DE112017000097T5

DE112017000097T5 - Lichtdurchlässige Struktur

Info

Publication number: DE112017000097T5
Application number: DE112017000097.1T
Authority: DE
Inventors: Yosuke Takeda; Toru Ikeda; Makoto Fukawa
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2016-02-01
Filing date: 2017-01-31
Publication date: 2018-07-12
Anticipated expiration: 2037-02-01
Also published as: DE112017000097B4; JPWO2017135261A1; CN107924003B; WO2017135261A1; CN107924003A; US11772356B2; US20180162091A1; JP6939573B2

Abstract

Es soll eine lichtdurchlässige Struktur mit einem niedrigen Trübungsfaktor und einem geringen Glitzern bereitgestellt werden. Die lichtdurchlässige Struktur weist eine unebene Struktur an deren Oberfläche auf, wobei die unebene Struktur erste konvexe Abschnitte 5a umfasst, deren Durchmesser bei einer Höhe der Basishöhe + 0,05 µm der Oberflächenform (a), erhältlich durch Messen der unebenen Struktur durch ein Lasermikroskop, mindestens 1 µm betragen, und in einem Bild (c), in dem eine Mehrzahl von konvexen Abschnitten verstreut sind, das durch Filtern der Oberflächenform (a) durch eine Bildverarbeitungssoftware zum Erhalten eines Glättungsbilds (b) und Subtrahieren von XYZ-Daten des Glättungsbilds (b) von XYZ-Daten der Oberflächenform (a) erhalten worden ist, die Mehrzahl von konvexen Abschnitten zweite konvexe Abschnitte 5b umfasst, deren Durchmesser bei einer Höhe von 0,01 µm, wenn die Basishöhe als 0 angesetzt wird, mindestens 0,4 µm betragen, die Dichte der zweiten konvexen Abschnitte von 0,023 bis 7,210 Einheiten/µmbeträgt und der Anteil der Gesamtfläche im Querschnitt bei einer Höhe von 0,01 µm der zweiten konvexen Abschnitte 5b von 0,900 bis 90,000 % beträgt.

Description

TECHNISCHES GEBIET
Die vorliegende Erfindung betrifft eine lichtdurchlässige Blendschutzstruktur mit einem niedrigen Trübungsfaktor und einem geringen Glitzern.
STAND DER TECHNIK
In einer Bildanzeigevorrichtung (wie z.B. einer Flüssigkristallanzeige, einer organischen EL-Anzeige, einer Plasmaanzeige, usw.), die in verschiedenen Geräten eingebaut ist (wie z.B. einem Fernsehgerät, einem Personalcomputer, einem Smartphone, einem Mobiltelefon, einem Fahrzeug, usw.), wird dann, wenn externes Licht z.B. von einer Innenbeleuchtung (wie z.B. einer Leuchtstofflampe, usw.), Sonnenlicht, usw., auf der Anzeigeoberfläche reflektiert wird, die Sichtbarkeit durch das reflektierte Bild vermindert.
Zum Unterdrücken einer solchen Reflexion von externem Licht war es üblich, eine Blendschutzbehandlung auf die Oberfläche eines Substrats (wie z.B. einer Glasplatte) anzuwenden, welche die Anzeigeoberfläche einer Bildanzeigevorrichtung bildet. Eine Blendschutzbehandlung ist eine Behandlung zur Bildung einer Unebenheit auf der Oberfläche, so dass einfallendes Licht durch eine solche Unebenheit gestreut wird. Da einfallendes Licht diffus reflektiert wird, wird das reflektierte Bild unscharf, wodurch die Reflexion von externem Licht unterdrückt wird. Als eine solche Blendschutzbehandlung ist ein Verfahren des Ätzens der Oberfläche eines Substrats oder ein Verfahren des Bereitstellens einer Blendschutzschicht mit einer Unebenheit auf der Oberfläche bekannt. Als Verfahren zur Bildung einer Blendschutzschicht ist ein Verfahren bekannt, bei dem eine Beschichtungsflüssigkeit, die eine Siliziumoxidvorstufe enthält, wie z.B. ein hydrolytisches Kondensat eines Alkoxysilans, durch ein Spritzverfahren auf ein Substrat aufgebracht wird, worauf erwärmt wird (vgl. z.B. das Patentdokument 1).
Wenn eine Blendschutzbehandlung auf die Oberfläche eines Substrats angewandt wird, besteht jedoch eine Tendenz dahingehend, dass der Trübungsfaktor zunimmt, was zu dem Problem führt, dass die Sichtbarkeit des Bilds vermindert wird. Zum Lösen eines solchen Problems wurden Blendschutzgegenstände mit Antireflexionseigenschaften wie z.B. die folgenden (1) bis (3) vorgeschlagen. Bei solchen Blendschutzgegenständen wird davon ausgegangen, dass, da sie Antireflexionseigenschaften aufweisen, die Reflexion von einfallendem Licht unterdrückt wird, wodurch die Bildauflösung und der Kontrast sowie die Lichtdurchlässigkeit verbessert werden und die Sichtbarkeit des Bilds verbessert wird.
(1) Ein Blendschutz-Antireflexionselement, das ein Substrat umfasst, das mit einer Blendschutzschicht mit einer unebenen Struktur an deren Oberflächenschicht und einer Antireflexionsschicht auf der Blendschutzschicht versehen ist (Patentdokument 2).
(2) Ein Berührungsbildschirm, der mit einer Blendschutzschicht versehen ist, wobei die Blendschutzschicht ein Aggregat von anorganischen Oxidteilchen in einer ausgehärteten anorganischen Polymermatrix enthält, und die anorganischen Oxidteilchen eine Oberflächenstruktur mit einer Größe bilden, die 2 µm übersteigt und höchstens etwa 100 µm beträgt (Patentdokument 3).
(3) Eine Blendschutzplatte, die ein transparentes Substrat und eine Blendschutzbeschichtung umfasst, die auf dem transparenten Substrat ausgebildet ist, wobei die Blendschutzbeschichtung eine Mehrzahl von plättchenförmigen Siliziumoxidteilchen enthält und mindestens einige der plättchenförmigen Siliziumoxidteilchen eine Mehrzahl von blütenförmigen Strukturen (tertiäre Teilchen) bilden (Patentdokument 4).
Wenn andererseits ein Substrat, das einer Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, auf einer Anzeigeoberfläche einer Bildanzeigevorrichtung angeordnet ist, ist es wahrscheinlich, dass auf der Anzeigeoberfläche durch das Vorliegen der Unebenheit ein Glitzern auftritt, was zu dem Problem führt, dass die Sichtbarkeit eines Bilds zu einer Verminderung neigt. Ein solches Glitzern neigt dazu, stark zu sein, wenn die Blendschutzeigenschaften sehr gut werden.
Als Blendschutzbeschichtung, die ein solches Glitzern unterdrücken kann, wurde das folgende (4) vorgeschlagen.
(4) Eine Blendschutzbeschichtung, die mit einer Blendschutzschicht versehen ist, die eine Mehrzahl von Bereichen aufweist, die getrennt auf einem Substrat vorliegen, wobei eine Unebenheit zwischen den Bereichen und dem Substrat ausgebildet ist, und die Oberfläche in den Bereichen eines konvexen Abschnitts so ausgebildet ist, dass sie flach ist oder mindestens einen unebenen Abschnitt aufweist (Patentdokument 5).
DOKUMENTE DES STANDES DER TECHNIK
PATENTDOKUMENTE

Patentdokument 1: JP 2009-058640 A
Patentdokument 2: WO 2014/034720
Patentdokument 3: US-Patentanmeldung mit der Veröffentlichungsnummer 2010/0279070
Patentdokument 4: US-Patent Nr. 8,974,066
Patentdokument 5: JP 2013-214059 A

OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
TECHNISCHES PROBLEM
Das Blendschutz-Antireflexionselement in dem Patentdokument 2 und der Berührungsbildschirm in dem Patentdokument 3 weisen das Problem eines Glitzerns wie in dem Fall auf, bei dem eine herkömmliche, übliche Blendschutzbehandlung angewandt wird. Die Blendschutzplatte in dem Patentdokument 4 weist einen hohen Trübungsfaktor auf, wodurch die Sichtbarkeit des Bilds nicht ausreichend ist.
Die Blendschutzbeschichtung im Patentdokument 5 kann ein Glitzern in einem gewissen Ausmaß unterdrücken, jedoch ist der Effekt nicht ausreichend. In den letzten Jahren bestand eine Tendenz zu einer Zunahme der Pixeldichte einer Flüssigkristallanzeige und wenn die Pixeldichte hoch wird, wird das Glitzern selbst dann stark, wenn die unebene Struktur dieselbe ist. Daher ist eine weitere Verminderung des Blendens erforderlich.
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine lichtdurchlässige Blendschutzstruktur mit einem niedrigen Trübungsfaktor und einem geringen Glitzern sowie einen Gegenstand und eine Bildanzeigevorrichtung, die damit ausgestattet sind, bereitzustellen.
LÖSUNG DES PROBLEMS
Die vorliegende Erfindung hat den folgenden Aufbau.
Eine lichtdurchlässige Struktur mit einer unebenen Struktur an deren Oberfläche, wobei die unebene Struktur erste konvexe Abschnitte umfasst, deren Durchmesser (berechnet als Kreise) bei einer Höhe der Basishöhe + 0,05 µm der Oberflächenform, erhältlich durch Messen eines Bereichs (101 µm × 135 µm) bis (111 µm × 148 µm) der unebenen Struktur durch ein Lasermikroskop, mindestens 1 µm betragen, und der Durchschnittswert der Durchmesser (berechnet als Kreise) der ersten konvexen Abschnitte von 1,000 to 16,000 µm beträgt, und
in einem Bild mit einer Mehrzahl von konvexen Abschnitten, das durch Filtern der Oberflächenform durch die Bildverarbeitungssoftware SPIP (hergestellt von Image Metrology) zum Erhalten eines Glättungsbilds und Subtrahieren von XYZ-Daten des Glättungsbilds von XYZ-Daten der Oberflächenform erhalten worden ist, die Mehrzahl von konvexen Abschnitten zweite konvexe Abschnitte umfasst, deren Durchmesser (berechnet als Kreise) bei einer Höhe von 0,01 µm, wenn die Basishöhe als 0 angesetzt wird, mindestens 0,4 µm betragen, die Dichte der zweiten konvexen Abschnitte von 0,023 bis 7,210 Einheiten/µm² beträgt und die Gesamtfläche im Querschnitt der zweiten konvexen Abschnitte bei einer Höhe von 0,01 µm von 0,900 bis 90,000 % der Gesamtfläche des Bereichs beträgt.
VORTEILHAFTE EFFEKTE DER ERFINDUNG
Gemäß der vorliegenden Erfindung können eine lichtdurchlässige Blendschutzstruktur mit einem niedrigen Trübungsfaktor und einem geringen Glitzern und ein Gegenstand und eine Bildanzeigevorrichtung, die damit ausgestattet sind, bereitgestellt werden.
Die lichtdurchlässige Struktur der vorliegenden Erfindung weist Blendschutzeigenschaften auf und daher wird, wenn die lichtdurchlässige Struktur der vorliegenden Erfindung an der Anzeigeoberfläche einer Bildanzeigevorrichtung angeordnet ist, externes Licht durch die unebene Struktur an der Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur diffus reflektiert, wodurch das reflektierte Bild unscharf wird und eine Verminderung der Sichtbarkeit des Bilds aufgrund einer Reflexion von externem Licht auf der Anzeigeoberfläche unterdrückt werden kann. Ferner weist die lichtdurchlässige Struktur der vorliegenden Erfindung einen niedrigen Trübungsfaktor auf und es ist weniger wahrscheinlich, dass ein Glitzern an der Oberfläche der unebenen Struktur auftritt, wodurch es weniger wahrscheinlich ist, dass eine Verminderung der Auflösung oder des Kontrasts des Bilds, eine Verminderung der Lichtdurchlässigkeit oder eine Verminderung der Sichtbarkeit des Bilds aufgrund eines Glitzerns an der Anzeigeoberfläche durch Anordnen der lichtdurchlässigen Struktur auftritt.
Figurenliste

1 ist eine Querschnittsansicht, die schematisch eine lichtdurchlässige Struktur in einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
2 ist eine Ansicht, die schematisch die Struktur in der Nähe der Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur in der ersten Ausführungsform zeigt.
3 ist eine Ansicht, welche die Beziehung der Oberflächenform der lichtdurchlässigen Struktur in der ersten Ausführungsform, deren Glättungsbild und das Bild zeigt, das als Differenz ihrer XYZ-Daten erhältlich ist.
4 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine lichtdurchlässige Struktur in einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
5 ist eine Ansicht, welche die Beziehung der Oberflächenform der lichtdurchlässigen Struktur in der zweiten Ausführungsform, deren Glättungsbild und das Bild zeigt, das als Differenz ihrer XYZ-Daten erhältlich ist.
6 ist eine Querschnittsansicht, die schematisch eine lichtdurchlässige Struktur in einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
7 ist eine Querschnittsansicht, die schematisch die Struktur in der Nähe der Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur in der dritten Ausführungsform zeigt.
8 ist eine Querschnittsansicht, die schematisch eine lichtdurchlässige Struktur in einer vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
9 ist ein Lasermikroskopbild der Oberfläche auf der Seite der Blendschutzschicht in der lichtdurchlässigen Struktur im Bsp. 1.
10 ist ein Rasterelektronenmikroskop (SEM)-Bild der Oberfläche auf der Seite der Blendschutzschicht in der lichtdurchlässigen Struktur im Bsp. 1, betrachtet von schräg oberhalb bei einem Winkel von 60 Grad.
11 ist ein Bild der Oberflächenform auf der Seite der Blendschutzschicht der lichtdurchlässigen Struktur im Bsp. 1, analysiert durch SPIP (Querschnitt bei einer Höhe der Basishöhe + 0,05 µm).
12 ist ein Bild der Oberflächenform auf der Seite der Blendschutzschicht der lichtdurchlässigen Struktur im Bsp. 1, analysiert durch SPIP (Querschnitt bei einer Höhe von 0,01 µm des Bilds, das als die Differenz zwischen XYZ-Daten der Oberflächenform und XYZ-Daten des Glättungsbilds erhalten wird).
13 ist ein Lasermikroskopbild der Oberfläche auf der Seite der Blendschutzschicht in der lichtdurchlässigen Struktur im Bsp. 21.
14 ist ein Bild der Oberflächenform auf der Seite der Blendschutzschicht der lichtdurchlässigen Struktur im Bsp. 21, analysiert durch SPIP (Querschnitt bei einer Höhe der Basishöhe + 0,05 µm).
15 ist ein Bild der Oberflächenform auf der Seite der Blendschutzschicht der lichtdurchlässigen Struktur im Bsp. 21, analysiert durch SPIP (Querschnitt bei einer Höhe von 0,01 µm des Bilds, das als die Differenz zwischen XYZ-Daten der Oberflächenform und XYZ-Daten des Glättungsbilds erhalten wird).
16 ist ein Lasermikroskopbild der Oberfläche auf der Seite der Blendschutzschicht der lichtdurchlässigen Struktur im Bsp. 34.
17 ist ein Bild der Oberflächenform auf der Seite der Blendschutzschicht der lichtdurchlässigen Struktur im Bsp. 34, analysiert durch SPIP (Querschnitt bei einer Höhe der Basishöhe + 0,05 µm).
18 ist ein Bild der Oberflächenform auf der Seite der Blendschutzschicht der lichtdurchlässigen Struktur im Bsp. 34, analysiert durch SPIP (Querschnitt bei einer Höhe von 0,01 µm des Bilds, das als die Differenz zwischen XYZ-Daten der Oberflächenform und XYZ-Daten des Glättungsbilds erhalten wird).
19 ist ein Graph, der die Beziehung zwischen dem durchschnittlichen Durchmesser der ersten konvexen Abschnitte und dem Glitzerindexwert in den Bsp. 1 bis 39 zeigt.
20 ist ein Graph, der die Beziehung zwischen der Dichte der zweiten konvexen Abschnitte und dem Glitzerindexwert in den Bsp. 1 bis 39 zeigt.
21 ist ein Graph, der die Beziehung zwischen dem Flächenverhältnis der zweiten konvexen Abschnitte und dem Glitzerindexwert in den Bsp. 1 bis 39 zeigt.

BESCHREIBUNG VON AUSFÜHRUNGSFORMEN
Die folgenden Definitionen von Begriffen gelten in der gesamten Beschreibung, einschließlich den Ansprüchen.
Der Begriff „lichtdurchlässig“ bedeutet, dass sichtbares Licht durchgelassen wird.
Die „Basishöhe“ ist ein Wert der am stärksten vorherrschenden Höhe Z in einem Höhenverteilungshistogramm, das aus XYZ-Daten der Oberflächenform in einem Untersuchungsbereich erhältlich ist, der durch Messen eines Bereichs (nachstehend auch als Untersuchungsbereich bezeichnet) von (101 µm × 135 µm) bis (111 µm × 148 µm) durch ein Lasermikroskop erhältlich ist. Die Höhe Z in den XYZ-Daten ist, falls nichts anderes spezifisch angegeben ist, die Höhe auf der Basis des niedrigsten Punkts (der Position, bei welcher der Wert von Z den minimalen Wert aufweist) in dem Untersuchungsbereich (d.h., die Länge einer senkrechten Linie, die sich von der Position zur Messung der Höhe Z nach unten zu einer Ebene, die den niedrigsten Punkt enthält, d.h., einer Ebene parallel zu der Hauptoberfläche der lichtdurchlässigen Struktur, in dem Untersuchungsbereich erstreckt), und nachstehend gilt dasselbe für die Bedeutung der Höhe in der Oberflächenform, falls nichts anderes spezifisch angegeben ist. Die Breite (Bin) jedes Abschnitts in dem Höhenverteilungshistogramm ist auf 1000 eingestellt.
In den XYZ-Daten ist die Z-Richtung eine Höhenrichtung der unebenen Struktur (die Dickenrichtung der lichtdurchlässigen Struktur) und die XY-Ebene ist eine Ebene senkrecht zu der Z-Richtung.
Der Begriff „bis“, der einen Zahlenbereich darstellt, wird in dem Sinne verwendet, dass er die Zahlenwerte, die vor und nach dem Ausdruck angegeben sind, als den oberen Grenzwert bzw. den unteren Grenzwert umfasst.
«Lichtdurchlässige Struktur»
{Erste Ausführungsform}
In der 1 umfasst eine lichtdurchlässige Struktur 1 in dieser Ausführungsform ein lichtdurchlässiges Substrat 3 und eine Blendschutzschicht 5, die auf der ersten Oberfläche 3A davon ausgebildet ist. Die Blendschutzschicht 5 weist eine unebene Struktur an der Oberfläche auf. Die Oberfläche der Blendschutzschicht 5 bildet die Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur 1. Daher weist die lichtdurchlässige Struktur 1 eine unebene Struktur an der Oberfläche auf. In der 1 ist aus Gründen der Zweckmäßigkeit das Verhältnis der Dicke der Blendschutzschicht 5 zur Dicke des lichtdurchlässigen Substrats 3 größer eingestellt als das tatsächliche Verhältnis.
(Lichtdurchlässiges Substrat)
Das lichtdurchlässige Substrat 3 kann jedwedes lichtdurchlässige Substrat sein, solange es sichtbares Licht durchlassen kann, und ein transparentes lichtdurchlässiges Substrat ist bevorzugt. Transparent bezüglich des lichtdurchlässigen Substrats 3 bedeutet, dass es durchschnittlich mindestens 80 % von Licht in einem Wellenlängenbereich von 400 bis 1100 nm durchlässt (d.h., die durchschnittliche Durchlässigkeit beträgt mindestens 80 %). Die durchschnittliche Durchlässigkeit für Licht in dem Wellenlängenbereich von 400 bis 1100 nm wird mittels einer Ulbricht-Kugel gemessen.
Das Material für das lichtdurchlässige Substrat 3 kann z.B. Glas, ein Harz, usw., sein. Das Glas kann z.B. Natronkalkglas, Borosilikatglas, Aluminosilikatglas, alkalifreies Glas, usw., sein. Das Harz kann z.B. Polyethylenterephthalat, Polycarbonat, Triacetylcellulose, Polymethylmethacrylat, usw., sein.
Die Form des lichtdurchlässigen Substrats 3 kann z.B. eine Platte, ein Film bzw. eine Folie, usw., sein.
Die erste Oberfläche 3A des lichtdurchlässigen Substrats 3 kann glatt sein oder kann Unregelmäßigkeiten aufweisen. Im Hinblick auf die Eignung zum Bereitstellen einer Blendschutzschicht 5 ist sie vorzugsweise glatt. Der arithmetische Mittenrauwert Ra der ersten Oberfläche 3A beträgt vorzugsweise höchstens 10 nm, mehr bevorzugt höchstens 5 nm, noch mehr bevorzugt höchstens 2 nm, besonders bevorzugt höchstens 1 nm. Ra ist hier ein Wert, der durch den Rasterkraftmikroskop (AFM)-Modus einer Rastersondenmikroskop-Multifunktionseinheit SPA-400, hergestellt von SII Nano Technology Inc., gemessen wird.
Die Form des lichtdurchlässigen Substrats 3 muss nicht nur eine flache Form sein, wie es gezeigt ist, sondern sie kann auch eine Form mit einer gekrümmten Oberfläche sein. In letzter Zeit gibt es von verschiedenen Geräten, die mit Bildanzeigevorrichtungen ausgestattet sind, solche, bei denen die Anzeigeoberfläche einer Bildanzeigevorrichtung gekrümmt ist. Eine lichtdurchlässige Struktur 1, bei der das lichtdurchlässige Substrat 3 eine Form mit einer gekrümmten Oberfläche aufweist, ist für eine solche Bildanzeigevorrichtung geeignet.
In einem Fall, bei dem das lichtdurchlässige Substrat 3 eine gekrümmte Oberfläche aufweist, kann die Oberfläche des lichtdurchlässigen Substrats 3 vollständig gekrümmt sein oder sie kann aus einem gekrümmten Teil und einem flachen Teil zusammengesetzt sein. Als Beispiel für den Fall, bei dem die gesamte Oberfläche gekrümmt ist, kann z.B. ein Fall genannt werden, bei dem der Querschnitt des lichtdurchlässigen Substrats eine Kreisbogenform ist. Es sollte beachtet werden, dass die gekrümmte Oberfläche hier eine makroskopische gekrümmte Oberfläche auf einem Niveau ist, das in dem Untersuchungsbereich, der durch ein Lasermikroskop untersucht werden soll, vernachlässigbar ist.
In einem Fall, bei dem das lichtdurchlässige Substrat 3 eine gekrümmte Oberfläche aufweist, kann der Krümmungsradius (nachstehend auch als „R“ bezeichnet) der gekrümmten Oberfläche abhängig von der Anwendung der lichtdurchlässigen Struktur 1, dem Typ des lichtdurchlässigen Substrats 3, usw., in einer geeigneten Weise eingestellt werden, und er beträgt, obwohl er nicht speziell darauf beschränkt ist, vorzugsweise höchstens 25000 mm, mehr bevorzugt von 10 bis 5000 mm, besonders bevorzugt von 50 bis 3000 mm. Wenn R höchstens der vorstehend genannte obere Grenzwert ist, weist es verglichen mit einer flachen Platte hervorragende Gestaltungseigenschaften auf. Wenn R mindestens der vorstehend genannte untere Grenzwert ist, kann eine Blendschutzschicht selbst auf der gekrümmten Oberfläche einheitlich gebildet werden.
Als das lichtdurchlässige Substrat 3 ist eine Glasplatte bevorzugt. Die Glasplatte kann eine glatte Glasplatte sein, die durch ein Floatverfahren, ein Schmelzverfahren, ein Abzugsverfahren („Down draw“-Verfahren) gebildet wird, oder es kann ein Profilglas mit einer unebenen Oberfläche sein, das durch ein Auswalzverfahren oder dergleichen gebildet wird. Ferner kann es nicht nur eine Glasplatte mit einer flachen Form sein, sondern auch eine Glasplatte mit einer gekrümmten Oberfläche. In einem Fall, bei dem die Glasplatte eine gekrümmte Oberfläche aufweist, ist der bevorzugte Krümmungsradius der gekrümmten Oberfläche mit dem vorstehend beschriebenen Krümmungsradius identisch.
Die Dicke des lichtdurchlässigen Substrats 3 ist nicht speziell beschränkt. Beispielsweise kann eine Glasplatte mit einer Dicke von höchstens 10 mm, vorzugsweise von 0,5 bis 3 mm, verwendet werden. Wenn die Dicke gering ist, kann die Absorption von Licht auf einen niedrigen Wert vermindert werden, was für eine Anwendung bevorzugt ist, welche die Durchlässigkeit verbessern soll. Ferner wird eine geringe Dicke zu einer Gewichtsverminderung der lichtdurchlässigen Struktur 1 beitragen.
Die Glasplatte ist vorzugsweise eine gehärtete Glasplatte. Die gehärtete Glasplatte ist eine Glasplatte, die einer Luftkühlungshärtungs- oder chemischen Härtungsbehandlung unterzogen worden ist. Durch die Härtungsbehandlung wird die Festigkeit des Glases verbessert und die Plattendicke kann vermindert werden, während die Festigkeit beibehalten wird.
(Blendschutzschicht)
Eine Blendschutzschicht 5 weist eine unebene Struktur an der Oberfläche auf.
Die unebene Struktur an der Oberfläche der Blendschutzschicht 5 (d.h., an der Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur 1) umfasst, wie es in der 2 und der 3(a) gezeigt ist, erste konvexe Abschnitte 5a, deren Durchmesser (berechnet als Kreis) bei einer Höhe der Basishöhe + 0,05 µm in der Oberflächenform der Blendschutzschicht 5 (d.h., in der Oberflächenform der lichtdurchlässigen Struktur 1) mindestens 1 µm betragen. Das Symbol „BH“ in der 2 stellt die Basishöhe dar. Erste konvexe Abschnitte 5a liegen in einer Mehrzahl vor und durch die Mehrzahl von ersten konvexen Abschnitten 5a ist eine Welligkeit an der Oberfläche der Blendschutzschicht 5 ausgebildet.
Ferner ist bezüglich der Oberflächenform der Blendschutzschicht 5, wenn die Oberflächenform durch die Bildverarbeitungssoftware SPIP (hergestellt von Image Metrology) zum Erhalten eines Glättungsbilds, wie es in der 3(b) gezeigt ist, gefiltert wird, und XYZ-Daten des Glättungsbilds von XYZ-Daten der Oberflächenform subtrahiert werden, ein Bild erhältlich, bei dem eine Mehrzahl von konvexen Abschnitten verstreut ist, wie es in der 3(c) gezeigt ist. In dem Bild, bei dem eine Mehrzahl von konvexen Abschnitten verstreut ist, umfasst die Mehrzahl von konvexen Abschnitten zweite konvexe Abschnitte 5b, deren Durchmesser (berechnet als Kreise) bei einer Höhe von 0,01 µm mindestens 0,4 µm betragen. Die zweiten konvexen Abschnitte 5b liegen in einer Mehrzahl vor. Die zweiten konvexen Abschnitte 5b in dieser Ausführungsform sind typischerweise wie Inseln auf der Welligkeit verteilt, die durch die Mehrzahl von ersten konvexen Abschnitten 5a gebildet wird.
In der Blendschutzschicht 5 können lokal Abschnitte vorliegen, bei denen das lichtdurchlässige Substrat 3 freiliegt.
Die vorstehend genannte Oberflächenform ist eine Oberflächenform, die durch Messen des Untersuchungsbereichs der Oberfläche der Blendschutzschicht 5 (der Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur 1) durch ein Lasermikroskop erhalten wird.
Der Untersuchungsbereich liegt innerhalb eines rechteckigen Bereichs der kurzen Seite von 101 bis 111 µm × der langen Seite von 135 bis 148 µm. D.h., der Untersuchungsbereich liegt minimal innerhalb eines rechteckigen Bereichs von 101 µm × 135 µm und maximal innerhalb eines rechteckigen Bereichs von 111 µm × 148 µm. Das vertikal × horizontal-Verhältnis (Länge der langen Seite/Länge der kurzen Seite) liegt üblicherweise in einem Bereich von etwa 1,21 bis 1,46.
Der Grund für das Beschreiben des Untersuchungsbereichs durch den Bereich liegt darin, dass selbst durch die Verwendung einer Objektivlinse mit derselben Vergrößerung der Untersuchungsbereich abhängig von individuellen Unterschieden bei der Linse unterschiedlich sein kann. Da Messergebnisse durch die maximalen Werte, die minimalen Werte und die durchschnittlichen Werte in dem Untersuchungsbereich dargestellt werden, wird selbst dann, wenn der Untersuchungsbereich geringfügig unterschiedlich ist, solange eine Objektivlinse mit derselben Vergrößerung zur Verwendung ausgewählt wird, kein Wesentlicher Unterschied bei den Ergebnissen vorliegen.
Der durch ein Lasermikroskop zu messende Untersuchungsbereich ist eine Stelle, die zufällig aus der Oberfläche der Blendschutzschicht 5 (der Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur 1) ausgewählt wird. Die detaillierten Messbedingungen für das Lasermikroskop sind in den später beschriebenen Beispielen gezeigt.
Die Analyse zum Erhalten des Bilds, bei dem eine Mehrzahl von konvexen Abschnitten auf der vorstehend genannten Ebene verstreut sind, kann insbesondere durch das Verfahren der folgenden (i) bis (iv) durchgeführt werden.

(i) In einem spezifischen Modus wurde eine Neigungskorrektur von tatsächlich gemessenen XYZ-Daten der Oberflächenform der Blendschutzschicht 5 durchgeführt, um ein Oberflächenformbild zu erhalten, bei dem die Basishöhe auf 0 korrigiert ist.
(ii) Bezüglich des vorstehend genannten Oberflächenformbilds, bei dem die Basishöhe auf 0 korrigiert ist, wurden unter den Bedingungen von „Faltung: Glättung: auf durchschnittlich eingestellt“ und „Kerngröße X = Y = 31, auf kreisförmig eingestellt“, 31 XY-Daten einem Filtern zur Durchschnittsbildung von Z durch kreisförmige Einheiten unterzogen, so dass ein glattes unebenes Oberflächenformbild erhalten wurde (nachstehend auch als „Glättungsbild (b)“ bezeichnet) wie es in der 3(b) gezeigt ist.
(iii) Aus dem vorstehend genannten Oberflächenformbild, bei dem die Basishöhe auf 0 korrigiert ist, werden „Teilchen“ bei einem Schwellenniveau von 0,01 µm erfasst. Dann werden bei der Messung des Bildfensters „Filterdifferenz“ und „Speichere die gesamte Form“ ausgewählt und eine Nachbearbeitung von „Glätten der Formkonturen“ in einer Filtergröße von 51 Punkten wird durchgeführt, so dass ein nachbearbeitetes Oberflächenformbild erhalten wird (nachstehend auch als „Oberflächenform (a)“ bezeichnet) wie es in der 3(a) gezeigt ist.
(iv) Als Differenz zwischen dem Glättungsbild (b) und der Oberflächenform (a) wird ein Formbild (nachstehend auch als „Bild (c)“ bezeichnet) bei dem eine Mehrzahl von konvexen Abschnitten verstreut ist, erhalten, wie es in der 3(c) gezeigt ist.

Der „spezifische Modus“ in dem vorstehenden (i) ist ein Modus, der zu dem Zeitpunkt angezeigt wird, wenn die Neigungskorrektur (Abflachung) durch SPIP durchgeführt wird, und insbesondere werden die folgenden vier Vorgänge automatisch durchgeführt.

(i-1) Als „Allgemeine Ebene-Korrekturverfahren“ wird „Durchschnittsprofilanpassungsverfahren“ ausgewählt und die Größenordnung ist 3.
(i-2) „Verfahrensschritt“ wird nicht ausgewählt.
(i-3) Für „Korrektur einer Linie-für-Linie-Basis“ wird „Nein“ ausgewählt.
(i-4) Als „Z-Versatzverfahren“ wird „Basishöhe auf Null“ ausgewählt.

Wenn die vorstehend genannte Neigungskorrektur bezüglich XYZ-Daten der Oberflächenform, die durch ein Lasermikroskop erhalten worden sind, durchgeführt wird, werden Anpassungsoberflächen aus den durchschnittlichen Profilen von X und Y berechnet, und durch Subtrahieren derselben von dem Bild wird eine Neigung oder ein unerwünschtes Biegen des gesamten Bilds beseitigt.
In dem vorstehenden (ii) wird, wenn die Kerngröße auf X = Y = 31, kreisförmig, eingestellt wird, ein Ersatzrahmen (Kern) für kreisförmig, der achteckig in ein Rechteck von 31 × 31 einbeschrieben ist, eingestellt. Beim Filtern werden ungeachtet der Kernform die ursprünglichen Daten durch einen einfachen Durchschnitt aller Punkte in dem Kern ersetzt.
Wenn ein Filtern durchgeführt wird, ist ein Glättungsbild (b), bei dem feine Unregelmäßigkeiten beseitigt (gemittelt) worden sind, erhältlich, wie es in der 3(b) gezeigt ist.
Als der Durchschnittsbildungsfilter von SPIP wurde ein Filter von 31 × 31 verwendet. Details werden in dem folgenden Matrixvorgang gezeigt.
Ein Punkt: Für XYZ werden 961 Punkte kreisförmig um diesen Punkt extrahiert (um eine kurze Distanz vorwärts), Werte von Z gegen XY an den jeweiligen Punkten werden summiert und der summierte Wert wird durch 961 dividiert, um einen Wert zu erhalten, der als der neue Z-Wert der Koordinaten XY betrachtet wird. Diese Berechnung wird für alle Punkte in der Ebene durchgeführt.
Die Abstände der Messpunkte in der X-Richtung und der Y-Richtung sind jeweils 71 nm.
Dabei wird der Durchschnitt für alle Punkte erhalten, während eine Bewegung von einem Punkt zum nächsten durchgeführt wird, und daher gibt es keine Möglichkeit, dass die Auflösung vermindert wird. $\begin{array}{l} C = \frac{1}{961} [\begin{matrix} 1 & 1 & \dots & 1 \\ ⋮ & ⋮ & ⋮ \\ 1 & 1 & \dots & 1 \\ 1 & 1 & \dots & 1 \end{matrix}] \begin{array}{l} Y-Richtung: \\ 31 Punkte \end{array} \\ \begin{matrix} \begin{matrix} \end{matrix} \end{matrix} X-Richtung:31 Punkte \end{array}$
In dem vorstehenden (iii) gibt das Schwellenniveau von 0,01 µm an, dass als Teilchen (konvexe Abschnitte) solche mit einer Höhe von mindestens 0,01 µm erfasst werden sollen. Die Höhe ist eine Höhe, die auf der Basishöhe beruht.
Bei der Nachbearbeitung gibt „Speichere die gesamte Form“ einen Vorgang an, bei dem dann, wenn ein konkaver Abschnitt mit einer Höhe von höchstens 0,01 µm in dem Bereich der erfassten Teilchen vorliegt, die Fläche eines solchen konkaven Abschnitts nicht als die Fläche der Teilchen gezählt wird.
„Glätten der Formkonturen“ gibt einen Vorgang des Beseitigens eines Rauschens der Formkonturen von Teilchen an.
Die Filtergröße repräsentiert den Grad des Glättens der Formkonturen von Teilchen und wenn der Wert größer ist, nähert sich die Formkontur nach dem Glätten stärker einem Kreis an.
D.h., die Oberflächenform (a), die durch eine Nachbearbeitung in (iii) erhalten wird, ist eine Oberflächenform, bei der ein Rauschen von den tatsächlichen Messdaten beseitigt worden ist, und die Formkonturen der konvexen Abschnitte reguliert sind, und folglich kann sie als die unebene Oberflächenform betrachtet werden, welche die tatsächlichen ersten konvexen Abschnitte enthält.
In (iv) ist durch Subtrahieren der Oberflächenform (a), die in (iii) erhalten worden ist, von dem Glättungsbild (b), das in (ii) erhalten worden ist, das Bild (c) erhältlich.
Im Allgemeinen ist es dann, wenn konvexe Abschnitte auf einer Oberfläche mit einer Welligkeit verteilt sind, schwierig, die Anzahl und die Form der konvexen Abschnitte genau zu messen. In der vorstehend genannten Formanalyse werden dann, wenn das Glättungsbild (b) und die Oberflächenform (a) überlagert werden, konvexe Abschnitte, die sich oberhalb der Oberfläche des Glättungsbilds (b) befinden, als konvexe Abschnitte festgelegt, die auf einer Oberfläche verteilt sind, die durch Beseitigen der Welligkeit der Oberfläche mit der Welligkeit erhalten wird.
Die ersten konvexen Abschnitte 5a sind konvexe Abschnitte, von denen geschnittene Oberflächen bei einer „Höhe der Basishöhe + 0,05 µm der Oberflächenform“ festgestellt werden, und es sind konvexe Abschnitte, deren Durchmesser (berechnet als Kreise), die aus den Flächen der geschnittenen Oberflächen berechnet werden, mindestens 1 µm betragen.
Der obere Grenzwert für die Durchmesser der ersten konvexen Abschnitte 5a (berechnet als Kreise) ist nicht speziell beschränkt, solange der durchschnittliche Durchmesser, der später beschrieben wird, innerhalb eines spezifischen Bereichs liegt, jedoch beträgt dieser typischerweise höchstens 16 µm.
Der Durchschnittswert (nachstehend auch als „durchschnittlicher Durchmesser“ bezeichnet) der vorstehend genannten Durchmesser (berechnet als Kreise) der ersten konvexen Abschnitte 5a beträgt von 1,000 bis 16,000 µm, vorzugsweise von 1,000 bis 12,000 µm, besonders bevorzugt von 1,000 bis 8,000 µm. Wenn der vorstehend genannte durchschnittliche Durchmesser mindestens der untere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, werden die Blendschutzeigenschaften gut sein. Wenn der vorstehend genannte durchschnittliche Durchmesser höchstens der obere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, werden die Eigenschaften einer geringen Blendung hervorragend sein.
Die Dichte der ersten konvexen Abschnitte 5a in der Oberflächenform beträgt vorzugsweise von 0,001 bis 1,15 Einheiten/µm², mehr bevorzugt von 0,001 bis 0,1 Einheiten/µm², besonders bevorzugt von 0,001 bis 0,050 Einheiten/µm². Wenn die vorstehend genannte Dichte mindestens der untere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, werden die Blendschutzeigenschaften noch besser sein. Wenn die Dichte höchstens der obere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, werden die Eigenschaften eines geringen Glitzerns noch besser sein.
Das Verhältnis (nachstehend als das „Flächenverhältnis“ bezeichnet) der Gesamtfläche der Querschnitte der ersten konvexen Abschnitte 5a bei einer Höhe der Basishöhe + 0,05 µm der Oberflächenform zu der Gesamtfläche des Untersuchungsbereichs beträgt vorzugsweise von 2,00 bis 90,75 %, mehr bevorzugt von 2,00 bis 70,00 %, besonders bevorzugt von 2,00 bis 50,00 %. Wenn das Flächenverhältnis mindestens der untere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, werden die Blendschutzeigenschaften noch besser sein. Wenn das Flächenverhältnis höchstens der obere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, werden die Eigenschaften eines geringen Glitzerns noch besser sein.
Die Gesamtfläche des Untersuchungsbereichs ist gleich der Gesamtfläche des Querschnitts, einschließlich Zwischenraumabschnitte, bei einer Höhe der Basishöhe + 0,05 µm der Oberflächenform.
Die zweiten konvexen Abschnitte 5b sind konvexe Abschnitte, von denen geschnittene Oberflächen bei einer Höhe von 0,01 µm des Bilds (c) festgestellt werden, das als die Differenz zwischen den XYZ-Daten der Oberflächenform (a) des Glättungsbilds (b) (bei einer Höhe auf der Basis des niedrigsten Punkts des Bilds (c), d.h., der Position der Basishöhenebene) erhältlich ist, und es handelt sich um konvexe Abschnitte, deren Durchmesser (berechnet als Kreise) von den Flächen der geschnittenen Oberflächen berechnet werden, mindestens 0,4 µm betragen. Wenn die vorstehend genannten Durchmesser mindestens 0,4 µm betragen, kann ein Glitzern durch Hemmen einer Interferenz zwischen sichtbarem Licht, das an der Oberfläche der ersten konvexen Abschnitte 5a gebrochen wird, unterdrückt werden. Wenn die Durchmesser weniger als 0,4 µm betragen, besteht die Möglichkeit, dass der vorstehend genannte Effekt nicht erhalten wird, da sie kleiner sind als die Wellenlänge von sichtbarem Licht.
Der obere Grenzwert für die Durchmesser (berechnet als Kreise) der zweiten konvexen Abschnitte 5b ist nicht speziell beschränkt, solange die vorstehend beschriebene Dichte und das Flächenverhältnis innerhalb der spezifischen Bereiche liegen, beträgt jedoch typischerweise höchstens 2,000 µm.
Der Durchschnittswert der vorstehend genannten Durchmesser (berechnet als Kreise) der zweiten konvexen Abschnitte 5b (nachstehend auch als der „durchschnittliche Durchmesser“ bezeichnet) beträgt vorzugsweise von 0,400 bis 2,000 µm, mehr bevorzugt von 0,500 bis 1,800 µm, besonders bevorzugt von 0,600 bis 1,500 µm. Wenn der vorstehend genannte durchschnittliche Durchmesser innerhalb des vorstehend genannten Bereichs liegt, sind die Eigenschaften eines geringen Glitzerns hervorragend.
Die Dichte der zweiten konvexen Abschnitte 5b in dem Bild (c) beträgt von 0,023 bis 7,210 Einheiten/µm², vorzugsweise von 0,023 bis 0,180 Einheiten/µm² , besonders bevorzugt von 0,033 bis 0,180 Einheiten/µm². Wenn die Dichte innerhalb des vorstehend genannten Bereichs liegt, sind die Eigenschaften eines geringen Glitzerns hervorragend.
In dem Bild (c) ist das Verhältnis (nachstehend auch als das „Flächenverhältnis“ bezeichnet) der Gesamtfläche in dem Querschnitt der zweiten konvexen Abschnitte 5b bei einer Höhe von 0,01 µm, wenn die Basishöhe als 0 angesetzt wird, zu der Gesamtfläche des Untersuchungsbereichs von 0,900 bis 90,000 %, vorzugsweise von 1,000 bis 22,400 %, besonders bevorzugt von 1,270 bis 16,000%. Wenn das vorstehend genannte Flächenverhältnis innerhalb des vorstehend genannten Bereichs liegt, werden die Eigenschaften eines geringen Blendens hervorragend sein. Die Gesamtfläche des Untersuchungsbereichs ist gleich der Gesamtfläche des Querschnitts, einschließlich Zwischenraumabschnitte, bei einer Höhe von 0,01 µm des Bilds (c).
Eigenschaften, wie z.B. der durchschnittliche Durchmesser, die Dichte, das Flächenverhältnis, usw., von jedem der ersten konvexen Abschnitte 5a und der zweiten konvexen Abschnitte 5b können durch Analysieren der Daten der Oberflächenform, die durch ein Lasermikroskop erhalten worden sind, durch die Bildverarbeitungssoftware SPIP (hergestellt von Image Metrology) erhalten werden. Das detaillierte Analyseverfahren ist derart, wie es in den nachstehend beschriebenen Beispielen gezeigt ist.
An der Oberfläche der Blendschutzschicht 5, d.h., in der unebenen Struktur an der Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur 1, beträgt die Halbwertsbreite der Vorwölbungsverteilung vorzugsweise von 10 bis 300 nm, mehr bevorzugt von 30 bis 250 nm. Die Halbwertsbreite der Vorwölbungsverteilung stellt die Einheitlichkeit der durchschnittlichen Höhe der konvexen Abschnitte in der unebenen Oberflächenstruktur dar und stellt auch die durchschnittliche Schärfe der Form der konvexen Abschnitte dar, und sie zeigt auch, dass der Wert der Halbwertsbreite der Vorwölbungsabschnitte klein ist, die Einheitlichkeit der durchschnittlichen Höhe der konvexen Abschnitte in der unebenen Oberflächenstruktur hoch ist und die Form der konvexen Abschnitte scharf ist. Die konvexen Abschnitte entsprechen hier vorwiegend den ersten konvexen Abschnitten 5a. Da die Einheitlichkeit der durchschnittlichen Höhe der konvexen Abschnitte hoch ist, wird die Filmfestigkeit hervorragend sein. Andererseits werden, da die Form scharf ist, Glitzerunterdrückungseffekte hervorragend sein. In einem Bereich, bei dem der Trübungsfaktor von 0,1 bis 15 % beträgt, ist es dann, wenn die Halbwertsbreite der Vorwölbungsverteilung mindestens 500 nm beträgt, d.h., die Form der konvexen Abschnitte glatt ist, schwierig, sowohl den Trübungsfaktor als auch die Blendunterdrückungseffekte zu erfüllen, und insbesondere ist es in einem Fall, bei dem der Trübungsfaktor von 0,1 bis 5 % beträgt, schwierig, ausreichende Blendunterdrückungseffekte zu erhalten.
Der Brechungsindex der Blendschutzschicht 5 beträgt vorzugsweise von 1,36 bis 1,46, mehr bevorzugt von 1,40 bis 1,46, besonders bevorzugt von 1,43 bis 1,46. Wenn der Brechungsindex höchstens der obere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, ist die Reflexion von externem Licht an der Oberfläche der Blendschutzschicht 5 vermindert, und Blendschutzeffekte werden noch besser sein. Wenn der Brechungsindex mindestens der untere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, wird die Dichte der Blendschutzschicht 5 ausreichend hoch sein und eine Haftung an dem transparenten Substrat 3, wie z.B. einer Glasplatte, wird hervorragend sein.
Der Brechungsindex der Blendschutzschicht 5 kann z.B. durch das Matrixmaterial oder die Porosität der Blendschutzschicht 5 oder durch Zusetzen einer Substanz mit einem optionalen Brechungsindex zu der Matrix eingestellt werden. Beispielsweise kann der Brechungsindex durch Erhöhen der Porosität der Blendschutzschicht 5 eingestellt werden. Ansonsten ist es möglich, den Brechungsindex der Blendschutzschicht 5 durch Zusetzen eines Materials (wie z.B. massiver Siliziumoxidteilchen, hohler Siliziumoxidteilchen, usw.) mit einem niedrigen Brechungsindex zu der Matrix zu vermindern.
Das Material für die Blendschutzschicht 5 kann unter Berücksichtigung des Brechungsindex, usw., in einer geeigneten Weise eingestellt werden. In einem Fall, bei dem der Brechungsindex der Blendschutzschicht 5 von 1,40 bis 1,46 beträgt, kann das Material für die Blendschutzschicht 5 z.B. Siliziumoxid, Titanoxid, usw., sein.
Die Blendschutzschicht 5 ist vorzugsweise ein Film, der vorwiegend aus Siliziumoxid zusammengesetzt ist. Mit „vorwiegend aus Siliziumoxid zusammengesetzt“ ist gemeint, dass sie mindestens 90 Massen-% SiO₂ enthält. Wenn sie vorwiegend aus Siliziumoxid zusammengesetzt ist, ist es wahrscheinlich, dass der Brechungsindex (Reflexion) der Blendschutzschicht 5 niedrig ist. Ferner wird auch die chemische Stabilität der Blendschutzschicht 5 gut sein. Ferner wird in einem Fall, bei dem das Material des lichtdurchlässigen Substrats 3 Glas ist, die Haftung an dem lichtdurchlässigen Substrat 3 gut sein. Ferner beträgt in einem Fall, bei dem eine vorgegebene unebene Struktur mittels eines lichtaushärtbaren Harzes und feiner Teilchen gebildet wird, die Bleistifthärte der unebenen Oberfläche etwa 2H, wohingegen es in einem Fall, bei dem sie mittels eines Materials gebildet wird, das vorwiegend aus Siliziumoxid zusammengesetzt ist, möglich ist, die Bleistifthärte der unebenen Oberfläche auf mindestens 5H zu bringen. Bei einer solchen Bleitstifthärte, d.h., wenn die Bleistifthärte der unebenen Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur 1 mindestens 5H beträgt, wird die Kratzfestigkeit hervorragend sein. Die Bleistifthärte wird gemäß JIS K5600-5-4 gemessen. Die Bewertung wurde an der Oberfläche mit der unebenen Struktur der lichtdurchlässigen Struktur durchgeführt.
Wenn sie vorwiegend aus Siliziumoxid zusammengesetzt ist, kann die Blendschutzschicht 5 nur aus Siliziumoxid zusammengesetzt sein oder sie kann eine geringe Menge von Komponenten enthalten, die von Siliziumoxid verschieden sind.
(Trübungsfaktor)
Der Trübungsfaktor der lichtdurchlässigen Struktur 1 beträgt vorzugsweise von 0,1 bis 15,0 %, mehr bevorzugt von 0,2 bis 10,0 %, besonders bevorzugt von 0,5 bis 5,0 %. Wenn der Trübungsfaktor mindestens der untere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, werden die Blendschutzeigenschaften noch besser sein. Wenn der Trübungsfaktor höchstens der obere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, ist es weniger wahrscheinlich, dass die Sichtbarkeit eines Bilds beeinträchtigt wird, wenn sie an der Anzeigeoberfläche einer Bildanzeigevorrichtung angeordnet ist.
Der Trübungsfaktor wird gemäß dem Verfahren, das in JIS K7136; 2000 (IS014782; 1999) angegeben ist, mittels eines Trübungsmessgeräts (hergestellt von Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd., Modell HR-100) gemessen.
(Glanz)
Der 60°-Spiegelglanz an der Oberfläche (der Oberfläche der Blendschutzschicht 5), die eine unebene Struktur aufweist, der lichtdurchlässigen Struktur 1 beträgt vorzugsweise höchstens 140 %, mehr bevorzugt höchstens 135 %, noch mehr bevorzugt höchstens 130 %. Der 60°-Spiegelglanz an der Oberfläche, welche die unebene Struktur aufweist, ist ein Index für die Blendschutzeffekte. Wenn der Spiegelglanz höchstens der vorstehende obere Grenzwert ist, werden ausreichende Blendschutzeffekte erhalten.
Der 60°-Spiegelglanz (%) wird gemäß dem Verfahren, das in JIS Z8741; 1997 (ISO2813; 1994) beschrieben ist, mittels eines Glanzmessgeräts (MULTI GLOSS 268 Plus, hergestellt von Konica Minolta, Inc.) im Wesentlichen in der Mitte der Blendschutzschicht ohne Beseitigen der Reflexion an der Rückfläche (der Oberfläche gegenüber der Seite, bei der die unebene Struktur ausgebildet ist) der lichtdurchlässigen Struktur gemessen.
(Glitzerindexwert S)
Bei der lichtdurchlässigen Struktur 1 beträgt der Glitzerindexwert S, der mittels eines EyeScale ISC-A, hergestellt von I System Corporation, durch Anordnen der lichtdurchlässigen Struktur 1 auf einem iPhone 4 (Pixeldichte 326 ppi), hergestellt von Apple Inc., so dass die Oberfläche (die Oberfläche der Seite der Blendschutzschicht 5), welche die unebene Struktur aufweist, nach oben gerichtet ist, gemessen wird, vorzugsweise höchstens 36, mehr bevorzugt höchstens 30, besonders bevorzugt höchstens 25. Wenn der Glitzerindexwert S klein ist, bedeutet dies, dass das Glitzern unterdrückt ist.
Die vorstehend beschriebene lichtdurchlässige Struktur 1 weist eine spezifische unebene Struktur an der Oberfläche (der Oberfläche der Seite der Blendschutzschicht 5) auf, wodurch sie Blendschutzeigenschaften aufweist, und sie weist auch einen niedrigen Trübungsfaktor auf, so dass sie Eigenschaften eines geringen Glitzerns bereitstellt.
Bei der lichtdurchlässigen Struktur 1 wird davon ausgegangen, dass die ersten konvexen Abschnitte 5a durch diffuses Reflektieren von externem Licht zu den Blendschutzeigenschaften beitragen, und es wird davon ausgegangen, dass die zweiten konvexen Abschnitte 5b vorwiegend zum Unterdrücken eines Glitzerns beitragen. In einem Fall, bei dem die unebene Struktur nicht die zweiten konvexen Abschnitte 5b mit einer Dichte und einem Flächenverhältnis von mindestens bestimmten Niveaus umfasst, wird Licht, das von der Seite des transparenten Substrats 3 in die Blendschutzschicht 5 eingetreten ist, an der Oberfläche der ersten konvexen Abschnitte 5a gebrochen, und es wird davon ausgegangen, dass das gebrochene Licht gegenseitig in Wechselwirkung tritt, so dass ein Glitzern in der Nähe der Oberfläche der ersten konvexen Abschnitte 5a verursacht wird. Es wird davon ausgegangen, dass die zweiten konvexen Abschnitte 5b die Interferenz des gebrochenen Lichts verhindern, so dass ein Glitzern unterdrückt wird.
<Verfahren zur Herstellung der lichtdurchlässigen Struktur>
Die lichtdurchlässige Struktur 1 kann z.B. durch Aufbringen einer Beschichtungszusammensetzung zur Bildung eines Beschichtungsfilms auf ein lichtdurchlässiges Substrat 3 und dann Brennen des Beschichtungsfilms zur Bildung einer Blendschutzschicht 5 hergestellt werden. Die Beschichtungszusammensetzung umfasst z.B. mindestens eines von einer Siliziumoxidvorstufe (A) und Teilchen (C) sowie ein flüssiges Medium (B).
(Siliziumoxidvorstufe (A))
Die „Siliziumoxidvorstufe“ steht für eine Substanz, die eine Matrix bilden kann, die vorwiegend aus Siliziumoxid zusammengesetzt ist. Als Siliziumoxidvorstufe (A) kann eine Silanverbindung, wie z.B. ein bekanntes Alkoxysilan oder dessen hydrolysiertes Kondensat, in einer geeigneten Weise verwendet werden. Als Siliziumoxidvorstufe (A) kann ein Typ allein verwendet werden oder zwei oder mehr Typen können in einer Kombination verwendet werden.
Die Siliziumoxidvorstufe (A) enthält vorzugsweise eines oder beide von einem Alkoxysilan mit einem Kohlenstoffatom, das direkt an ein Siliziumatom gebunden ist, und dessen hydrolysiertem Kondensat, und zwar im Hinblick auf das Verhindern einer Rissbildung oder eines Filmablösens der Blendschutzschicht 5. Die Siliziumoxidvorstufe (A) enthält vorzugsweise eines oder beide von einem Tetraalkoxysilan und dessen hydrolysiertem Kondensat, und zwar im Hinblick auf die Abriebbeständigkeit der Blendschutzschicht 5.
(Flüssiges Medium (B))
Das flüssige Medium (B) ist ein Medium zum Lösen oder Dispergieren der Siliziumoxidvorstufe (A), und ein Medium zum Dispergieren der Teilchen (C) wird bevorzugt verwendet. Das flüssige Medium (B) kann ein Medium sein, das sowohl eine Funktion zum Lösen oder Dispergieren der Siliziumoxidvorstufe (A) als auch eine Funktion als Dispersionsmedium zum Dispergieren der Teilchen (C) aufweist.
Das flüssige Medium (B) umfasst mindestens ein flüssiges Medium (B1) mit einem Siedepunkt von höchstens 150 °C. Der vorstehend genannte Siedepunkt beträgt vorzugs-weise von 50 bis 145 °C, mehr bevorzugt von 55 bis 140 °C. Wenn der Siedepunkt des flüssigen Mediums (B1) höchstens 150 °C beträgt, weist ein Film, der durch Aufbringen der Beschichtungszusammensetzung auf ein lichtdurchlässiges Substrat 3 durch die Verwendung einer elektrostatischen Beschichtungsvorrichtung mit einer elektrostatischen Spritzpistole mit einem rotierenden Zerstäubungskopf gefolgt von einem Brennen erhältlich ist, ein Blendschutzvermögen auf. Wenn der Siedepunkt mindestens der untere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, kann nach dem Abscheiden von Flüssigkeitströpfchen der Beschichtungszusammensetzung auf dem lichtdurchlässigen Substrat 3 eine unebene Struktur gebildet werden, während die Tröpfchenform ausreichend beibehalten wird.
Da Wasser zur Hydrolyse eines Alkoxysilans, usw., in der Siliziumoxidvorstufe (A) erforderlich ist, enthält das flüssige Medium (B) mindestens Wasser als flüssiges Medium (B1), solange das flüssige Medium nach der Hydrolyse ersetzt wird. Das flüssige Medium (B) kann ferner je nach Erfordernis eine von dem flüssigen Medium (B1) verschiedene Flüssigkeit enthalten, d.h., ein flüssiges Medium mit einem Siedepunkt von mehr als 150 °C.
(Teilchen (C))
Das Material für die Teilchen (C) kann z.B. ein Metalloxid, ein Metall, ein Pigment, ein Harz, usw., sein. Das Metalloxid kann z.B. Al₂O₃, SiO₂, SnO₂, TiO₂, ZrO₂, ZnO, CeO₂, Sb-enthaltendes SnO_x (ATO), Sn-enthaltendes In₂O₃ (ITO), RuO₂, usw., sein. In einem Fall, bei dem die Matrix des Blendschutzfilms 5 vorwiegend aus Siliziumoxid zusammensetzt ist, ist SiO₂ bevorzugt, da der Brechungsindex mit dem der Matrix äquivalent ist. Das Metall kann z.B. ein einfaches Metall (Ag, Ru, usw.), eine Legierung (AgPd, RuAu, usw.), usw., sein. Das Pigment kann z.B. ein anorganisches Pigment (Titanschwarz, Ruß, usw.), ein organisches Pigment, usw., sein. Das Harz kann z.B. ein Acrylharz, Polystyrol, ein Melaninharz, usw., sein.
Die Teilchen (C) können massive Teilchen, hohle Teilchen oder perforierte Teilchen, wie z.B. poröse Teilchen, sein. „Massiv“ bedeutet hier, dass im Inneren kein Hohlraum vorliegt. „Hohl“ bedeutet hier, dass im Inneren ein Hohlraum vorliegt. Als Teilchen (C) kann ein Typ allein verwendet werden oder zwei oder mehr Typen können in einer Kombination verwendet werden.
Als Teilchen (C) sind Siliziumoxidteilchen mit z.B. einer kugelförmigen, schuppenförmigen oder nadelförmigen Form bevorzugt, und zwar im Hinblick darauf, dass es dadurch möglich ist, eine Zunahme des Brechungsindex des Films zu verhindern und die Reflexion zu vermindern. Im Hinblick darauf, dass es einfacher ist, einen niedrigeren Trübungsfaktor zu erhalten, sind kugelförmige Siliziumoxidteilchen bevorzugt. Im Hinblick darauf, dass Blendschutzeffekte mit einer geringen Menge erhalten werden können, oder dass es möglich ist, eine Rissbildung oder ein Filmablösen der Blendschutzschicht zu verhindern, sind schuppenförmige Siliziumoxidteilchen bevorzugt. „Schuppenförmig“ steht hier für eine flache Form.
Kugelförmige Siliziumoxidteilchen können massive, hohle oder poröse Siliziumoxidteilchen sein. Eines davon kann allein verwendet werden oder zwei oder mehr davon können in einer Kombination verwendet werden. Die hohlen Siliziumoxidteilchen können solche mit einer Außenhülle, die aus Siliziumoxid (SiO₂) hergestellt ist, und einem Hohlraum innerhalb der Außenhülle sein.
Der durchschnittliche Teilchendurchmesser der kugelförmigen Siliziumoxidteilchen beträgt vorzugsweise von 10 bis 300 nm, mehr bevorzugt von 40 bis 200 nm, noch mehr bevorzugt von 70 bis 110 nm. Wenn die durchschnittliche Teilchengröße mindestens der untere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, werden die Eigenschaften eines geringen Glitzerns noch besser sein. Wenn die durchschnittliche Teilchengröße höchstens der obere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, wird der Trübungsfaktor niedriger. Ferner wird die Dispersionsstabilität in der Beschichtungszusammensetzung gut sein.
Der durchschnittliche Teilchendurchmesser der kugelförmigen Siliziumoxidteilchen steht für einen volumenbasierten kumulativen 50 %-Durchmesser (D50), d.h., einen Teilchendurchmesser an einem Punkt von 50 % in der kumulativen Volumenverteilungskurve, wenn das Gesamtvolumen der Teilchengrößenverteilung, das durch das Volumen erhalten wird, auf 100 % eingestellt ist. Die Teilchengrößenverteilung ist durch die Häufigkeitsverteilungskurve und die kumulative Volumenverteilungskurve erhältlich, die durch ein Laserbeugung/streuung-Teilchengrößenverteilungsanalysegerät gemessen wird.
Schuppenförmige Siliziumoxidteilchen sind flockenartig oder es handelt sich um Siliziumoxid-Sekundärteilchen, die aus einer Mehrzahl von flockenartigen Siliziumoxid-Primärteilchen ausgebildet sind, die mit deren parallel orientierten Oberflächen aneinander laminiert sind. Die Siliziumoxid-Sekundärteilchen weisen üblicherweise die Form einer laminierten Struktur auf. Die schuppenförmigen Siliziumoxidteilchen können eines von Siliziumoxid-Primärteilchen oder Siliziumoxid-Sekundärteilchen sein oder können beide sein.
Die Dicke der Siliziumoxid-Primärteilchen beträgt vorzugsweise von 0,001 bis 0,1 µm. Wenn die Dicke innerhalb des vorstehend genannten Bereichs liegt, können sie mit deren parallel orientierten Oberflächen aneinander laminiert sein, so dass ein oder mehrere schuppenförmige(s) Siliziumoxid-Sekundärteilchen gebildet wird oder werden.
Das Verhältnis der minimalen Länge zur Dicke der Siliziumoxid-Primärteilchen beträgt vorzugsweise mindestens 2, mehr bevorzugt mindestens 5, noch mehr bevorzugt mindestens 10.
Die Dicke der Siliziumoxid-Sekundärteilchen beträgt vorzugsweise von 0,001 bis 3 µm, mehr bevorzugt von 0,005 bis 2 µm. Das Verhältnis der minimalen Länge zur Dicke der Siliziumoxid-Sekundärteilchen beträgt vorzugsweise mindestens 2, mehr bevorzugt mindestens 5, noch mehr bevorzugt mindestens 10. Die Siliziumoxid-Sekundärteilchen liegen vorzugsweise unabhängig voneinander vor, ohne verschmolzen zu sein.
Das durchschnittliche Seitenverhältnis der schuppenförmigen Siliziumoxidteilchen beträgt vorzugsweise von 30 bis 200, mehr bevorzugt von 40 bis 160, noch mehr bevorzugt von 50 bis 120. Wenn das durchschnittliche Seitenverhältnis mindestens der untere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, kann eine Rissbildung oder ein Filmablösen der Blendschutzschicht selbst dann verhindert werden, wenn die Filmdicke groß ist. Wenn das durchschnittliche Seitenverhältnis höchstens der obere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, wird die Dispersionsstabilität in der Beschichtungszusammensetzung gut sein.
Das „Seitenverhältnis“ steht für ein Verhältnis der maximalen Länge zur Dicke eines Teilchens (maximale Länge/Dicke) und das „durchschnittliche Seitenverhältnis“ ist ein Durchschnittswert von Seitenverhältnissen von zufällig ausgewählten 50 Teilchen. Die Dicke eines Teilchens wird durch ein Rasterkraftmikroskop (AFM) gemessen und die maximale Länge wird durch ein Transmissionselektronenmikroskop (TEM) gemessen.
Der durchschnittliche Teilchendurchmesser der schuppenförmigen Siliziumoxidteilchen beträgt vorzugsweise von 50 bis 500 nm, mehr bevorzugt von 100 bis 300 nm. Wenn der durchschnittliche Teilchendurchmesser mindestens der untere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, werden die Eigenschaften eines geringen Glitzerns noch besser sein. Ferner kann eine Rissbildung oder ein Filmablösen der Blendschutzschicht selbst dann ausreichend unterdrückt werden, wenn die Filmdicke groß ist. Wenn der durchschnittliche Teilchendurchmesser höchstens der obere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, wird der Trübungsfaktor niedriger. Ferner wird die Dispersionsstabilität in der Beschichtungszusammensetzung gut sein.
Der durchschnittliche Teilchendurchmesser der kugelförmigen Siliziumoxidteilchen wird in der gleichen Weise gemessen wie der durchschnittliche Teilchendurchmesser der kugelförmigen Siliziumoxidteilchen.
In dem Pulver oder der Dispersion können nicht nur schuppenförmige Siliziumoxidteilchen, sondern manchmal auch unregelmäßige Siliziumoxidteilchen enthalten sein, die während der Herstellung der schuppenförmigen Siliziumoxidteilchen gebildet werden. Schuppenförmige Siliziumoxidteilchen werden z.B. durch Zerteilen und Dispergieren von aggregatförmigen Siliziumoxid-Tertiärteilchen (nachstehend auch als Siliziumoxid-Aggregate bezeichnet) mit Lücken erhalten, die durch eine Aggregation und eine unregelmäßige Laminierung von schupenförmigen Siliziumoxidteilchen gebildet werden. Unregelmäßige Siliziumoxidteilchen liegen in einem Zustand, bei dem Siliziumoxidaggregate in einem gewissen Maß zerteilt sind, jedoch nicht zu einzelnen schuppenförmigen Siliziumoxidteilchen zerteilt sind, und in einer Form vor, bei der eine Mehrzahl von schuppenförmigen Siliziumoxidteilchen Klumpen bilden. Wenn unregelmäßige Siliziumoxidteilchen enthalten sind, kann die Dichte der Blendschutzschicht, die gebildet werden soll, vermindert werden, wodurch es wahrscheinlich ist, dass eine Rissbildung oder ein Filmablösen stattfinden. Daher sollte der Gehalt von unregelmäßigen Siliziumoxidteilchen in dem Pulver oder der Dispersion besser gering sein.
Unregelmäßige Siliziumoxidteilchen und Siliziumoxid-Aggregate sind bei einer TEM-Untersuchung beide als schwarz erkennbar. Andererseits sind flockenförmige Siliziumoxid-Primärteilchen oder Siliziumoxid-Sekundärteilchen bei einer TEM-Untersuchung als grau oder halbtransparent erkennbar.
Als schuppenförmige Siliziumoxidteilchen können handelsübliche schuppenförmige Siliziumoxidteilchen oder solche verwendet werden, die hergestellt worden sind.
Handelsübliche Produkte von schuppenförmigen Siliziumoxidteilchen können z.B. die SUNLOVELY (eingetragene Marke)-Reihe sein, die von AGC Si-Tech Co., Ltd. hergestellt wird.
(Bindemittel (D))
Als Bindemittel (D) (jedoch ausschließlich die Siliziumoxidvorstufe (A)) kann ein anorganisches Material oder ein Harz genannt werden, das in einem flüssigen Medium (B) gelöst oder dispergiert wird. Das anorganische Material kann z.B. eine Metalloxidvorstufe sein, die von Siliziumoxid verschieden ist (Metall: Titan, Zirkonium, usw.). Das Harz kann z.B. ein thermoplastisches Harz, ein wärmeaushärtendes Harz, ein Ultraviolett-aushärtbares Harz, usw., sein.
(Additive (E))
Die Additive (E) können z.B. eine organische Verbindung (E1) mit einer polaren Gruppe, ein Ultraviolettabsorptionsmittel, ein Infrarotreflexions/Infrarotabsorptionsmittel, ein Antireflexionsmittel, ein grenzflächenaktives Mittel zum Verbessern der Verlaufeigenschaften, eine Metallverbindung zur Verbesserung der Dauerbeständigkeit, usw., sein.
In einem Fall, bei dem die Beschichtungszusammensetzung die Teilchen (C) enthält, kann durch Einbeziehen einer organischen Verbindung (E1) mit einer polaren Gruppe in die Beschichtungszusammensetzung eine Aggregation der Teilchen (C) durch die elektrostatische Kraft in der Beschichtungszusammensetzung verhindert werden.
Die organische Verbindung (E1) mit einer polaren Gruppe kann z.B. ein ungesättigte Carbonsäure-Polymer, ein Cellulosederivat, eine organische Säure (jedoch ausschließlich ein ungesättigte Carbonsäure-Polymer), eine Terpenverbindung, usw., sein. Als organische Verbindung (E1) kann ein Typ allein verwendet werden oder zwei oder mehr Typen können in einer Kombination verwendet werden.
Das grenzflächenaktive Mittel zur Verbesserung der Verlaufeigenschaften kann z.B. vom Silikonöltyp, vom Acryltyp, usw., sein. Die Metallverbindung zur Verbesserung der Dauerbeständigkeit kann z.B. vorzugsweise eine Zirkoniumchelatverbindung, eine Titanchelatverbindung, eine Aluminiumchelatverbindung, usw., sein. Die Zirkoniumchelatverbindung kann z.B. Zirkoniumtetraacetylacetonat, Zirkoniumtributoxystearat, usw., sein.
(Zusammensetzung)
Der Gesamtgehalt der Siliziumoxidvorstufe (A) und der Teilchen (C) in der Beschichtungszusammensetzung beträgt vorzugsweise von 30 bis 100 Massen-%, mehr bevorzugt von 40 bis 100 Massen-%, in dem Feststoffgehalt (100 Massen-%) in der Beschichtungszusammensetzung (mit der Maßgabe, dass die Siliziumoxidvorstufe (A) als SiO₂ berechnet wird). Wenn der Gesamtgehalt mindestens der untere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, wird die Haftung an dem lichtdurchlässigen Substrat 3 hervorragend sein. Wenn der Gesamtgehalt höchstens der obere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, wird eine Rissbildung oder ein Filmablösen der Blendschutzschicht 5 verhindert.
Der Feststoffgehalt in der Beschichtungszusammensetzung ist die Gesamtheit der Gehalte aller Komponenten, die von dem flüssigen Medium (B) verschieden sind, in der Beschichtungszusammensetzung. Der Gehalt der Siliziumoxidvorstufe (A) wird jedoch als SiO₂ berechnet.
In einem Fall, bei dem die Teilchen (C) kugelförmige Siliziumoxidteilchen sind, beträgt das Verhältnis der Teilchen (C) zu der Gesamtmasse (100 Massen-%) der Siliziumoxidvorstufe (A) und der Teilchen (C) vorzugsweise von 3 bis 30 Massen-%, mehr bevorzugt von 5 bis 20 Massen-%.
In einem Fall, bei dem die Teilchen (C) schuppenförmige Siliziumoxidteilchen sind, beträgt das Verhältnis der Teilchen (C) zu der Gesamtmasse (100 Massen-%) der Siliziumoxidvorstufe (A) und der Teilchen (C) vorzugsweise von 0,5 bis 20 Massen-%, mehr bevorzugt von 1 bis 15 Massen-%.
Wenn das Verhältnis der Teilchen (C) mindestens der untere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, werden die Eigenschaften eines geringen Glitzerns noch besser sein. Wenn das Verhältnis der Teilchen (C) höchstens der obere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, ist ein niedriger Trübungsfaktor leicht erhältlich. Ferner wird durch Einbeziehen der Siliziumoxidvorstufe (A) in einem Verhältnis mindestens eines vorgegebenen Niveaus die Haftfestigkeit zwischen der Blendschutzschicht 5 und dem lichtdurchlässigen Substrat 3 noch besser sein.
Der Gehalt des flüssigen Mediums (B) in der Beschichtungszusammensetzung ist eine Menge, die von der Feststoffgehaltkonzentration in der Beschichtungszusammensetzung abhängt. Die Feststoffgehaltkonzentration in der Beschichtungszusammensetzung beträgt auf der Basis der Gesamtmenge (100 Massen-%) der Beschichtungszusammensetzung vorzugsweise von 0,05 bis 2 Massen-%, mehr bevorzugt von 0,1 bis 1 Massen-%. Wenn die Feststoffgehaltkonzentration mindestens der untere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, kann die Flüssigkeitsmenge der Beschichtungszusammensetzung vermindert werden. Wenn die Feststoffgehaltkonzentration höchstens der obere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, kann eine unebene Struktur mit zweiten konvexen Abschnitten einfach gebildet werden. Ferner wird die Einheitlichkeit der Filmdicke der Blendschutzschicht verbessert.
Der Gehalt des flüssigen Mediums (B1) mit einem Siedepunkt von höchstens 150 °C in der Beschichtungszusammensetzung beträgt üblicherweise mindestens 86 Massen-% auf der Basis der Gesamtmenge des flüssigen Mediums (B). Durch Einbeziehen des flüssigen Mediums (B1) in einem Anteil von mindestens 86 Massen-% wird, wenn die Beschichtungszusammensetzung auf das lichtdurchlässige Substrat mittels einer elektrostatischen Beschichtungsvorrichtung, die eine elektrostatische Spritzpistole mit einem rotierenden Zerstäubungskopf umfasst, aufgebracht und dann gebrannt wird, eine Blendschutzschicht gebildet. Wenn der Anteil des flüssigen Mediums (B1) weniger als 86 Massen-% beträgt, kann eine unebene Struktur nicht gebildet werden, da vor dem Verflüchtigen des Lösungsmittels eine Glättung stattfindet, wodurch die Möglichkeit besteht, dass der Film nach dem Brennen nicht zu einer Blendschutzschicht wird.
Der Gehalt des flüssigen Mediums (B1) beträgt vorzugsweise mindestens 90 Massen-% auf der Basis der Gesamtmenge des flüssigen Mediums (B). Der Gehalt des flüssigen Mediums (B1) kann sogar 100 Massen-% auf der Basis der Gesamtmenge des flüssigen Mediums (B) betragen.
(Viskosität)
Die Viskosität (nachstehend auch als „Flüssigkeitsviskosität“ bezeichnet) bei der Aufbringtemperatur der Beschichtungszusammensetzung beträgt vorzugsweise höchstens 0,003 Pa · s, besonders bevorzugt von 0,001 bis 0,003 Pa · s. Wenn die Flüssigkeitsviskosität höchstens der obere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, werden Flüssigkeitströpfchen, die zum Zeitpunkt des Spritzens der Beschichtungszusammensetzung gebildet werden, feiner, und es wird einfach, eine Blendschutzschicht mit einer gewünschten Oberflächenform zu bilden. Wenn die Flüssigkeitsviskosität mindestens der untere Grenzwert in dem vorstehend genannten Bereich ist, wird die Unebenheitsform der Oberfläche der Blendschutzschicht einheitlich. Die Viskosität der Beschichtungszusammensetzung ist ein Wert, der durch ein B-Typ-Viskosimeter gemessen wird.
[Beschichtungsschritt]
Das Aufbringen der Beschichtungszusammensetzung auf das lichtdurchlässige Substrat kann z.B. mittels einer elektrostatischen Beschichtungsvorrichtung, die eine elektrostatische Spritzpistole mit einem rotierenden Zerstäubungskopf aufweist, durch elektrisches Aufladen und Spritzen der Beschichtungszusammensetzung durchgeführt werden. Dabei ist es bevorzugt, die Atmosphäre von dem rotierenden Zerstäubungskopf zu dem lichtdurchlässigen Substrat auf mindestens 20 °C und eine relative Feuchtigkeit von höchstens 40 % einzustellen, da dadurch die Filmeigenschaften des Blendschutzfilms 5 verbessert werden.
Als elektrostatische Beschichtungsvorrichtung kann eine bekannte elektrostatische Beschichtungsvorrichtung verwendet werden, solange es sich um eine solche handelt, die eine elektrostatische Spritzpistole mit einem rotierenden Zerstäubungskopf aufweist. Als elektrostatische Spritzpistole kann eine bekannte elektrostatische Spritzpistole verwendet werden, solange es sich um eine solche handelt, die einen rotierenden Zerstäubungskopf aufweist. Die Beschichtungseinrichtung für die Beschichtungszusammensetzung ist jedoch nicht auf die vorstehend beschriebene elektrostatische Beschichtungsvorrichtung beschränkt, und eine bekannte Beschichtungseinrichtung kann verwendet werden.
[Brennschritt]
In dem Brennschritt wird ein Beschichtungsfilm der Beschichtungszusammensetzung, der auf dem lichtdurchlässigen Substrat in dem Beschichtungsschritt gebildet worden ist, gebrannt, so dass er zu einer Blendschutzschicht wird. Das Brennen kann gleichzeitig mit dem Aufbringen durch Erwärmen des lichtdurchlässigen Substrats zum Zeitpunkt des Aufbringens der Beschichtungszusammensetzung auf das transparente Substrat durchgeführt werden, oder es kann durch Erwärmen des Beschichtungsfilms nach dem Aufbringen der Beschichtungszusammensetzung auf das lichtdurchlässige Substrat durchgeführt werden. Die Brenntemperatur beträgt vorzugsweise mindestens 30 °C und in einem Fall, bei dem das lichtdurchlässige Substrat Glas ist, beträgt sie mehr bevorzugt von 100 bis 750 °C, mehr bevorzugt von 150 bis 550 °C.
In dem vorstehend beschriebenen Herstellungsverfahren kann durch Erwärmen des Beschichtungsfilms nach dem Aufbringen der vorgegebenen Beschichtungszusammensetzung auf das lichtdurchlässige Substrat eine Blendschutzschicht 5 mit einer vorgegebenen unebenen Struktur auf der Oberfläche gebildet werden.
{Zweite Ausführungsform}
Die 4 ist eine schematische Querschnittsansicht, die eine lichtdurchlässige Struktur 2 in einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Die 5 ist eine Ansicht, welche die Beziehung der Oberflächenform der lichtdurchlässigen Struktur 2, deren Glättungsbild und das Bild zeigt, das als die Differenz von deren XYZ-Daten erhältlich ist.
Die lichtdurchlässige Struktur 2 dieser Ausführungsform umfasst ein lichtdurchlässiges Substrat 4. Das lichtdurchlässige Substrat 4 weist eine unebene Struktur an der ersten Oberfläche 4A auf. Die erste Oberfläche 4A des lichtdurchlässigen Substrats 4 bildet eine Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur 2. Daher weist die lichtdurchlässige Struktur 2 eine unebene Struktur an der Oberfläche auf.
Das lichtdurchlässige Substrat 4 ist, mit der Ausnahme, dass es eine unebene Struktur auf der ersten Oberfläche aufweist, mit dem lichtdurchlässigen Substrat 3 in der ersten Ausführungsform identisch und dessen bevorzugten Modi sind ebenfalls identisch.
Wie es in der 5(a) gezeigt ist, umfasst die unebene Struktur an der Oberfläche des lichtdurchlässigen Substrats 4 (d.h., an der Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur 2) erste konvexe Abschnitte 4a, deren Durchmesser (berechnet als Kreise) bei einer Höhe der Basishöhe + 0,05 µm in der Oberflächenform des lichtdurchlässigen Substrats 4 (d.h., in der Oberflächenform der lichtdurchlässigen Struktur 2) mindestens 1 µm betragen. Die ersten konvexen Abschnitte 4a liegen in einer Mehrzahl vor und durch die Mehrzahl von ersten konvexen Abschnitten 4a wird eine Welligkeit an der Oberfläche des lichtdurchlässigen Substrats 4 gebildet.
Ferner ist in der Oberflächenform des lichtdurchlässigen Substrats 4, wenn die Oberflächenform durch die Bildverarbeitungssoftware SPIP (hergestellt von Image Metrology) gefiltert wird, so dass ein Glättungsbild erhalten wird, wie es in der 5 (b) gezeigt ist, und XYZ-Daten des Glättungsbilds von XYZ-Daten der Oberflächenform subtrahiert werden, ein Bild mit einer Mehrzahl von konvexen Abschnitten, die auf einer Ebene verstreut sind, wie es in der 5 (c) gezeigt ist, erhältlich. In diesem Bild, das eine Mehrzahl von konvexen Abschnitten aufweist, die auf einer Ebene verstreut sind, umfasst die Mehrzahl von konvexen Abschnitten zweite konvexe Abschnitte 4b, deren Durchmesser (berechnet als Kreise) bei einer Höhe von 0,01 µm mindestens 0,4 µm betragen. Die zweiten konvexen Abschnitte 4b liegen in einer Mehrzahl vor.
In dieser Ausführungsform werden oberste Abschnitte der ersten konvexen Abschnitte 4a, die im Wesentlichen dreieckige Querschnitte aufweisen, als die zweiten konvexen Abschnitte 4b erfasst. Daher stimmen, wie es in der 5 durch die Punktlinien gezeigt ist, die Positionen der obersten Abschnitte der ersten konvexen Abschnitte 4a und die Positionen der obersten Abschnitte der zweiten konvexen Abschnitte 4b im Wesentlichen überein. Die Messungen und die Analyse der Oberflächenform werden in derselben Weise wie in der ersten Ausführungsform durchgeführt.
Die jeweiligen Eigenschaften (durchschnittlicher Durchmesser, Dichte, Flächenverhältnis, usw.) der ersten konvexen Abschnitte 4a und der zweiten konvexen Abschnitte 4b sind mit denjenigen der ersten konvexen Abschnitte 5a und der zweiten konvexen Abschnitte 5b in der ersten Ausführungsform identisch, und die bevorzugten Modi sind ebenfalls identisch. Die jeweiligen bevorzugten Bereiche des Trübungsfaktors, des 60°-Spiegelglanzes an der Oberfläche mit der unebenen Struktur, des Glitzerindexwerts S und der Bleistifthärte der lichtdurchlässigen Struktur 2 sind mit denjenigen in der ersten Ausführungsform identisch.
Die lichtdurchlässige Struktur 2 weist eine spezifische unebene Struktur an der Oberfläche auf, wodurch sie wie die vorstehend beschriebene lichtdurchlässige Struktur 1 Blendschutzeigenschaften und auch einen niedrigen Trübungsfaktor sowie Eigenschaften eines geringen Glitzerns aufweist.
<Verfahren zur Herstellung einer lichtdurchlässigen Struktur>
Die lichtdurchlässige Struktur 2 kann z.B. dadurch hergestellt werden, dass die Oberfläche eines lichtdurchlässigen Substrats ohne unebene Struktur einer Ätzbehandlung zur Bildung einer unebenen Struktur unterzogen wird.
Die Ätzbehandlung kann abhängig von dem Material für das lichtdurchlässige Substrat, dem erforderlichen Trübungsfaktor, usw., unter Verwendung verschiedener bekannter Ätzverfahren durchgeführt werden. Beispielsweise kann das Ätzverfahren in einem Fall, bei dem das lichtdurchlässige Substrat ein Glassubstrat ist, ein Verfahren des Inkontaktbringens eines Fluorierungsmittels mit der Oberfläche des Glassubstrats sein. Beim Kontaktieren des Fluorierungsmittels wird das Fluorierungsmittel an der Glasoberfläche mit SiO₂ reagieren, wobei es sich um eine Grundgerüststruktur des Glases handelt, so dass SiF₄ (Gas) gebildet wird, und die restliche Komponente, bei der die Grundgerüststruktur verlorengegangen ist, wird zu Siliziumfluorid, wodurch die Glasoberfläche uneben wird. Das Fluorierungsmittel kann z.B. einfaches Fluor (F₂), Fluorwasserstoff (HF), usw., sein. In diesem Verfahren kann die Form der Unebenheit, die gebildet werden soll, durch den Typ des zu verwendenden Fluorierungsmittels, die Zeit zum Inkontaktbringen des Fluorierungsmittels mit der Glasoberfläche, die Ätztemperatur, usw., eingestellt werden. Beispielsweise wenn die Ätzbehandlung mit einer Behandlungsflüssigkeit durchgeführt wird, die ein Fluorierungsmittel und Teilchen (Glaskügelchen, usw.) enthält, kann die Form der Unebenheit durch Ändern des Gehalts der Teilchen in der Behandlungsflüssigkeit verändert werden. Beispielsweise wenn der Gehalt der Teilchen in der Behandlungsflüssigkeit erhöht wird, wird das Ätzen durch das Fluorierungsmittel gehemmt, wodurch das Ätzausmaß vermindert wird, und als Ergebnis wird die durch das Ätzen zu bildende Unebenheit vermindert und der Trübungsfaktor wird vermindert.
Als Ätzverfahren für ein Glassubstrat, das vom Inkontaktbringen eines Fluorierungsmittels verschieden ist, oder als Ätzverfahren, das auf einen Fall eines lichtdurchlässigen Substrats auf ein von Glas verschiedenes Material angewandt werden kann, können z.B. eine Strahlbehandlung, eine Ionenätzbehandlung, usw., genannt werden.
Eine Ätzbehandlung kann zweimal oder häufiger bei jeweils verschiedenen Behandlungsbedingungen durchgeführt werden. Beispielsweise können erste konvexe Abschnitte 4a durch eine erste Ätzbehandlung gebildet werden und zweite konvexe Abschnitte 4b können durch eine zweite Ätzbehandlung gebildet werden. In diesem Fall ist es bevorzugt, dass die Ätzgeschwindigkeit bei der zweiten Ätzbehandlung höher ist als die Ätzgeschwindigkeit bei der ersten Ätzbehandlung.
In dem Fall des Durchführens eines Ätzens mittels der vorstehend genannten Behandlungsflüssigkeit kann der Gehalt von Teilchen in der Behandlungsflüssigkeit zwischen dem ersten Mal und dem zweiten Mal verändert werden. Beispielsweise wenn der Gehalt von Teilchen in der Behandlungsflüssigkeit, die beim zweiten Mal verwendet wird, kleiner gemacht wird als beim ersten Mal, werden Unregelmäßigkeiten, die durch die erste Ätzbehandlung gebildet worden sind, bei der zweiten Ätzbehandlung geglättet.
{Dritte Ausführungsform}
Die 6 ist eine Querschnittsansicht, die schematisch eine lichtdurchlässige Struktur 6 in einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Die 7 ist eine Querschnittsansicht, die schematisch die Struktur in der Nähe der Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur 6 zeigt. In den nachstehend beschriebenen Ausführungsformen werden Bestandteilselemente, die denjenigen in den vorstehenden Ausführungsformen entsprechen, durch dieselben Bezugszeichen bezeichnet und deren detaillierte Beschreibung wird weggelassen.
Die lichtdurchlässige Struktur 6 dieser Ausführungsform umfasst ein lichtdurchlässiges Substrat 3, eine Blendschutzschicht 5, die auf der ersten Oberfläche 3A des lichtdurchlässigen Substrats 3 ausgebildet ist, eine Antireflexionsschicht 7 (funktionelle Schicht), die auf der Blendschutzschicht 5 ausgebildet ist, und eine Wasser/Öl-abstoßende Schicht 9 (funktionelle Schicht), die auf der Antireflexionsschicht 7 ausgebildet ist. Jede der Antireflexionsschicht 7 und der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9 weist eine unebene Struktur an der Oberfläche auf, wie dies bei der Blendschutzschicht 5 der Fall ist.
Die Oberfläche der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9 bildet die Oberfläche der transparenten Struktur 6. Daher weist die lichtdurchlässige Struktur 6 eine unebene Struktur an der Oberfläche auf. In der 6 ist das Verhältnis der Dicke jeder der Blendschutzschicht 5, der Antireflexionsschicht 7 und der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9 zur Dicke des lichtdurchlässigen Substrats 3 aus Gründen der Zweckmäßigkeit größer eingestellt als das tatsächliche Verhältnis.
(Antireflexionsschicht)
Die Antireflexionsschicht 7 weist eine Funktion zur Verminderung der Reflexion auf. Durch das Vorliegen der Antireflexionsschicht 7 wird die Reflexion der lichtdurchlässigen Struktur 6 verglichen mit dem Fall niedrig, bei dem keine Antireflexionsschicht 7 vorliegt.
Die Antireflexionsschicht 7 kann z.B. das Folgende (1) oder (2) sein.

(1) Eine Antireflexionsschicht mit einer Mehrschichtstruktur, bei der eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die einen relativ niedrigen Brechungsindex aufweist, und eine Schicht mit hohem Brechungsindex, die einen relativ hohen Brechungsindex aufweist, abwechselnd laminiert sind.
(2) Eine Antireflexionsschicht, die aus einer Schicht mit niedrigem Brechungsindex hergestellt ist, die einen Brechungsindex aufweist, der niedriger als derjenige des lichtdurchlässigen Substrats 3.

Das Material für die Antireflexionsschicht des vorstehenden (1) ist nicht speziell beschränkt und verschiedene Materialien können verwendet werden, solange es sich um Materialien handelt, welche die Reflexion von Licht unterdrücken können.
Ein Aufbau kann derart sein, dass eine Schicht von jeder der Schicht mit hohem Brechungsindex und der Schicht mit niedrigem Brechungsindex enthalten ist, oder derart, dass zwei oder mehr Schichten von jeder davon enthalten sind. Wenn zwei oder mehr Schichten von jeder der Schicht mit hohem Brechungsindex und der Schicht mit niedrigem Brechungsindex enthalten sind, ist der Aufbau vorzugsweise derart, dass die Schicht mit hohem Brechungsindex und die Schicht mit niedrigem Brechungsindex abwechselnd gestapelt sind.
Insbesondere zur Verbesserung des Antireflexionsvermögens ist die Antireflexionsschicht von (1) vorzugsweise ein Stapel, bei dem eine Mehrzahl von Schichten gestapelt ist, und z.B. ist der Stapel vorzugsweise ein Stapel, bei dem insgesamt mindestens zwei und höchstens sechs Schichten gestapelt sind.
Die Materialien für die Schicht mit hohem Brechungsindex und die Schicht mit niedrigem Brechungsindex sind nicht speziell beschränkt und können unter Berücksichtigung des erforderlichen Grads der Antireflexion, der Produktivität, usw., ausgewählt werden. Als Material zur Bildung der Schicht mit hohem Brechungsindex kann vorzugsweise z.B. mindestens ein Element verwendet werden, das aus der Gruppe, bestehend aus Nioboxid (Nb₂O₅), Titanoxid (TiO₂), Zirkoniumoxid (ZrO₂), Siliziumnitrid (SiN) und Tantaloxid (Ta₂O₅), ausgewählt ist. Als Material zur Bildung der Schicht mit niedrigem Brechungsindex kann vorzugsweise Siliziumoxid (SiO₂) verwendet werden.
Als Schicht mit hohem Brechungsindex ist es im Hinblick auf die Produktivität und den Grad des Brechungsindex mehr bevorzugt, dass die Schicht mit hohem Brechungsindex aus einem, ausgewählt aus einer Nioboxidschicht, einer Tantaloxidschicht und einer Titanoxidschicht, ausgewählt ist, und die Schicht mit niedrigem Brechungsindex eine Siliziumoxidschicht ist.
In der Antireflexionsschicht von (2) wird der Brechungsindex der Schicht mit niedrigem Brechungsindex abhängig von dem Brechungsindex des lichtdurchlässigen Substrats 3 eingestellt. Beispielsweise in dem Fall, bei dem das lichtdurchlässige Substrat 3 Glas ist, betträgt der Brechungsindex der Schicht mit niedrigem Brechungsindex vorzugsweise von 1,1 bis 1,5, mehr bevorzugt von 1,1 bis 1,3. Die Antireflexionsschicht von (2) kann z.B. ein poröser Film des Siliziumoxidtyps mit Poren in einer Matrix sein, die vorwiegend aus Siliziumoxid zusammengesetzt ist.
Der poröse Film des Siliziumoxidtyps kann z.B. ein Film sein, der eine Matrix und hohle Teilchen mit Poren innerhalb der Teilchen umfasst. Die Dicke der Antireflexionsschicht des vorstehenden (2) beträgt vorzugsweise von 50 bis 300 nm, mehr bevorzugt von 80 bis 160 nm.
Der Brechungsindex der Schicht (wie z.B. der Schicht mit niedrigem Brechungsindex, der Schicht mit hohem Brechungsindex, usw.) wird z.B. durch ein Ellipsometer oder ein Spektrophotometer gemessen. Die Dicke der Schicht (wie z.B. der Schicht mit niedrigem Brechungsindex, der Schicht mit hohem Brechungsindex, der Antireflexionsschicht, usw.) wird z.B. durch ein Spektrophotometer oder ein Filmdickenmessgerät des Kontakttyps gemessen.
Die unebene Struktur an der Oberfläche der Antireflexionsschicht 7 ist der unebenen Struktur an der Oberfläche der Blendschutzschicht 5 ähnlich, und die bevorzugten Modi davon sind ebenfalls dieselben. Es ist bevorzugt, dass die unebene Struktur an der Oberfläche der Antireflexionsschicht 7, wie es in der 7 gezeigt ist, vorzugsweise der Unebenheit an der Oberfläche der Blendschutzschicht 5 folgt. In einem solchen Fall kann die unebene Struktur an der Oberfläche der Antireflexionsschicht 7 derart sein, dass verglichen mit der unebenen Struktur an der Oberfläche der Blendschutzschicht 5 die Ecken- und Höhendifferenzen geringer sein können. Beispielsweise kann das Flächenverhältnis der zweiten konvexen Abschnitte der Antireflexionsschicht 7 höher sein als das Flächenverhältnis der zweiten konvexen Abschnitte der Blendschutzschicht 5.
(Wasser/Öl-abstoßende Schicht)
Die Wasser/Öl-abstoßende Schicht 9 ist eine Schicht mit einer Wasser/Öl-Abstoßung. Da die Wasser/Öl-abstoßende Schicht 9 als äußerste Oberflächenschicht auf der Betrachtungsseite der lichtdurchlässigen Struktur vorliegt, werden die Fingergleiteigenschaften gut sein.
„Weist eine Wasser/Öl-Abstoßung auf” bedeutet, dass der Kontaktwinkel von Wasser mindestens 90° beträgt und der Kontaktwinkel von Ölsäure mindestens 70° beträgt. Der Kontaktwinkel wird mittels eines Kontaktwinkelmessgeräts (z.B. DM-701, hergestellt von Kyowa Interface Science Co., Ltd.) bezüglich eines Flüssigkeitströpfchens von 1 µL bei der Bedingung eines Bereichs von 20 ± 10 °C gemessen. Er wird an fünf verschiedenen Stellen an der Oberfläche der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht gemessen, dann wird ein Durchschnittswert davon berechnet und der Wert wird als Kontaktwinkel der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht verwendet. Als Wasser/Öl-abstoßende Schicht 9 kann eine AFP (Antifingerabdruck)-Schicht, usw., genannt werden.
Das Material zur Bildung der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9 kann z.B. eine Perfluoralkylgruppe-enthaltende Verbindung, eine Perfluorpolyethergruppe-enthaltende Verbindung, usw., sein, und eine Silanverbindung mit einer Perfluorpolyethergruppe ist bevorzugt.
Als Material für die Wasser/Öl-abstoßende Schicht 9 kann z.B. handelsübliches „Afluid S-550“ (eingetragene Marke von Asahi Glass Company, Limited), „KP-801“ (Handelsbezeichnung, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), „X-71“ (Handelsbezeichnung, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), „KY-130“ (Handelsbezeichnung, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), „KY-178“ (Handelsbezeichnung, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), „KY-185“ (Handelsbezeichnung, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), „Optool DSX“ (Handelsbezeichnung, Daikin Industries, Ltd.), usw., verwendet werden.
Die Dicke der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9 beträgt vorzugsweise von 1 bis 50 nm, mehr bevorzugt von 3 bis 25 nm, besonders bevorzugt von 4 bis 15 nm. Wenn die Dicke mindestens der vorstehende untere Grenzwert ist, wird eine ausreichende Wasser/Öl-Abstoßung erhalten und die Fingergleiteigenschaften auf der Oberfläche der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9 werden gut sein. Wenn die Dicke höchstens der vorstehende obere Grenzwert ist, wird die Nutzungseffizienz des Wasser/Öl-Abstoßungsmittels hoch sein und der Einfluss auf die Antireflexionseigenschaften ist geringer, was bevorzugt ist, jedoch ist sie selbst dann geeignet, wenn sie dicker als dieser Wert ist.
Die Dicke der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9 kann aus der Schwingungsperiode eines Interferenzmusters eines reflektierten Röntgenstrahls erhalten werden, die durch ein Röntgenreflexionsverfahren unter Verwendung z.B. eines Röntgenbeugungsgeräts für eine Dünnfilm-analyse ATX-G (Rigaku Corporation) berechnet wird. Ansonsten wird ein Antireflexionsfilm, dessen Reflexionsspektrum im Vorhinein gemessen worden ist, hergestellt und eine Wasser/Öl-abstoßende Schicht 9 wird darauf unter denselben Bedingungen als Probe zur Messung der Dicke der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht gebildet, worauf die Dicke aus dem Reflexionsspektrum und dem Brechungsindex des Wasser/Öl-Abstoßungsmittels berechnet wird.
Die unebene Struktur an der Oberfläche der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9 ist der unebenen Struktur an der Oberfläche der Blendschutzschicht 5 ähnlich und die bevorzugten Modi davon sind ebenfalls dieselben. Es ist bevorzugt, dass die unebene Struktur an der Oberfläche der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9 der Unebenheit an der Oberfläche der Blendschutzschicht 5 und der Antireflexionsschicht 7 folgt, wie es in der 7 gezeigt ist.
In der lichtdurchlässigen Struktur 6 wird selbst dann, wenn funktionelle Schichten (Antireflexionsschicht 7 und Wasser/Öl-abstoßende Schicht 9) auf der Blendschutzschicht 5 bereitgestellt sind, der Glitzerunterdrückungseffekt durch eine unebene Form der äußersten Oberfläche bestimmt und daher wird, solange die unebene Form der Schicht an der äußersten Oberfläche in der vorgegebenen unebenen Form vorliegt, die den Glitzerunterdrückungseffekt in dieser Ausführungsform aufweist, die lichtdurchlässige Struktur 6 den Glitzerunterdrückungseffekt aufweisen.
Die jeweiligen bevorzugten Bereiche des Trübungsfaktors, des 60°-Spiegelglanzes an der Oberfläche mit der unebenen Struktur, des Glitzerindexwerts S, der Halbwertsbreite der Vorwölbungsverteilung und der Bleistifthärte der lichtdurchlässigen Struktur 6 sind mit denjenigen in der ersten Ausführungsform identisch.
Die lichtdurchlässige Struktur 6 weist eine spezifische unebene Struktur auf der Oberfläche auf und daher weist sie wie die vorstehend beschriebene lichtdurchlässige Struktur 1 eine Blendschutzeigenschaft und auch einen niedrigen Trübungsfaktor sowie Eigenschaften eines geringen Glitzerns auf.
Da sie ferner die Antireflexionsschicht 7 auf der Betrachtungsseite des lichtdurchlässigen Substrats 3 aufweist, weist sie hervorragende Antireflexionseigenschaften auf. Da sie ferner eine Wasser/Öl-abstoßende Schicht 9 an der äußersten Schicht aufweist, sind die Fingergleiteigenschaften gut. Dass die Fingergleiteigenschaften gut sind, ist im Hinblick z.B. auf die Bedienungseffizienz eines Berührungsfelds bevorzugt.
<Verfahren zur Herstellung der lichtdurchlässigen Struktur>
Die lichtdurchlässige Struktur 6 kann z.B. durch Bilden der Blendschutzschicht 5 auf der ersten Oberfläche 3A des lichtdurchlässigen Substrats 3 durch das in der ersten Ausführungsform genannte Verfahren und dann Durchführen eines Schritts (Antireflexionsschicht-Bildungsschritt) des Bildens einer Antireflexionsschicht 7 auf dieser Blendschutzschicht 5, und eines Schritts (Wasser/Öl-Abstoßungsschicht-Bildungsschritt) des Behandelns der Oberfläche der Antireflexionsschicht 7 mit einem Wasser/Öl-Abstoßungsmittel zur Bildung einer Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9 hergestellt werden.
[Antireflexionsschicht-Bildungsschritt]
Da die Oberfläche der Blendschutzschicht 5 die vorstehend beschriebene unebene Struktur aufweist, ist es durch Bilden der Antireflexionsschicht 7 entlang der Oberflächenform der Blendschutzschicht 5 in dem Antireflexionsschicht-Bildungsschritt möglich, die Antireflexionsschicht 7 mit der unebenen Struktur auf der Oberfläche zu bilden.
Das Verfahren zur Bildung der Antireflexionsschicht 7 ist nicht speziell beschränkt und ein bekanntes Verfahren, wie z.B. ein Trockenverfahren oder ein Nassverfahren, kann verwendet werden. Als Trockenverfahren können ein Sputterverfahren, ein Vakuumgasphasenabscheidungsverfahren, ein Ionenplattierungsverfahren, ein chemisches Gasphasenwachstumsverfahren, usw., genannt werden. Beispielsweise wird durch Durchführen eines Sputterns in einer Sauerstoffatmosphäre unter Verwendung eines Metalls (Si, Nb, usw.) als Target eine Schicht eines Metalloxids gebildet.
Als Verfahren zur Bildung der Antireflexionsschicht 7 ist im Hinblick auf die Antireflexionseigenschaften ein Trockenverfahren bevorzugt und insbesondere ist im Hinblick auf die Produktivität ein Sputterverfahren mehr bevorzugt.
[Wasser/Öl-Abstoßungsschicht-Bildungsschritt]
Das Verfahren zur Behandlung mit einem Wasser/Öl-Abstoßungsmittel (Verfahren zur Bildung einer Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9) kann z.B. ein Nassbeschichtungsverfahren, wie z.B. ein Spritzbeschichtungsverfahren, ein Tauchbeschichtungsverfahren, ein Rakelbeschichtungsverfahren, ein Wischbeschichtungsverfahren oder ein Fließbeschichtungsverfahren; ein Trockenbeschichtungsverfahren, wie z.B. ein Gasphasenbeschichtungsverfahren; usw., sein. Als Verfahren zur Bildung der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9 kann eines des Nassbeschichtungsverfahrens und des Trockenbeschichtungsverfahrens verwendet werden.
{Vierte Ausführungsform}
Die 8 ist eine Querschnittsansicht, die schematisch eine lichtdurchlässige Struktur 8 in einer vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
Die lichtdurchlässige Struktur 8 dieser Ausführungsform umfasst ein lichtdurchlässiges Substrat 4, eine Antireflexionsschicht 7, die auf der ersten Oberfläche 4A des lichtdurchlässigen Substrats 4 ausgebildet ist, und eine Wasser/Öl-abstoßende Schicht 9, die auf der Antireflexionsschicht 7 ausgebildet ist. Jedes des lichtdurchlässigen Substrats 4, der Antireflexionsschicht 7 und der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9 weist eine unebene Struktur an der Oberfläche auf. Die Oberfläche der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9 bildet die Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur 8. Daher weist die lichtdurchlässige Struktur 8 die unebene Struktur an der Oberfläche auf.
Es ist bevorzugt, dass die Unebenheit von jeder der Antireflexionsschicht 7 und der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9 der Unebenheit der ersten Oberfläche 4A des lichtdurchlässigen Substrats 4 folgt. In der 8 ist das Verhältnis der Dicke von jeder der Antireflexionsschicht 7 und der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9 zu der Dicke des lichtdurchlässigen Substrats 4 aus Gründen der Zweckmäßigkeit größer eingestellt als das tatsächliche Verhältnis.
In der lichtdurchlässigen Struktur 8 wird selbst dann, wenn die Antireflexionsschicht 7 und die Wasser/Öl-abstoßende Schicht 9 auf der unebenen Struktur an der Oberfläche des lichtdurchlässigen Substrats 4 bereitgestellt sind, der Glitzerunterdrückungseffekt durch eine unebene Form an der äußersten Oberfläche bestimmt und daher wird, solange die unebene Form der Schicht an der äußersten Oberfläche in der vorgegebenen unebenen Form vorliegt, die den Glitzerunterdrückungseffekt in dieser Ausführungsform aufweist, die lichtdurchlässige Struktur 8 den Glitzerunterdrückungseffekt aufweisen.
Die jeweiligen bevorzugten Bereiche des Trübungsfaktors, des 60°-Spiegelglanzes an der Oberfläche mit der unebenen Struktur, des Glitzerindexwerts S, der Halbwertsbreite der Vorwölbungsverteilung und der Bleistifthärte der lichtdurchlässigen Struktur 8 sind mit denjenigen in der ersten Ausführungsform identisch.
Die lichtdurchlässige Struktur 8 weist eine spezifische unebene Struktur an der Oberfläche auf und daher weist sie wie die vorstehend beschriebene lichtdurchlässige Struktur 2 eine Blendschutzeigenschaft und auch einen niedrigen Trübungsfaktor sowie Eigenschaften eines geringen Glitzerns auf.
Da sie ferner die Antireflexionsschicht 7 auf der Betrachtungsseite des lichtdurchlässigen Substrats 4 aufweist, weist sie hervorragende Antireflexionseigenschaften auf. Da sie ferner eine Wasser/Öl-abstoßende Schicht 9 als äußerste Schicht aufweist, sind die Fingergleiteigenschaften gut.
<Verfahren zur Herstellung der lichtdurchlässigen Struktur>
Die lichtdurchlässige Struktur 8 kann z.B. durch Herstellen eines lichtdurchlässigen Substrats 4 durch das in der zweiten Ausführungsform genannte Verfahren und dann Durchführen eines Schritts (Antireflexionsschicht-Bildungsschritt) des Bildens einer Antireflexionsschicht 7 auf der ersten Oberfläche 4A dieses lichtdurchlässigen Substrats 4 und eines Schritts (Wasser/Öl-Abstoßungsschicht-Bildungsschritt) des Behandelns der Oberfläche dieser Antireflexionsschicht 7 mit einem Wasser/Öl-Abstoßungsmittel zur Bildung einer Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9 hergestellt werden.
Der Antireflexionsschicht-Bildungsschritt und der Wasser/Öl-Abstoßungsschicht-Bildungsschritt können in derselben Weise wie in der dritten Ausführungsform durchgeführt werden.
Vorstehend wurde die lichtdurchlässige Struktur der vorliegenden Erfindung unter Bezugnahme auf die erste bis vierte Ausführungsform beschrieben, jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese Ausführungsformen beschränkt. Der jeweilige Aufbau in den vorstehenden Ausführungsformen und deren Kombinationen sind lediglich beispielhaft und Hinzufügungen, Weglassungen, Substitutionen und andere Modifizierungen des Aufbaus sind möglich, ohne von dem Konzept der vorliegenden Erfindung abzuweichen.
Beispielsweise wurde in der ersten und dritten Ausführungsform ein Beispiel gezeigt, bei dem die Blendschutzschicht 5 nur auf einer Seite (auf der ersten Oberfläche 3A) des lichtdurchlässigen Substrats 3 bereitgestellt ist, jedoch kann die Blendschutzschicht 5 auf beiden Seiten des lichtdurchlässigen Substrats 3 bereitgestellt sein. Ferner kann die Blendschutzschicht 5 auf der gesamten Oberfläche oder einem Teil der Oberfläche auf einer oder beiden Seite(n) des lichtdurchlässigen Substrats 3 bereitgestellt sein.
In der zweiten und vierten Ausführungsform wurde ein Beispiel gezeigt, bei dem die unebene Struktur nur auf einer Seite (auf der ersten Oberfläche 4A) des lichtdurchlässigen Substrats 4 bereitgestellt ist, jedoch kann die unebene Struktur auf beiden Seiten des lichtdurchlässigen Substrats 4 bereitgestellt sein. Ferner kann die unebene Struktur an der gesamten Oberfläche oder einem Teil der Oberfläche auf einer oder beiden Seite(n) des lichtdurchlässigen Substrats 4 bereitgestellt sein.
Die lichtdurchlässigen Strukturen in der ersten und dritten Ausführungsform können so modifiziert werden, dass sie einen Aufbau mit einer weiteren funktionellen Schicht zwischen dem transparenten Substrat 3 und der Blendschutzschicht 5 aufweisen. Die weitere funktionelle Schicht kann z.B. eine Basisschicht, eine Haftung-verbessernde Schicht, eine Schutzschicht, usw., sein. Die Basisschicht hat eine Funktion als Alkalibarriereschicht oder als Breitbandschicht mit niedrigem Brechungsindex. Als Basisschicht ist eine Schicht bevorzugt, die durch Aufbringen einer Beschichtungszusammensetzung für eine Basisschicht, die ein Alkoxysilanhydrolysat (Sol-Gel-Siliziumoxid) auf den Hauptkörper des lichtdurchlässigen Substrats hergestellt wird.
Die lichtdurchlässigen Strukturen in der dritten und vierten Ausführungsform können so modifiziert werden, dass sie einen Aufbau aufweisen, der keine Antireflexionsschicht 7 oder keine Wasser/Öl-abstoßende Schicht 9 aufweist. Die lichtdurchlässigen Strukturen in der dritten und vierten Ausführungsform können so modifiziert werden, dass sie einen Aufbau aufweisen, der eine weitere funktionelle Schicht zwischen der Blendschutzschicht 5 und der Antireflexionsschicht 7 oder zwischen der Antireflexionsschicht und der Wasser/Öl-abstoßenden Schicht 9 aufweist.
Als Anwendung der lichtdurchlässigen Struktur der vorliegenden Erfindung ist eine Bildanzeigevorrichtung im Hinblick auf die optischen Eigenschaften, wie z.B. einen niedrigen Trübungsfaktor, Eigenschaften eines geringen Glitzerns, usw., bevorzugt. Die Anwendung der lichtdurchlässigen Struktur der vorliegenden Erfindung ist jedoch nicht auf eine Bildanzeigevorrichtung beschränkt und sie kann für verschiedene Anwendungen eingesetzt werden.
Spezifische Beispiele für die Anwendung der lichtdurchlässigen Struktur der vorliegenden Erfindung umfassen transparente Fahrzeugkomponenten (Frontscheinwerferabdeckungen, usw.), transparente Komponenten für Fahrzeuge (Armaturenbrettoberflächen, usw.), Instrumente, Fenster im Baubereich, Schaufenster, Anzeigen (Notebookcomputer, Monitore, LCD, PDP, ELD, CRT, PDA, usw.), LCD-Farbfilter, Substrate für Berührungsfelder, Kamerateile, Projektorteile, transparente Substrate für Solarzellen (Abdeckglas, usw.), Mobiltelefonfenster, Hintergrundbeleuchtungseinheitsteile-LCD-Helligkeits-erhöhende Filme (Prismen, halbdurchlässige Filme, usw.), Flüssigkristallhelligkeit-verbessernde Filme, organische EL-lichtemittierende Vorrichtungskomponenten, anorganische EL-lichtemittierende Vorrichtungskomponenten, Leuchtstoff-lichtemittierende Vorrichtungskomponenten, optische Filter, Endoberflächen von optischen Komponenten, Beleuchtungslampen, Abdeckungen von Beleuchtungsinstrumenten, Polarisationsfolien, landwirtschaftliche Folien, usw.
BEISPIELE
Nachstehend wird die vorliegende Erfindung unter Bezugnahme auf Beispiele spezifisch beschrieben. Die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht durch die folgende Beschreibung beschränkt. Im Folgenden können „Massen-%“ auch als „Gew.-%“ bezeichnet werden. Die später beschriebenen Bsp. 1 bis 33 sind Beispiele der vorliegenden Erfindung und die Bsp. 34 bis 39 sind Vergleichsbeispiele. Die in jedem Bsp. verwendeten Bewertungsverfahren und Materialien sind nachstehend angegeben.
[Bewertungsverfahren]
(Messung der Oberflächenform)
Die Oberflächenform einer Oberfläche mit einer unebenen Struktur einer lichtdurchlässigen Struktur wurde mittels eines Lasermikroskops VK-X100, hergestellt von Keyence Corporation, gemessen. Als Objektivlinse wurde „× 100“ verwendet (Untersuchungsbereich: 109 × 145 µm, Vergrößerung: 1000-fach). Der Messmodus wurde auf „Oberflächenform“ eingestellt und die Messqualität wurde auf „hochauflösend“ (X-Punktintervall: 71 nm, Y-Punktintervall: 71 nm, Z-Punktintervall: 10 nm) eingestellt. Das X-Punktintervall, das Y-Punktintervall und das Z-Punktintervall stellen die Messintervallwerte in der X-Richtung, der Y-Richtung bzw. der Z-Richtung dar.
(Analyse der Oberflächenform)
Die XYZ-Daten der Oberflächenform, die durch die Messung der Oberflächenform erhalten worden sind, wurden mittels der Bildverarbeitungssoftware SPIP (Version .6.4.3), hergestellt von Image Metrology, analysiert, um die jeweiligen Eigenschaften der ersten konvexen Abschnitte und der zweiten konvexen Abschnitte (Z-Bereich, die Anzahl, die Dichte, das Flächenverhältnis, der maximale Durchmesser, der minimale Durchmesser, der durchschnittliche Durchmesser, die maximale Höhe, die minimale Höhe und die durchschnittliche Höhe in dem Untersuchungsbereich) zu erhalten. In der Analyse wurden durch Einstellen der Parameter in der folgenden Weise eine Abflachungsbehandlung, die Messung der ersten konvexen Abschnitte und die Messung der zweiten konvexen Abschnitte durchgeführt.
Abflachungsbehandlung

1. Moduswert (Modus): Der spezifische Modus wird gewählt.
2. Das tertiäre Durchschnittsprofilanpassungsverfahren wird ausgewählt.
3. Die „Stufenbehandlungsfunktion“ wird nicht verwendet.
4. Z-Versetzungsverfahren: Die Basishöhe wird auf Null eingestellt.

Messung der ersten konvexen Abschnitte (Welligkeit)
< Erfassung>

1. „Teilchenerfassung“ wird ausgewählt.
2. Schwellenniveau: 0,05 µm.

< Nachbehandlung>

3. „Erfassungsbildfenster“-Auswahl.
4. „Speichere die gesamte Form“ wird ausgewählt.
5. Glätten der Formkontur: Filtergröße: 51 Punkte.
6. „Einbeziehen der Form des Bildendes“ wird ausgewählt.
7. Minimaler Durchmesser: 1 µm.
(3) Messung der zweiten konvexen Abschnitte (Inseln)

< Filtern>

1. „Faltung“-Auswahl.
2. „Glättung“-Auswahl.
3. Kerngröße: X = Y = 31, „kreisförmig“ wird ausgewählt.

< Erfassung>

4. Erfassungsbild: „Filterdifferenz“ wird ausgewählt.
5. „Teilchenerfassung“ wird ausgewählt.
6. Schwellenniveau: 0,01 µm.

< Nachbehandlung>

7. Messung des Bildfensters: „Filterdifferenz“ wird ausgewählt.
8. „Speichere die gesamte Form“ wird ausgewählt.
9. Glätten der Formkontur: Filtergröße: 51 Punkte.
10. „Einbeziehen der Form des Bildendes“ wird verwendet.
11. Minimaler Durchmesser: 0,4 µm.

Bei der Messung der ersten konvexen Abschnitte wurde die Differenz der Höhe zwischen der höchsten Position und der niedrigsten Position in dem Untersuchungsbereich als Z-Bereich eingestellt. Die Dichte der ersten konvexen Abschnitte wurde durch Umrechnen der Anzahl der ersten konvexen Abschnitte in dem Untersuchungsbereich in den Wert pro 1 µm² berechnet. Das Flächenverhältnis der ersten konvexen Abschnitte wurde durch Berechnen der Gesamtfläche von Querschnitten der konvexen Abschnitte, deren Durchmesser (berechnet als Kreise), die bei einer Höhe der Basishöhe + 0,05 µm vorliegen, mindestens 1 µm betragen, und Berechnen des Anteils dieser Gesamtfläche in dem Untersuchungsbereich erhalten. Der maximale Durchmesser, der minimale Durchmesser und der durchschnittliche Durchmesser der ersten konvexen Abschnitte sind jeweils die Werte, die bei „einer Höhe der Basishöhe + 0,05 µm“ gemessen worden sind. Die maximale Höhe, die minimale Höhe und die durchschnittliche Höhe der ersten konvexen Abschnitte sind jeweils der maximale Wert, der minimale Wert und der durchschnittliche Wert, die in dem Untersuchungsbereich gemessen worden sind, und zwar von Höhen (Höhen ausgehend von der Basishöhe) der ersten konvexen Abschnitte.
Bei der Messung der zweiten konvexen Abschnitte wurde in einem Bild (einem Bild, bei dem eine Mehrzahl von konvexen Abschnitten verstreut ist), das als Differenz zwischen XYZ-Daten der Oberflächenform und XYZ-Daten eines Glättungsbilds erhalten wird, das durch Filtern der Oberflächenform erhalten worden ist, die Differenz zwischen der größten Höhe und der geringsten Höhe als Z-Bereich der zweiten konvexen Abschnitte verwendet. Die Dichte der zweiten konvexen Abschnitte wurde durch Umrechnen der Anzahl der zweiten konvexen Abschnitte in dem Untersuchungsbereich in einen Wert pro 1 µm² berechnet. Das Flächenverhältnis der zweiten konvexen Abschnitte wurde durch Berechnen, in einem Bild, das als Differenz zwischen XYZ-Daten der Oberflächenform und XYZ-Daten eines Glättungsbilds erhalten wird, das durch Filtern der Oberflächenform erhältlich ist, der Gesamtfläche von Querschnitten von konvexen Abschnitten, deren Durchmesser (berechnet als Kreise), die bei einer Höhe von 0,01 µm vorliegen, wenn die Basishöhe als 0 angesetzt wird, mindestens 0,4 µm betragen, und Berechnen des Anteils dieser Gesamtfläche in dem Untersuchungsbereich erhalten. Der maximale Durchmesser, der minimale Durchmesser und der durchschnittliche Durchmesser der zweiten konvexen Abschnitte sind jeweils die Werte, die bei einer Höhe von 0,01 µm des vorstehenden Bilds gemessen werden. Die maximale Höhe, die minimale Höhe und die durchschnittliche Höhe der zweiten konvexen Abschnitte werden jeweils von der Nullhöhe des vorstehend genannten Bilds gemessen (der Position der Basishöhenebene).
(Streuung (Blendschutzindexwert D))
Die Messung der Streuung wurde gemäß dem folgenden Verfahren mittels des Goniophotometers GC5000L, hergestellt von Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., durchgeführt.
Von der Seite der ersten Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur wird das erste Licht in einer Richtung bei einem Winkel θ = -45° ± 0,5° (nachstehend auch als „Winkel -45°-Richtung“) eingestrahlt, wenn die Richtung parallel zur Dickenrichtung der lichtdurchlässigen Struktur als Winkel θ = 0° angesetzt wird. Das erste Licht wird auf der lichtdurchlässigen Struktur reflektiert. Durch Erhalten von 45°-reflektiertem Licht, das in einer Richtung in einem Winkel von 45° von der ersten Oberfläche reflektiert worden ist, wird die Intensität des reflektierten Lichts gemessen und als die „Helligkeit von 45°-reflektiertem Licht“ angesetzt.
Dann wird derselbe Vorgang durch Ändern des Winkels θ zum Erhalten von Licht, das von der ersten Oberfläche emittiert wird, in einem Bereich von 5° bis 85° durchgeführt. Folglich wird die Helligkeitsverteilung von Licht, das durch die lichtdurchlässige Struktur hindurchtritt und von der zweiten Oberfläche emittiert wird, gemessen und summiert, so dass die „Helligkeit des gesamten reflektierten Lichts“ erhalten wird.
Dann wird die Streuung (Blendschutzindexwert D) aus der folgenden Formel (1) berechnet. $\begin{array}{l} \begin{matrix} \begin{matrix} \end{matrix} \end{matrix} Streuung (Blendschutzindexwert D) = {(Helligkeit des gesamten reflektierten Lichts- \\ Helligkeit von 45 ° -reflektiertem Licht) / (Helligkeit des gesamten reflektierten Lichts)} \end{array}$
Es wird bestätigt, dass diese Streuung mit den Ergebnissen der Beurteilung der Blendschutzeigenschaften durch eine visuelle Untersuchung eines Betrachters korreliert und das Verhalten nahe an dem visuellen Sinn eines Menschen zeigt. Beispielsweise weist eine lichtdurchlässige Struktur, die einen geringen (nahe bei Null) Wert des Blendschutzindexwerts D zeigt, schlechte Blendschutzeigenschaften auf, und im Gegensatz dazu weist eine lichtdurchlässige Struktur, die einen großen Wert des Blendschutzindexwerts D zeigt, gute Blendschutzeigenschaften auf. Demgemäß kann dieser Blendschutzindexwert D als quantitativer Index bei der Beurteilung der Blendschutzeigenschaften einer lichtdurchlässigen Struktur verwendet werden.
(Messung des Glitzerns)
Auf der Basis des Glitzerindexwerts S, der gemäß dem vorstehend beschriebenen Messverfahren erhalten worden ist, wurde das Glitzern durch die folgenden Standards bewertet.
⊚⊚: Der Glitzerindex S beträgt höchstens 25 (ein Niveau, bei dem überhaupt kein Glitzern festgestellt wird).
⊚: Der Glitzerindex S beträgt mehr als 25 und höchstens 30 (ein Niveau, bei dem ein Glitzern geringfügig festgestellt wird).
○: Der Glitzerindex S beträgt mehr als 30 und höchstens 37 (ein Niveau, bei dem ein Glitzern festgestellt wird, jedoch kein praktisches Problem vorliegt).
×: Der Glitzerindex S ist größer als 37 (ein beträchtliches Glitzern wird festgestellt).
(Halbwertsbreite der Vorwölbungsverteilung)
Durch die Verwendung des vorstehend genannten Lasermikroskops bei 1000-facher Vergrößerung wurde ein Abtasten für einen Bereich von 109 µm × 145 µm der Oberfläche mit einer unebenen Struktur einer lichtdurchlässigen Struktur durchgeführt, so dass ein Oberflächenprofil erhalten wurde. Aus dem erhaltenen Oberflächenprofil wurde durch eine Histogrammauftragung eine Vorwölbungsverteilung erhalten, die durch Auftragen der Vorwölbungshöhe (Einheit: nm) auf der horizontalen Achse und der Häufigkeit auf der vertikalen Achse (Einheit: Zählvorgänge) erhalten wurde.
Von der erhaltenen Vorwölbungsverteilung wurde die Breite der Vorwölbungsverteilung bei einer Position der halben Höhe der Peakhöhe als Halbwertsbreite (Einheit: nm) verwendet.
[Materialien]
(Dispersionen von Teilchen)
ST-OZL: Snowtex OZL, hergestellt von Nissan Chemical Industries, Ltd., Dispersion von kugelförmigen massiven Siliziumoxidteilchen, Dispersionsmedium: Wasser, Teilchengröße: von 70 bis 100 nm.
SLV: Dispersion von schuppenförmigen Siliziumoxidteilchen, in der SUNLOVELY LFS HN150 (hergestellt von AGC Si-Tech Co., Ltd.) zerkleinert und dispergiert ist, Dispersionsmedium: Wasser, durchschnittliche Teilchengröße: 185 nm, durchschnittliches Seitenverhältnis (durchschnittlicher Teilchendurchmesser/durchschnittliche Dicke): 80.
ST-OL: SNOWTEX OL (hergestellt von Nissan Chemical Industries, Ltd.), Dispersion von kugelförmigen massiven Siliziumoxidteilchen, Dispersionsmedium: Wasser, Teilchengröße: von 40 bis 50 nm.
ST-O: SNOWTEX O (hergestellt von Nissan Chemical Industries, Ltd.), Dispersion von kugelförmigen massiven Siliziumoxidteilchen, Dispersionsmedium: Wasser, durchschnittliche Teilchengröße: von 10 bis 15 nm.
(Teilchen-enthaltende Siliziumoxidvorstufenlösung)
Eine Teilchen-enthaltende Siliziumoxidvorstufenlösung wurde mit dem folgenden Verfahren hergestellt.
Flüssigkeit A: Unter Verwendung des Solgemisches AP-11 (Handelsbezeichnung, hergestellt von Japan Alcohol Trading Co., Ltd.) als Hauptlösungsmittel, während AP-11 mittels eines Magnetrührers gerührt wurde, wurden reines Wasser, Tetraethoxysilan und KBM3066 (hergestellt von Shin-Etsu Silicone) zugesetzt, so dass 11 Gew.-%, 10 Gew.-% bzw. 0,59 Gew.-% auf der Basis der Gesamtmenge der Flüssigkeit A vorlagen, worauf für 10 Minuten bei 25 °C gemischt wurde, so dass die Flüssigkeit A erhalten wurde (Konzentration berechnet als SiO₂ der Silanverbindung: 3,12 Gew.-%).
Flüssigkeit B: Die vorstehend genannte handelsübliche Dispersion von Teilchen wurde so durch AP-11 verdünnt, dass die Feststoffgehaltkonzentration 3,12 Gew.-% erreichte, so dass die Flüssigkeit B erhalten wurde (Teilchenfeststoffgehaltkonzentration: 3,12 Gew.-%).
Teilchen-enthaltende Siliziumoxidvorstufenlösung: Die Flüssigkeiten A und B wurden gemischt, so dass das gewünschte Teilchenkonzentrationsverhältnis erhalten wurde, worauf für 30 Minuten bei 25 °C gerührt wurde, und eine 10 Gew.-%ige wässrige Salpetersäurelösung wurde so zugesetzt, dass 0,54 Gew.-% davon auf der Basis der Gesamtmenge der Teilchen-enthaltenden Siliziumoxidvorstufenlösung vorlagen, worauf für 60 Minuten bei 60 °C gemischt wurde, wodurch eine Teilchen-enthaltende Siliziumoxidvorstufenlösung erhalten wurde (Gesamtfeststoffgehaltkonzentration (= Konzentration berechnet als SiO₂ der Silanverbindung + Teilchenfeststoffgehaltkonzentration): 3,11 Gew.-%).
[Bsp. 1]
(Reinigung eines lichtdurchlässigen Substrats)
Als lichtdurchlässiges Substrat wurde ein Natronkalkglas (FL1.1, hergestellt von Asahi Glass Company, Limited, Glassubstrat mit einer Größe: Vertikal 100 mm × horizontal 100 mm, Dicke: 1,1 mm, durchschnittliche Durchlässigkeit von Licht in einem Wellenlängenbereich von 400 bis 1100 nm: 90,6 %, arithmetischer Mittenrauwert Ra an der Oberfläche: 0,5 nm) hergestellt. Die Oberfläche des Glases wurde mit einer wässrigen Natriumhydrogencarbonatlösung gewaschen, dann mit entionisiertem Wasser gespült und getrocknet.
(Herstellung einer Beschichtungsflüssigkeit)
Eine Beschichtungsflüssigkeit wurde durch Verdünnen der Teilchen-enthaltenden Siliziumoxidvorstufenlösung, die vorstehend erhalten worden ist, mit AP-11 auf eine Gesamtfeststoffkonzentration von 0,215 Gew.-% erhalten.
(Elektrostatische Beschichtungsvorrichtung)
Eine elektrostatische Beschichtungsvorrichtung (elektrostatischer Flüssigkeitsbeschichter, hergestellt von Asahi Sunac Corporation), die eine elektrostatische Spritzpistole umfasst, wurde vorbereitet. Als elektrostatische Spritzpistole wurde eine automatische rotierende elektrostatische Zerstäubungspistole (Sunbell, ESA120, hergestellt von Asahi Sunac Corporation, Becherdurchmesser: 70 mm) verwendet. Zur Vereinfachung der Erdung des lichtdurchlässigen Substrats wurde eine Metallnetzschale als leitendes Substrat hergestellt.
(Elektrostatisches Beschichten)
In der Beschichtungskabine der elektrostatischen Beschichtungsvorrichtung wurde die Temperatur auf einen Bereich von 25 ± 1 °C eingestellt und die Feuchtigkeit wurde auf einen Bereich von 50 % ± 10 % eingestellt.
Auf der Kettenfördereinrichtung der elektrostatischen Beschichtungsvorrichtung wurde das gereinigte lichtdurchlässige Substrat, das auf 30 °C ± 3 °C vorgewärmt worden ist, mittels des leitenden Substrats angeordnet. Während es mit einer konstanten Geschwindigkeit mit der Kettenfördereinrichtung transportiert wurde, wurde auf der T-Oberfläche (der Oberfläche gegenüber der Oberfläche, die während der Herstellung durch ein Floatverfahren mit geschmolzenem Zinn in Kontakt ist) des lichtdurchlässigen Substrats die Beschichtungsflüssigkeit bei einer Temperatur in einem Bereich von 25 ± 1 °C durch das elektrostatische Beschichtungsverfahren aufgebracht, worauf zur Bildung einer Blendschutzschicht für 30 Minuten bei 450 °C an der atmosphärischen Luft gebrannt wurde, so dass eine lichtdurchlässige Struktur erhalten wurde. Die Beschichtungsbedingungen der Beschichtungsflüssigkeit waren eine Beschichtungsflüssigkeitsmenge von 18 mL/min, eine Becherdrehzahl von 35 U/min, eine Düsenhöhe von 245 mm, eine Spannung von 60 kV und eine Anzahl von Aufbringvorgängen von eins. Dabei stellt die Beschichtungsflüssigkeitsmenge die Zuführungsmenge der Beschichtungszusammensetzung zu der elektrostatischen Spritzpistole dar. Die Becherdrehzahl stellt die Drehzahl des rotierenden Zerstäubungskopfs dar. Die Düsenhöhe stellt den Abstand von der Düsenspitze (vorderes Endes des rotierenden Zerstäubungskopfs in der Spritzrichtung der Beschichtungszusammensetzung) der elektrostatischen Beschichtungspistole zu dem lichtdurchlässigen Substrat dar. Die Spannung stellt die Spannung dar, die an die elektrostatische Spritzpistole angelegt wird. Die Anzahl der Aufbringvorgänge stellt die Transportanzahl des lichtdurchlässigen Substrats dar, nämlich die Anzahl des Aufbringens der Beschichtungszusammensetzung durch Hindurchtretenlassen des lichtdurchlässigen Substrats unterhalb der elektrostatischen Spritzpistole.
[Bsp. 2 bis 11, 13 bis 30 und 34 bis 39]
Die lichtdurchlässigen Strukturen in den Bsp. 2 bis 11, 13 bis 30 und 34 bis 39 wurden in derselben Weise wie im Bsp. 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass der Typ der Dispersion von Teilchen, die zur Herstellung der Beschichtungsflüssigkeit verwendet werden soll, die Teilchenkonzentration in dem Feststoffgehalt der Beschichtungsflüssigkeit, die Feststoffgehaltkonzentration der Beschichtungsflüssigkeit und die Anzahl von Aufbringvorgängen der Beschichtungsflüssigkeit gemäß der Tabelle 1 geändert wurden.
[Bsp. 12]
(Herstellung eines lichtdurchlässigen Substrats)
Ein Spezialglas für ein chemisches Härten, Dragontrail (eingetragene Marke von Asahi Glass Company, Limited) (Größe: 100 mm × 100 mm, Dicke: 1,1 mm, Durchlässigkeit bei einer Wellenlänge von 550 nm: 91,4%, arithmetischer Mittenrauwert Ra der Oberfläche: 0,13 nm (gemessen durch ein SPA400-AFM, hergestellt von SII Nanotechnology Inc.)), wurde für 2,5 Stunden bei 410 °C einer chemischen Härtungsbehandlung mittels geschmolzenem KNO₃-Salz unterzogen. Als Ergebnis der chemischen Härtungsbehandlung betrug die DOL (Tiefe der Schicht) 25 µm und die CS (Druckspannung) betrug 750 MPa. Dieses chemisch härtungsbehandelte Substrat wurde als lichtdurchlässiges Substrat verwendet. Die Oberfläche des lichtdurchlässigen Substrats wurde mit einem neutralen Detergens gewaschen, mit reinem Wasser gespült und getrocknet.
(Bildung einer Blendschutzschicht)
Eine Blendschutzschicht wurde auf dem lichtdurchlässigen Substrat in derselben Weise wie im Bsp. 6 gebildet, mit der Ausnahme, dass das vorstehend genannte chemisch härtungsbehandelte Substrat als das lichtdurchlässige Substrat verwendet wurde.
(Bildung einer Antireflexionsschicht durch ein Gasphasenabscheidungsverfahren)
Das lichtdurchlässige Substrat mit einer in der vorstehend beschriebenen Weise ausgebildeten Blendschutzschicht wurde auf einem Substrathalter einer Dünnfilmbildungsvorrichtung angeordnet.
Nach dem Evakuieren und Halten des Substrats in einem Zustand, bei dem es bei einer eingestellten Temperatur von etwa 200 °C erwärmt wurde, wurde während des Einführens von Argongas und Sauerstoffgas in die Dünnfilmbildungsvorrichtung bei einem Druck von etwa 0,03 Pa Ta₂O₅ für eine erste Schicht der Schicht mit hohem Brechungsindex in einer Filmdicke von etwa 14 nm durch ein Elektronenstrahlgasphasenabscheidungsverfahren gebildet. Dabei wurde die Filmbildung während einer Unterstützung durch Argonionen und Sauerstoffionen auf dem Substrat durch Zuführen von Ar- und O₂-Gas zu der lonenquelle, die an der Filmbildungsvorrichtung angebracht war, und Anlegen einer Spannung von 1000 V und eines Stroms von 1000 mA durchgeführt. Danach wurde die Filmbildung auch für die 2. bis 4. Schicht in derselben Weise durchgeführt, während eine Unterstützung durch Argonionen und Sauerstoffionen auf dem Substrat stattfand.
Dann wurde bei einem Druck von etwa 0,03 Pa SiO₂ für eine zweite Schicht der Schicht mit niedrigem Brechungsindex durch eine Elektronenstrahlgasphasenabscheidung in einer Filmdicke von etwa 33 nm ausgebildet. Danach wurde in derselben Weise wie für die erste Schicht Ta₂O₅ für die dritte Schicht der Schicht mit hohem Brechungsindex in einer Filmdicke von etwa 121 nm ausgebildet. Dann wurde in derselben Weise wie für die zweite Schicht SiO₂ für die vierte Schicht der Schicht mit niedrigem Brechungsindex in einer Filmdicke von etwa 81 nm gebildet, so dass eine gasphasenabgeschiedene Antireflexionsschicht erhalten wurde. Folglich wurde ein Stapel erhalten, bei dem das transparente Substrat, die Blendschutzschicht und die Antireflexionsschicht der Vierschichtstruktur gestapelt waren.
(Bildung einer AFP-Schicht)
Nachdem die Oberfläche der vorstehend genannten Antireflexionsschicht einer Reinigungsbehandlung unter Verwendung einer Plasmabehandlungsvorrichtung unterzogen worden ist, wurde auf der Schicht an der äußersten Oberfläche ein fluoriertes ölabstoßendes Mittel (Afluid, eingetragene Marke von Asahi Glass Company, Limited „S-550“) durch eine Gasphasenabscheidung unter Bedingungen eines Vakuumgrads vor der Abscheidung von 1 × 10^-3 Pa, einer Erwärmungstemperatur der Gasphasenabscheidungsquelle von 290 °C und einer Substrattemperatur ohne Erwärmen einer Filmbildung unterzogen, so dass eine AFP-Schicht mit einer Dicke von etwa 10 nm gebildet wurde. Folglich wurde eine lichtdurchlässige Struktur erhalten, in der das lichtdurchlässige Substrat, die Blendschutzschicht und die AFP-Schicht gestapelt waren, oder das lichtdurchlässige Substrat, die Blendschutzschicht, die Antireflexionsschicht und die AFP-Schicht gestapelt waren. Bezüglich der Dicke der AFP-Schicht in diesem Beispiel wurde durch die Verwendung eines Röntgendiffraktometers ATX-G (Rigaku Corporation) für eine Dünnfilmanalyse ein Interferenzmuster der reflektierten Röntgenstrahlen durch das Röntgenreflexionsverfahren erhalten, und die Dicke wurde aus der Schwingungsperiode des Interferenzmusters berechnet.
[Bsp. 31]
Durch das folgende Verfahren wurde eine feine unregelmäßige Form an der Oberfläche eines Glassubstrats, bei dem es sich um ein transparentes Substrat handelt, gebildet.
(1) 1000 mL einer 50 Gew.-%igen wässrigen Fluorwasserstofflösung wurden 500 g Ammoniumfluorid und 175 g Glaskügelchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 4 µm zugesetzt und gerührt, um eine Mattierungsbehandlungsflüssigkeit herzustellen. (2) Ein Aluminosilikatglassubstrat von 5 cm im Quadrat mit einer Dicke von 1,3 mm wurde für 8 Minuten in die vorstehend genannte Mattierungslösung eingetaucht, um eine Vorätzbehandlung durchzuführen. (3) Das Aluminosilikatglassubstrat wurde aus der Mattierungslösung entnommen und für 10 Minuten mit fließendem Wasser gewaschen, und danach wurde es für 16 Minuten in eine 20 Gew.-%ige wässrige Fluorwasserstofflösung zur Durchführung einer Ätzbehandlung eingetaucht, wodurch eine feine Unebenheit auf der Oberfläche des Aluminosilikatglassubstrats gebildet wurde. Dieses lichtdurchlässige Substrat wurde im Beispiel 31 als die lichtdurchlässige Struktur betrachtet.
[Bsp. 32]
Ein lichtdurchlässiges Substrat mit einer unebenen Struktur an der Oberfläche wurde in derselben Weise wie im Bsp. 31 erhalten, mit der Ausnahme, dass die Mattierungsbehandlungsflüssigkeit durch eine Flüssigkeit ersetzt wurde, die 500 g Ammoniumfluorid und 355 g Glaskügelchen mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 4 µm enthielt, die 1000 mL einer 50 Gew.-%igen wässrigen Fluorwasserstofflösung zugesetzt wurden. Auf dieses lichtdurchlässige Substrat wurde die chemische Härtungsbehandlung in derselben Weise wie im Bsp. 12 angewandt und dann wurde die Oberfläche mit einem neutralen Detergens gewaschen, mit reinem Wasser gespült und getrocknet.
Auf der Oberfläche mit einer unebenen Struktur dieses lichtdurchlässigen Substrats wurden eine Antireflexionsschicht und eine AFP-Schicht in derselben Weise wie im Bsp. 12 gebildet. Nach dem Bilden der AFP-Schicht wurde eine Wärmebehandlung in der atmosphärischen Luft bei 120 °C für 20 Minuten durchgeführt. Auf diese Weise wurde eine lichtdurchlässige Struktur erhalten, bei der das lichtdurchlässige Substrat, die Antireflexionsschicht und die AFP-Schicht gestapelt waren.
[Bsp. 33]
Ein lichtdurchlässiges Substrat mit einer unebenen Struktur an der Oberfläche wurde in derselben Weise wie im Bsp. 31 erhalten, mit der Ausnahme, dass die Mattierungsbehandlungsflüssigkeit durch eine Flüssigkeit ersetzt wurde, die 500 g Ammoniumfluorid und 350 g Glaskügelchen mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 4 µm enthielt, die 1000 mL einer 50 Gew.-%igen wässrigen Fluorwasserstofflösung zugesetzt wurden. Auf dieses lichtdurchlässige Substrat wurde die chemische Härtungsbehandlung in derselben Weise wie im Bsp. 12 angewandt und dann wurde die Oberfläche mit einem neutralen Detergens gewaschen, mit reinem Wasser gespült und getrocknet.
Auf der Oberfläche mit einer unebenen Struktur dieses lichtdurchlässigen Substrats wurden eine Antireflexionsschicht und eine AFP-Schicht in derselben Weise wie im Bsp. 12 gebildet. Nach dem Bilden der AFP-Schicht wurde eine Wärmebehandlung in der atmosphärischen Luft bei 120 °C für 20 Minuten durchgeführt. Auf diese Weise wurde eine lichtdurchlässige Struktur erhalten, bei der das lichtdurchlässige Substrat, die Antireflexionsschicht und die AFP-Schicht gestapelt waren.
Die vorstehend genannten Bewertungen wurden bezüglich der in den Bsp. 1 bis 39 erhaltenen lichtdurchlässigen Strukturen durchgeführt. Die Ergebnisse sind in den Tabellen 2 bis 4 gezeigt.
Die 9 und 10 zeigen ein Lasermikroskopbild der Oberfläche auf der Seite der Blendschutzschicht der lichtdurchlässigen Struktur im Bsp. 1 und ein Rasterelektronenmikroskop (SEM)-Bild derselben Oberfläche, die von schräg oberhalb bei einem Winkel von 60 Grad betrachtet wurde. Ferner zeigen die 11 und 12 Bilder mit der Oberflächenform auf der Seite der Blendschutzschicht der lichtdurchlässigen Struktur im Bsp. 1, die mittels SPIP analysiert worden ist.
Die 13 zeigt ein Lasermikroskopbild der Oberfläche auf der Seite der Blendschutzschicht der lichtdurchlässigen Struktur im Bsp. 21. Ferner zeigen die 14 und 15 Bilder mit der Oberflächenform auf der Seite der Blendschutzschicht der lichtdurchlässigen Struktur im Bsp. 21, die mittels SPIP analysiert worden ist.
Die 16 zeigt ein Lasermikroskopbild der Oberfläche auf der Seite der Blendschutzschicht der lichtdurchlässigen Struktur im Bsp. 34. Ferner zeigen die 17 und 18 Bilder mit der Oberflächenform auf der Seite der Blendschutzschicht der lichtdurchlässigen Struktur im Bsp. 34, die mittels SPIP analysiert worden ist.
Jede der 11, 14 und 17 zeigt einen Querschnitt bei der Höhe der Basishöhe + 0,05 µm der Oberflächenform, und jede der 12, 15 und 18 zeigt einen Querschnitt bei einer Höhe von 0,01 µm eines Bilds (eines Bilds, in dem eine Mehrzahl von konvexen Abschnitten auf einer Ebene verstreut ist), das als Differenz zwischen XYZ-Daten der Oberflächenform und XYZ-Daten eines Glättungsbilds erhältlich ist, dass durch Filtern derselben erhalten worden ist. In jeder der Figuren stellen Abschnitte mit einer hellen Farbe Querschnitte von konvexen Abschnitten dar.

Ferner wurde aus den Bewertungsergebnissen in den Bsp. 1 bis 39 ein Graph erstellt, der die Beziehung zwischen dem Glitzerindexwert S und jedem der durchschnittlichen Durchmesser der ersten konvexen Abschnitte, der Dichte der zweiten konvexen Abschnitte und des Flächenverhältnisses der zweiten konvexen Abschnitte zeigt. Diese Graphen sind in den 19 bis 21 gezeigt. [Tabelle 1]

Bsp. Nr.	Filmstruktur	AG-Verarbeitungsverfahren	Teilchen	Teilchenkonzentration in der Beschichtungsflüssigkeit (%)	Feststoffgehaltkonzentration in der Beschichtungsflüssigkeit (Gew.-%)	Anzahl der Beschichtungsvorgänge (Mal)
1	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	ST-OZL	15	0,215	1
2	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	ST-OZL	10	0,215	1
3	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	SLV	11	0,215	1
4	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	ST-OZL	15	0,215	1
5	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	SLV	9	0,215	1
6	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	SLV	5	0,215	2
7	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	SLV	7	0,215	1
8	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	SLV	3	0,215	1
9	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	SLV	9	0,215	1
10	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	ST-OL	15	0,215	1
11	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	SLV	9	0,215	1
12	Glas (gehärtet)/ AG/AR/AFP	Elektrostatisches Spritzen	SLV	5	0,215	2
13	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	ST-OZL	15	0,215	1
14	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	SLV	5	0,215	1
15	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	ST-OZL	5	0,215	1
16	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	ST-OZL	15	0,215	2
17	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	SLV	5	0,215	1
18	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	ST-OZL	5	0,215	1
19	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	ST-OZL	5	0,215	1
20	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	SLV	9	0,215	2
21	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	ST-OL	10	0,215	1
22	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	SLV	7	0,215	2
23	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	SLV	9	0,215	2
24	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	SLV	9	0,215	2
25	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	SLV	9	0,215	3
26	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	SLV	7	0,215	3
27	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	ST-OL	5	0,215	1
28	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	SLV	9	0,215	2
29	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	ST-OL	10	0,215	1
30	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	SLV	11	0,215	3
31	Ätzen AG-Glas	Ätzen	-	-	-	-
32	Ätzen AG-Glas (gehärtet)/AR/AFP	Ätzen	-	-	-	-
33	Ätzen AG-Glas (gehärtet)/AR/AFP	Ätzen	-	-	-	-
34	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	Keine	0	0,215	1
35	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	ST-O	15	0,215	3
36	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	ST-OL	10	0,215	2
37	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	ST-O	15	0,215	2
38	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	ST-O	5	0,215	1
39	Glas/AG	Elektrostatisches Spritzen	ST-OL	5	0,215	2

[Tabelle 2]

Bsp. Nr.	Erste konvexe Abschnitte
Bsp. Nr.	Z-Bereich (µm)	Anzahl im Untersuchungsbereich (Einheiten)	Dichte (Einheiten/µm²)	Flächenverhältnis (%)	Maximaler Durchmesser (µm)	Minimaler Durchmesser (µm)	Durchschnittlicher Durchmesser (µm)	Maximale Höhe (µm)	Minimale Höhe (µm)	Durchschnittliche Höhe (µm)
1	1,480	351	0,022	26,685	20,865	1,001	2,965	0,946	0,077	0,161
2	1,063	59	0,004	2,139	12,284	1,007	2,072	0,235	0,086	0,143
3	2,894	362	0,023	19,293	13,631	1,001	2,700	1,744	0,109	0,322
4	0,730	305	0,019	30,573	28,252	1,007	3,125	0,305	0,081	0,139
5	2,406	332	0,021	22,403	16,634	1,020	2,884	1,254	0,092	0,290
6	2,159	318	0,020	28,271	18,573	1,011	3,169	1,365	0,189	0,343
7	1,767	340	0,022	21,177	14,218	1,003	2,889	1,159	0,087	0,243
8	0,412	235	0,015	27,917	26,330	1,003	3,493	0,338	0,083	0,171
9	2,683	388	0,025	23,213	14,329	1,001	2,754	1,364	0,138	0,376
10	0,419	20	0,001	5,497	13,780	1,576	6,603	0,172	0,088	0,103
11	2,531	334	0,021	15,625	15,917	1,001	2,520	1,247	0,132	0,325
12	1,568	582	0,037	8,726	8,028	1,001	1,627	0,633	0,154	0,287
13	0,962	279	0,018	32,639	23,929	1,002	3,500	0,455	0,077	0,145
14	0,538	261	0,017	30,425	23,575	1,015	3,550	0,478	0,082	0,183
15	0,820	204	0,013	29,935	35,669	1,012	3,546	0,242	0,077	0,124
16	0,756	137	0,009	15,755	17,583	1,004	3,307	0,373	0,090	0,158
17	0,528	255	0,016	31,393	22,823	1,007	3,736	0,400	0,085	0,190
18	1,930	232	0,015	26,927	21,475	1,001	3,306	1,192	0,080	0,139
19	1,083	211	0,013	31,933	38,130	1,008	3,405	0,568	0,086	0,142
20	2,086	207	0,013	45,367	51,562	1,026	3,914	1,306	0,086	0,312
21	0,433	23	0,001	8,438	15,293	1,393	7,819	0,237	0,086	0,153
22	1,626	199	0,013	46,883	39,635	1,006	4,099	1,129	0,093	0,268
23	3,051	367	0,023	19,342	16,603	1,000	2,584	1,756	0,128	0,316
24	2,781	276	0,017	42,760	40,078	1,004	3,332	1,183	0,140	0,330
25	3,683	300	0,019	37,613	18,394	1,004	3,680	2,172	0,095	0,354
26	2,521	313	0,020	31,827	21,901	1,005	3,334	1,330	0,087	0,287
27	0,406	28	0,002	15,275	20,431	1,024	9,051	0,300	0,087	0,159
28	2,690	320	0,020	36,567	22,363	1,007	3,390	1,683	0,132	0,358
29	0,847	22	0,001	14,296	24,768	1,866	9,855	0,324	0,088	0,153
30	4,118	97	0,006	65,237	124,934	1,008	3,851	2,143	0,102	0,348
31	0,458	210	0,013	12,767	11,344	1,004	2,953	0,182	0,076	0,120
32	1,256	119	0,008	3,331	7,934	1,004	2,051	0,628	0,156	0,224
33	1,458	108	0,007	2,111	4,968	1,007	1,786	0,608	0,147	0,208
34	0,401	23	0,001	23,326	27,042	1,086	12,172	0,314	0,076	0,211
35	1,379	7	0,000	57,328	125,284	1,112	20,196	0,702	0,082	0,196
36	1,214	11	0,001	36,670	74,385	1,103	16,275	0,843	0,090	0,268
37	0,525	12	0,001	40,016	86,692	1,912	17,272	0,328	0,106	0,202
38	0,463	18	0,001	28,663	29,576	7,453	16,524	0,226	0,116	0,169
39	0,887	9	0,001	36,931	81,623	1,247	20,663	0,436	0,091	0,263

[Tabelle 3]

Bsp. Nr.	Zweite konvexe Abschnitte
Bsp. Nr.	Z-Bereich (µm)	Anzahl im Untersuchungsbereich (Einheiten)	Dichte (Einheiten/µm²)	Flächenverhältnis (%)	Maximaler Durchmesser (µm)	Minimaler Durchmesser (µm)	Durchschnittlicher Durchmesser (µm)	Maximale Höhe (µm)	Minimale Höhe (µm)	Durchschnittliche Höhe (µm)
1	1,485	2,097	0,133	12,468	4,426	0,401	0,990	0,775	0,024	0,075
2	1,101	1,843	0,117	10,120	3,939	0,400	0,947	0,196	0,021	0,064
3	2,702	1,328	0,084	12,148	3,820	0,401	1,203	1,120	0,021	0,120
4	0,731	2,068	0,131	12,577	4,018	0,400	0,996	0,273	0,028	0,094
5	2,366	1,341	0,085	13,614	4,148	0,401	1,257	0,946	0,019	0,105
6	1,806	2,022	0,128	12,944	3,509	0,400	1,020	0,939	0,046	0,181
7	1,697	1,324	0,084	11,946	4,549	0,400	1,209	0,670	0,021	0,086
8	0,240	1,089	0,069	8,037	3,521	0,400	1,113	0,167	0,024	0,065
9	2,596	1,935	0,122	14,053	3,947	0,400	1,087	0,969	0,026	0,150
10	0,386	531	0,034	1,279	1,636	0,400	0,659	0,285	0,021	0,041
11	2,374	2,240	0,142	15,280	3,455	0,400	1,046	1,105	0,081	0,140
12	1,542	2,594	0,164	15,950	13,200	0,400	0,955	0,507	0,043	0,194
13	0,747	2,048	0,130	12,657	3,735	0,401	1,006	0,208	0,019	0,065
14	0,312	1,264	0,080	11,467	3,491	0,400	1,227	0,226	0,020	0,074
15	0,786	1,422	0,090	6,894	3,120	0,400	0,894	0,675	0,021	0,054
16	0,717	1,712	0,108	8,439	3,197	0,400	0,900	0,301	0,021	0,069
17	0,334	1,191	0,075	11,644	4,869	0,402	1,266	0,188	0,022	0,067
18	1,820	1,446	0,091	6,394	2,890	0,400	0,859	0,951	0,024	0,062
19	0,815	1,504	0,095	6,789	2,785	0,400	0,873	0,222	0,022	0,065
20	2,132	1,602	0,101	18,116	4,399	0,400	1,346	0,836	0,025	0,133
21	0,422	629	0,040	1,564	1,517	0,400	0,670	0,211	0,020	0,050
22	1,563	1,615	0,102	18,450	4,199	0,401	1,368	0,680	0,028	0,093
23	2,888	2,402	0,152	18,743	3,635	0,401	1,127	0,984	0,045	0,147
24	3,218	2,195	0,139	19,178	4,397	0,400	1,177	1,303	0,047	0,164
25	3,455	1,888	0,119	21,485	4,383	0,401	1,362	1,012	0,022	0,170
26	2,308	1,861	0,118	19,636	4,051	0,400	1,312	1,067	0,027	0,104
27	0,211	426	0,027	1,073	1,570	0,400	0,675	0,128	0,023	0,044
28	2,652	2,115	0,134	22,367	4,267	0,400	1,296	1,241	0,051	0,164
29	0,649	658	0,042	1,779	1,726	0,400	0,697	0,150	0,021	0,043
30	3,890	1,766	0,112	24,350	4,994	0,402	1,482	1,382	0,032	0,154
31	0,210	712	0,045	18,391	13,062	0,403	1,788	0,148	0,023	0,048
32	1,126	2,946	0,186	22,415	7,800	0,400	1,001	0,316	0,082	0,264
33	1,345	2,980	0,189	21,697	7,166	0,400	1,004	0,302	0,057	0,144
34	0,256	8	0,001	0,031	2,187	0,416	0,672	0,112	0,045	0,062
35	1,274	133	0,008	0,366	2,117	0,402	0,684	0,098	0,021	0,042
36	1,082	507	0,032	1,267	1,616	0,400	0,675	0,251	0,022	0,049
37	0,385	57	0,004	0,129	1,671	0,401	0,637	0,113	0,022	0,043
38	0,339	23	0,001	0,038	0,825	0,411	0,562	0,068	0,029	0,048
39	0,781	358	0,023	0,805	1,514	0,403	0,645	0,117	0,016	0,047

[Tabelle 4]

Bsp. Nr.	Trübungsfaktor (%)	60°-Spiegelglanz (%)	Streuung	Glitzermessung		Halbwertsbreite der Vorwölbungs-verteilung (nm)	Bleistifthärte
Bsp. Nr.	Trübungsfaktor (%)	60°-Spiegelglanz (%)	Streuung	Glitzerindexwert S	Bewertung	Halbwertsbreite der Vorwölbungs-verteilung (nm)	Bleistifthärte
1	1,5	124	0,06	19	⊚⊚	89	5H
2	1,2	125	0,06	20	⊚⊚	104	5H
3	5,7	107	0,07	20	⊚⊚	41	5H
4	1,5	123	0,06	20	⊚⊚	104	5H
5	4,8	109	0,07	21	⊚⊚	38	5H
6	4,0	103	0,14	21	⊚⊚	168	5H
7	3,9	113	0,07	21	⊚⊚	35	5H
8	1,9	117	0,09	21	⊚⊚	64	5H
9	5,4	105	0,08	22	⊚⊚	107	5H
10	0,5	130	0,07	22	⊚⊚	55	5H
11	5,9	104	0,08	23	⊚⊚	106	5H
12	2,2	107	0,07	23	⊚⊚	135	5H
13	1,7	123	0,06	23	⊚⊚	100	5H
14	3,2	112	0,09	23	⊚⊚	50	5H
15	1,0	125	0,08	24	⊚⊚	90	5H
16	0,9	120	0,08	24	⊚⊚	76	5H
17	3,0	112	0,09	24	⊚⊚	37	5H
18	0,9	127	0,08	25	⊚⊚	100	5H
19	0,8	127	0,08	25	⊚⊚	100	5H
20	7,3	91	0,11	25	⊚⊚	88	5H
21	0,4	129	0,08	25	⊚⊚	64	5H
22	5,9	96	0,11	26	⊚	94	5H
23	7,6	89	0,14	26	⊚	183	5H
24	8,7	85	0,13	28	⊚	184	5H
25	9,7	78	0,14	29	⊚	206	5H
26	7,9	84	0,13	29	⊚	192	5H
27	0,4	128	0,10	29	⊚	63	5H
28	9,5	82	0,13	29	⊚	210	5H
29	0,5	128	0,09	30	⊚	75	5H
30	13,2	67	0,16	30	⊚	239	5H
31	5,4	114	0,12	30	⊚	145	6H
32	1,0	112	0,12	34	◯	163	6H
33	1,1	111	0,11	36	◯	158	6H
34	0,30	125	0,12	39	×	42	5H
35	1,1	103	0,30	47	×	190	5H
36	0,7	115	0,20	48	×	61	5H
37	0,8	111	0,22	52	×	54	5H
38	0,2	128	0,13	52	×	37	5H
39	0,7	114	0,23	58	×	59	5H

In der Tabelle 1 stellen „Glas“, „Glas (gehärtet)“, „Ätzen AG-Glas“ oder „Ätzen AG-Glas (gehärtet)“ in der Filmstruktur das lichtdurchlässige Substrat in der lichtdurchlässigen Struktur von jedem der Bsp. dar. „AG“, „AR“ und „AFP“ stellen eine Blendschutzschicht, eine Antireflexionsschicht bzw. eine AFP-Schicht dar. „Elektrostatisches Spritzen“ stellt ein elektrostatisches Beschichtungsverfahren unter Verwendung einer automatischen elektrostatischen Pistole des rotierenden Zerstäubungstyps dar.
Die lichtdurchlässige Struktur in jedem der Bsp. 1 bis 33 wies einen Trübungsfaktor von mindestens 0,1 %, einen niedrigen Wert der Streuung und Blendschutzeigenschaften auf. Ferner betrug der Glitzerindex S höchstens 36 und folglich war ein Glitzern in der Praxis ausreichend unterdrückt. Da ferner der Trübungsfaktor höchstens 15 % betrug, kann davon ausgegangen werden, dass die Bildsichtbarkeit gut ist, wenn eine solche lichtdurchlässige Struktur auf der Betrachtungsseite einer Bildanzeigevorrichtung angeordnet ist. Andererseits wurde bei der lichtdurchlässigen Struktur in jedem der Bsp. 34 bis 39 ein beträchtliches Glitzern festgestellt.
Aufgrund des Graphen in der 19 wurde bestätigt, dass, da der durchschnittliche Durchmesser der ersten konvexen Abschnitte geringer war, das Glitzern zu einer Zunahme neigte. Aufgrund der 20 und 21 wurde bestätigt, dass dann, wenn die Dichte der zweiten konvexen Abschnitte oder das Flächenverhältnis der zweiten konvexen Abschnitte innerhalb des spezifischen Bereichs lag, das Glitzern zu einer Verminderung neigte.
GEWERBLICHE ANWENDBARKEIT
Die lichtdurchlässige Struktur der vorliegenden Erfindung kann im Hinblick auf deren optischen Eigenschaften, wie z.B. dem niedrigen Trübungsfaktor, den Eigenschaften eines geringen Glitzerns, usw., in verschiedenen Anwendungen, einschließlich Bildanzeigevorrichtungen, eingesetzt werden.
Die gesamte Offenbarung der japanischen Patentanmeldung Nr. 2016-017083 , die am 1. Februar 2016 eingereicht worden ist, einschließlich die Beschreibung, die Ansprüche, die Zeichnungen und die Zusammenfassung, ist unter Bezugnahme vollständig hierin einbezogen.
Bezugszeichenliste
1: Lichtdurchlässige Struktur, 2: Lichtdurchlässige Struktur, 3: Lichtdurchlässiges Substrat, 4: Lichtdurchlässiges Substrat, 5: Blendschutzschicht, 5a: Erste konvexe Abschnitte, 5b: Zweite konvexe Abschnitte, 6: Lichtdurchlässige Struktur, 7: Antireflexionsschicht (funktionelle Schicht), 8: Lichtdurchlässige Struktur, 9: Wasser/Öl-abstoßende Schicht (funktionelle Schicht), BH: Basishöhe
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

JP 2009058640 A [0010]
WO 2014/034720 [0010]
US 8974066 [0010]
JP 2013214059 A [0010]
JP 2016017083 [0237]

Claims

Lichtdurchlässige Struktur mit einer unebenen Struktur an deren Oberfläche, wobei die unebene Struktur erste konvexe Abschnitte umfasst, deren Durchmesser (berechnet als Kreise) bei „einer Höhe der Basishöhe + 0,05 µm der Oberflächenform“, erhältlich durch Messen eines rechteckigen Bereichs von (101 µm der kurzen Seite × 135 µm der langen Seite) bis (111 µm der kurzen Seite × 148 µm der langen Seite) der unebenen Struktur durch ein Lasermikroskop, mindestens 1 µm betragen, und der Durchschnittswert der Durchmesser (berechnet als Kreise) der ersten konvexen Abschnitte von 1,000 to 16,000 µm beträgt, und in einem Bild mit einer Mehrzahl von konvexen Abschnitten, das durch Filtern der Oberflächenform durch die Bildverarbeitungssoftware SPIP (hergestellt von Image Metrology) zum Erhalten eines Glättungsbilds und Subtrahieren von XYZ-Daten des Glättungsbilds von XYZ-Daten der Oberflächenform erhalten worden ist, die Mehrzahl von konvexen Abschnitten zweite konvexe Abschnitte umfasst, deren Durchmesser (berechnet als Kreise) bei einer Höhe von 0,01 µm, wenn die Basishöhe als 0 angesetzt wird, mindestens 0,4 µm betragen, die Dichte der zweiten konvexen Abschnitte von 0,023 bis 7,210 Einheiten/µm² beträgt und die Gesamtfläche im Querschnitt der zweiten konvexen Abschnitte bei einer Höhe von 0,01 µm von 0,900 bis 90,000 % der Gesamtfläche des Bereichs beträgt.
Lichtdurchlässige Struktur nach Anspruch 1, bei welcher der Durchschnittswert der Durchmesser (berechnet als Kreise) der ersten konvexen Abschnitte von 1,000 bis 12,000 µm beträgt, die Dichte der zweiten konvexen Abschnitte 0,023 bis 0,180 Einheiten/µm² beträgt und die Gesamtfläche im Querschnitt der zweiten konvexen Abschnitte von 1,000 bis 22,400 % der Gesamtfläche des Bereichs beträgt.
Lichtdurchlässige Struktur nach Anspruch 2, bei welcher der Durchschnittswert der Durchmesser (berechnet als Kreise) der ersten konvexen Abschnitte von 1,000 bis 8,000 µm beträgt, die Dichte der zweiten konvexen Abschnitte 0,033 bis 0,180 Einheiten/µm² beträgt und die Gesamtfläche im Querschnitt der zweiten konvexen Abschnitte von 1,270 bis 16,000 % der Gesamtfläche des Bereichs beträgt.
Lichtdurchlässige Struktur nach einem der Ansprüche 1 bis 3, die ein lichtdurchlässiges Substrat und eine Blendschutzschicht umfasst, die auf dem lichtdurchlässigen Substrat ausgebildet ist.
Lichtdurchlässige Struktur nach Anspruch 4, bei der die Blendschutzschicht ein Film ist, der vorwiegend aus Siliziumoxid zusammengesetzt ist, und die Bleistifthärte des Films gemäß JIS K5600-5-4 mindestens 5H beträgt.
Lichtdurchlässige Struktur nach Anspruch 4 oder 5, die ferner eine funktionelle Schicht auf der Blendschutzschicht aufweist.
Lichtdurchlässige Struktur nach einem der Ansprüche 1 bis 3, die ein lichtdurchlässiges Substrat mit einer Oberfläche mit der unebenen Struktur umfasst.
Lichtdurchlässige Struktur nach Anspruch 7, bei der das lichtdurchlässige Substrat ein anorganisches Glas oder ein Harzmaterial in einer Plattenform oder Filmform ist.
Lichtdurchlässige Struktur nach Anspruch 7, die ferner eine funktionelle Schicht auf der unebenen Struktur aufweist.
Lichtdurchlässige Struktur nach einem der Ansprüche 6 bis 9, bei der die funktionelle Schicht eine Antireflexionsschicht oder eine Wasser/Öl-abstoßende Schicht ist.
Lichtdurchlässige Struktur nach einem der Ansprüche 1 bis 10, die einen Trübungsfaktor von 0,1 bis 15 % aufweist.
Lichtdurchlässige Struktur nach einem der Ansprüche 1 bis 11, die vollständig gekrümmt ist oder mindestens teilweise gekrümmt ist.
Lichtdurchlässige Struktur nach Anspruch 12, die einen Teil, der gekrümmt ist, und einen Teil, der flach ist, umfasst.
Lichtdurchlässige Struktur nach Anspruch 12 oder 13, bei welcher der Krümmungsradius des gekrümmten Teils höchstens 25000 mm beträgt.
Lichtdurchlässige Struktur nach Anspruch 12 oder 13, bei welcher der Krümmungsradius des gekrümmten Teils von 30 bis 3000 mm beträgt.