DE1214683B - Verfahren zur Herstellung von heterocyclischen Viererringverbindungen - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von heterocyclischen Viererringverbindungen

Info

Publication number
DE1214683B
DE1214683B DEM56295A DEM0056295A DE1214683B DE 1214683 B DE1214683 B DE 1214683B DE M56295 A DEM56295 A DE M56295A DE M0056295 A DEM0056295 A DE M0056295A DE 1214683 B DE1214683 B DE 1214683B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
radical
heterocyclic
silicon
general formula
ring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEM56295A
Other languages
English (en)
Inventor
Dr Chem Walter Fink
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Monsanto Co
Original Assignee
Monsanto Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from CH384062A external-priority patent/CH407114A/de
Priority claimed from CH327563A external-priority patent/CH460000A/de
Application filed by Monsanto Co filed Critical Monsanto Co
Publication of DE1214683B publication Critical patent/DE1214683B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21FPROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
    • G21F1/00Shielding characterised by the composition of the materials
    • G21F1/02Selection of uniform shielding materials
    • G21F1/10Organic substances; Dispersions in organic carriers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F5/00Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
    • C07F5/02Boron compounds
    • C07F5/022Boron compounds without C-boron linkages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/025Silicon compounds without C-silicon linkages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/10Compounds having one or more C—Si linkages containing nitrogen having a Si-N linkage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/21Cyclic compounds having at least one ring containing silicon, but no carbon in the ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/44Amides thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/547Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6564Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
    • C07F9/6571Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07F9/657154Cyclic esteramides of oxyacids of phosphorus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/547Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6564Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
    • C07F9/6581Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and nitrogen atoms with or without oxygen or sulfur atoms, as ring hetero atoms
    • C07F9/6587Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and nitrogen atoms with or without oxygen or sulfur atoms, as ring hetero atoms having two phosphorus atoms as ring hetero atoms in the same ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/547Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6596Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having atoms other than oxygen, sulfur, selenium, tellurium, nitrogen or phosphorus as ring hetero atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/54Silicon-containing compounds
    • C08K5/549Silicon-containing compounds containing silicon in a ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K5/00Heat-transfer, heat-exchange or heat-storage materials, e.g. refrigerants; Materials for the production of heat or cold by chemical reactions other than by combustion
    • C09K5/08Materials not undergoing a change of physical state when used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M105/00Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound
    • C10M105/74Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound containing phosphorus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M105/00Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound
    • C10M105/76Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound containing silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M105/00Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound
    • C10M105/78Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound containing boron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M105/00Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound
    • C10M105/80Lubricating compositions characterised by the base-material being a non-macromolecular organic compound containing atoms of elements not provided for in groups C10M105/02 - C10M105/78
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2223/00Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2223/02Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having no phosphorus-to-carbon bonds
    • C10M2223/04Phosphate esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2223/00Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2223/02Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having no phosphorus-to-carbon bonds
    • C10M2223/04Phosphate esters
    • C10M2223/042Metal salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2223/00Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2223/02Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having no phosphorus-to-carbon bonds
    • C10M2223/04Phosphate esters
    • C10M2223/047Thioderivatives not containing metallic elements
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2223/00Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2223/06Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having phosphorus-to-carbon bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2223/00Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2223/06Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having phosphorus-to-carbon bonds
    • C10M2223/061Metal salts
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2227/00Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2227/00Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2227/02Esters of silicic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2227/00Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2227/04Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions having a silicon-to-carbon bond, e.g. organo-silanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2227/00Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2227/06Organic compounds derived from inorganic acids or metal salts
    • C10M2227/061Esters derived from boron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2227/00Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2227/06Organic compounds derived from inorganic acids or metal salts
    • C10M2227/061Esters derived from boron
    • C10M2227/062Cyclic esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2227/00Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2227/08Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions having metal-to-carbon bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2227/00Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2227/08Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions having metal-to-carbon bonds
    • C10M2227/081Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions having metal-to-carbon bonds with a metal carbon bond belonging to a ring, e.g. ferocene
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2227/00Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2227/08Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions having metal-to-carbon bonds
    • C10M2227/083Sn compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2229/00Organic macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2205/00, C10M2209/00, C10M2213/00, C10M2217/00, C10M2221/00 or C10M2225/00 as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2229/04Siloxanes with specific structure
    • C10M2229/05Siloxanes with specific structure containing atoms other than silicon, hydrogen, oxygen or carbon
    • C10M2229/052Siloxanes with specific structure containing atoms other than silicon, hydrogen, oxygen or carbon containing nitrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2229/00Organic macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2205/00, C10M2209/00, C10M2213/00, C10M2217/00, C10M2221/00 or C10M2225/00 as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2229/04Siloxanes with specific structure
    • C10M2229/05Siloxanes with specific structure containing atoms other than silicon, hydrogen, oxygen or carbon
    • C10M2229/053Siloxanes with specific structure containing atoms other than silicon, hydrogen, oxygen or carbon containing sulfur
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2229/00Organic macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2205/00, C10M2209/00, C10M2213/00, C10M2217/00, C10M2221/00 or C10M2225/00 as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2229/04Siloxanes with specific structure
    • C10M2229/05Siloxanes with specific structure containing atoms other than silicon, hydrogen, oxygen or carbon
    • C10M2229/054Siloxanes with specific structure containing atoms other than silicon, hydrogen, oxygen or carbon containing phosphorus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2290/00Mixtures of base materials or thickeners or additives
    • C10M2290/02Mineral base oils; Mixtures of fractions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10NINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2010/00Metal present as such or in compounds
    • C10N2010/04Groups 2 or 12
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10NINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2010/00Metal present as such or in compounds
    • C10N2010/06Groups 3 or 13
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10NINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2010/00Metal present as such or in compounds
    • C10N2010/08Groups 4 or 14
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10NINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2030/00Specified physical or chemical properties which is improved by the additive characterising the lubricating composition, e.g. multifunctional additives
    • C10N2030/08Resistance to extreme temperature
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10NINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/08Hydraulic fluids, e.g. brake-fluids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10NINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/12Gas-turbines
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10NINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/12Gas-turbines
    • C10N2040/13Aircraft turbines
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10NINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/46Textile oils
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10NINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2050/00Form in which the lubricant is applied to the material being lubricated
    • C10N2050/015Dispersions of solid lubricants
    • C10N2050/02Dispersions of solid lubricants dissolved or suspended in a carrier which subsequently evaporates to leave a lubricant coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10NINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2050/00Form in which the lubricant is applied to the material being lubricated
    • C10N2050/10Semi-solids; greasy

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)

Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND Int. Ο.:
C07d
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Deutsche Kl.: 12 ο - 26/03
Nummer: 1214 683
Aktenzeichen: M 56295IV b/12 ο
Anmeldetag: 28. März 1963
Auslegetag: 21. April 1966
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von heterocyclischen Viererringverbindungen der allgemeinen Formel
RoSi NR'
R'N„/2
worin die Symbole die folgende Bedeutung besitzen: M: Silicium, Bor, Phosphor, O = P-Rest, S = P-Rest oder Mg; R: gegebenenfalls halogenierter Alkyl-, ίο Alkenyl-, Cycloalkyl-, Cycloalkenyl-, Aralkyl-, Aralkenyl- oder Arylrest mit bis zu 20 Kohlenstoffatomen, über Sauerstoff gebundener Rest eines einwertigen Alkohols oder Phenols mit bis zu 20 Kohlenstoffatomen, wobei zwei Reste am gleichen Silicium- bzw. M-Atom zusammengenommen eine cyclische Struktur bilden; R': Alkyl-, Cycloalkyl-, Alkenyl-, Cycloalkenyl-, Aralkyl-, Aralkenyl-, Aryl- oder heterocyclischer Rest mit bis zu 20 Kohlenstoffatomen; R": Halogenatom oder die Gruppe
— NR' — SiR2 — NR' — MR„,
die an ihrem anderen Ende den gleichen Viererring aufweist; n: Null oder ganze Zahl; v: Valenz von M, wobei M, anstatt mit den Radikalen R und R" verbunden zu sein, auch Teil eines zweiten, identischen Viererringes sein kann.
Das Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß man ein Diamino-diorganosilan der allgemeinen Formel
R'NH — SiR2 — NHR'
worin R und R' die gleiche Bedeutung wie oben haben, in Form eines Dialkalisalzes oder Di-Grignard-Derivates, mit mindestens einer äquimolaren Menge eines Halogenids der allgemeinen Formel
worin R und ν die gleiche Bedeutung wie oben haben, X ein Halogenatom und m mindestens 2 ist, in einem inerten Lösungs- oder Verdünnungsmittel umsetzt.
Heterocyclische Viererringverbindungen mit 2 Stickstoffatomen und 2 Siliciumatomen bzw. 1 Siliciumatom und einem anderen Element als Ringbestandteüe waren bisher nicht bekannt. Aus den bekannten Cyclodiphosphazanen, welche z. B. durch Dimerisierung hergestellt wurden und ein lockeres Addukt darstellen, konnte nicht auf die erfindungsgemäßen, Silicium enthaltenden stabilen Viererringverbindungen geschlossen werden.
Zur Herstellung der einen Reaktionskomponente für die neuen Viererringverbindungen wird ein primäres Amin der Formel R'NH2 mit einer Silicium-
Verfahren zur Herstellung von heterocyclischen
Viererringverbindungen
Anmelder:
Monsanto Company,
St. Louis, Mo. (V. St. A.)
Vertreter:
Dr.-Ing. H. Ruschke und Dipl.-Ing. H. Agular,
Patentanwälte, München 27, Pienzenauer Str. 2
Als Erfinder benannt:
Dr. Chem. Walter Fink, Rüschlikon (Schweiz)
Beanspruchte Priorität:
Schweiz vom 30. März 1962 (3840)
halogenidverbindung der Formel R2SiX2 im molaren Verhältnis 2:1 in Gegenwart eines säurebindenden Mittels umgesetzt. In den meisten Fällen wird ein Überschuß des umzusetzenden primären Amins hierzu verwendet. Die resultierenden Verbindungen sind N-monosubstituierte Di-amino-diorganosilane der allgemeinen Formel
R'NH — Si(R2) — NHR'
worin R und R' wie oben definiert sind. Es sind einige dieser Klasse zugehörige Verbindungen in der Literatur beschrieben worden. Beispielsweise sind Di-aminodiorganosilane, deren am Silicium befindliche Substituenten Methyl, Äthyl, Benzyl, Phenyl oder 1-Naphthyl und Reste des Methylamins, Äthylamins, Propylamins, Hexylamins, Benzylamins und Anilins darstellen, gut bekannt.
An Stelle der oder zusätzlich zu den Kohlenwasserstoffresten, können am Silicium auch ein oder zwei Reste eines Alkohols oder Phenols gebunden sein. Beispiele von einfachsten organischen Siliciumdihalogeniden, die sich zur Herstellung von N-monosubstituierten Di-amino-diorganosilanen eignen, sind (CHs)2SiCl2, (CH3O)2SiCl2, CH3(CH3O)SiCl2. Jedoch können auch kompliziertere Siliciumdihalogenide, z. B: solche, deren beide am Silicium befindlichen Radikale zusammen eine cyclische Struktur bilden, wie Cyclotetramethylensilan, oder das gemäß Beispiel 4 erhaltene Produkt, ebenso gut der Reaktion zur Herstellung der Ausgangsverbindungen unter-
609 559/435
3 4
worfen werden. Die Di-amino-diorganosilane werden N-monosubstituierten Diorganodiaminosilans gein Form eines Alkalisalzes oder eines Grignard- geben. Die Reaktionstemperatur liegt im Bereich Derivates umgesetzt. Der Ersatz der Wasserstoffatome von etwa 70 bis 15O0C. Nötigenfalls können aber an den beiden Stickstoffatomen des Di-amino-di- auch niedrigere oder noch höhere Temperaturen organosilans wird in an sich bekannter Weise vorge- 5 angewandt werden. Ein Lösungsmittel wird verwendet, nommen. Die Dilithiumsalze werden bevorzugt. weil die Herstellung des Alkalisalzes oder Grignard-
Zur Herstellung der Viererringverbindungen werden Derivats der einen Ausgangskomponente schon in diese Dilithiumsalze oder Di-Grignard-Derivate mit einem solchen erfolgen muß. Wasserfreies Hexan, einem mindestens zwei reaktionsfähige Halogenatome, Benzol, Toluol, Xylol (für Lithiumsalze), Dioxan, vorzugsweise Chloratome .enthaltenden Halogenid des ίο Dimethoxyäthan, Tetrahydrofuran (für Grignard-Siliciums, Phosphors, Phosphoroxyds, Phosphorsulfids, Derivate) sind hierfür geeignete Lösungs- oder VerBors oder eines Metalls umgesetzt. Geeignete Halo- dünnungsmittel. Niedermolekulare Viererringverbingenide sind z. B. MgCl2, ZnCl2, BCl3, AlCl3, SiCl4, düngen, besonders solche, die aliphatische Substituen-SnCl4, PCl3, POCl3, PSCl3 usw. Neben den beiden für ten tragen, können manchmal destilliert werden. Die die Reaktion notwendigen Halogenatomen können 15 Abtrennung der nebenbei entstandenen Alkali- oder organische Substituenten, wie Kohlenwasserstoff- Magnesiumsalze kann durch Filtration, Zentrifugieren radikale, halogeniert« Kohlenwasserstoffradikale, ins- oder, wenn keine hydrolysierbaren Substituenten besondere fluorierte Kohlenwasserstoffradikale, z. B. vorhanden sind, auch durch Auswaschen mit Wasser -CF3, -CH2CF3, -CF2CF3, -C6F5, -C6H4CF3, geschehen.
und bzw. oder Reste eines Alkohols oder Phenols 20 Um zu den substituierten Viererringverbindungen anwesend sein, die nachher Substituenten des Vierer- zu gelangen, die am Atom oder an der Atomgruppe M ringes darstellen. Es ist klar, daß außer Chloriden wenigstens noch 1 Halogenatom besitzen, wird das auch Fluoride, Bromide, Jodide und Verbindungen Silazansalz mit z. B. einer mindestens äquimolaren anderer Säuren, wie Sulfate, Nitrate und Acetate, Menge eines der früher aufgezählten Tri- oder Tetraverwendet werden können. Jedoch werden, vom tech- 25 halogenide umgesetzt. Zweckmäßig wird das in Form rüschen Standpunkt aus betrachtet, die leicht zu- eines Alkalisalzes oder Grignard-Derivats vorhegende gänglichen und billigeren Chloride vorgezogen. Silazan zum gegebenenfalls im Überschuß vorhan-
Diese zweite Reaktionskomponente kann durch die denen Halogenid gegeben, und bzw. oder es werden allgemeine Formel solche Halogenide verwendet, die Halogenatome
ν un 30 besitzen, welche eine unterschiedliche Reaktions-
mJYUM,-» fähigkeit entfalten, z. B. SiCl2F2, SiBr2Cl2, CH3SiCl2F,
dargestellt werden, worin M, R und ν wiederum wie CeH5SiBr2Cl (die verwendet werden, wenn es sich früher definiert sind, X ein Säurerest, vorzugsweise darum handelt, Cyclodisilazane herzustellen).
Halogenatom, und m mindestens die Zahl 2 bedeutet. Für die Herstellung der Ausgangsverbindungen
Das Prinzip der Viererringbildung kann.wie folgt 35 wird hier kein Schutz beansprucht,
illustriert werden: Die Verfahrensprodukte sind je nach den vorhan-
denen Organogruppen flüssig oder fest. Sie können als Wärmeübertragende Flüssigkeiten bei hohen Temperaturen, Schmiermittel für thermisch außerordentlich 40 beanspruchte Maschinenteile, Hydrauliköle, Textil-
- NR' + 2 LiX hilfsmittel, Antischaummittel, Antioxydantien, Stabilisatoren, Vulkanisationsbeschleuniger, Weichmacher, Hydrophobierungsmittel, Flammschutzmittel, Neutronenabsorber, aktiver Bestandteil von Insektiziden, Je nachdem ein Halogenid der Formel X2MR»-2, 45 Bakteriziden, Fungiziden und anderen Schädlings-X3MR«-3 oder X4M eingesetzt wird, d. h. je nachdem bekämpfungsmitteln verwendet werden. Die neuen 2, 3 oder 4 reaktionsfähige Halogenatome zur Ver- Verbindungen mit ungesättigten oder reaktionsfähigen fügung stehen, können Verbindungen erhalten werden, Substituenten sind wertvolle Zwischenprodukte für die einen (I) oder zwei Viererringe aufweisen, wobei die Herstellung von hochtemperaturbeständigen PoIydie letzteren durch das Element M spiranoid (II) oder 50 meren. Untersuchungen haben gezeigt, daß von den durch eine N-monosubstituierte Diorgano-di-amino- cyclischen tetrameren, trimeren und dimeren N-subsilangruppe (ΠΓ) verbunden sind: stituierten Silazanen, die letzteren, d.h. die bisher
I—τ j—j nicht bekannten Viererringe, weitaus die größte
1—jyj- £_ —M— Temperaturbeständigkeit besitzen.
v 2 j I 55 Soweit noch austauschbare, an Silicium gebundene
" Halogenatome vorhanden sind, können diese Ver-
-U- bindungen durch Hydrolyse mit der berechneten
ι—1 I—ι Wassermenge bzw. Alkalilösung in an sich bekannter
—M — N(R') — Si(R2) — N(R') M und hier nicht beanspruchter Weise in die entsprechen-
I I 60 den Silanolderivate bzw. in deren dimere oder polymere
R £ Kondensationsprodukte übergeführt werden.
Ill B e i s ρ i e 1 1
Eine bevorzugte Klasse von heterocyclischen Vierer- Zu 38,2 g C6H5NHSi(CHg)2NHC6H5 in 100 ml
ringverbindungen sind die Cyclodisilazane. 65 Xylol werden in einer Stickstoffatmosphäre unter
Zur praktischen Durchführung des Prozesses wird Rühren 60 ml Butyllithium (als 6n-Lösung in Xylol)
das Halogenid unter Feuchtigkeitsausschluß allmählich zugetropft. Das Dilithiumsalz fällt als weißer Nieder-
zum Alkalisalz oder zum Grignard-Derivat des schlag aus. Zu dieser Suspension werden unter Rühren
23,2 g Dimethyldichlorsilan gegeben und 4 Stunden bei Raumtemperatur und schließlich noch 4 Stunden bei Rückflußtemperatur erhitzt. Der gebildete Niederschlag wird abgenutscht, mit η-Hexan gewaschen und in Soxhlet mit Xylol extrahiert (Dauer etwa 16 Stunden). Beim Abkühlen kristallisiert die Viererringverbindung aus. Die Kristalle werden aus 120 ml CHCyn-Hexan 3:1 umkristallisiert. Fp. 252,5°C; löslich in Chloroform, Aceton und Benzol. Das Rohprodukt läßt sich bei 210 bis 220° C/720 Torr unzersetzt sublimieren. Auf das isolierte Lithiumchlorid bezogen, beträgt der Umsatz 100%.
Molekulargewicht für Cj6H22N2Si2:
Berechnet 298,6;
gefunden 298,3.
Beispiel 2
Das Dilithiumsalz von 73,30 g
C6H5NH — Si(C6H5)2 - NHC6H5
wird wie im Beispiel 1 unter Verwendung von insgesamt 250 ml Xylol hergestellt. Zur Suspension werden unter Rühren 50,6 g (C6H5)2SiCl2 gegeben und die Mischung 16 Stunden unter Rückfluß erhitzt. Die Umwandlung ist 100%, bezogen auf die Menge des isolierten Lithiumchlorids. Der entstandene Niederschlag wird abgenutscht, mit η-Hexan gewaschen und unter Verwendung eines Soxhlet-Apparates mit Xylol extrahiert. Das rohe Cyclodisilazan wird aus Brombenzol umkristallisiert.
Ausbeute 68,3 g (62,8%); Fp. 355,5°C, Kp.72O etwa 500° C.
Molekulargewicht für C36H30N2Si2:
Berechnet 546,8;
gefunden 576.
Beispiel 3
Das Dilithiumsalz von 59,5 g
C6H5NH — Si(C6H5)2 - NHC6H5
wird wie im Beispiel 1 unter Verwendung von insgesamt 200 ml Xylol hergestellt. Zur Suspension werden unter Rühren 20,9 g (CH3)2SiCl2. gegeben und die Mischung 6 Stunden unter Rückfluß erhitzt. Der gebildete Niederschlag wird abgenutscht und mit η-Hexan gewaschen. Die Umwandlung beträgt 100 0J0, auf die Menge des isolierten Lithiumchlorids bezogen. Das rohe Cyclodisilazan wird aus Hexan umkristallisiert.
Ausbeute 37,0 g (54%); Fp. 180 bis 181,50C.
Molekulargewicht für C26H26N2Si2:
Berechnet 422,7;
gefunden 418.
Beispiel 4
Das Dilithiumsalz von 43,0 g
C6H5NH — Si(CH3), - NHC6H5
wird wie im Beispiel 1 unter Verwendung von insgesamt 250 ml Benzol hergestellt. Die Suspension wird unter Rühren zu 30,2 g SiCl4 gegeben und die Mischung 1 Stunde unter Rückfluß erhitzt. Die Umwandlung ist 100%, bezogen auf die Menge des isolierten Lithiumchlorids. Der gebildete Niederschlag wird abgenutscht und mit η-Hexan gewaschen. Das rohe Cyclodisilazan wird aus Cyclohexan umkristallisiert.
Ausbeute 38,9 g (64,5%); Fp. 210 bis 220° C.
Molekulargewicht für C14H16N2Cl2Si2:
Berechnet 339,4;
gefunden 326. '
Beispiel 5
Das Dilithiumsalz von 43,0 g
C6H5NH -Si(CH3), -NHC6H5
wird wie im Beispiel 1 unter Verwendung von insgesamt 250 ml Toluol hergestellt. Die Suspension wird unter Rühren zu 26,5 g CH3SiCl3 gegeben und die Mischung 3 bis 4 Stunden unter Rückfluß erhitzt. Die Umwandlung ist 100 %> bezogen auf die Menge des isolierten Lithiumchlorids. Der gebildete Niederschlag wird abgenutscht und mit η-Hexan gewaschen. Das rohe Cyclodisilazan wird aus Benzol umkristallisiert.
Ausbeute 48,4 g (85,5%); Fp. 243 bis 245°C.
Molekulargewicht für C15H19N2Cl1Si2:
Berechnet 318,9;
gefunden 307.
Beispiel 6
35 Das Dilithiumsalz von 38,2 g
C6H11NH — Si(CH3)2 — NHC6H11
(Kp.u 148°C; nl° = 1,4773) wird wie im Beispiel 1 unter Verwendung von insgesamt 100 ml Toluol hergestellt. Zur Lösung werden unter Rühren 19,4 g (CH3)2SiCl2 gegeben und die Mischung 2 bis 3 Stunden unter Rückfluß erhitzt. Die Umwandlung ist 100 %> bezogen auf das isolierte Lithiumchlorid. Das rohe Cyclodisilazan wird im Vakuum destilliert.
Ausbeute 34,2 g (73,8%); Fp. 104 bis 105°C, Kp.0)1 120° C.
Molekulargewicht für C16H34N2Si2:
Berechnet 310,6;
gefunden ..... 312.
Die Gaschromatographie zeigt, daß das Produkt rein ist,
Beispiel 7
55 Das Dilithiumsalz von 21,9 g
C2H5NH — Si(CH3), — NHC2H5
(Kp.72O 137 bis 1390C, nf = 1,4159) wird unter Verwendung von insgesamt 30 ml Toluol wie im Beispiel 1 hergestellt. Zur Lösung werden unter Rühren 22,0 g (CH3)2SiCl2 gegeben und die Reaktionsmischung 2 Stunden unter Rückfluß erhitzt. Der Umsatz beträgt 100 %, berechnet auf das isolierte Litbiumchlorid. Das rohe Cyclodisilazan wird im Vakuum destilliert.
Ausbeute 12,3 g (41%); Kp.82 93,5°C, n%° = 1,4250. Molekulargewicht für C8H22N2Si2:
Berechnet 202,4;
gefunden 203.
Die Gaschromatographie ergibt, daß
Dimethyl-N-äthyl-cyclodisilazan rein ist.
das Sicyclodisilazan über eine
destilliert.
gut trennende Kolonne
B e i s ρ i e 1 8
Das Dilithiumsalz von 30,3 g
n- C4H9NH - Si(CH3). - NHC4H8 - η
μ 860C; rig = 1,4299) wird unter Verwendung von insgesamt 50ml Toluol wie im Beispiel 1 hergestellt. Zur Lösung werden unter Rühren 19,4 g (CHa)2SiCl2 gegeben und die Reaktionsmischung 2 Stunden unter Rückfluß erhitzt. Der Umsatz beträgt 100%) bezogen auf das isolierte Lithiumchlorid. Das rohe Cyclodisilazan wird im Vakuum destilliert.
Ausbeute 32,3 g (83%); Kp.0,6 890C; η>8 = 1,4367.
Molekulargewicht fur C12H30N2Si2:
Berechnet 258,5;
gefunden 255.
Die Gaschromatographie ergibt, daß das Si-Dimethyl-N-n-butyl-cyclodisilazan rein ist.
Beispiel 9
Ausbeute 73 %; Kp.0>005 53 bis 54° C; nl° = 1,4638.
Molekulargewicht für C12H26N2Si2:
^rechnet ..... 254,5;
Beispiel 12
Das Dilithiumsalz von 30,3 g
t—C4M9JNJtIoH-CrI3J2
25
9 — t
(Kp.1263°C; «o° = 1,4282) wird unter Verwendung von insgesamt 50 ml Toluol wie im Beispiel 1 hergestellt. Zur Lösung werden unter Rühren 19,4 g (CH3)2SiCl2 gegeben und die Reaktionsmischung 2 Stunden unter Rückfluß erhitzt. Der Umsatz beträgt 100%, bezogen auf das isolierte Lithiumchlorid. Das rohe Cyclodisilazan wird im Vakuum destilliert.
Ausbeute 28,4 g (73%); Fp. 35°C; Kp.12 1000C; «ο = 1=4450.
Molekulargewicht für C12H30N2Si2:
Berechnet 258,5;
gefunden 252.
Die Gaschromatographie ergibt, daß das Si-Dimethyl-N-t-butyl-cyclodisilazan rein ist.
Beispiel 10
Zu 11,9 g Bis-äthylamino-diallylsilan in 100 ml Hexan werden unter Stickstoff und Rühren 0,12 Mol Butyllithium in 20 ml Toluol getropft. Der Ansatz wird 2 Stunden bei Raumtemperatur belassen. 11,0 g Diallyl-dicmorsilan zugetropft und 1 Stunde unter Ruckfluß erhitzt. Das Lithiumchlond wird abzentnfugiert und nach Abtrennung des Lösungsmittels das flüssige Si-Diallyl-N-äthyl-cyclodisilazan fraktioniert destilliert.
Ausbeute 75%; Kp.0>02 9O0C; nf = 1,4877.
Molekulargewicht für C16H30N2Si2:
Berechnet 306,6;
55
e 1s Px e
Zu 10,6 g Bis-äthylamino-äthyl-vinylsilan in 30 ml ToluolwerdenunterStickstoffO,12MolButyllithiumin 30ml Toluol getropft. Der Ansatz wird IV2 Stunden bei Raumtemperatur gerührt, dann 9,3 (0,06 Mol) Äthylvinyl-dichlorsilan in 10 ml Toluol zugegeben und 2 Stunden auf 1000C erhitzt. Nach dem Abdestillieren des Lösungsmittels wird das Si-Äthyl-vinyl-N-äthyl-Zu 26,5 g Bis-allylamino-dimethylsilan in 100 ml Hexan werden 0,3 Mol Butyllitbium in 50 ml Hexan getropft, 1 Stunde bei Raumtemperatur stehengelassen, 19,4 g Dimethyldichlorsilan in 20 ml Hexan zugegeben und dann 1 Stunde zum Sieden erhitzt. Umsatz 100%. Die Reiriigung des Si-Dimethyl-N-allyl-cyclodisüazans erfolgt durch Destillation.
Ausbeute 85%; Kp.u 74°C; nf = 1,4469.
ao Molekulargewicht für C10H22N2Si2:
Berechnet 226,5;
gefunden 222.
Beispiel 13
. Zu 13,1 g Bis-trimeÜLylsüyhnethylamino-dimethylsilan (κΡ·ΐ6 112° C; nf = 1,4387) in 50 ml Hexan
. , .^L- 1 * cc l-n-x. ni -κ/τ ι τ> * n-.ii.·
wird unter Stickstoff und Ruhren 0,1 Mol Butylhthium gegeben. Dann werden 6,4 g Dimethyldichlorsilan zugesetzt und die Mischung 2 Stunden unter Rückfluß erhitzt. Das Lithiumchlorid wird abfiltriert und das Lösungsmittel im Vakuum bei 25° C entfernt.
Ausbeute (roh): 16,4 g (100%) Si-Dimethyl-N-trimethylsilyhnethyl-cyclodisÜazan. Der hinterbleibende Kristallbrei wird durch Destillation gereinigt. Ausbeute 15,6 g (95%); Fp. 63 bis 64°C; Kp.u 120 bis 130° C.
Molekulargewicht für C12H24N2Si4:
Berechnet 318,7;
gefunden 3Οθ!
B e 1 s ρ 1 e 1 14
Zu 15,5 g Bis-äthylamino-divinylsilan in 50 ml Hexan werden 0,18 Mol Butyllithium in 50 ml Hexan getropft und die Mischung 30 Minuten auf 40 bis 5O0C erwärmt. Dann werden 14,0 g Divinyldichlorsilan in 30 ml Hexan zugegeben und 1 Stunde unter Sieden erhitzt. Das Lithiumchlorid wird abzentrifugiert. Umsatz 100 %· Die Reinigung des Si-Divinyl-N-äthylcyclodisilazans erfolgt durch Destillation.
Ausbeute n 3 (50of). Kp 100 bis 10rC; n'S =14745
Molekulargewicht für C12H22N2Si2:
Berechnet 250,5;
gefundea "!''' 235'
B e i s ρ i e 1 15
Das Dilithiumsalz von 22,0 g
C6H8NH-Si(CeH5)2-NHC6H5
wird unter Verwendung von insgesamt 170 ml Benzol wie im Beispiel 1 hergestellt. Zur Suspension werden bei 250C unter Rühren 9,55g B(C6H5)Cl2 in 50ml Hexan gegeben und die Mischung 2 Stunden unter Rückfluß erhitzt. Das Lithiumchlorid wird durch Zentrifugierung entfernt. Die Benzollösung wird durch Verdampfung konzentriert und nach Zusatz von Hexan das . auskristallisierte 4,4-Diphenyl-2-phenyl-l,3-di-
45
60
65
phenyl-l,3,2,4-diazaborasiletidin abfiltriert. Die Verbindung wird aus Cyclohexan unter Zusatz von Aktivkohle umkristallisiert.
Ausbeute 21,5 g (79%); Fp. 268 bis 2700C.
Molekulargewicht für C30H26N2SiB:
Berechnet 452,5:
gefunden 461.
Beispiel 16
Das Dilithiumsalz von 22,0 g
werden unter Rühren 12,75 g SiCl4 gegeben und die Mischung 2 Stunden unter Rückfluß erhitzt. Die Umwandlung beträgt 100 °/0, auf das isolierte Lithiumchlorid bezogen. Nach dem Abdestillieren des Benzols wird der viskose Rückstand mehrmals mit Petroläther verrührt und jeweils das Lösungsmittel im Vakuum wieder abgesaugt, wobei der Rückstand schließlich kristallisiert. Zur Reinigung wird das Octamethylspiro-[3,3]-trisilazan aus Petroläther umkristallisiert, ίο Ausbeute 15,6 g (80%); Fp. 34,5 bis 35,5°C, Kp.ia 45° C.
C6H5NH - Si(CeH6)2 — NHC6H6
wird unter Verwendung von insgesamt 170 ml Benzol wie im Beispiel 1 hergestellt. Zur Suspension werden 10,7 g C6H5PCl2 in 50 ml Hexan gegeben und die Mischung 2 Stunden unter Rückfluß erhitzt. Das Lithiumchlorid wird durch Zentrifugierung entfernt. Die Benzollösung wird durch Verdampfung konzentriert und nach Zusatz von Hexan das auskristallisierte 4,4-Diphenyl-2-phenyl-l,3-diphenyl-l,3,2,4-diazaphosphasiletidin abfiltriert. Die Verbindung wird aus Benzol umkristallisiert.
Ausbeute 27,9 g (98%); Fp. 212° C.
Molekulargewicht für C30H25N2SiP:
Berechnet 472,6;
gefunden 463.
Durch Einleiten von Sauerstoff in die Benzollösung der Verbindung erhält man das am Phosphor oxydierte Derivat; Fp. 27O0C.
Durch Erhitzen der Verbindung mit einer äquimolaren Menge Schwefel in Benzol, bis aller Schwefel aufgelöst ist, erhält man das am Phosphor sulfidierte Derivat; Fp. 2610C.
B e i s ρ i e 1 17
Zu 26,66 g Äthylmagnesiumbromid werden 23,11 g (CH3)3SiNH — Si(CH3)2NHSi(CH3)3
in 20 ml Äther getropft. Zu der erhaltenen Suspension des Bis-(Grignard)-Derivates werden langsam 35,2 g Dioxan zugetropft und nach 3 Stunden Rühren das Magnesiumbromid-Dioxan-Addukt abfiltriert. Das Filtrat wird im Vakuum vom Lösungsmittel befreit und die weißen Kristalle durch Sublimation gereinigt. Sublimationspunkt 80 bis 100° C/0,5 Torr. Die viergliedrige Verbindung kristallisiert mit 1 Mol Dioxan.
B e i s ρ i e 1 18
Das Dilithiumsalz von 17,7 g
CH3NH — Si(CH3)2 — NHCH3
wird wie im Beispiel 1 unter Verwendung von insgesamt 100 ml Benzol hergestellt. Zur Suspension
40
45

Claims (1)

  1. Patentanspruch:
    Verfahren zur Herstellung von heterocyclischen Viererringverbindungen der allgemeinen Formel
    R2Si-NR'
    R'N MR„R':_2_„
    worin die Symbole die folgende Bedeutung besitzen: M: Silicium, Bor, Phosphor, O = P-Rest, S = P-Rest oder Mg; R: gegebenenfalls halogenierter Alkyl-, Alkenyl-, Cycloalkyl-, Cycloalkenyl-, Aralkyl-, Aralkenyl- oder Arylrest mit bis zu 20 Kohlenstoffatomen, über Sauerstoff gebundener Rest eines einwertigen Alkohols oder Phenols mit bis zu 20 Kohlenstoffatomen, wobei zwei Reste am gleichen Silicium- bzw. M-Atom zusammen genommen eine cyclische Struktur bilden; R': Alkyl-, Cycloalkyl-, Alkenyl-, Cycloalkenyl-, Aralkyl-, Aralkenyl-, Aryl- oder heterocyclischer Rest mit bis zu 20 Kohlenstoffatomen; R": Halogenatom oder die Gruppe
    - NR' — SiR2 — NR' — MR»,
    die an ihrem anderen Ende den gleichen Viererring aufweist; n: Null oder ganze Zahl; v: Valenz von M, wobei M, anstatt mit den Radikalen R und R" verbunden zu sein, auch Teil eines zweiten, identischen Viererringes sein kann, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Diaminodiorganosilan der allgemeinen Formel
    R'NH — SiR2 — NHR'
    worin R und R' die gleiche Bedeutung wie oben haben, in Form eines Dialkalisalzes oder Di-Grignard-Derivates, mit mindestens einer äquimolaren Menge eines Halogenids der allgemeinen Formel
    worin R und ν die gleiche Bedeutung wie oben haben, X ein Halogenatom und m mindestens 2 ist, in einem inerten Lösungs- oder Verdünnungsmittel umsetzt.
    609 559/435 4.66 © Bundesdruckerei Berlin
DEM56295A 1962-03-30 1963-03-28 Verfahren zur Herstellung von heterocyclischen Viererringverbindungen Pending DE1214683B (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH384062A CH407114A (de) 1962-03-30 1962-03-30 Verfahren zur Herstellung heterocyclischer Viererringverbindungen
CH327563A CH460000A (de) 1963-03-15 1963-03-15 Verfahren zur Herstellung von hochtemperaturbeständigen Cyclodisilazanen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1214683B true DE1214683B (de) 1966-04-21

Family

ID=25692633

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DENDAT1252683D Pending DE1252683B (de) 1962-03-30 Verfahren zur Herstellung von Cyclodisilazanen
DEM56295A Pending DE1214683B (de) 1962-03-30 1963-03-28 Verfahren zur Herstellung von heterocyclischen Viererringverbindungen
DEM74665A Pending DE1291338B (de) 1962-03-30 1964-03-13 Verfahren zur Herstellung von Cyclodisilazanen

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DENDAT1252683D Pending DE1252683B (de) 1962-03-30 Verfahren zur Herstellung von Cyclodisilazanen

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEM74665A Pending DE1291338B (de) 1962-03-30 1964-03-13 Verfahren zur Herstellung von Cyclodisilazanen

Country Status (4)

Country Link
BE (2) BE645148A (de)
DE (3) DE1214683B (de)
GB (2) GB1040726A (de)
NL (1) NL290900A (de)

Also Published As

Publication number Publication date
NL290900A (de)
GB1040726A (en) 1966-09-01
BE645148A (de) 1964-09-14
DE1291338B (de) 1969-03-27
BE630249A (de)
GB1063086A (en) 1967-03-30
DE1252683B (de) 1967-10-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE960461C (de) Verfahren zur Herstellung von Organohalogenmonosilanen aus Organohalogenpolysilanen
DE2365272C2 (de)
DE1206899B (de) Verfahren zur Herstellung von siliciumhaltigen N, N', N"-Triorgano-B, B', B"-trihydrido-borazolen
DE2651448A1 (de) Neue organozinn-stabilisatorkompositionen und hiermit stabilisierte polyvinylharze
DE1214683B (de) Verfahren zur Herstellung von heterocyclischen Viererringverbindungen
DE1206425B (de) Verfahren zur Herstellung von Phosphorsaeureestern
DE900814C (de) Verfahren zur Herstellung von Phosphorsaeure- und Thiophosphorsaeuretris-dialkylamiden bzw. Monohalogen-phosphorsaeure-und -thiophosphor-saeure-bis-dialkylamiden
DE1187615B (de) Verfahren zur Herstellung von N-Silylcyclosilazanen
DE1158972B (de) Verfahren zur Herstellung von Trisilylaminen
DE1232961B (de) Verfahren zur Herstellung von Estern einiger Saeuren des Phosphors
DE847900C (de) Verfahren zur Herstellung von mindestens eine AEthergruppe enthaltenden tertiaeren und quaternaeren Diaminen
EP0653432B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Bis-(diaryl-alkyl)-phosphinen und Verbindungen aus dieser Stoffgruppe
CH433290A (de) Verfahren zur Herstellung von Diorganohalogenphosphinen
DE1154477B (de) Verfahren zur Herstellung von Nitro- oder Nitritogruppen enthaltenden Silanen
DE1216302B (de) Verfahren zur Herstellung von Polyorganocyclosiloxanen
CH407114A (de) Verfahren zur Herstellung heterocyclischer Viererringverbindungen
DE1227905B (de) Verfahren zur Herstellung von Zinnkomplexsalzen
DE819999C (de) Verfahren zur Herstellung von 0, 0-Diestern von Thiophosphorsaeuremonochlorid
DE877306C (de) Verfahren zur Herstellung von siliciumorganischen Verbindungen
DE1129484B (de) Verfahren zur gleichzeitigen Herstellung von substituierten Thioamiden und Thiophosphor-(-on, -in)saeurehalogeniden
DE1221635B (de) Verfahren zur Reinigung von Tetraphenyl-disiloxandiol-(1, 3) oder Hexaphenyltrisil-oxandiol-(1, 5)
DE1233852B (de) Verfahren zur Herstellung von Phosphorverbindungen
EP0071783B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Alkyl- oder Arylthiophosphonsäuredichloriden
DE1249864B (de) Verfahren zur Herstellung von cyclischen Organosiliciumverbmdungen
DE1183081B (de) Verfahren zur Herstellung von Thiol- bzw. Thionothiolphosphonsaeureestern