CH407114A - Verfahren zur Herstellung heterocyclischer Viererringverbindungen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung heterocyclischer ViererringverbindungenInfo
- Publication number
- CH407114A CH407114A CH384062A CH384062A CH407114A CH 407114 A CH407114 A CH 407114A CH 384062 A CH384062 A CH 384062A CH 384062 A CH384062 A CH 384062A CH 407114 A CH407114 A CH 407114A
- Authority
- CH
- Switzerland
- Prior art keywords
- mol
- bis
- radical
- hexane
- heterocyclic
- Prior art date
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 title claims description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 17
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 11
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 8
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 7
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 7
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 7
- -1 magnesium halide Chemical class 0.000 claims description 6
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 3
- 229910001392 phosphorus oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 70
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 34
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 21
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 17
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 15
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 14
- IVSQMSIRHKTHCB-UHFFFAOYSA-N 1,3,2,4-diazadisiletidine Chemical class N1[SiH2]N[SiH2]1 IVSQMSIRHKTHCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 12
- SMBQBQBNOXIFSF-UHFFFAOYSA-N dilithium Chemical class [Li][Li] SMBQBQBNOXIFSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 8
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 4
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical compound C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007306 turnover Effects 0.000 description 3
- 125000006325 2-propenyl amino group Chemical group [H]C([H])=C([H])C([H])([H])N([H])* 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 2
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical group [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl-trifluoromethansulfonate Natural products C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJQBHNHASPQACB-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethoxyethene Chemical compound COC=COC SJQBHNHASPQACB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- VKCLPVFDVVKEKU-UHFFFAOYSA-N S=[P] Chemical compound S=[P] VKCLPVFDVVKEKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007991 Si-N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006294 Si—N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000006309 butyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- MAYIDWCWWMOISO-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(ethenyl)silane Chemical compound C=C[Si](Cl)(Cl)C=C MAYIDWCWWMOISO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPBGVRDEQPIMFO-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-ethylsilane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)C=C JPBGVRDEQPIMFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N dichlorosilicon Chemical compound Cl[Si]Cl BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000031 ethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N([H])[*] 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 150000004673 fluoride salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 description 1
- 239000010720 hydraulic oil Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002917 insecticide Substances 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N methylsilane Chemical compound [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODVDDQFBQGTLIA-UHFFFAOYSA-N n-[bis(ethenyl)-(ethylamino)silyl]ethanamine Chemical compound CCN[Si](C=C)(C=C)NCC ODVDDQFBQGTLIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWAVHSCNJGXLNM-UHFFFAOYSA-N n-[ethenyl-ethyl-(ethylamino)silyl]ethanamine Chemical compound CCN[Si](CC)(C=C)NCC CWAVHSCNJGXLNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGAVXENYOVMGDJ-UHFFFAOYSA-N n-[ethylamino(dimethyl)silyl]ethanamine Chemical compound CCN[Si](C)(C)NCC NGAVXENYOVMGDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSAISIQCTGDGPU-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus hexaoxide Chemical compound O1P(O2)OP3OP1OP2O3 VSAISIQCTGDGPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/10—Compounds having one or more C—Si linkages containing nitrogen having a Si-N linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2223/00—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
- C10M2223/02—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having no phosphorus-to-carbon bonds
- C10M2223/04—Phosphate esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2223/00—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
- C10M2223/02—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having no phosphorus-to-carbon bonds
- C10M2223/04—Phosphate esters
- C10M2223/042—Metal salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2223/00—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
- C10M2223/02—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having no phosphorus-to-carbon bonds
- C10M2223/04—Phosphate esters
- C10M2223/047—Thioderivatives not containing metallic elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2223/00—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
- C10M2223/06—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having phosphorus-to-carbon bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2223/00—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions
- C10M2223/06—Organic non-macromolecular compounds containing phosphorus as ingredients in lubricant compositions having phosphorus-to-carbon bonds
- C10M2223/061—Metal salts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2227/00—Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2227/00—Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions
- C10M2227/02—Esters of silicic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2227/00—Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions
- C10M2227/04—Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions having a silicon-to-carbon bond, e.g. organo-silanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2227/00—Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions
- C10M2227/06—Organic compounds derived from inorganic acids or metal salts
- C10M2227/061—Esters derived from boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2227/00—Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions
- C10M2227/06—Organic compounds derived from inorganic acids or metal salts
- C10M2227/061—Esters derived from boron
- C10M2227/062—Cyclic esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2227/00—Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions
- C10M2227/08—Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions having metal-to-carbon bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2227/00—Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions
- C10M2227/08—Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions having metal-to-carbon bonds
- C10M2227/081—Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions having metal-to-carbon bonds with a metal carbon bond belonging to a ring, e.g. ferocene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2227/00—Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions
- C10M2227/08—Organic non-macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2203/00, C10M2207/00, C10M2211/00, C10M2215/00, C10M2219/00 or C10M2223/00 as ingredients in lubricant compositions having metal-to-carbon bonds
- C10M2227/083—Sn compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2229/00—Organic macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2205/00, C10M2209/00, C10M2213/00, C10M2217/00, C10M2221/00 or C10M2225/00 as ingredients in lubricant compositions
- C10M2229/04—Siloxanes with specific structure
- C10M2229/05—Siloxanes with specific structure containing atoms other than silicon, hydrogen, oxygen or carbon
- C10M2229/052—Siloxanes with specific structure containing atoms other than silicon, hydrogen, oxygen or carbon containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2229/00—Organic macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2205/00, C10M2209/00, C10M2213/00, C10M2217/00, C10M2221/00 or C10M2225/00 as ingredients in lubricant compositions
- C10M2229/04—Siloxanes with specific structure
- C10M2229/05—Siloxanes with specific structure containing atoms other than silicon, hydrogen, oxygen or carbon
- C10M2229/053—Siloxanes with specific structure containing atoms other than silicon, hydrogen, oxygen or carbon containing sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2229/00—Organic macromolecular compounds containing atoms of elements not provided for in groups C10M2205/00, C10M2209/00, C10M2213/00, C10M2217/00, C10M2221/00 or C10M2225/00 as ingredients in lubricant compositions
- C10M2229/04—Siloxanes with specific structure
- C10M2229/05—Siloxanes with specific structure containing atoms other than silicon, hydrogen, oxygen or carbon
- C10M2229/054—Siloxanes with specific structure containing atoms other than silicon, hydrogen, oxygen or carbon containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2290/00—Mixtures of base materials or thickeners or additives
- C10M2290/02—Mineral base oils; Mixtures of fractions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2010/00—Metal present as such or in compounds
- C10N2010/04—Groups 2 or 12
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2010/00—Metal present as such or in compounds
- C10N2010/06—Groups 3 or 13
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2010/00—Metal present as such or in compounds
- C10N2010/08—Groups 4 or 14
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2030/00—Specified physical or chemical properties which is improved by the additive characterising the lubricating composition, e.g. multifunctional additives
- C10N2030/08—Resistance to extreme temperature
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
- C10N2040/08—Hydraulic fluids, e.g. brake-fluids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
- C10N2040/12—Gas-turbines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
- C10N2040/12—Gas-turbines
- C10N2040/13—Aircraft turbines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
- C10N2040/46—Textile oils
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2050/00—Form in which the lubricant is applied to the material being lubricated
- C10N2050/015—Dispersions of solid lubricants
- C10N2050/02—Dispersions of solid lubricants dissolved or suspended in a carrier which subsequently evaporates to leave a lubricant coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2050/00—Form in which the lubricant is applied to the material being lubricated
- C10N2050/10—Semi-solids; greasy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Description
Verfahren zur Herstellung heterocyclischer Viererringverbindungen Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung einer neuen Klasse von heterocyclischen Viererringverbindungen. Die neuen Verbindungen haben die aNgemeine Formel EMI1.1 worin die Symbole die folgende Bedeutung besitzen : M : Silicium, Bor, Phosphor, Phosphoroxyd-Rest, Phosphorsulfid-Rest oder mindestens zweiwertiges Metall ; R : unter sich gleiche oder verschiedene, gegebenenfalls substituierte Kohlenwasserstoffreste und bzw. oder RO-Reste ; R' : gegebenenfalls substituierter Kohlenwasserstoff-Rest oder heterocyclischer Rest ; R" : Halogenatom od'er die Gruppe EMI1.2 welche wie angedeutet an ihrem andern Ende den gleichen Viererring aufweist ; n : Null oder ganze Zahl ; v : Valenz von M, wobei M, anstatt mit den Resten R und R"verbunden zu sein, auch Teil eines zweiten, identischen Viererringes sein kann. Zur Herstellung der einen Reaktionskomponente für die neuen Viererringverbindungen wird ein pri märes Amin der Formel RtNH2 mit einer Siliciumhalogenidverbindung der Formel R2SiX2 im molaren Verhältnis 2 : 1 in Gegenwart eines säurebindenden Mittels umgesetzt. In den meisten Fällen wird ein Uberschuss des umzusetzenden primären Amins hierzu verwendet. Die resultierenden Verbindungen sind N-monosubstituierte Bis (amino)-diorganosilan der all- gemeinen Formel R'NH-Si (R2)-NHR', worin R und R'wie oben definiert sind. Es sind einige dieser Klasse zugehörige Verbindungen in der Literatur beschrieben worden, beispielsweise Bis (amino)-diorganosilane, deren am Silicium befindliche Substituenten Methyl, Athyl, Benzyl, Phenyl oder 1-Naphthyl, und Reste des Methylamins, Athylamins, Propylamins, Hexylamins, Benzylamins und Anilins darstellen, sind gut bekannt. Andere Analogen kön- nen in genau gleicher Weise hergestellt werd'en. Anstatt oder zusätzlich der Kohlenwasserstoffreste können am Silicium auch zwei oder ein Rest eines Alkohols oder Phenols gebunden sein. Beispiele von einfachsten organischen Siliciumdihalogeniden, die sich zur Herstellung von N-monosubstituierten Bis (amino)-diorganoosilanen eignen, sind (CH) 3) 2Sicl2, (CHsO) 2SiC12, CH3 (CH30) SiCl2 usw. Die Bis (amino) diorganosilane werden in Form eines Alkalisalzes oder eines Grignard-Derivates umgesetzt. Der Ersatz der Wasserstoffatome an den beiden Stickstoffatomen des Bis (amino)-diorganosilans wird in einer im Prinzip an sich bekannten Weise vorgenommen. Die Dilithiumsalze werden bevorzugt. Zur Herstellung der Viererringverbindungen werden diese Dilithiumsalze oder Di-Grignard-Derivate mit einem mindestens zwei reaktionsfähige Halogenatome, vorzugsweise Chloratome enthaltenden Halogenid des Siliciums, Phosphors, Phosphoroxyds, Phos phorsulfids, Bors oder eines Metalles umgesetzt. Geeignete Halogenide sind zum Beispiel MgC12, ZnCl2, BCI3, AlCIs, SiCl4, SnCl4, PClg, POCI3, PSC13 usw. Neben den beid'en für die Reaktion notwendigen Halogenatomen können organische Substituenten, wie Kohlenwasserstoffreste, halogenierte Kohlenwasser stoffreste, insbesondere fluorierte Kohlenwasserstoff- reste, wie z. B.-CFs,-CHaCFg,-CFsCFg,-CsFe, -C6H4CF3 usw. und bzw. oder Reste eines Alkohols oder Phenols anwesend sein, die nachher Substituen ten des Viererringes darstellen. Ausser den Chloriden werden die Fluoride, Bromide oder Jodide verwendet. Jedoch werden, vom technischen Standpunkt aus betrachtet, die leicht zugänglichen und billigeren Chloride vorgezogen. Diese zur Ausübung der Erfindung notwendige zweite Reaktionskomponente kann durch die allgemeine Formel XmMRv-m dargestellt werden, worin M, R und v wiederum wie früher definiert sind, X ein Halogenatom und m mindestens die Zahl 2 bedeuten. Das Prinzip der Viererringbildung kann wie folgt illustriert werden : EMI2.1 Je nachdem ein Halogenid der Formel X2MRv-2, X3MR,-3 oder X4M eingesetzt wird, das heisst, je nachdem 2, 3 oder 4 reaktionsfähige Halogenatome zur Verfügung stehen, können Verbindungen erhalten werden, die einen (I) oder zwei Viererringe aufweisen, wobei die letzteren durch das Element M spiranoid (II) oder durch eine N-monosubstituierte Diorganobis (amino)-silangruppe (III) verbunden sind : EMI2.2 Eine bevorzugte Klasse von heterocyclischen Viererringverbindungen sind die Cyclodisilazane, welche der am Anfang vorausgesetzten Formel, worin M Silicium ist, entsprechen. Zur praktischen Durchführung des Prozesses wird das Halogenid unter Feuchtigkeitsausschluss allmäh- lich zum Alkalisalz oder zum Grignard-Derivat des N-monosubstituierten Diorgano-bis- (amino)-silans gegeben. Die Reaktionstemperaturliegt im Bereiche von etwa 70 bis 150 . Nötigenfalls können aber auch niedrigere oder noch höhere Temperaturen angewandt werden. In der Regel wird ein Lösungsmittel verwendet, weil die Herstellung des Alkalisalzes oder Grignard-Derivats der einen Ausgangskomponente schon in einem solchen erfolgen muss. Wasserfreies Hexan, Benzol, Toluol, Xylol usw. (für Lithiumsalze), Dioxan, Dimethoxyäthen, Tetrahydrofuran usw. (für Grignard-Derivate) sind hierfür geeignete Lösungsoder Verdünnungsmittel. Niedermolekulare Viererringverbindungen, besonders solche, die aM'iphatische Substituenten tragen, können manchmal destilliert werden. Die Abtrennung der nebenbei entstandenen Alkali-oder Magnesiumsalze kann durch Filtration, Zentrifugieren oder, wenn keine hydrolysierbaren Substituenten vorhanden sind, auch durch Auswaschen mit Wasser geschehen. Um zu den substituierten Viererringverbindungen zu gelangen, die am Atom oder an der Atomgruppe M wenigstens noch ein Halogenatom besitzen, wird das Silazansalz mit zum Beispiel einer mindestens äquimolaren Menge eines der früher aufgezählten Trioder Tetrahalogenide umgesetzt. Zweckmässig wird das in Form eines Alkalisalzes oder Grignard-Deri- vats vorliegende Silazan zum gegebenenfalls im Über- schuss vorhandenen Halogenid gegeben, und bzw. oder es werden soIche Halogenide verwendet, die Halogenatome besitzen, welche eine unterschiedliche Reak tionsfähigkeit entfalten, wie z. B. SiC12F2, SiBr2C12, CH3SiCl2F, C6HSiBr2Cl usw. (die verwendet werden, wenn es sich darum handelt, Cyclodisilazane herzustellen). Die Verfahrensprodukte sind je nach den vorhandenen Organogruppen flüssig oder fest. Sie kön- nen als wärmeübertragende Flüssigkeiten bei hohen Temperaturen, Schmiermittel für thermisch ausserordentlich beanspruchte Maschinenteile, Hydrauliköle, Textilhilfsmittel, Antischaummittel, Antioxydantien, Stabilisatoren, Vulkanisationsbeschleuniger, Weichmacher, Hydrophobierungsmittel, Flammschutzmittel, Neutronenabsorber, aktiver Bestandteil von Insektiziden, Bakteriziden, Fungiziden und anderen Schäd- lingsbekämpfungsmitteln verwendet werden. Die neuen Verbindungen mit ungesättigten oder reaktions- fähigen Substituenten sind wertvolle Zwischenprodukte für die Herstellung von hochtemperaturbeständigen Polymeren. Untersuchungen haben gezeigt, dass von den cyclischen tetrameren, trimeren und dimeren N-substituierten Silazanen die letzteren, das heisst die bisher nicht bekannten Viererringe, weitaus die grösste Temperaturbeständigkeit besitzen. Soweit noch austauschbare, an Silicium gebundene Halogenatome vorhanden sind, können diese Verbindungen durch Hydrolyse mit der berechneten Wassermenge bzw. Alkalilösung in an sich bekannter Weise in die entsprechenden Silanolderivate bzw. in deren dimeren oder polymeren Kondensationsprodukte übergeführt werden. Je nachdem ein oder zwei hydrolysierbare Halogenatome zur Verfügung stehen, kann man eine der nachstehend formulierten Verbindungen erhalten : EMI2.3 EMI2.4 (p-Polymerisationsgrad) Andere dimere Kondensationsprodukte können beispielsweise die Gruppierungen EMI3.1 usw. enthalten. Beispiel 1 Zu 38, 2 g (0, 18 Mol CGH5NHSi (CHB) 2NHC6H5 in 100 ml Xylol werden in einer Stickstoffatmosphäre unter Rühren 60 ml (0, 36 Mol) Butyllithium (als 6n Lösung in Xylol) zugetropft. Das Di-lithiumsalz fällt als weisser Niederschlag aus. Zu dieser Suspension werden unter Rühren 23, 2 g (0, 18 Mol) Dimethyldichlorsilan gegeben und 4 Stunden bei Raumtemperatur und schliesslich noch 4 Stunden bei Rückflusstemperatur erhitzt. Der gebildete Niederschlag wird abgenutscht, mit n-Hexan gewaschen und im Soxleth mit Xylol extrahiert (Dauer etwa 16 Stunden). Beim Abkühlen kristallisiert die Viererringverbindung aus. Die Kristalle werden aus 120 ml CHCI3/n-Hexan 3 : 1 umkristallisiert. Fp. 252, 5 C ; löslich in Chloroform, Aceton und Benzol. Das Rohprodukt lässt sich aber auch bei 210-220 C/720 mm unzersetzt sublimieren. Auf das isolierte Lithiumchlorid bezogen, beträgt der Umsatz 100%. Analyse : CiH22N2Si2 Ber. % C 64, 37 H 7, 43 N 9, 38 Si 18, 81 Gef. % C 64, 39 H 7, 08 N 9, 78 Si 18, 19 Mol.-Gew. ber. 298, 6 gef. 298, 3 Beispiel 2 Das Dilithiumsalz von 73, 30 g (0, 2 Mol) C6H5NH-Si(C6H5)2-NHC6H5 wird wie in Beispiel (1), unter Verwendung von insgesamt 250 ml Xylol, hergestellt. Zur Suspension werden unter Rühren 50, 6 g (0, 2 Mol) (CsHs) aSiCl2 gegeben und die Mischung während 16 Stunden zum Rückfluss (140 ) erhitzt. Die Umwandlung ist 100 %, bezogen auf die Menge des isolierten Lithiumchlo- rids. Der entstandene Niederschlag wird abgenutscht, mit n-Hexan gewaschen und unter Verwendung eines Soxleth-Apparates mit Xylol extrahiert. Das rohe Cyclodisilazan wird aus Brombenzol umkristallisiert. Ausbeute : 68, 3 g (62, 8 %), Fp. 355, 5 , Kp. etwa 500 /720 mm. Beispiel 3 Das Dilithiumsalz von 59, 5 g (0, 16 Mol) CcHsNH-Si (C6H5) 2-NHC6H5 wird wie in Beispiel (1), unter Verwendung von insgesamt 200 ml Xylol, hergestellt. Zur Suspension werden unter Rühren 20, 9 g (0, 16 Mol) (CH3) 2SiC12 gegeben und die Mischung während 6 Stund'en zum Rückfluss (140 ) erhitzt. Der gebildete Niederschlag wird abgenutscht und mit n-Hexan gewaschen. Die Umwandlung beträgt 100% auf die Menge des iso- lierten Lithiumchlorids bezogen. Das rohe Cyclodisilazan wird aus Hexan umkristallisiert. Ausbeute : 37, 0 g (54%) ; Fp. 180-181, 5 . Analyse : C26H26N2Si2 Ber. % C 73, 88 H 6, 20 N 6, 63 Gef. % C 73, 78 H 6, 18 N 6, 65 Mot.-Gew. ber. 422, 7 gef. 418 Beispiel 4 Das Dilithiumsalz von 43, 0 g (0, 18 Mol) C6H5NH-Si (CH3) 2-NHC6H5 wird wie in Beispiel (1), unter Verwendung von insgesamt 250 ml Benzol,, hergestellt. Die Suspension wird unter Rühren zu 30, 2 g (0, 18 Mol) SiCl4 gegeben und die Mischung während 1 Stunde zum Rückfluss (80 ) erhitzt. Die Umwandlung ist 100%, bezogen auf die Menge des isolierten Lithiumchlorids. Der gebildete Niederschlag wird abgenutscht und mit n Hexan gewaschen. Das rohe Cyclodisilazan wird'aus Cyclohexan umkristallisiert. Ausbeute : 38, 9 g (64, 5%) ; Fp. 210-220 . Analyse : C14H16N2Cl2Si2 Ber. % C 49, 54 H 4, 75 N 8, 25 Si 16, 55 Gef. % C 49, 74 H 4, 74 N 8, 40 Si 16, 65 Mol.-Gew. ber. 339, 4 gef. 326 Beispiel 5 Das Dilithiumsalz von 43, 0 g (0, 18 Mol) CfsNH-SiCHsNHCfiHg wird wie in Beispiel (1), unter Verwendung von insgesamt 250 ml Toluol, hergestellt. Die Suspension wird unter Rühren zu 26, 5 g (0, 18 Mol) CH3SiCI3 gegeben und die Mischung während 3-4 Stunden am Rückfluss (110 ) erhitzt. Die Umwandlung ist 100%, bezogen auf die Menge des isolierten Lithiumchlbrids. Der gebild'ete Niederschlag wird abgenutscht und mit n-Hexan gewaschen. Das rohe Cyclodisilazan wird aus Benzol umkristallisiert. Ausbeute : 48, 4 g (85, 5 %) ; Fp. 243-245 . Analyse : C15H19N2Cl1Si2 Ber. % C 56, 48 H 6, 00 N 8, 78 Si 17, 61 Gef. % C 56, 48 H 5, 52 N 8, 92 Si 17, 48 Mol.-Gew. ber. 318, 9 gef. 307 Beispiel 6 Das Dilithiumsalz von 38, 2 g (0, 15 Mol) C6H11NH-Si (CH3) rNHC6EIrr (Sp. 148¯/11 mm ; n 20 1, 4773) wird wie in Beispiel (1), unter Verwendung von insgesamt 100 ml Toluol, hergestellt. Zur Lösung werden unter Rühren 19, 4 g (0, 15 Mol) (CH3) 2SiCl2 gegeben und die Mischung während 2-3 Stunden zum Rückfluss erhitzt. Die Um wandlung ist 100 %, bezogen auf das isolierte Lithiumchlorid. Das rohe Cyclodisilazan wird im Vakuum destilliert. Ausbeute : 34, 2 g (73, 8 %) ; Fp. 104-105 , Kp. 120 /0, 1 mm). Analyse : C16H34N2Si2 Mol.-Gew. ber. 310, 6 gef. 312 Die Gaschromatographie zeigt, dass das Pro dukt rein ist. Ber. % C 61, 86 H 11, 03 N 9, 02 Gef. % C 61, 80 H 10, 57 N 9, 15 Beispiel 7 Zu 50, 9 g (0, 21 Mol) Bis (anilino)-di'methylsilan in 100 ml Xylol werden in einer Stickstoffatmosphäre unter Rühren 70 ml (0, 42 Mol) einer 6-normalen Lösung von Butyllithium in Hexan zugegeben und während 2 Stunden bei'20-22 gehalten. Zur Suspension des Lithiumsalzes werden 46 g (0, 42 Mol) Trimethylsiliciumchlorid zugetropft und während 24 Stunden bei 130 gerührt. Der Umsatz ist 58 %, bezogen auf das abzentrifugierte Lithiumchlorid (10, 3 g). Ausbeute : 35, 2 g (43, 5 %). (CH3)3Si- 3Si-N (C6H5)-Si (CH3) rN (C6Hs)-Si (CHg) 3 ; Kp. 134-137 /0, 15 mm ; n 2r0 1, 5400. Analyse : C20H34N2Si3 Ber. % C 62, 11 H 8, 86 N 7, 24 Si 21, 79 Gef. % C 62, 65 H 8, 53 N 7, 14 Si 19, 17 Mol.-Gew. ber. 386, 7 gef. 373 19, 2 g (0, 05 Mol) der obigen Verbindung werden langsam auf 340 gebracht und bei dieser Temperatur während 4 Stunden zum Rückfluss erhitzt. Die erkaltete Reaktionsmischung wird mit Hexan versetzt und die ausgeschiedenen Kristalle abgenutscht. Rohausbeute 6, 8 g (92 ; Fp. 252, 5 (aus Toluol umkristallisiert). Beispiel 8 Das Di-Iithiumsalz aus 21, 9 g (0, 15 Mol) Bis (äthylamino)-dimethylsilan (Kp. 137-139 /720 mm ; n2r, 1, 4159) wird wie in Beispiel 1, unter Verwen- dung von total 130 ml Toluol, hergestellt. Zu dieser Suspension werden unter Rühren 22, 0 g (0, 17 Mol) Dimethyldichlorsilan, in 10 mi Toluol ge lost, gegeben und während'2 Stunden bei Rückflusstemperatur (I10 ) erhitzt. Auf das isolierte Lithiumchlorid (12, 5 g) bezogen, beträgt der Umsatz 98, 5 %. Das rohe Cyclodisilazan wird im Vakuum destilliert. Ausbeute : 12, 3 g (41 %) ; Kp. 93, 5 /82 mm ; n D 1, 4250. Analyse : CgH22N2Si2 Ber. % C 47, 46 H 10, 95 N 13, 84 Gef. % C 47, 73 H 10, 91 N 14, 04 Molekulargewicht : Ber. 202, 4 Gef. 203 Beispiel 9 Das Di-lithiumsalz aus 30, 3 g (0, 15 Mol) Bis (n butylamino)-dimethylsilan (Kp. 86, 0/11 mm ; n 2re 1, 4299) wird wie in Beispiel 1, unter Verwendung von total 150 ml Toluol, hergestellt. Zu dieser Suspension werden unter Rühren 19, 4 g (0, 15 Mol) Dimethyldichlorsilan, in 10 ml Toluol gelöst, gegeben und wÏhrend 2 Stunden bei Rückflusstemperatur (110 ) erhitzt. Auf das isolierte Lithiumchlorid (12, 3 g) bezogen, beträgt der Umsatz 97%. Das rohe Cyclodisilazan wird im Vakuum destilliert. Ausbeute : 32, 3 g (83 %) ; Kp. 89, 0/6 mm ; n 1, 4367. Analyse : Cl2H3oNsSi2 Ber. % C 55, 74 H 11, 69 N 10, 83 Gef. % C 55, 40 H 11, 07 N 10, 89 Molekulargewicht : Ber. 258, 5 Gef. : 255 Die Gaschromatographie zeigt, dass das Cyclodisilazan rein ilst. Beispiel 10 Das Di-lithiumsalz aus 30, 3 g (0, 15 Mol) Bis (tbutylamino) - dimethylsilan (Kp. 63¯/12 mm; n@0 D 1,4282) wird wie in Beispiel 1, unter Verwendung von total 150 ml Toluol, hergestellt. Zu dieser Suspension werden unter Rühren 19, 4 g (0. 15 Mol) Dimethyldichlorsilan, in 10 ml Toluol gelöst, gegeben und die Mischung während 2 Stunden bei Rückflusstempera- tur (110 ) erhitzt. Auf das isolierte Lithiumchlorid bezogen, beträgt der Umsatz 100 %. Das rohe Cyclodisilazan wird im Vakuum destilliert. Ausbeute : 28, 4 g (73 ; Fp. 35 , Kp. 100 / 12 mm ; n D 1, 4450. Analyse : C12H30N2Si2 Ber. % C 55, 74 H 11, 69 N 10, 84 Gef. % C 55, 73 H 11, 78 N 10, 76 Molekulargewicht : Ber. 258, 5 Gef. 252 Die Gaschromatographie zeigt, dal3 das Cyclodisilazan rein ist. Beispiel 11 Zu 11, 9 g (0, 06 Mol) Bis (äthylamino)-diallyl- silan in 100 ml Hexan werden unter Stickstoff und Rühren Butyllithium (0, 12 Mol) in 20 ml Toluol getropft. Der Ansatz wird 2 Stunden bei Raumtemperatur belassen, 11, 0 g (0, 06 Mol) Di-allyl-dichlorsilan zugetropft und 1 Stunde am Rückfluss bei Rückflusstemperatur erhitzt. Das Lithiumchlorid wird abzentri fugiert und nach Abtrennung des Lösungsmittels der fliissige Rückstand fraktioniert destilliert. Ausbeute : 75 % ; Kp. 90¯/0, 02 mm ; n 20 D 1. 4877. Analyse : deHgoNgSia Ber. % C 62, 68 H 9, 86 N 9, 14 Gef. % C 62, 10 H 9, 25 N 8, 63 Molekulargewicht : Ber. 306, 6 Gef. 300 Beispie 12 Zu 10, 6 g (0, 06 Mol) Bis (äthylamino)-äthyl-vinyl- silan in 30 ml Toluol gelöst, werden unter Stickstoff Butyllithium (0, 12 Mol) in 30 ml Toluol getropft. Der Ansatz wird 11/2 Stund'en bei Raumtemperatur gerührt, dann 9, 3 g (0, 06 Mol) Athyl-vinyl-dichlorsilan gelöst in 10 ml Toluol, zugegeben und 2 Stunden auf 100 erhitzt. Nach dem Abdestillieren des Lösungs- mittels wird der Rückstand durch eine gut trennende Kolonne destilliert. Ausbeute : 73 % ; Kp. 53-54 /0, 005 mm ; n D 1, 4638. Analyse : C12H26N2Si2 Ber. % C 56, 62 H 10, 30 N 11, 01 Si 22, 07 Gef. % C 55, 99 H 10, 30 N 10, 38 Si Molekulargewicht : Ber. 254, 5 Gef.-240 Beispiel 13 Zu 26, 5 g (0, 15 Mol) Bis (allylamino)-dimethyl- silan in 100 ml Hexan wird Butyllithium (0, 3 Mol) in 50 ml Hexan getropft, 1 Stunde bei Raumtempera- tur stehengelassen, 19, 4 g (0, Mol) Dimethyldichlorsilan in 20 ml Hexan zugegeben und dann während 1 Stunde zum Sieden erhitzt. Umsatz 100%. Die Reinigung erfolgt durch Destillation. Ausbeute : 85 % ; Kp. 74 /11 mm ; n D 1, 4469. Analyse : C, oH22N2Si2 Ber. % C 53, 03 H 9, 80 N 12, 37 Gef. % C 53, 20 H 9, 84 N 12, 50 Molekulargewicht : Ber. 226, 5 Gef. 222 Beispiel 14 Zu 13, 1 g (0, 05 Mol) Bis (trimethylsilylmethyl- amino)-dimethylsilan (Kp. 112 /16 mm ; n D 1, 4387) in 50 ml Hexan werden unter Stickstoff und Rühren 0, 1 Mol Butyllithium gegeben. Dann werden 6, 4 g (0, 05 Mol) Dimethyldichlorsilan zugesetzt und die Mischung während 2 Stunden bei Rückflusstempera- tur erhitzt. Das Lithiumchlorid wird abfiltriert und das Lösungsmittel im Vakuum bei 25 entfernt. Ausbeute (roh) : 16, 4 g (100%). Der hinterbleibende Kristallbrei wird durch Destillation gereinigt. Ausbeute 15, 6 g (95%) ; Fp. 63-64 , Kp. 120 bis 130¯/11 mm. Analyse : C12H24N2Si4 Ber. % C 45, 21 H 10, 75 N 8, 79 Gef. % C 45, 46 H 10, 87 N 8, 71 Molekulargewicht : Ber. 318, 7 Gef. 300 Beispiel 15 Zu 26, 5 g (0, 15 Mol) Bis (allylamino)-dimethylsilan in 100 ml Hexan wird Butyllithium (0, 3 Mol) in 50 ml Hexan getropft und 1 Stunde bei Raumtemperatur stehengelassen. Dann werden 19, 4 g (0, 15 Mol) Dimethyldichlorsilan in 20 ml Hexan zugegeben und während 1 Stunde zum Sieden erhitzt. Das Lithiumchlorid wird abzentrifugiert. Umsatz 100 %. Die Reinigung erfolgt durch Destillation. Ausbeute : 28, 9 g (85%) ; Kp. 74 /11 mm ; n D 1, 4469. Analyse : CloH22N2Si2 Ber. % C 53, 03 H 9, 80 N 12, 37 Gef. % C 53, 20 H 9, 84 N 12, 50 Molekulargewicht : Ber. 226, 5 Gef. 222 Beispiel 16 Zu 15, 5 g (0, 09 Mol) Bis (äthylamino)-divinylsilan in 50 ml Hexan wird Butyllithium (0, 18 Mol) in 50 ml Hexan getropft und die Mischung während 30 Minuten auf 40-50 erwärmt. Dann werden 14, 0 g (0, 09 Mol) Divinyldichlorsilan in 30 ml Hexan zugegeben und während 1 Stunde zum Sieden erhitzt. Das Lithiumchlorid wird abzentrifugiert. Umsatz 100 %. Die Reinigung erfolgt durch Destillation. Ausbeute : 11, 3 g (50%) ; Kp. 100-101 /12 mm ; n D 1, 4745. Analyse : C12H22N2Si2 Ber. % C 57, 53 H 8, 85 N 11, 18 Gef. % C 57, 30 H 8, 57 N 11, 23 Molekulargewicht : Ber. 250, 5 Gef. 235 Beispiel 17 Das Dilithiumsalz von 22, 0 g (0, 06 Mol) C6HsNH-Si (C6H5) 2-NHC6H5 wird unter Verwendung von insgesamt 170 ml Benzol wie in Beispiel 1 hergestellt. Zur Suspension werden bei 25 C unter Rühren 9, 55 g (0, 06 Mol) B (C6H5)Cl2 in 50 ml Hexan gegeben und die Mischung während 2 Stunden zum Rückfluss erhitzt. Das Lithiumchlorid wird durch Zentrifugierung entfernt. Die Benzollösung wird durch Verdampfung konzentriert und nach Zusatz von Hexan das auskristallisierte Cycloborasilazan abfiltriert. Die Verbindung wird aus Cyclohexan unter Zusatz von Aktivkohle umkristallisiert. Ausbeute : 21, 5 g (79 %) ; Fp. 268-270 C. Analyse : CsoH25N2SiB Ber. % C 79, 64 H 5, 67 N 6, 19 Moli.-Gew. 452, 5 Gef. % C 79, 51 H 5, 72 N 6, 53 Mol.-Gew. 461 Beispiel 18 Das Dilithiumsalz von 22, 0 g (0, 06 Mol) CsH5NH-. Si (CsH5) 2-NHC6H5 wird unter Verwendung von insgesamt 170 ml Benzol wie in Beispiel 1 hergestellt. Zur Suspension werden 10, 7 g (0, 06 Mol) CeHPClz in 50 ml Hexan gegeben und die Mischung während 2 Stunden zum RückfluB erhitzt. Das Lithiumchlorid wird durch Zentrifugie- rung entfernt. Die Benzollösung wird durch Verdampfung konzentriert und nach Zusatz von Hexan das auskristallisierende Cyclophosphasilazan abfiltriert. Die Verbindung wird aus Benzol umkristallisiert. Ausbeute : 27, 9 g (98 %) ; Fp. 212 C. Analyse : C30H2 N2SiP Ber. % C 76, 24 H 5, 33 N 5, 93 Mol.-Gew. 472, 6 Gef. % C 76, 15 H 5, 35 N 5, 21 Mol.-Gew. 463 Beispiel 19 Das Dilithiumsalz von 17, 7 g (0, 15 Mol) CHsNH-Si (CHn) rNHCHs wird unter Verwendung von insgesamt 100 ml Benzol wie in Beispiel 1 hergestellt. Zur Suspension werden 12, 75 g (0, 075 Mol) SiC14 unter Rühren gegeben und die Mischung während 2 Stunden zum Rückfluss erhitzt. Auf das isolierte Lithiumchlorid bezogen, beträgt der Umsatz 100 %. Nach dem Abdestillieren des Benzols wird der vi'skose Rückstand mehrmals mit Petroläther verrührt und jeweils das Lösungsmittel im Vakuum wieder abgesaugt, wobei der Rückstand schliesslich kristallisiert. Zur Reinigung wird das Octamethylspyro [3, 3] trisilazan aus Petroläther umkristallisiert. Ausbeute : 15, 6 g (80%) ; Fp. 34, 5-35, 5 ; Kp. 45 /12 mm.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH Verfahren zur Herstellung von heterocyclischen Viererringverbindungen der allgemeinen Formel EMI6.1 worin die Symbole die folgende Bedeutung besitzen.M : Silicium, Bor, Phosphor, Phosphoroxyd-Radikal, Phosphorsulfid-Radikal oder mindestens zweiwertiges Metall ; R : unter sich gleiche oder verschiedene, gegebenenfalls substituierte Kohlenwasserstoff-Radikale und bzw. oder RO-Radikale ; R': gegebenenfalls substituiertes Kohlenwasserstoff-Radikal oder hetero- cyclisches Radikal ; R" : Halogenatom oder die Gruppe EMI6.2 welche wie angedeutet, an ihrem andern Ende den gleichen Viererring aufweist ; n : Null oder ganze Zahl ; v :Valenz von M, wobei M anstatt mit den Radikalen R und R"verbunden zu sein, auch Teil eines zweiten identischen Viererringes sein kann, d'adurch gekennzeichnet, dass man ein Bis (amino)-diorganosilan der allgemeinen Formel RNH-Si (R2)-NHR', in Form eines Dialkalisalzes oder Di-Grignard-Deri- vates, mit einer mindestens äquimolaren Menge eines Halogenids der allgemeinen Formel XmMRv-m, worin X ein Halogenatom und m mindestens die Zahl 2 ist, in einem gegen die Reaktionskomponenten inerten Lösungs-oder Verdünnungsmittel umsetzt, bis keine wesentliche Menge des während der Reaktion sich bildenden Alkali-oder Magnesiumhalogenide mehr entsteht.UNTERANSPRUCH Verfahren nach Patentanspruch, dadurch gekennzeichnet, dass man das Bis (amino)-diorganosilan obiger Formel, in Form eines Dialkalisalzes oder Di Grignard-Derivates, allmählich zu einem Überschuss eines Halogenids obiger Formel, worin m gleich 3 oder 4 ist, gibt.
Priority Applications (15)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL290900D NL290900A (de) | 1962-03-30 | ||
DENDAT1252683D DE1252683B (de) | 1962-03-30 | Verfahren zur Herstellung von Cyclodisilazanen | |
BE630249D BE630249A (de) | 1962-03-30 | ||
CH384062A CH407114A (de) | 1962-03-30 | 1962-03-30 | Verfahren zur Herstellung heterocyclischer Viererringverbindungen |
FR929306A FR1359379A (fr) | 1962-03-30 | 1963-03-26 | Composés hétérocycliques à noyaux à 4 maillons |
DEM56295A DE1214683B (de) | 1962-03-30 | 1963-03-28 | Verfahren zur Herstellung von heterocyclischen Viererringverbindungen |
GB12527/63A GB1040726A (en) | 1962-03-30 | 1963-03-29 | Heterocyclic compounds |
FR967166A FR85867E (fr) | 1962-03-30 | 1964-03-12 | Composés hétérocycliques à noyaux à quatre maillons |
DEM74665A DE1291338B (de) | 1962-03-30 | 1964-03-13 | Verfahren zur Herstellung von Cyclodisilazanen |
BE645148D BE645148A (de) | 1962-03-30 | 1964-03-13 | |
GB11069/64A GB1063086A (en) | 1962-03-30 | 1964-03-16 | Heterocyclic compounds |
DE19651543208 DE1543208A1 (de) | 1962-03-30 | 1965-06-21 | Verfahren zur Herstellung von 1,3,2,4-Diazadisiletidinen |
FR21623A FR88274E (fr) | 1962-03-30 | 1965-06-21 | Composés hétérocycliques à noyaux à quatre maillons |
GB26464/65A GB1121481A (en) | 1962-03-30 | 1965-06-22 | Production of cyclodisilazanes |
BE665774A BE665774A (de) | 1962-03-30 | 1965-06-22 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH384062A CH407114A (de) | 1962-03-30 | 1962-03-30 | Verfahren zur Herstellung heterocyclischer Viererringverbindungen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CH407114A true CH407114A (de) | 1966-02-15 |
Family
ID=4264602
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CH384062A CH407114A (de) | 1962-03-30 | 1962-03-30 | Verfahren zur Herstellung heterocyclischer Viererringverbindungen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CH (1) | CH407114A (de) |
-
1962
- 1962-03-30 CH CH384062A patent/CH407114A/de unknown
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2642833B2 (de) | Oxysilan-Verbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung | |
DE2365272C2 (de) | ||
DE1124494B (de) | Verfahren zur Herstellung von Arylaminoalkylsilanen | |
DE2307232A1 (de) | Verfahren zur herstellung von amidosilanen | |
DE3703484C1 (de) | ||
CH415623A (de) | Verfahren zur Herstellung von Stickstoff-Silicium-Verbindungen | |
DE2360470A1 (de) | Bis-eckige klammer auf gamma -(trialkoxisilyl)-propyl eckige klammer zu disulfide hoher reinheit | |
CH407114A (de) | Verfahren zur Herstellung heterocyclischer Viererringverbindungen | |
DE853350C (de) | Verfahren zur Herstellung von polymeren siliciumorganischen Verbindungen, bei denen die Si-Atome ueber Phenylenbruecken miteinander verbunden sind | |
DE2231813B2 (de) | Verfahren zur Herstellung von (Organosulfonylmethyl)-triorganozinnverbindungen | |
US2776311A (en) | Diamido anilido phosphine oxides and sulfides | |
DE1187615B (de) | Verfahren zur Herstellung von N-Silylcyclosilazanen | |
DE2643442A1 (de) | Verfahren zur herstellung von phosphitchloriden | |
DE847900C (de) | Verfahren zur Herstellung von mindestens eine AEthergruppe enthaltenden tertiaeren und quaternaeren Diaminen | |
DE1158972B (de) | Verfahren zur Herstellung von Trisilylaminen | |
DE3139984A1 (de) | Verfahren zur herstellung von acylphosphinoxiden | |
DE1154477B (de) | Verfahren zur Herstellung von Nitro- oder Nitritogruppen enthaltenden Silanen | |
DE1214683B (de) | Verfahren zur Herstellung von heterocyclischen Viererringverbindungen | |
DE19848482C1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumdisulfanen | |
DE877306C (de) | Verfahren zur Herstellung von siliciumorganischen Verbindungen | |
DE1618257A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von halogenierten Phenoxysilanen | |
DE1668632C3 (de) | Alkalidiamidophosphite, ihre Herstellung und ihre Verwendung bei der Synthese von Phosphonamiden | |
EP0050768A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Azidogruppen aufweisenden Organosiliciumverbindungen | |
CH460000A (de) | Verfahren zur Herstellung von hochtemperaturbeständigen Cyclodisilazanen | |
AT362356B (de) | Verfahren zur herstellung von neuen 1,1- -dithienyl-(3)-1-hydroxy-alkylhalogeniden |