszeit Ausbeute an
in Minuten Polymerem
in mg
60 691
120 974
180 1,084
240 1,181
300 1,282
Beispiel 5
Beispiel 1 wird mit 10 ecm Acrylnitril, 10 ecm Benzol und dem Oximester Nr. 17 als Initiator in einer Konzentration vor. !0~3 Mol pro Liter wiederholt Nach einer Belichtungszeit von 180 Minuten erhält man 2310 mg des Polymeren.
Beispiel 6
In einer Mischung von Wasser und Methylglykol löst man Acrylamid (40/60 Volumenteile). Als Initiator verwendet man den in Beispiel I beschriebenen, in einer Konzentration von 6.10 ' Mol pro Liter. Die Mischung wird dann mit einer 180 Watt Quecksilberdampflampe aus 18 cm Abstand belichtet. Abhängig von der Konzentration an Acrylamid erhält man nach einer Minute Belichtung nach der Inhibitionsperiode folgende Ergebnisse:
Mole Acrylamid
pro Liter
1.76
L, I 1
2.46
2.82
3,52
Ausheilte .in
l'olvmerem
in mi:
124
15!!
203
233
304
345
Nr. des als Zeit in Minuten. Zeit in Minuten.
Initiator ver nach der ein er nach der Gelie
wendeten Oxim- kennbarer Visko rung beobachtet
este.s sitätsanstieg zu wird
beobachten ist
1 20 30
2 11 19
3 13 40
4 5 14
5 11 26
6 15 30
7 15 30
8 14 32
9 20 40
10 11 30
11 20 38
12 30 45
13 75 225
18 3 7
Nr. des ak
Initiator \eruendeten (Kiniesters
2(1
21
22
23
24
26
27
Beispiel 7
In einer Mischung von Wasser und Methylglykol (50/50) löst man Acrylamid in einer Konzentration von 3.52 Mol pro Liter (25%). Als Initiator werden 5.7 mg des Oximesters Nr. 25 verwendet (7.7 · 10 4 Mol pro Liter). Belichtungs- und Reaktionsbedingungen sind die gleichen wie in Beispiel 6. Die Ausbeute an Polymerem nach einer Minute Belichtung nach der Inhibitionsperiode beträgt 156 mg (12,5%).
Beispiel 8
Es werden 27 Proben hergestellt, indem man IO"sMol Oximester in 5 ecm Äthylenglykolmonomethyläther löst und jeder dieser Proben eine Lösung von 3 g Acrylamid in 5 ecm Wasser zusetzt. Die so hergestellten Mischungen werden mit einer 80 Watt Quecksilberdampflampe aus 10 cm Abstand belichtet. Abhängig von dem verwendeten Initiator erhält man folgende Ergebnisse:
/eit ir. Minuten, mich der cm erkennbarer Visko-•iiiiitsanstii.1.!! /u
2
8
8
12
6
3
2
60
55 3 12
Kl
/eit in Minuten, nach der (ielie-πιημ henh.ii'lilet wird
19
14
14
IX
10
1X)
60
26 20
Beispiel 9
Man läßt Diacetylmonoxim mit Methacrylsaurechiorid reagieren und polymerisiert das erhaltene 2,3-Butandion-O-methacrylyloxim mit Methylmethacrylat wie im folgenden beschrieben:
A) 20 g Diacetylmonoxim (0.2 Mol), 100 ml Me;hylenchlorid und 16 ml Pyridin werden in einen 500 ml Dreihalskolben gegeben, der mit Rührer und Tropftrichter ausgerüstet ist.
Unter Rühren und Kühlen in Eiswasser werden \°i ml Methacrylsäurechlorid (0.2 Mol) innerhalb von 15 Minuten tropfenweise zugesetzt. Man rührt dann 60 Minuten lang bei 40°C weiter. Nach Abkühlung wird die Lösung zweimal mit 100 ml Wasser ausgeschüttelt und über wasserfreiem Natriumsulfat getrocknet. Die Lösung wird nun unter vermindertem Druck eingeengt und danach auf 500C erwärmt. Ausbeute: 22 g 2.3-Butandion-mono-(0-methactylyloxim)der Formel:
CH1-CO-C = N-O-CO-C =
CH-.
CH-,
B) 5 ml Aceton. 5 ml Methylacrylat 1 g 2,3-Butandionmono-(O-methacrylyloxim) und 0,05 g Azodiisobutyronitril werden in ein 25 ml fassendes Bombenrohr gegeben. Man leitet 15 Minuten lang Stickstoff durch die Lösung und schmilzt das Rohr dann ab.
Die Mischung wird 16 Stunden lang auf 600C erhitzt Dann verdünnt man die viskose Lösung mit 25 ml Aceton und gießt sie in 0,5 ml Äther ein. Das körnige Polymere wird unter vermindertem Druck getrocknet Ausbeute: 44 g eines Copolymeren, das aus folgenden sich wiederholenden Einheiten besteht
CH3
—1-CH2—C —
COOCH3
CH,
i
Cll· C —
I c=--η
I
ο
N O
Il :i
C- C (H.
CH.
Das Polymere enthält diese Einheiten in einem Verhältnis von 13(1. Formel)zu 1 (2. Formel).
Man l;\st 5 ecm Styrol und 1 g des oben beschriebenen Mischpolymeren in Benzol. 20 ecm der Lösung gibt man in ein Reaktionsrohr, das mit Stickstoff sauerstofffrei gespült worden ist. Das Rohr wird abgeschmolzen und die Lösung 8 Stunden mit einer 300 Watt Quecksilberdampflampe aus 18 cm Abstand bestrahlt.
Durch Zugabe eines Überschusses an Methanol erhält man 1470 g des Polymeren. Durch rationierte Fällung aus einer l.4°/oigen Lösung in Chloroform lassen sich folgende Fraktionen trenntii:
0.31 Polystyrol —
0,6 Pfropfcopolymeres I 0.4232 g
0.75 Pfropfcopolymeres Il 0.3384 g
0.75 ursprüngliches Copolymeres 0.7084 g
In der 1. Spalte der Tabelle wird das Verhältnis von Fällungsmittel (Methanol) zum Gesamtvolumen der Lösung angegeben. Es wurde keine Bi'dung von Homopolystyrol beobachtet.
Beispiel 10
F.ine Lösung von 1.3 g des Mischpolymeren aus Beispiel 9 und 2 g Acrylamid in 25 ecm Dioxan werden 2 Stunden wie in Beispiel 9 beschrieben belichiet, jedoch ohne vorherige Entfernung des Sauerstoffs. Es werden 2.38 g Polymeres isoliert. Nach 24stündiger Extraktion mit Wasser erhält man eine lösliche Fraktion mit einem Stickstoffgehalt von 14—16,7% und eine unlösliche Fraktion mit einem Stickstoffgehalt von 6,4—6,18°Λ Oa der Stickstoffgehalt von Polyacrylamid 21% beträgt, deutet dies auf eine Propfreaktion von Acrylamid mit dem Oximgruppcn tragenden Polymeren hin.
Beispiel 11
Beispiel 9 wird mit 1 g Mischpolymeren und 5 ecm Acrylnitril gelöst in 15 ecm Benzol wiederholt Nach einer Belichtungszeit von 7 Minuten erhält man ein viskoses Gel. Ausbeute: 2.28 g Propfpolymeres.
Fi e i s ρ i e i i 2
Wie in Beispiel 9 beschrieben werden 1 g Mischpolymeres und 5 ecm Diäthylaminoätlnlme'.hacrvlat, gelöst in I 5 ecm Benzol 2 Stunden belichtet. Durch Einengen. Lösen in Salzsäure-haltigem Wasser und Fällung in ν äßrigem Natriumhydroxid erhält man 3.5 g Polymeres mit einem Stickstoffgehall von 6.25 — 6.32%. Da reines Polvdiäthylaminoäthylmcthacrylat einen Stickstoffgehalt von 7.57% aufweist, scheint eine beträchtliche Menge Diäthylaminoäthylmcthacrylat mil dem Oximestergruppen-tragenden Polymeren reagiert zu haben.
Beispiel 13
1-(p-Hydroxy pheny I)-l,2-propandion-2-ox im wird dem in Beispiel 9 beschriebenen Verfahren entsprechend mit Isophthaloylchlorid. Terephthaloylchlorid und 2,2-bis-(4-Hydroxyphenyl)-propan polykondensiert. Die Mischpolyester bestehen aus gleichen Mengen folgender sich wiederholender Einheiten:
>—O--OC"
- O —?
CIL
CH,
CO — C = N-O-OC
CO
CO-C = N-O-OC
CO
800 mg des obigen Mischpolyesters und 4 ecm Methylmethacrylat, das keinen Inhibitor enthält, werden in 16 ecm Dichlormethan gelöst. Die Lösung gibt man in ein Reaktionsrohr aus Borsilikatglas, das mit Stickstoff sauerstofffrei gespült worden ist. Das Reaktionsrohr wird abgeschmolzen und 6 Stunden mit einer 300 Watt Quecksilberdampflampe aus 18 cm Abstand belichtet. Das entstandene Polymere fällt man durch Eingießen in Methanol. Ausbeute: 1,9 g.
Eine fraktionierte Fällung zeigt, daß das Methylmethacrylat mit dem ursprünglichen Mischpolyester ein Blockpolymeres gebildet hat.
l-(p-Hydroxyphenyl)-1.2-propandion-2-oxim kann auch in der oben beschriebenen Weise mit einer
Mischung von Isophthaloylchlorid und Terephthaloylchlorid in Abwesenheit von 2,2-bis(4-Hydroxyphenyl)-propan polykondensiert werden. In diesem Falle besteht das Polykondensationsprodukt aus sich wiederholenden Einheiten der oben gezeigten Formeln III unc IV.
Beispiel 14
p-Hydroxyphenylglyoxaloxim wird dem in Beispiel S beschriebenen Verfahren entsprechend mit Isophthaloylchlorid und Terephthaloylchlorid polykondensiert Man erhält ein Polykondensationsprodukt, das aui gleichen Mengen folgender sich wiederholender Einheiten besteht:
CO-CH = N-O-OC—r*
CO-CH=N-O-OC
CO
-CO
Dieser Polyester kann ebenso wie der in Beispiel 13 beschriebene mit ähtylcnisch ungesättigten Verbindungen verwendet werden und bildet bei Belichtung Blockmischpolymere.
Beispiel 15
Eine Mischung von iOg Copolyäthylen/Maleinsäureanhydrid, 5 ecm Triethylenglykol-diacrylat, 25 mg 2,6-Di-tertiärbutyI-p-cresol, 50 ecm Aceton und 100 mg des Oximester Nr. 17 werden unter Rühren gelöst. Mit der Lösung beschichtet man eine Glasplatte, so daß naci dem Trocknen eine 0,3 mm dicke Schicht entsteht Die Schicht wird 5 Minuten mit einer 80 Watt Quecksilberdampflampe aus 15 cm Abstand durch ein Strichnegativ belichtet.
30
J5 Wenn die belichteten Stellen der Schicht mit Acetor ausgewaschen werden, erhält man ein scharfes Relief bild der Vorlage.
Beispiel 16
(Vergleichsbeispiel)
Es wird wie in Beispiel 6 beschrieben gearbeitet wobei man als Initiator anstelle des Oximesters Nr. 1/ Benzoin verwendet
Nach einer im Vergleich zum Oximester Nr. 1/ doppelt so langen Inhibitionsperiode erhält man be gleicher Temperatur etwa die halben Polymerisations geschwindigkeiten und damit in gleichen Zeiten aucl nur etwa 50% der Polymerausbeute.
40 2302)1/1

Claims (1)

Patentansprüche:
1. Photopolynnerisierbares Material, das wenigstens eine photopolymerisierbare äthylenisch ungesättigte Verbindung und einen stickstoffhaltigen Photopolymerisationsinitiator enthält und das durch Licht aus dem Wellenlängenbereich von 2500 bis 4000A photopolymerisierbar ist, dadurch gekennzeichnet, daß der Photoinitiator eine Verbindung ist, die wenigstens eine Oximestergruppe enthält und die
a) der Formel
R,
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Families Citing this family (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3905815A (en) * 1971-12-17 1975-09-16 Minnesota Mining & Mfg Photopolymerizable sheet material with diazo resin layer
US4202694A (en) * 1977-04-21 1980-05-13 Polaroid Corporation Pendant oxime polymers and photographic use thereof
FR2393345A1 (fr) * 1977-06-01 1978-12-29 Agfa Gevaert Nv Fabrication d'elements modifies sous forme d'images
GB2029423A (en) * 1978-08-25 1980-03-19 Agfa Gevaert Nv Photo-polymerisable materials and recording method
NO150963C (no) * 1979-01-11 1985-01-16 Scott Bader Co Polyesterharpiksmateriale som er herdbart ved hjelp av synlig lys, og fremgangsmaate til herding av dette
US4282309A (en) * 1979-01-24 1981-08-04 Agfa-Gevaert, N.V. Photosensitive composition containing an ethylenically unsaturated compound, initiator and sensitizer
JPS5695902A (en) * 1979-12-29 1981-08-03 Toyobo Co Ltd Uv-curable resin composition
US4539286A (en) * 1983-06-06 1985-09-03 Dynachem Corporation Flexible, fast processing, photopolymerizable composition
US4610951A (en) * 1983-06-06 1986-09-09 Dynachem Corporation Process of using a flexible, fast processing photopolymerizable composition
HU196288B (en) * 1985-06-04 1988-11-28 Egyt Gyogyszervegyeszeti Gyar Fungicides containing as active substance new derivatives of fenantren and process for production of the active substance
US4590145A (en) * 1985-06-28 1986-05-20 Daicel Chemical Industries, Ltd. Photopolymerization initiator comprised of thioxanthones and oxime esters
JP2640470B2 (ja) * 1987-08-19 1997-08-13 旭化成工業株式会社 新しい感光性組成物
US5019482A (en) * 1987-08-12 1991-05-28 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Polymer/oxime ester/coumarin compound photosensitive composition
JP3498869B2 (ja) * 1995-01-30 2004-02-23 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物を有する画像形成材料
EP0791857B1 (de) 1996-02-26 2000-11-15 Agfa-Gevaert N.V. Bildaufzeichnungselement, das eine Zweiphasenbeschichtung mit einer dispergierten hydrophoben photopolymerisierbaren Phase enthält
SG77689A1 (en) * 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
EP1163553B1 (de) 1999-03-03 2006-06-14 Ciba SC Holding AG Oximderivate und ihre verwendung als photoinitiatoren
SG97168A1 (en) * 1999-12-15 2003-07-18 Ciba Sc Holding Ag Photosensitive resin composition
NL1016815C2 (nl) * 1999-12-15 2002-05-14 Ciba Sc Holding Ag Oximester-fotoinitiatoren.
US6652970B1 (en) * 2000-07-07 2003-11-25 3M Innovative Properties Company Degradable crosslinkers, compositions therefrom, and methods of their preparation and use
KR100417091B1 (ko) * 2001-05-15 2004-02-05 주식회사 엘지화학 기능성 옥심 에스테르계 화합물 및 이를 포함하는 감광성조성물
ATE446322T1 (de) * 2001-06-11 2009-11-15 Basf Se Oxim ester photoinitiatoren mit kombinierter struktur
JP4769461B2 (ja) * 2002-12-03 2011-09-07 チバ ホールディング インコーポレーテッド ヘテロ芳香族基を有するオキシムエステル光開始剤
CA2575046A1 (en) * 2004-08-18 2006-02-23 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Oxime ester photoinitiators
JP3992725B2 (ja) * 2004-08-20 2007-10-17 株式会社Adeka オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
JP4650211B2 (ja) * 2005-10-31 2011-03-16 東洋インキ製造株式会社 光重合性組成物
KR100814232B1 (ko) 2005-12-01 2008-03-17 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을포함하는 착색 감광성 조성물
EP2172455B1 (de) 2005-12-01 2011-01-19 Basf Se Oximester-Fotoinitiatoren
US8026296B2 (en) * 2005-12-20 2011-09-27 3M Innovative Properties Company Dental compositions including a thermally labile component, and the use thereof
KR101351286B1 (ko) * 2005-12-20 2014-02-17 시바 홀딩 인크 옥심 에스테르 광개시제
KR101075686B1 (ko) * 2006-01-13 2011-10-21 토요잉크Sc홀딩스주식회사 디케토옥심에스테르화합물 및 그 용도
US8349548B2 (en) * 2007-05-11 2013-01-08 Basf Se Oxime ester photoinitiators
JP5535064B2 (ja) * 2007-05-11 2014-07-02 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア オキシムエステル光重合開始剤
CN102702073B (zh) 2007-05-11 2015-06-10 巴斯夫欧洲公司 肟酯光引发剂
JP5274132B2 (ja) * 2007-07-17 2013-08-28 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ用硬化性組成物、パターン形成方法、カラーフィルタ、及びその製造方法
EP2207062B1 (de) * 2007-07-17 2012-09-12 FUJIFILM Corporation Lichtempfindliche Zusammensetzungen, härtbare Zusammensetzungen, neuartige Verbindungen, photopolymerisierbare Zusammensetzungen, Farbfilter und planographische Druckplattenvorläufer
JP5507054B2 (ja) * 2008-03-28 2014-05-28 富士フイルム株式会社 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子
CN102112438B (zh) 2008-06-06 2014-07-23 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
JP4344400B1 (ja) * 2009-02-16 2009-10-14 株式会社日本化学工業所 オキシムエステル化合物及びこれらを用いた感光性樹脂組成物
CN101565472B (zh) 2009-05-19 2011-05-04 常州强力电子新材料有限公司 酮肟酯类光引发剂
CN102459171B (zh) 2009-06-17 2014-07-09 东洋油墨Sc控股株式会社 肟酯化合物、自由基聚合引发剂、聚合性组合物、负型抗蚀剂以及图像图案
US20120207935A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photocurable inks and methods of use
US20120208914A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photoinitiator compositions and uses
US8816211B2 (en) 2011-02-14 2014-08-26 Eastman Kodak Company Articles with photocurable and photocured compositions
RU2628076C2 (ru) 2011-05-25 2017-08-14 Америкэн Дай Сорс, Инк. Соединения с группами сложных эфиров оксима и/или ацильными группами
WO2015027702A1 (zh) * 2013-09-02 2015-03-05 北京英力科技发展有限公司 环戊二酮肟酯及其应用
CN104910053B (zh) * 2014-06-09 2017-09-12 北京英力科技发展有限公司 不对称二肟酯化合物及其制造方法与应用
WO2016082304A1 (zh) * 2014-11-28 2016-06-02 北京英力科技发展有限公司 一种光固化阻焊油墨
US11041037B2 (en) 2018-10-01 2021-06-22 Solenis Technologies, L.P. Ultra violet assisted photo initiated free radical polymerization

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE465271A (de) * 1941-12-31 1900-01-01
DE1099166B (de) * 1959-12-01 1961-02-09 Basf Ag Sensibilisatoren zur Photopolymerisation ungesaettigter organischer Verbindungen

Also Published As

Publication number Publication date
DE1795089A1 (de) 1972-01-20
BE719039A (de) 1969-02-05
DE1795089B2 (de) 1981-05-21
US3558309A (en) 1971-01-26
FR1576141A (de) 1969-07-25
NL154518B (nl) 1977-09-15
GB1180846A (en) 1970-02-11
NL6811281A (de) 1969-01-27

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