CN107924003A - 透光性结构体 - Google Patents

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Abstract

提供一种低雾度且低闪光性的透光性结构体。一种透光性结构体，其在表面具有凹凸结构，所述凹凸结构包含利用激光显微镜测定所述凹凸结构而得到的表面形状(a)的承载部高度+0.05μm的高度处的直径为1μm以上的第一凸部5a，第一凸部5a的直径的平均值为1.000μm～16.000μm，利用图像处理软件对表面形状(a)进行滤波，得到平滑图像(b)，将从表面形状(a)的XYZ数据中减去平滑图像(b)的XYZ数据而得到的、分散有多个凸部的图像(c)中，将承载部高度设定为0时，所述多个凸部包含高度0.01μm处的直径为0.4μm以上的第二凸部5b，第二凸部5b的密度为0.023个/μm2～7.210个/μm2，且第二凸部5b的高度0.01μm处的截面的合计面积的比例为0.900％～90.000％。

Description

透光性结构体
技术领域
本发明涉及低雾度(ヘイズ率)且具有低闪光(ぎらつき)性的防眩性的透光性结构体。
背景技术
安装于各种设备(电视、个人电脑、智能手机、移动电话、车辆等)的图像显示装置(液晶显示器、有机电致发光(EL)显示器、等离子体显示器等)中，室内照明(荧光灯等)、太阳光等的外部光映射至显示面时，由于反射像而导致视觉辨认性降低。
为了抑制外部光的映射，进行以下操作：对构成图像显示装置的显示面的基材(玻璃板等)的表面实施防眩处理。防眩处理为在表面设置凹凸，并通过该凹凸使入射光散射的处理。通过入射光漫反射，反射像变得不清楚，抑制外部光的映射。作为防眩处理而言，已知：对基材的表面进行蚀刻的方法、在表面设置具有凹凸的防眩层的方法。作为防眩层的形成方法而言，已知通过喷涂法将含有烷氧基硅烷的水解缩合物等二氧化硅前体的涂布液涂布在基材上，并进行烘烤的方法(例如专利文献1)。
然而，对基材的表面实施防眩处理时，雾度增大，存在图像的视觉辨认性降低的问题。对于该问题，提出了如以下的(1)～(3)所述的具有减反射性的防眩性物品。在所述防眩性物品中，通过具有减反射性，抑制了入射光的反射，图像的分辨率、对比度、光的透射率提高，图像的视觉辨认性提高。
(1)一种防眩·减反射构件，其具有：在表层设置有具有凹凸结构的防眩层的基材、以及设置在所述防眩层之上的减反射层(专利文献2)。
(2)一种触摸式屏幕，其具有防眩层，所述防眩层在固化后的无机聚合物基质中包含凝聚物无机氧化物粒子，该无机氧化物粒子形成了大于2μm且小于等于约100μm的尺寸的表面结构(专利文献3)。
(3)一种防眩面板，其具有透明基板、以及形成在透明基板上的防眩涂层，所述防眩涂层包含多个板状二氧化硅粒子，该板状二氧化硅粒子的至少一部分形成多个花状结构(三次粒子)(专利文献4)。
另一方面，将实施了防眩处理的基材配置于图像显示装置的显示面时，由于存在凹凸而在显示面发生闪光，存在图像的视觉辨认性降低的问题。防眩性越高则该闪光倾向于越强。
作为能够抑制闪光的防眩涂层，提出了以下的方案(4)。
(4)一种防眩涂层，其为在基材上具有防眩层的防眩涂层，所述防眩层具有分离的多个区域，所述区域与基材之间形成凹凸状，且凸部区域内的表面平滑或形成有至少一个凹凸部(专利文献5)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2009-058640号公报
专利文献2：国际公开第2014/034720号
专利文献3：美国专利申请公开第2010/0279070号说明书
专利文献4：美国专利第8,974,066号说明书
专利文献5：日本特开2013-214059号公报
发明内容
发明所要解决的问题
专利文献2的防眩·减反射构件、专利文献3的触摸式屏幕与以往的实施了通常的防眩处理的情况同样地存在闪光的问题。专利文献4的防眩面板的雾度高，图像的视觉辨认性不充分。
专利文献5的防眩涂层虽然可以在一定程度上抑制闪光，但其效果不充分。近年来，液晶显示器的像素密度不断增大，像素密度变高时，即使凹凸结构相同，闪光也变强。因此，要求进一步减小闪光。
本发明的目的在于提供一种低雾度且具有低闪光性的防眩性的透光性结构体、具有该结构体的物品和图像显示装置。
用于解决问题的手段
本发明具有下述的方式。
一种透光性结构体，其为在表面具有凹凸结构的透光性结构体，其中，
所述凹凸结构包含通过用激光显微镜测定所述凹凸结构的(短边101μm×长边135μm)～(短边111μm×长边148μm)的区域而得到的“表面形状的承载部高度+0.05μm的高度”处的直径(正圆换算)为1μm以上的第一凸部，所述第一凸部的直径(正圆换算)的平均值为1.000μm～16.000μm，
通过利用图像处理软件SPIP(Image Metrology公司制造)对所述表面形状进行滤波而得到平滑图像，在从所述表面形状的XYZ数据中减去所述平滑图像的XYZ数据而得到的具有多个凸部的图像中，将承载部高度设定为0时，所述多个凸部包含高度0.01μm处的直径(正圆换算)为0.4μm以上的第二凸部，该第二凸部的密度为0.023个/μm2～7.210个/μm2，并且高度0.01μm处的所述第二凸部的截面的合计面积相对于所述区域的总面积为0.900％～90.000％。
发明效果
根据本发明，可以提供一种低雾度且具有低闪光性的防眩性的透光性结构体、具有该结构体的物品和图像显示装置。
对于本发明的透光性结构体而言，由于具有防眩性，因此将本发明的透光性结构体配置于图像显示装置的显示面时，通过透光性结构体表面的凹凸结构，外部光发生漫反射，反射像变得不清楚，可以抑制因外部光映射至显示面而导致的图像的视觉辨认性的降低。另外，本发明的透光性结构体的雾度低且在凹凸结构的表面不容易产生闪光，因此不容易产生因配置透光性结构体而导致的图像的分辨率、对比度、光的透射率的降低、以及因显示面的闪光而导致的图像的视觉辨认性的降低。
附图说明
图1为示意性地表示本发明的第一实施方式的透光性结构体的剖视图。
图2为示意性地说明第一实施方式的透光性结构体的表面附近的结构的图。
图3为说明第一实施方式的透光性结构体的表面形状、其平滑图像、以及作为它们的XYZ数据的差分而得到的图像的关系的图。
图4为表示本发明的第二实施方式的透光性结构体的示意剖视图。
图5为说明第二实施方式的透光性结构体的表面形状、其平滑图像、以及进行它们的XYZ数据的差分而得到的图像的关系的图。
图6为示意性地表示本发明的第三实施方式的透光性结构体的剖视图。
图7为示意性地说明第三实施方式的透光性结构体的表面附近的结构的剖视图。
图8为示意性地表示本发明的第四实施方式的透光性结构体的剖视图。
图9为例1的透光性结构体中的防眩层侧的表面的激光显微镜图像。
图10为从斜上方60度观察例1的透光性结构体中的防眩层侧的表面而得到的扫描显微镜(SEM)图像。
图11为利用SPIP对例1的透光性结构体的防眩层侧的表面形状进行分析而得到的图像(承载部高度+0.05μm的高度处的截面)。
图12为利用SPIP对例1的透光性结构体的防眩层侧的表面形状进行分析而得到的图像(作为表面形状的XYZ数据与平滑图像的XYZ数据的差分而得到的图像的0.01μm的高度处的截面)。
图13为例21的透光性结构体中的防眩层侧的表面的激光显微镜图像。
图14为利用SPIP对例21的透光性结构体的防眩层侧的表面形状进行分析而得到的图像(承载部高度+0.05μm的高度处的截面)。
图15为利用SPIP对例21的透光性结构体的防眩层侧的表面形状进行分析而得到的图像(作为表面形状的XYZ数据与平滑图像的XYZ数据的差分而得到的图像的0.01μm的高度处的截面)。
图16为例34的透光性结构体中的防眩层侧的表面的激光显微镜图像。
图17为利用SPIP对例34的透光性结构体的防眩层侧的表面形状进行分析而得到的图像(承载部高度+0.05μm的高度处的截面)。
图18为利用SPIP对例34的透光性结构体的防眩层侧的表面形状进行分析而得到的图像(作为表面形状的XYZ数据与平滑图像的XYZ数据的差分而得到的图像的0.01μm的高度处的截面)。
图19为表示例1～39中的第一凸部的平均直径与闪光指标值的关系的图。
图20为表示例1～39中的第二凸部的密度与闪光指标值的关系的图。
图21为表示例1～39中的第二凸部的面积率与闪光指标值的关系的图。
具体实施方式
以下的术语的定义适用于整个本说明书和权利要求书。
“透光性”是指，能够透射可见光。
“承载部高度”为由用激光显微镜对(101μm×135μm)～(111μm×148μm)的区域(以下，也称为“观察区域”)进行测定而得到的观察区域的表面形状的XYZ数据而求出的高度分布直方图中，最优势的高度Z的值。在没有特别规定基准的情况下，XYZ数据中的高度Z为以观察区域的最低点(Z的值取最小值的位置)为基准的高度(从测定高度Z的位置到观察区域中的与透光性结构体的主面平行且包含最低点的平面的垂线的长度)，以下，在没有特别规定基准的情况下的表面形状中的高度的含义也是同样的。高度分布直方图中的各区间的宽度(bin)设定为1000。
XYZ数据中，Z方向为凹凸结构的高度方向(透光性结构体的厚度方向)，XY平面为与Z方向正交的面。
表示数值范围的“～”以包括记载于其前后的数值作为下限值和上限值的含义使用。
《透光性结构体》
{第一实施方式}
图1中，本实施方式的透光性结构体1具有：透光性基材3、和形成在其第一表面3A上的防眩层5。防眩层5在表面具有凹凸结构。防眩层5的表面构成透光性结构体1的表面。因此，透光性结构体1在表面具有凹凸结构。需要说明的是，图1中，为了方便起见，防眩层5的厚度相对于透光性基材3的厚度的比率大于实际的比率。
(透光性基材)
作为透光性基材3而言，只要为能够透射可见光的基材即可，优选为透明的基材。透光性基材3中的透明是指，平均透射80％以上的400nm～1100nm的波长范围内的光(平均透射率为80％以上)。400nm～1100nm的波长范围内的光的平均透射率使用积分球测定。
透光性基材3的材料可以列举例如玻璃、树脂等。作为玻璃而言，可以列举例如钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃、铝硅酸盐玻璃、无碱玻璃等。作为树脂而言，可以列举例如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、三乙酰纤维素、聚甲基丙烯酸甲酯等。
作为透光性基材3的形态而言，可以列举例如板、膜等。
透光性基材3的第一表面3A可以为平滑的，也可以具有凹凸。从设置防眩层5的有用性的方面考虑，优选为平滑的。第一表面3A的算术平均粗糙度Ra优选为10nm以下，更优选为5nm以下，进一步优选为2nm以下，特别优选为1nm以下。在此所说的Ra为在SII纳米科技公司制造的扫描型探针显微镜多功能单元SPA-400的原子力显微镜(AFM)模式下所测定的值。
透光性基材3的形状不仅可以为如图所示的平坦的形状，而且可以为具有曲面的形状。最近，在具有图像显示装置的各种设备中，出现了图像显示装置的显示面为曲面的设备。透光性基材3为具有曲面的形状的透光性结构体1用于这样的图像显示装置是有用的。
透光性基材3具有曲面的情况下，透光性基材3的表面可以整个由曲面构成，也可以由曲面的部分和平坦的部分构成。作为整个表面由曲面构成的情况的例子，可以列举例如：透光性基材的截面为圆弧状的情况。需要说明的是，在此的曲面为在用激光显微镜观察的观察区域中可忽略的程度的微小的曲面。
透光性基材3具有曲面的情况下，该曲面的曲率半径(以下，也称为“R”)可以根据透光性结构体1的用途、透光性基材3的种类等适当设定，没有特别限制，优选为25000mm以下，更优选为10mm～5000mm，特别优选为50mm～3000mm。如果R为所述的上限值以下，则与平板相比，设计性优异。如果R为所述的下限值以上，则在曲面表面也能够均匀地形成防眩层。
作为透光性基材3而言，优选玻璃板。玻璃板可以为通过浮法、熔合法(フュージョン法)、下拉法等成形的平滑的玻璃板，也可以为通过辊压法等形成的在表面具有凹凸的压花玻璃。另外，不仅可以为平坦形状的玻璃板，也可以为具有曲面的形状的玻璃板。玻璃板具有曲面的情况下，该曲面的优选曲率半径与上述相同。
透光性基材3的厚度没有特别限制。例如可以使用厚度10mm以下、优选0.5mm～3mm的玻璃板。厚度越薄，则越能将光的吸收抑制得较低，因此对于以提高透射率为目的的用途是优选的。另外，厚度越薄，则越有助于透光性结构体1的轻量化。
玻璃板优选为强化玻璃板。强化玻璃板为实施了风冷强化或化学强化处理的玻璃板。通过强化处理，玻璃的强度提高，例如能够在维持强度的同时削减板厚。
(防眩层)
防眩层5在表面具有凹凸结构。
防眩层5的表面(换言之，透光性结构体1的表面)的凹凸结构如图2、图3(a)所示包含：防眩层5的表面形状(换言之，透光性结构体1的表面形状)中的承载部高度+0.05μm的高度处的直径(正圆换算)为1μm以上的第一凸部5a。图2中的标记“BH”表示承载部高度。存在多个第一凸部5a，由多个第一凸部5a在防眩层5的表面形成了起伏。
另外，对于防眩层5的表面形状而言，利用图像处理软件SPIP(Image Metrology公司制造)对所述表面形状进行滤波，从而得到如图3(b)所示的平滑图像，从所述表面形状的XYZ数据中减去所述平滑图像的XYZ数据时，得到如图3(c)所示的分散有多个凸部的图像。该分散有多个凸部的图像中，所述多个凸部包含高度0.01μm处的直径(正圆换算)为0.4μm以上的第二凸部5b。存在多个第二凸部5b。本实施方式中，第二凸部5b典型地以岛状分布在由多个第一凸部5a形成的起伏之上。
在防眩层5上可以局部具有透光性基材3露出的部分。
所述表面形状是用激光显微镜对防眩层5的表面(透光性结构体1的表面)的观察区域进行测定而得到的。
观察区域为短边101μm～111μm×长边135μm～148μm的矩形的范围内。换言之，观察区域最小为101μm×135μm、最大为111μm×148μm的矩形的范围内。另外，纵×横的比率(长边的长度/短边的长度)通常设定在约1.21～约1.46的范围内。
在此，之所以用范围描述观察区域，是因为即使使用相同倍率的物镜，观察区域也会根据透镜的个体差异而不同。测定结果用观察区域内的最大、最小、以及平均值表示，因此即使观察区域稍有不同，只要选择相同倍率的物镜，结果也几乎没有差别。
用激光显微镜测定的观察区域为从防眩层5的表面(透光性结构体1的表面)随机选择的1个部位。激光显微镜中的详细测定条件如后述的实施例所示。
用于得到在所述平面分散有多个凸部的图像的分析具体而言可以通过以下的(i)～(iv)的步骤进行。
(i)在自定义模式下，进行实际测定的防眩层5的表面形状的XYZ数据的倾斜校正，得到将承载部高度校正为0后的表面形状图像。
(ii)对于将所述承载部高度校正为0后的表面形状图像，在“卷积：平滑：设定为平均”、“内核尺寸：X＝Y＝31、设定为圆形”的条件下，用圆形单元对31个XY数据进行使Z平均化的滤波，得到图3(b)所示的平缓的凹凸表面形状图像(以下，也称为“平滑图像(b)”)。
(iii)由将所述承载部高度校正为0后的表面形状图像，在阈值水平：0.01μm下对“粒子”进行检测。然后，在图像窗口的测定中，选择“滤波差分”，“形状完全保存”，在滤波尺寸为51点的条件下进行“将形状轮廓平滑化”的后处理，得到如图3(a)所示的后处理后的表面形状图像(以下，也称为“表面形状(a)”)。
(iv)作为所述平滑图像(b)与所述表面形状(a)的差分，得到如图3(c)所示的分散有多个凸部的形状图像(以下，也称为“图像(c)”)。
上述(i)的“自定义模式”是用SPIP进行倾斜校正(平坦化)时所显示的模式，具体而言，自动进行以下的4个操作。
(i-1)作为“整面校正法”，选择“平均图形拟合法”，次数设定为3。
(i-2)不选择“处理梯级(ステップ)”。
(i-3)关于“每条线的校正”，选择“无”。
(i-4)作为“Z偏移法”，选择“将承载部高度设定为零”。
进行上述倾斜校正时，关于用激光显微镜得到的表面形状的XYZ数据，由X和Y的平均图形(平均プロファイル)来计算拟合面，通过从图像中减去所述拟合面而除去图像整体的倾斜、不需要的弯曲。
上述(ii)中，在将内核尺寸设定为X＝Y＝31、圆形的情况下，以内接31×31的四边形的八边形，设定用于替代圆形的框(内核)。滤波中，与内核形状无关，用内核内的所有点的单纯的平均值置换原来的数据。
进行滤波时，得到如图3(b)所示的、除去了微细的凹凸(平均化)的平滑图像(b)。
对于SPIP的平均化滤波器而言，使用了31×31的滤波器。详细信息由以下的矩阵运算表示。
某1点：对于XYZ，在以该点为中心的圆形(按距离缩短的顺序)中抽出961点，将与各点XY对应Z值进行求和，将该合计值除以961而得到的值作为坐标XY的新的Z值。对面内所有点进行该计算。
X方向、Y方向的测定点的间隔各自为71nm。
此时，在每从1点移动到相邻1点的同时对所有点求平均，因此分辨率并无降低。
上述(iii)中，阈值水平为0.01μm是指对高度为0.01μm以上的粒子(凸部)进行检测。高度以承载部高度为基准。
后处理中，“形状完全保存”表示在所检测的粒子的区域内存在高度0.01μm以下的凹部的情况下，不将该凹部部分的面积作为粒子的面积进行计数的操作。
“将形状轮廓平滑化”表示去除粒子的形状轮廓的噪声的操作。
滤波器尺寸表示粒子的形状轮廓的平滑程度，因此该值越大，平滑后的形状轮廓越接近圆。
换言之，通过(iii)的后处理而得到的表面形状(a)是从实际测定数据中除去噪声，并调整凸部的形状轮廓而得到的形状，可以认为是包含实际的第一凸部的凹凸表面形状。
(iv)中，从由(ii)得到的平滑图像(b)中减去由(iii)得到表面形状(a)时，得到图像(c)。
一般而言，在具有起伏的表面上分布有凸部的情况下，难以准确地测定该凸部的数量、形状。在上述形状分析中，将平滑图像(b)与表面形状(a)重叠时，将位于比平滑图像(b)的表面更上侧的凸部定义为将具有起伏的表面的起伏消除时的、分布在该表面上的凸部。
第一凸部5a为在“所述表面形状的承载部高度+0.05μm的高度”处对切割面进行观察时的凸部，并且为由该切割面的面积计算出的直径(正圆换算)为1μm以上的凸部。
对于第一凸部5a的所述直径(正圆换算)的上限值而言，只要后述的平均直径处于特定的范围内，则没有特别限制，典型地为16μm以下。
第一凸部5a的所述直径(正圆换算)的平均值(以下，也称为“平均直径”)为1.000μm～16.000μm，优选为1.000μm～12.000μm，特别优选为1.000μm～8.000μm。如果上述平均直径为所述范围的下限值以上，则防眩性良好。如果上述平均直径为所述范围的上限值以下，则低闪光性优异。
所述表面形状中的第一凸部5a的密度优选为0.001个/μm2～1.15个/μm2，更优选为0.001个/μm2～0.1个/μm2，特别优选为0.001个/μm2～0.050个/μm2。如果上述密度为上述范围的下限值以上，则防眩性更优异。如果上述密度为上述范围的上限值以下，则低闪光性更优异。
所述表面形状的承载部高度+0.05μm的高度处的第一凸部5a的截面的合计面积的、相对于观测区域的总面积的比例(以下，也称为“面积率”)优选为2.00％～90.75％，更优选为2.00％～70.00％，特别优选为2.00％～50.00％。如果上述面积率为上述范围的下限值以上，则防眩性更优异。如果上述面积率为上述范围的上限值以下，则低闪光性更优异。
观测区域的总面积等于所述表面形状的承载部高度+0.05μm的高度处的、还包括空隙部分的截面的总面积。
第二凸部5b为在作为表面形状(a)和平滑图像(b)的XYZ数据的差分而得到的图像(c)的0.01μm的高度(图(c)的最低点，换言之，以承载部高度平面的位置为基准的高度)处观察切割面时的凸部，并且为由该切割面的面积计算出的直径(正圆换算)为0.4μm以上的凸部。如果所述直径为0.4μm以上，则可以妨碍由第一凸部5a的表面折射的可见光彼此干涉，从而可以抑制闪光。在所述直径小于0.4μm的情况下，由于小于可见光的波长，因此有可能无法得到如上所述的效果。
对于第二凸部5b的所述直径(正圆换算)的上限值而言，只要后述的密度和面积率处于特定的范围内，则没有特别限制，典型地为2.000μm以下。
第二凸部5b的所述直径(正圆换算)的平均值(以下，也称为“平均直径”)优选为0.400μm～2.000μm，更优选为0.500μm～1.800μm，特别优选为0.600μm～1.500μm。如果上述平均直径在所述范围内，则低闪光性优异。
图像(c)中的第二凸部5b的密度为0.023个/μm2～7.210个/μm2，优选为0.023个/μm2～0.180个/μm2，特别优选为0.033个/μm2～0.180个/μm2。如果上述密度在上述范围内，则低闪光性优异。
图像(c)中，将承载部高度设定为0时的高度0.01μm处的第二凸部5b的截面的合计面积的、相对于观测区域的总面积的比例(以下，也称为“面积率”)为0.900％～90.000％，优选为1.000％～22.400％，特别优选为1.270％～16.000％。如果上述面积率在上述范围内，则低闪光性优异。观测区域的总面积等于图像(c)的高度0.01μm处的、还包括空隙部分的截面的总面积。
第一凸部5a、第二凸部5b的各自的平均直径、密度、面积率等特性通过利用图像处理软件SPIP(Image Metrology公司制造)对用激光显微镜测定的表面形状的数据进行分析而求出。详细的分析方法如后述的实施例所示。
防眩层5的表面、换言之、透光性结构体1的表面的凹凸结构中、突起分布的半峰宽优选为10nm～300nm，更优选为30nm～250nm。突起分布的半峰宽表示表面凹凸结构的凸部的平均的高度的均匀性、以及凸部形状的平均的陡峭性，突起部分的半峰宽的值越小，则表示表面凹凸结构的凸部的平均的高度的均匀性越高，凸部形状越陡峭。在此所说的凸部主要相当于第一凸部5a。凸部的平均的高度的均匀性越高则膜强度越优异。另一方面，形状越陡峭，则闪光抑制效果越优异。雾度为0.1％～15％以下的区域中，突起分布的半峰宽为500nm以上的凸部形状平缓的情况下，难以兼顾雾度与闪光抑制效果，特别是在雾度为0.1％～5％的情况下，难以得到充分的闪光抑制效果。
防眩层5的折射率优选为1.36～1.46，更优选为1.40～1.46，特别优选为1.43～1.46。如果上述折射率为所述范围的上限值以下，则在防眩层5的表面处的外部光的反射率变低，防眩效果更优异。如果上述折射率为所述范围的下限值以上，则防眩层5的致密性足够高，与玻璃板等透光性基材3的粘附性优异。
防眩层5的折射率可以通过防眩层5的基质的材质、空隙率、向基质中添加具有任意的折射率的物质等而进行调节。例如，可以通过提高防眩层5的空隙率来降低折射率。另外，可以通过在基质中添加折射率低的物质(实心二氧化硅粒子、中空二氧化硅粒子等)来降低防眩层5的折射率。
防眩层5的材质可以考虑折射率等而进行适当设定。作为防眩层5的折射率为1.40～1.46的情况下的防眩层5的材质而言，可以列举二氧化硅、二氧化钛等。
防眩层5优选为以二氧化硅作为主要成分的膜。“以二氧化硅作为主要成分”是指含有90质量％以上的SiO2。如果以二氧化硅作为主要成分，则防眩层5的折射率(反射率)容易降低。另外，防眩层5的化学稳定性等也良好。另外，在透光性基材3的材质为玻璃的情况下，与透光性基材3的粘附性良好。另外，在使用光固化树脂与微粒形成规定的凹凸结构的情况下，凹凸表面的铅笔硬度为约2H，与此相对，在使用以二氧化硅作为主要成分的材质形成规定的凹凸结构的情况下，可以将凹凸表面的铅笔硬度调节为5H以上。如果该铅笔硬度、换言之、透光性结构体1的凹凸表面的铅笔硬度为5H以上，则耐擦伤性优异。铅笔硬度根据JIS K5600-5-4测定。评价在透光性结构体的具有凹凸结构的表面实施。
以二氧化硅作为主要成分的情况下，防眩层5可以仅由二氧化硅构成，也可以少量含有除二氧化硅以外的成分。
(雾度)
透光性结构体1的雾度优选为0.1％～15.0％，更优选为0.2％～10.0％，特别优选为0.5％～5.0％。如果雾度为所述范围的下限值以上，则防眩性更优异。如果雾度为所述范围的上限值以下，则在配置于图像显示装置的显示面时，不容易损害图像的视觉辨认性。
雾度根据JIS K7136：2000(ISO14782：1999)中记载的方法，使用雾度计(村上色彩研究所公司制造HR-100型)测定。
(光泽度)
透光性结构体1的具有凹凸结构的表面(防眩层5的表面)中的60°镜面光泽度优选为140％以下，更优选为135％以下，进一步优选为130％以下。具有凹凸结构的表面中的60°镜面光泽度为防眩效果的指标。如果该镜面光泽度为所述的上限值以下，则可以发挥充分的防眩效果。
60°镜面光泽度(％)通过JIS Z8741：1997(ISO2813：1994)中记载的方法，使用光泽度计(柯尼卡美能达公司制造、MULTI GLOSS 268 Plus)，消除透光性结构体的背面反射(与形成有凹凸结构的一侧相反侧的面)，在防眩层的大致中央部测定。
(闪光指标值S)
对于透光性结构体1而言，使用I·System公司制造的EyeScale ISC-A，在苹果公司制造的iPhone4(像素密度326ppi)之上，以使得具有凹凸结构的表面(防眩层5侧的表面)朝上的方式设置透光性结构体1，所要测定的闪光(Sparkle)指标值S优选为36以下，更优选为30以下，特别优选为25以下。闪光指标值S越小，表示闪光越被抑制。
对于以上说明的透光性结构体1而言，由于在表面(防眩层5侧的表面)具有特定的凹凸结构，因此具有防眩性，并且为低雾度且低闪光性。
认为透光性结构体1中，第一凸部5a主要通过使外部光漫反射而有助于防眩性，第二凸部5b主要有助于闪光的抑制。据推测，在凹凸结构不以一定以上的密度和面积率包含第二凸部5b的情况下，从透光性基材3侧入射至防眩层5的光由第一凸部5a的表面折射，折射的光彼此在第一凸部5a的表面附近发生干涉而成为闪光的原因。据推测，第二凸部5b通过妨碍经折射的光彼此发生干涉而抑制闪光。
＜透光性结构体的制造方法＞
透光性结构体1例如可以通过如下方式制造，在透光性基材3上涂布涂料组合物而形成涂膜，并对所述涂膜进行烘烤而形成防眩层5。涂料组合物包含例如：二氧化硅前体(A)和粒子(C)中的至少一者、以及液体介质(B)。
(二氧化硅前体(A))
“二氧化硅前体”是指能够形成以二氧化硅作为主要成分的基质的物质。作为二氧化硅前体(A)而言，可以使用合适的公知的烷氧基硅烷等硅烷化合物、其水解缩合物等。二氧化硅前体(A)可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。
从防止防眩层5的裂纹、膜剥离的观点考虑，二氧化硅前体(A)优选含有具有直接键合在硅原子上的碳原子的烷氧基硅烷及其水解缩合物中的任一者或两者。从防眩层5的耐磨耗强度的观点考虑，二氧化硅前体(A)优选包含四烷氧基硅烷及其水解缩合物中的任一者或两者。
(液体介质(B))
液体介质(B)为使二氧化硅前体(A)溶解或分散的介质，优选使用使粒子(C)分散的介质。液体介质(B)同时具有使二氧化硅前体(A)溶解或分散的功能、和作为使粒子(C)分散的分散介质的功能。
液体介质(B)至少包含沸点150℃以下的液体介质(B1)。上述沸点优选为50℃～145℃，更优选为55℃～140℃。如果液体介质(B1)的沸点为150℃以下，则使用具有具备旋转雾化头的静电涂装枪的静电涂装装置将涂料组合物涂布在透光性基材3上、并进行烘烤而得到的膜具有防眩性能。如果上述沸点为所述范围的下限值以上，则涂料组合物的液滴附着在透光性基材3上后，能够在充分保持液滴形状的状态下形成凹凸结构。
二氧化硅前体(A)中的烷氧基硅烷等的水解需要水，因此只要在水解后不进行液体介质的置换，则液体介质(B)至少包含水作为液体介质(B1)。液体介质(B)根据需要可以还包含除液体介质(B1)以外的其它液体介质、即沸点大于150℃的液体介质。
(粒子(C))
作为粒子(C)的材质而言，可以列举金属氧化物、金属、颜料、树脂等。作为金属氧化物而言，可以列举Al2O3、SiO2、SnO2、TiO2、ZrO2、ZnO、CeO2、含Sb的SnOX(ATO)、含Sn的In2O3(ITO)、RuO2等。在防眩膜5的基质以二氧化硅作为主要成分的情况下，折射率与基质相等，因此优选SiO2。作为金属而言，可以列举金属单质(Ag、Ru等)、合金(AgPd、RuAu等)等。作为颜料而言，可以列举无机颜料(钛黑、炭黑等)、有机颜料等。作为树脂而言，可以列举丙烯酸类树脂、聚苯乙烯、三聚氰胺树脂等。
粒子(C)可以为实心粒子，也可以为中空粒子，也可以为多孔粒子等具有孔的粒子。“实心”表示在内部不具有空腔。“中空”表示在内部具有空腔。粒子(C)可以单独使用一种，也可以并用两种以上。
作为粒子(C)而言，从能够抑制膜的折射率上升、降低反射率的观点考虑，优选球状、鳞片状、棒状、针状等的二氧化硅粒子。从易于得到更低的雾度的观点考虑，优选球状二氧化硅粒子。从能够以较少的量得到防眩效果的观点、以及从能够抑制防眩层的裂纹、膜剥离的观点考虑，优选鳞片状二氧化硅粒子。“鳞片状”是指扁平的形状。
球状二氧化硅粒子可以为实心，也可以为中空，也可以为多孔二氧化硅粒子。它们可以单独使用任一种也可以并用两种以上。作为中空二氧化硅粒子而言，可以列举具有二氧化硅(SiO2)的外壳并且外壳内形成了空腔的粒子。
球状二氧化硅粒子的平均粒径优选为10nm～300nm，更优选为40nm～200nm，进一步优选为70nm～110nm。如果该平均粒径为上述范围的下限值以上，则低闪光性更优异。如果该平均粒径为上述范围的上限值以下，则雾度变得更低。另外，涂料组合物中的分散稳定性良好。
球状二氧化硅粒子的平均粒径是指，在将以体积基准求出的粒度分布的总体积设为100％的累计体积分布曲线中达到50％的点的粒径、即体积基准累计50％直径(D50)。粒度分布由利用激光衍射/散射式粒径分布测定装置测定的频率分布和累计体积分布曲线求出。
鳞片状二氧化硅粒子是薄片状的二氧化硅一次粒子、或多片薄片状的二氧化硅一次粒子彼此以面间平行的方式取向、重叠而形成的二氧化硅二次粒子。二氧化硅二次粒子通常具有层叠结构的粒子形态。鳞片状二氧化硅粒子可以仅为二氧化硅一次粒子和二氧化硅二次粒子中的任一者，也可以为两者。
二氧化硅一次粒子的厚度优选0.001μm～0.1μm。如果该厚度在所述范围内，则可以彼此以面间平行的方式取向从而形成一片或多片重叠的鳞片状的二氧化硅二次粒子。二氧化硅一次粒子的最小长度对厚度之比优选为2以上，更优选为5以上，进一步优选为10以上。
二氧化硅二次粒子的厚度优选为0.001μm～3μm，更优选为0.005μm～2μm。二氧化硅二次粒子的最小长度对厚度之比优选为2以上，更优选为5以上，进一步优选为10以上。二氧化硅二次粒子优选不熔合而相互独立地存在。
鳞片状二氧化硅粒子的平均长径比优选为30～200，更优选为40～160，进一步优选为50～120。如果该平均长径比为上述范围的下限值以上，则即使膜厚较厚，也能够充分抑制防眩层的裂纹、膜剥离。如果该平均长径比为上述范围的上限值以下，则在涂料组合物中的分散稳定性良好。
“长径比”是指粒子的最长长度对厚度之比(最长长度/厚度)，“平均长径比”为随机选择的50个粒子的长径比的平均值。粒子的厚度可以利用原子力显微镜(AFM)测定，最长长度可以利用透射型电子显微镜(TEM)测定。
鳞片状二氧化硅粒子的平均粒径优选为50nm～500nm，更优选为100nm～300nm。如果该平均粒径在上述范围的下限值以上，则低闪光性更优异。另外，即使膜厚较厚，也能够充分抑制防眩层的裂纹、膜剥离。如果该平均粒径为上述范围的上限值以下，则雾度变得更低。另外，涂料组合物中的分散稳定性良好。
球状二氧化硅粒子的平均粒径以与球状二氧化硅粒子的平均粒径同样的方式进行测定。
粉体或分散体中，不仅包含鳞片状二氧化硅粒子，有时还包含在鳞片状二氧化硅粒子的制造时产生的不规则(不定形)二氧化硅粒子。鳞片状二氧化硅粒子例如通过以下方式得到：将鳞片状二氧化硅粒子凝聚、不规则地重叠而形成的具有间隙的凝聚物形状的二氧化硅三次粒子(以下，也记为二氧化硅凝聚物)拆解(解砕)并分散化。不规则二氧化硅粒子为二氧化硅凝聚物被一定程度微粒化的状态，但其为并未微粒化到单个鳞片状二氧化硅粒子的状态，而是其中多个鳞片状二氧化硅粒子形成块的形状。包含不规则二氧化硅粒子时，有可能容易发生所形成的防眩层的致密性降低而裂纹、膜剥离。因此，粉体或分散体中的不规则二氧化硅粒子的含量越少则越优选。
不规则二氧化硅粒子和二氧化硅凝聚物在TEM观察中均观察到呈黑色状。另一方面，薄片状的二氧化硅一次粒子或二氧化硅二次粒子在TEM观察中观察到呈淡黑色或半透明状。
鳞片状二氧化硅粒子可以使用市售的产品，也可使用制造的产品。
作为鳞片状二氧化硅粒子的市售品而言，可以列举例如AGC Si-Tech公司制造的SUN LOVELY(注册商标)系列。
(粘结剂(D))
作为粘结剂(D)(其中不包括二氧化硅前体(A))而言，可以列举溶解或分散于液体介质(B)的无机物、树脂等。作为无机物而言，可以列举例如除二氧化硅以外的金属氧化物前体(金属：钛、锆等)。作为树脂而言，可以列举热塑性树脂、热固性树脂、紫外线固化性树脂等。
(添加剂(E))
作为添加剂(E)而言，可以列举例如具有极性基团的有机化合物(E1)、紫外线吸收剂、红外线反射/红外线吸收剂、减反射剂、用于提高流平性的表面活性剂、用于提高耐久性的金属化合物等。
涂料组合物含有粒子(C)的情况下，通过使涂料组合物包含具有极性基团的有机化合物(E1)，能够抑制涂料组合物中的由静电力导致的粒子(C)的凝聚。
作为具有极性基团的有机化合物(E1)而言，可以列举不饱和羧酸聚合物、纤维素衍生物、有机酸(其中不包括不饱和羧酸聚合物)、萜烯化合物等。有机化合物(E1)可以单独使用一种，也可以并用两种以上。
作为用于提高流平性的表面活性剂而言，可以列举硅油类、丙烯酸类等。作为用于提高耐久性的金属化合物而言，优选锆螯合化合物、钛螯合化合物、铝螯合化合物等。作为锆螯合化合物而言，可以列举四乙酰丙酮合锆、三丁氧基硬脂酸根合锆等。
(组成)
在涂料组合物中的固体成分(100质量％)(其中，二氧化硅前体(A)以SiO2换算)之中，涂料组合物中的二氧化硅前体(A)与粒子(C)的合计含量优选为30质量％～100质量％，更优选为40质量％～100质量％。如果上述合计含量为所述范围的下限值以上，则与透光性基材3的粘附性优异。如果上述合计含量为所述范围的上限值以下，则可以抑制防眩层5的裂纹、膜剥离。
涂料组合物的固体成分为涂料组合物中的、除液体介质(B)以外的所有成分的含量的合计。其中二氧化硅前体(A)的含量以SiO2换算。
粒子(C)为球状二氧化硅粒子的情况下，粒子(C)相对于二氧化硅前体(A)与粒子(C)的合计质量(100质量％)的比率优选为3质量％～30质量％，更优选为5质量％～20质量％。
粒子(C)为鳞片状二氧化硅粒子的情况下，粒子(C)相对于二氧化硅前体(A)与粒子(C)的合计质量(100质量％)的比率优选为0.5质量％～20质量％，更优选为1质量％～15质量％。
如果粒子(C)的比率为上述范围的下限值以上，则低闪光性更优异。如果粒子(C)的比率为上述范围的上限值以下，则易于得到更低的雾度。另外，通过以一定以上的比率包含二氧化硅前体(A)，防眩层5与透光性基材3的粘附强度更优异。
涂料组合物中的液体介质(B)的含量被设定为与涂料组合物的固体成分浓度相对应的量。相对于涂料组合物的总量(100质量％)，涂料组合物的固体成分浓度优选为0.05质量％～2质量％，更优选为0.1质量％～1质量％。如果固体成分浓度为所述范围的下限值以上，则可以减少涂料组合物的液量。如果固体成分浓度为所述范围的上限值以下，则容易形成具有第二凸部的凹凸结构。另外，防眩层的膜厚的均匀性提高。
相对于液体介质(B)的总量，涂料组合物中的沸点150℃以下的液体介质(B1)的含量通常为86质量％以上。通过以86质量％以上的比例包含液体介质(B1)，使用具有具备旋转雾化头的静电涂装枪的静电涂装装置将涂料组合物涂布在透光性基材上、并进行烘烤时，形成防眩层。液体介质(B1)的比例小于86质量％时，由于在溶剂挥发干燥前进行平滑化，因此无法形成凹凸结构，烘烤后的膜有可能不能成为防眩层。
相对于液体介质(B)的总量，液体介质(B1)的含量优选为90质量％以上。相对于液体介质(B)的总量，液体介质(B1)的含量也可以为100质量％。
(粘度)
涂料组合物的涂布温度下的粘度(以下，也称为“液粘度”)优选为0.003Pa·s以下，特别优选为0.001Pa·s～0.003Pa·s。如果液粘度为所述上限值以下，则在喷雾涂料组合物时所形成的液滴变得更微细，易于形成具有所期望的表面形状的防眩层。如果液粘度为所述下限值以上，则防眩层的表面凹凸形状变得均匀。涂料组合物的粘度为利用B型粘度计测定的值。
(涂布工序)
在透光性基材上的所述涂料组合物的涂布例如可以通过以下方式进行：使用具有具备旋转雾化头的静电涂装枪的静电涂装装置，使所述涂料组合物带电，并进行喷雾。此时，将从旋转雾化头至透光性基材之间的气氛设定为20℃以上且相对湿度40％以下时，防眩膜5的膜特性提高，因此是优选的。
只要静电涂装装置具有具备旋转雾化头的静电涂装枪，则可以采用公知的静电涂装装置。只要静电涂装枪具有旋转雾化头，则可以采用公知的静电涂装枪。不过，涂料组合物的涂布工具并不限于上述的静电涂装装置，也可以使用公知的涂布工具。
(烘烤工序)
烘烤工序中，对在涂布工序中在透光性基材上形成的涂料组合物的涂膜进行烘烤而得到防眩层。对于烘烤而言，可以通过在将涂料组合物涂布于透光性基材时加热透光性基材而与涂布同时进行，也可以通过在将涂料组合物涂布于透光性基材后加热涂膜而进行。烘烤温度优选为30℃以上，例如透光性基材为玻璃的情况下更优选为100℃～750℃，进一步优选为150℃～550℃。
在以上说明的制造方法中，通过在将规定的涂料组合物涂布于透光性基材后加热涂膜，可以形成在表面具有规定的凹凸结构的防眩层5。
{第二实施方式}
图4为表示本发明的第二实施方式的透光性结构体2的示意剖视图。图5为说明透光性结构体2的表面形状、其平滑图像、以及作为它们的XYZ数据的差分而得到的图像的关系的图。
本实施方式的透光性结构体2具有透光性基材4。透光性基材4在第一表面4A具有凹凸结构。透光性基材4的第一表面4A构成透光性结构体2的表面。因此，透光性结构体2在表面具有凹凸结构。
透光性基材4除了在第一表面具有凹凸结构以外，与第一实施方式的透光性基材3相同，优选的方式也相同。
透光性基材4的表面(换言之、透光性结构体2的表面)的凹凸结构如图5(a)所示包含透光性基材4的表面形状(换言之、透光性结构体2的表面形状)中的承载部高度+0.05μm的高度处的直径(正圆换算)为1μm以上的第一凸部4a。存在多个第一凸部4a，通过多个第一凸部4a在透光性基材4的表面形成了起伏。
另外，对于透光性基材4的表面形状而言，利用图像处理软件SPIP(ImageMetrology公司制造)对所述表面形状进行滤波，从而得到如图5(b)所示的平滑图像，从所述表面形状的XYZ数据中减去所述平滑图像的XYZ数据时，得到如图5(c)所示的、在平面分散有多个凸部的图像。该在平面分散有多个凸部的图像中，所述多个凸部包含高度0.01μm处的直径(正圆换算)为0.4μm以上的第二凸部4b。存在多个第二凸部4b。
本实施方式中，截面大致为三角形的第一凸部4a的顶部作为第二凸部4b被检测到。因此，如图5中由点划线所示，第一凸部4a的顶部的位置与第二凸部4b的顶部的位置大致一致。表面形状的测定和分析以与第一实施方式同样的方式进行。
第一凸部4a、第二凸部4b各自的特性(平均直径、密度、面积率等)与第一实施方式的第一凸部5a、第二凸部5b相同，优选的方式也相同。透光性结构体2的雾度、具有凹凸结构的表面中的60°镜面光泽度、闪光指标值S、铅笔硬度各自的优选范围与第一实施方式相同。
对于透光性结构体2而言，由于在表面具有特定的凹凸结构，因此与所述的透光性结构体1同样地具有防眩性，并且为低雾度且低闪光性。
＜透光性结构体的制造方法＞
例如可以通过对不具有所述凹凸结构的透光性基材的表面进行蚀刻处理而形成凹凸结构从而制造透光性结构体2。
可以根据透光性基材的材质、所要求的雾度等，使用公知的各种蚀刻方法进行蚀刻处理。例如作为透光性基材为玻璃基材的情况下的蚀刻方法而言，可以列举使玻璃基材的表面与氟化剂接触的方法。与氟化剂接触时，在玻璃表面，氟化剂与作为玻璃的骨架结构的SiO2反应而生成SiF4(气体)，骨架消失而剩余的成分成为硅氟化物，玻璃表面凹凸化。作为氟化剂而言，可以列举例如氟单质(F2)、氟化氢(HF)等。该方法中，可以通过所使用的氟化剂的种类、使氟化剂与玻璃表面接触的时间、蚀刻温度等来调节所形成的凹凸的形状。例如，用包含氟化剂与粒子(玻璃珠等)的处理液进行蚀刻处理的情况下，可以通过改变处理液的粒子的含量来改变凹凸的形状。例如增大处理液中的粒子的含量时，阻碍由氟化剂引起的蚀刻，从而蚀刻量减少，其结果是由蚀刻处理形成的凹凸变小、雾度变低。
作为除与氟化剂接触以外的玻璃基材的蚀刻方法、也能应用于除玻璃以外的材质的透光性基材的情况的蚀刻方法，可以列举例如喷砂处理、离子蚀刻处理等。
可以以各自不同的处理条件进行二次以上蚀刻处理。例如可以通过第一次蚀刻处理形成第一凸部4a，并通过第二次蚀刻处理形成第二凸部4b。在该情况下，期望第二次蚀刻处理的蚀刻速度比第一次蚀刻处理的蚀刻速度快。
使用所述处理液进行蚀刻处理的情况下，在第一次和第二次中可以改变处理液中的粒子的含量。例如第二次使用的处理液中的粒子的含量小于第一次时，则在第二次蚀刻处理时，通过第一次蚀刻处理而形成的凹凸变得平缓。
{第三实施方式}
图6为示意性地表示本发明的第三实施方式的透光性结构体6的剖视图。图7为示意性地说明透光性结构体6的表面附近的结构的剖视图。需要说明的是，以下所示的实施方式中，对与上述的实施方式对应的构成元件，赋予相同的标记，并省略其详细说明。
本实施方式的透光性结构体6具有：透光性基材3、形成于透光性基材3的第一表面3A上的防眩层5、形成于防眩层5上的减反射层7(功能层)、以及形成于减反射层7上的拒水拒油层9(功能层)。减反射层7、拒水拒油层9各自与防眩层5同样地在表面具有凹凸结构。
拒水拒油层9的表面构成透光性结构体6的表面。因此，透光性结构体6在表面具有所述凹凸结构。需要说明的是，图6中，为了方便起见，防眩层5、减反射层7和拒水拒油层9各自的厚度相对于透光性基材3的厚度的比率大于实际的比率。
(减反射层)
减反射层7具有减小反射率的功能。通过具有减反射层7，与不具有减反射层7的情况相比，透光性结构体6的反射率变低。
作为减反射层7而言，可以列举例如以下的(1)、(2)。
(1)折射率相对低的低折射率层与折射率相对高的高折射率层交替地层叠而得到的多层结构的减反射层。
(2)包含折射率低于透光性基材3的低折射率层的减反射层。
上述(1)的减反射层的材料没有特别限制，只要为能够抑制光的反射的材料，则可以使用各种材料。
高折射率层与低折射率层可以为分别包含各1层的形态，也可以为分别包含2层以上的构成。在分别包含2层以上的高折射率层与低折射率层的情况下，优选为交替地层叠高折射率层与低折射率层的形态。
特别地，为了提高减反射性能，(1)的减反射层优选为层叠了多层的层叠体，例如该层叠体优选总计了层叠2层以上且6层以下的层。
高折射率层、低折射率层的材料没有特别限制，可以考虑所要求的减反射的程度、生产率等而进行选择。作为构成高折射率层的材料而言，例如可以优选使用：选自氧化铌(Nb2O5)、氧化钛(TiO2)、氧化锆(ZrO2)、氮化硅(SiN)、氧化钽(Ta2O5)中的一种以上。作为构成低折射率层的材料而言，可以优选使用氧化硅(SiO2)。
作为高折射率层而言，从生产率、折射率的程度考虑，更优选所述高折射率层包含选自氧化铌层、氧化钽层、氧化钛层中的任一种，并且所述低折射率层为氧化硅层。
上述(2)的减反射层中，低折射率层的折射率可以根据透光性基材3的折射率而设定。例如透光性基材3为玻璃的情况下，低折射率层的折射率优选为1.1～1.5，更优选为1.1～1.3。作为上述(2)的减反射层而言，可以列举例如在以二氧化硅作为主要成分的基质中具有空穴的二氧化硅类多孔膜等。
作为二氧化硅类多孔膜而言，可以列举例如包含在粒子内部具有空穴的中空粒子和基质的多孔膜等。上述(2)的减反射层的厚度优选为50nm～300nm，更优选为80nm～160nm。
层(低折射率层、高折射率层等)的折射率利用椭偏仪、分光光度计等来测定。层(低折射率层、高折射率层、减反射层等)的厚度利用分光光度计、触针式膜厚计等来测定。
减反射层7的表面的凹凸结构与防眩层5的表面的凹凸结构相同，优选的方式也相同。减反射层7的表面的凹凸结构优选如图7所示追随防眩层5的表面的凹凸。在该情况下，与防眩层5的表面的凹凸结构相比，减反射层7的表面的凹凸结构也可以为角、高低差较小的凹凸结构。例如减反射层7的第二凸部的面积率可以高于防眩层5的第二凸部的面积率。
(拒水拒油层)
拒水拒油层9为具有拒水拒油性的层。通过拒水拒油层9存在于透光性结构体的视觉辨认侧的最表层，手指滑动性变好。
“具有拒水拒油性”是指，水的接触角为90度以上、且油酸的接触角为70°以上。接触角使用接触角仪(例如协和界面科学公司制造的DM-701)，在20±10℃的范围内的条件下，用1μL的液滴进行测定。在拒水拒油层表面中的不同的5个部位进行测定，计算其平均值，将该值作为拒水拒油层的接触角。作为拒水拒油层9而言，可以列举AFP(Anti FingerPrint，耐指纹)层等。
作为形成拒水拒油层9的材料而言，可以列举例如含全氟烷基的化合物、含全氟聚醚基的化合物等，优选具有全氟聚醚基的硅烷化合物。
作为拒水拒油层9的材料，可以使用例如市售的“Afluid S-550”(旭硝子公司注册商标)、“KP-801”(信越化学工业公司商品名)、“X-71”(商品名、信越化学工业公司制造)、“KY-130”(信越化学工业公司商品名)、“KY-178”(信越化学工业公司商品名)、“KY-185”(信越化学工业公司商品名)、“OPTOOL DSX”(大金工业公司商品名)等。
拒水拒油层9的厚度优选为1nm～50nm，更优选为3nm～25nm，特别优选为4nm～15nm。如果该厚度为上述下限值以上，则可以发挥充分的拒水拒油性，且拒水拒油层9的表面内的手指滑动性良好。如果该厚度为上述上限值以下，则拒水拒油剂的利用效率高，并且对减反射性的影响小，因此是优选的，但比其厚的情况下也可以使用。
拒水拒油层9的厚度例如可以通过以下方式计算：使用薄膜分析用X射线衍射仪ATX-G(RIGAKU公司制造)，通过X射线反射率法，得到反射X射线的干涉图案，由该干涉图案的振动周期来计算。或者，可以通过以下方式求出：准备预先测定了反射分光光谱的减反射膜，在其上在与测定拒水拒油层9的厚度的样品相同的条件下形成拒水拒油层9，由形成拒水拒油层9后的反射分光光谱与拒水拒油剂的折射率来计算。
拒水拒油层9的表面的凹凸结构与防眩层5的表面的凹凸结构相同，优选的方式也相同。拒水拒油层9的表面的凹凸结构优选如图7所示追随防眩层5和减反射层7的表面的凹凸。
透光性结构体6中，即使在防眩层5上还具有功能层(减反射层7、拒水拒油层9)的情况下，闪光抑制效果也是由最外表面的凹凸形状决定，因此如果最外表面的层的凹凸形状成为具有本实施方式中的闪光抑制效果的规定的凹凸形状，则透光性结构体6表现出闪光抑制效果。
透光性结构体6的雾度、具有凹凸结构的表面中的60°镜面光泽度、闪光指标值S、突起分布的半峰宽、铅笔硬度各自的优选范围与第一实施方式相同。
对于透光性结构体6而言，由于在表面具有特定的凹凸结构，因此与所述的透光性结构体1同样地具有防眩性，并且为低雾度且低闪光性。
另外，由于在透光性基材3的视觉辨认侧具有减反射层7，因此具有优异的减反射性。另外，由于在最表层具有拒水拒油层9，因此手指滑动性良好。例如从触控面板的操作性的方面考虑，优选手指滑动性良好。
＜透光性结构体的制造方法＞
透光性结构体6例如可以通过进行以下工序来制造：通过第一实施方式中列举的制造方法在透光性基材3的第一表面3A上形成防眩层5、然后在该防眩层5上形成减反射层7的工序(减反射层形成工序)、和用拒水拒油剂对该减反射层7的表面进行处理而形成拒水拒油层9的工序(拒水拒油层形成工序)。
(减反射层形成工序)
由于防眩层5的表面具有所述凹凸结构，因此可以通过在减反射层形成工序中沿着防眩层5的表面形状形成减反射层7，由此形成在表面具有所述凹凸结构的减反射层7。
作为减反射层7的形成方法而言，没有特别限制，可以利用干式法、湿式法等公知的方法。作为干式法而言，可以列举溅射法、真空蒸镀法、离子镀法、化学气相沉积法等。例如将金属(Si、Nb等)作为靶，在氧气气氛下进行溅射时，形成金属氧化物的层。
作为减反射层7的形成方法而言，从减反射性的方面考虑，优选干式法，其中，从生产率的观点考虑，更优选溅射法。
(拒水拒油层形成工序)
作为利用拒水拒油剂的处理方法(拒水拒油层9的形成方法)而言，可以列举喷涂法、浸涂法、刮涂法、擦涂法、流涂法等湿式涂布法；蒸镀法等干式涂布法等。作为拒水拒油层9的形成方法而言，可以使用湿式涂布法和干式涂布法中的任一种。
{第四实施方式}
图8为示意性地表示本发明的第四实施方式的透光性结构体8的剖视图。
本实施方式的透光性结构体8具有：透光性基材4、形成于透光性基材4的第一表面4A上的减反射层7、和形成于减反射层7上的拒水拒油层9。透光性基材4、减反射层7和拒水拒油层9各自在表面具有凹凸结构。拒水拒油层9的表面构成透光性结构体8的表面。因此，透光性结构体8在表面具有所述凹凸结构。
减反射层7和拒水拒油层9各自的表面的凹凸优选追随透光性基材4的第一表面4A的凹凸。需要说明的是，图8中，为了方便起见，减反射层7和拒水拒油层9各自的厚度相对于透光性基材4的厚度的比率大于实际的比率。
透光性结构体8中，即使在透光性基材4的表面的凹凸结构上设置有减反射层7、拒水拒油层9的情况下，闪光抑制效果也是由最外表面的凹凸形状决定，因此如果最外表面的层的凹凸形状为具有本实施方式中的闪光抑制效果的规定的凹凸形状，则透光性结构体8表现出闪光抑制效果。
透光性结构体8的雾度、具有凹凸结构的表面内的60°镜面光泽度、闪光指标值S、突起分布的半峰宽、铅笔硬度各自的优选的范围与第一实施方式相同。
对于透光性结构体8而言，由于在表面具有特定的凹凸结构，因此与所述的透光性结构体2同样地具有防眩性，并且为低雾度且低闪光性。
另外，由于在透光性基材4的视觉辨认侧具有减反射层7，因此具有优异的减反射性。另外，由于在最表层具有拒水拒油层9，因此手指滑动性良好。
＜透光性结构体的制造方法＞
透光性结构体8例如可以通过进行如下工序来制造：通过第二实施方式中列举的制造方法制造透光性基材4、然后在该透光性基材4的第一表面4A上形成减反射层7的工序(减反射层形成工序)、和用拒水拒油剂对该减反射层7的表面进行处理而形成拒水拒油层9的工序(拒水拒油层形成工序)。
减反射层形成工序、拒水拒油层形成工序可以分别以与第三实施方式同样的方式进行。
以上，通过示出第一实施方式～第四实施方式说明了本发明的透光性结构体，但本发明不限于这些实施方式。上述实施方式中的各构成及其组合等是一个例子，在不脱离本发明的主旨的范围内，可以进行构成的增加、省略、置换以及其它变更。
例如第一、第三实施方式中，示出了仅在透光性基材3的单面(第一表面3A)设置了防眩层5的例子，但也可以在透光性基材3的两面设置防眩层5。另外，防眩层5可以设置在透光性基材3的单面或两面的整个面上，也可以局部地设置。
第二、第四实施方式中，示出了仅在透光性基材4的单面(第一表面4A)设置了凹凸结构的例子，但也可以在透光性基材4的两面设置凹凸结构。另外，凹凸结构可以设置在透光性基材4的单面或两面的整个面上，也可以局部地设置。
对于第一、第三实施方式的透光性结构体，可以设定为在透光性基材3与防眩层5之间具有其它功能层的构成。作为其它功能层而言，可以列举例如底涂层、粘附改善层、保护层等。底涂层具有作为碱阻挡层(アルカリバリア層)、宽频带的低折射率层的功能。作为底涂层而言，优选为通过将包含烷氧基硅烷的水解产物(溶胶凝胶二氧化硅)的底涂用涂料组合物涂布于透光性基材本体而形成的层。
对于第三、第四实施方式的透光性结构体，可以设定为不具有减反射层7或拒水拒油层9的构成。对于第三、第四实施方式的透光性结构体，可以设定为在防眩层5与减反射层7之间、减反射层与拒水拒油层9之间具有其它功能层的构成。
作为本发明的透光性结构体的用途而言，从低雾度、低闪光性等光学特性方面考虑，优选图像显示装置。不过本发明的透光性结构体的用途不限于图像显示装置，可以用于各种用途。
作为本发明的透光性结构体的用途的具体例而言，可以列举车辆用透明部件(前灯罩等)、车辆用透明部件(仪表盘表面等)、仪表、建筑物窗、橱窗、显示器(笔记本型电脑、监视器、液晶显示器(LCD)、等离子体显示面板(PDP)、电致发光显示器(ELD)、阴极射线显像管(CRT)、个人数字助理(PDA)等)、LCD彩色滤光片、触控面板用基板、照相机部件、投影仪部件、太阳能电池用透明基板(保护玻璃等)、手机窗口、背光单元部件液晶增亮膜(棱镜、半透膜等)、液晶增亮膜、有机电致发光(EL)发光元件部件、无机电致发光(EL)发光元件部件、荧光体发光元件部件、滤光器、光学部件的端面、照明灯、照明器具的罩、偏振膜、农业用膜等。
实施例
以下，示出实施例来具体地说明本发明。不过，本发明并不由以下的记载限定。以下，将“质量％”也记为“wt％”。需要说明的是，后述的例1～33为实施例，例34～39为比较例。将各例中使用的评价方法和材料示于下文中。
(评价方法)
(表面形状测定)
透光性结构体的具有凹凸结构的表面的表面形状使用基恩士(Keyence)公司制造的激光显微镜VK-X100进行了测定。使用了“×100”(观察区域：109μm×145μm、倍率：1000倍)的物镜。测定模式为“表面形状”，测定品质为“高清晰度”(X点距71nm、Y点距71nm、Z点距10nm)。X点距、Y点距、Z点距分别表示X方向、Y方向、Z方向的测定刻度值。
(表面形状分析)
使用Image Metrology公司制造的图像处理软件SPIP(Version.6.4.3)对通过表面形状测定而得到的表面形状的XYZ数据进行分析，求出第一凸部、第二凸部各自的特性(Z范围、观察区域内的个数、密度、面积率、最大直径、最小直径、平均直径、最大高度、最小高度和平均高度)。在进行分析时，将参数设定为如下所示而进行了平坦化处理、第一凸部的测定和第二凸部的测定。
(1)平坦化处理
1.方式(模式)：选择自定义模式。
2.选择三次平均图形拟合法。
3.不使用“处理梯级(ステップ)”功能。
4.Z偏移法：将承载部高度设定为零。
(2)第一凸部(起伏)测定
〈(2)-1：检测〉
1.选择“粒子检测”。
2.阈值水平：0.05μm。
〈(2)-2：后处理〉
3.选择“检测图像窗口”。
4.选择“形状完全保存”。
5.使形状轮廓平滑化：滤波器尺寸：51点。
6.选择“包含图像边缘(イメージ端)的形状”。
7.最小直径：1μm。
(3)第二凸部(岛)测定
〈(3)-1：滤波〉
1.选择“卷积”。
2.选择“平滑”。
3.内核尺寸：X＝Y＝31、选择“圆形”。
〈(3)-2：检测〉
4.检测图像：选择“滤波差分”。
5.选择“粒子检测”。
6.阈值水平：0.01μm。
〈(3)-3：后处理〉
7.图像窗口的测定：选择“滤波差分”。
8.选择“形状完全保存”。
9.使形状轮廓平滑化：滤波器尺寸：51点。
10.使用“包含图像边缘的形状”。
11.最小直径：0.4μm。
在第一凸部的测定中，将观察区域内的最低位置与最高位置的高度之差作为Z范围。通过将观察区域中的第一凸部的个数换算为每1μm2的值，计算出第一凸部的密度。通过计算出存在于承载部高度+0.05μm的高度处的直径(正圆换算)1μm以上的凸部切割面的合计面积，并计算出该合计面积相对于观察区域的比例，从而求出第一凸部的面积率。对于第一凸部的最大直径、最小直径和平均直径而言，分别测定了“承载部高度+0.05μm的高度”处的值。对于第一凸部的最大高度、最小高度和平均高度而言，测定了各自的第一凸部的最大高度(从承载部高度起算的高度)之中、观察区域内的最大值、最小值和平均值。
第二凸部的测定中，在作为表面形状的XYZ数据与通过其滤波而得到的平滑图像的XYZ数据的差分而得到的图像(分散有多个凸部的图像)中，将最高高度与最低高度的差作为第二凸部的Z范围。通过将观察区域中的第二凸部的个数换算成每1μm2的值而计算出第二凸部的密度。对于第二凸部的面积率而言，在作为表面形状的XYZ数据与通过其滤波而得到的平滑图像的XYZ数据的差分而得到的图像中，将承载部高度设定为0时，计算出存在于0.01μm的高度处的直径(正圆换算)0.4μm以上的凸部切割面的合计面积，并计算出该合计面积相对于观察区域的比例，从而求出第二凸部的面积率。对于第二凸部的最大直径、最小直径和平均直径而言，分别测定了上述图像的0.01μm的高度处的值。对于第二凸部的最大高度、最小高度和平均高度而言，分别测定了上述图像的从零高度(承载部高度平面的位置)起算的高度。
(Diffusion(扩散)(防眩性指标值D))
Diffusion的测定使用日本电色工业公司制造的变角光度计GC5000L，通过以下的步骤进行。
从透光性结构体的第1表面侧，在将与透光性结构体的厚度方向平行的方向设定为角度θ＝0°时、角度θ＝-45°±0.5°的方向(以下，也称为“角度-45°的方向”)上，照射第1光。第1光被透光性结构体反射。接受从第1表面在角度45°的方向上反射的45°反射光，测定其亮度，作为“45°反射光的亮度”。
接着，将接受从第1表面出射的光的角度θ在5°～85°的范围内变化，实施同样的操作。由此，测定透射透光性结构体，从第2表面出射的光的亮度分布并进行合计，作为“全反射光的亮度”。
接着，由以下的式(1)计算Diffusion(防眩性指标值D)：
Diffusion(防眩性指标值D)＝
{(全反射光的亮度-45°反射光的亮度)/(全反射光的亮度)} 式(1)
确认了该Diffusion与通过观察者的目视而得到的防眩性的判断结果相关，显示出接近人的视觉的状态。例如，显示出防眩性指标值D小的(接近0的)值的透光性结构体的防眩性差，相反显示出防眩性指标值D大的值的透光性结构体具有良好的防眩性。因此，该防眩性指标值D可以用作判断透光性结构体的防眩性时的定量指标。
(闪光(Sparkle)测定)
基于根据所述的测定法而得到的闪光指标值S，通过以下的基准评价了闪光。
◎◎：闪光指标S为25以下(完全观察不到闪光的水平)。
◎：闪光指标S大于25且小于等于30(稍微观察到闪光的水平)。
○：闪光指标S大于30且小于等于37(能观察到闪光、但实际应用上没有问题的水平)。
×：闪光指标S大于37(能观察到明显的闪光)。
(突起分布的半峰宽)
使用所述的激光显微镜，以倍率1000倍对于透光性结构体的具有凹凸结构的表面的109μm×145μm的区域实施扫描，得到表面图形。由所得到的表面图形，利用HistogramPlot，得到了以突起高度(单位：nm)为横轴、以频率(单位：Counts(计数))为纵轴作图的突起分布。
将所得到的突起分布的、峰高度的一半高度的位置处的突起分布的宽度作为半峰宽(单位：nm)。
(材料)
(粒子分散液)
ST-OZL：日产化学工业公司制造、SNOWTEX OZL、球状的实心二氧化硅粒子的分散液、分散介质：水、粒径：70nm～100nm。
SLV：将SUNLOVELY LFS HN150(AGC Si-Tech公司制造)拆解并分散而得到的鳞片状的二氧化硅粒子的分散液、分散介质：水、平均粒径：185nm、平均长径比(平均粒径/平均厚度)：80。
ST-OL：SNOWTEX OL(日产化学工业公司制造)、球状的实心二氧化硅粒子的分散液、分散介质：水、粒径：40nm～50nm。
ST-O：SNOWTEX O(日产化学工业公司制造)、球状的实心二氧化硅粒子的分散液、分散介质：水、平均粒径：10nm～15nm。
(含粒子的二氧化硅前体溶液)
通过以下的步骤制备了含粒子的二氧化硅前体溶液。
A液：使用作为主溶剂的SOLMIX AP-11(日本醇贩卖公司商品名)，对AP-11，在使用磁力搅拌器进行搅拌的同时，添加纯水、四乙氧基硅烷、KBM3066(信越有机硅公司制造)，以使得相对于A液的总质量分别为11wt％、10wt％、0.59wt％，并在25℃下混合10分钟，由此得到了A液(硅烷化合物的SiO2换算浓度3.12wt％)。
B液：通过用AP-11稀释上述市售的粒子分散液，以使得固体成分浓度为3.12wt％，从而得到了B液(粒子固体成分浓度3.12wt％)。
含粒子的二氧化硅前体溶液：以得到所期望的粒子浓度比率的方式混合A液和B液，在25℃下搅拌30分钟，然后添加10wt％硝酸水溶液以使得相对于含粒子的二氧化硅前体溶液的总质量为0.54wt％，并在60℃下混合60分钟，由此得到了含粒子的二氧化硅前体溶液(总固体成分浓度(＝硅烷化合物的SiO2换算浓度+粒子固体成分浓度)3.11wt％)。
(例1)
(透光性基材的清洗)
作为透光性基材，准备了钠钙玻璃(旭硝子公司制造；FL1.1；尺寸：纵100mm×横100mm、厚度：1.1mm的玻璃基板；400nm～1100nm的波长范围内的光的平均透射率：90.6％、表面的算术平均粗糙度Ra：0.5nm)。用碳酸氢钠水冲洗该玻璃的表面，然后用离子交换水冲洗，并进行干燥。
(涂布液的制备)
通过用AP-11将以上得到的含粒子的二氧化硅前体溶液稀释至总固体成分浓度0.215wt％，从而得到了涂布液。
(静电涂装装置)
准备了具有静电涂装枪的静电涂装装置(液体静电涂布器、ASAHI SUNAC公司制造)。作为静电涂装枪而言，使用了旋转雾化式自动静电枪(ASAHI SUNAC公司制造、SUNBELL、ESA120、杯径70mm)。为了更容易获得透光性基材的接地性，准备了金属网格盘作为导电性基板。
(静电涂装)
将静电涂装装置的涂布室的温度调节至25±1℃的范围内、将湿度调节至50％±10％的范围内。
在静电涂装装置的链式输送机上，隔着导电性基板设置预先加热至30℃±3℃的清洗完毕的透光性基材。在用链式输送机进行等速输送的同时，在透光性基材的T面(通过浮法进行制造时与熔融锡接触的面的相反侧的面)通过静电涂装法涂布25±1℃的范围内的温度的涂布液，然后，在大气中在450℃下烘烤30分钟而形成防眩层，从而得到了透光性结构体。涂布液的涂布条件设定为涂布液量18mL/分钟、杯转速35krpm、喷嘴高度245mm、电压60kV、涂布次数一次。在此，涂布液量表示供给至静电涂装枪的涂料组合物的供给量。杯转速表示旋转雾化头的旋转速度。喷嘴高度表示从静电涂装枪的喷嘴前端(涂料组合物的喷雾方向上的旋转雾化头的前端)至透光性基材的距离。电压表示施加至静电涂装枪的电压。涂布次数表示透光性基材的输送次数、即、使透光性基材通过静电涂装枪的下方而涂布涂料组合物的次数。
(例2～11、13～30、34～39)
除了将用于制备涂布液的粒子分散液的种类、涂布液的固体成分中的粒子浓度、涂布液的固体成分浓度、涂布液的涂布次数设定为如表1所示以外，以与例1同样的方式制作了例2～11、13～30、34～39的透光性结构体。
(例12)
(透光性基材的准备)
对于化学强化用特殊玻璃Dragontrail(旭硝子公司注册商标)(尺寸：100mm×100mm、厚度：1.1mm、波长550nm下的透射率：91.4％、表面的算术平均粗糙度Ra：0.13nm(由SII纳米科技公司制造SPA400-AFM测定))，使用KNO3熔融盐，在410℃下实施了2.5小时的化学强化处理。实施化学强化处理的结果是，DOL(Depth Of Layer，压应力层深度)为25μm，CS(Compressive Stress，压应力)为750MPa。将该化学强化处理后的基材作为透光性基材。用中性洗剂清洗该透光性基材的表面，并用纯水清洗且进行干燥。
(防眩层的形成)
除了使用上述的化学强化处理后的基材作为透光性基材以外，以与例6同样的方式，在透光性基材上形成了防眩层。
(通过蒸镀法进行的减反射层的形成)
将以如上所述的方式形成了防眩层的透光性基材设置在薄膜形成装置的基板支架上。
进行抽真空，保持在约200℃的设定温度下进行基板加热的状态，然后一边将氩气和氧气导入至薄膜形成装置，一边以约0.03Pa的压力通过电子束蒸镀以约14nm的膜厚形成了作为第1层的高折射率层的Ta2O5。此时，使Ar和O2气体流入成膜装置所附带的离子源，施加电压1000V、电流1000mA，在使氩离子、氧离子在基板上进行辅助的同时进行成膜。以下，在第2～4层，以同样的方式，在使氩离子、氧离子在基板上进行辅助的同时进行成膜。
接着，以约0.03Pa的压力，通过电子束蒸镀，以约33nm的膜厚形成了作为第2层的低折射率层的SiO2。然后，以与第1层同样的方式，以约121nm的膜厚形成了作为第3层的高折射率层的Ta2O5。接着，以与第2层同样的方式，以约81nm的膜厚形成了作为第4层的低折射率层的SiO2，从而得到了蒸镀的减反射层。由此，得到了层叠有透光性基材、防眩层和4层结构的减反射层的层叠体。
(AFP层的形成)
使用等离子体处理装置对所述减反射层的表面进行了清洁处理，然后在最外表面的层之上，通过蒸镀法，将含氟型拒油剂(Afluid：旭硝子公司注册商标“S-550”)，在蒸镀前真空度：1×10-3Pa、蒸镀源加热温度：290℃、基材温度：无加热的条件下进行成膜，形成了厚度约10nm的AFP层。由此，得到了层叠有透光性基材、防眩层和AFP层、或者、透光性基材、防眩层、减反射层和AFP层的透光性结构体。需要说明的是，该例中，使用薄膜分析用X射线衍射仪ATX-G(RIGAKU公司制造)，通过X射线反射率法，得到反射X射线的干涉图案，由该干涉图案的振动周期计算出AFP层的膜厚。
(例31)
通过以下的步骤，在作为透明基材的玻璃基板的表面形成了微细的凹凸形状。
(1)在50wt％的氟化氢水溶液1000mL中加入500g的氟化铵与平均粒径为4μm的玻璃珠175g，进行搅拌，制备了蒙砂处理液。(2)将厚度1.3mm、5cm见方的铝硅酸盐玻璃基板浸渍于所述蒙砂处理溶液中8分钟，进行了预蚀刻处理。(3)将所述铝硅酸盐玻璃基板从所述蒙砂处理溶液中取出，用流水清洗10分钟，然后浸渍于20wt％的氟化氢水溶液中16分钟，由此进行蚀刻处理，在作为透明基材的铝硅酸盐玻璃基板表面形成了微细的凹凸。将该透光性基材作为例31的透光性结构体。
(例32)
将蒙砂处理液加入至50wt％的氟化氢水溶液1000mL中，并加入500g的氟化铵和平均粒径为4μm的玻璃珠355g，除了上述变更以外，以与例31同样的方式得到了在表面具有凹凸结构的透光性基材。对该透光性基材，以与例12同样的方式实施了化学强化处理，然后对其表面用中性洗剂进行清洗，用纯水清洗，并进行干燥。
在该透光性基材的具有凹凸结构的表面上，以与例12同样的方式形成了减反射层和AFP层。在AFP层的成膜后，在大气中，在120℃下进行了20分钟的热处理。由此，得到了层叠有透光性基材、减反射层和AFP层的透光性结构体。
(例33)
将蒙砂处理液加入至50wt％的氟化氢水溶液1000mL中，并加入500g的氟化铵和平均粒径为4μm的玻璃珠350g，除了上述变更以外，以与例31同样的方式得到了在表面具有凹凸结构的透光性基材。对该透光性基材，以与例12同样的方式实施了化学强化处理，然后对其表面用中性洗剂进行清洗，用纯水清洗，并进行干燥。
在该透光性基材的具有凹凸结构的表面上，以与例12同样的方式形成了减反射层和AFP层。在AFP层的成膜后，在大气中，在120℃下进行了20分钟的热处理。由此，得到层叠有透光性基材、减反射层和AFP层的透光性结构体。
对于例1～39中得到的透光性结构体，进行了上述评价。将结果示于表2～4。
在图9、10中，示出例1的透光性结构体的防眩层侧的表面的激光显微镜图像、从斜上方60度观察该表面而得到的扫描型显微镜(SEM)图像。另外，在图11、12中，示出利用SPIP对例1的透光性结构体的防眩层侧的表面形状进行分析而得到的图像。
在图13中，示出例21的透光性结构体的防眩层侧的表面的激光显微镜图像。另外，在图14、15中，示出利用SPIP对例21的透光性结构体的防眩层侧的表面形状进行分析而得到的图像。
在图16中，示出例34的透光性结构体的防眩层侧的表面的激光显微镜图像。另外，在图17、18中，示出利用SPIP对例34的透光性结构体的防眩层侧的表面形状进行分析而得到的图像。
图11、14、17分别表示表面形状的承载部高度+0.05μm的高度处的截面，图12、15、18分别表示作为表面形状的XYZ数据与由其滤波而得到的平滑图像的XYZ数据的差分而得到的图像(在平面分散有多个凸部的图像)的0.01μm的高度处的截面。各图中，颜色明亮的部分表示凸部的截面。
另外，由例1～39的评价结果，制成了表示第一凸部的平均直径、第二凸部的密度、第二凸部的面积率分别与闪光指标值S的关系的图。将这些图示于图19～21。
表1
表2
表3
表4
表1中，膜构成的“Glass”、“Glass(强化)”、“蚀刻AG-Glass”、“蚀刻AG-Glass(强化)”表示各例的透光性结构体中的透光性基材。“AG”、“AR”、“AFP”分别表示防眩层、减反射层、AFP层。“静电喷涂”表示使用了旋转雾化式自动静电枪的静电涂装法。
例1～33的透光性结构体的雾度为0.1％以上，Diffusion值也低，具有防眩性。另外，闪光指标S为36以下，实际应用上充分地抑制了闪光。另外，由于雾度为15％以下，因此可以判断在将这些透光性结构体配置于图像显示装置的视觉辨认侧时的图像视觉辨认性良好。另一方面，例34～39的透光性结构表现出显著的闪光。
由图19的图可以确认到：第一凸部的平均直径越小，则闪光越倾向于降低。由图20、图21的图可以确认到：第二凸部的密度、第二凸部的面积率在特定的范围内时，闪光倾向于降低。
产业实用性
本发明的透光性结构体从低雾度、低闪光性等光学特性方面考虑，可以用于包含图像显示装置在内的各种用途。
需要说明的是，将在2016年2月1日申请的日本专利申请2016-017083号的说明书、权利要求书、附图和摘要的全部内容引用至此，并将其并入本文而作为本发明的说明书的公开内容。
附图标记
1：透光性结构体
2：透光性结构体
3：透光性基材
4：透光性基材
5：防眩层
5a：第一凸部
5b：第二凸部
6：透光性结构体
7：减反射层(功能层)
8：透光性结构体
9：拒水拒油层(功能层)
BH：承载部高度

Claims (15)

1.一种透光性结构体，其为在表面具有凹凸结构的透光性结构体，其中，
所述凹凸结构包含通过用激光显微镜测定该凹凸结构的(短边101μm×长边135μm)～(短边111μm×长边148μm)的矩形区域而得到的“表面形状的承载部高度+0.05μm的高度”处的直径(正圆换算)为1μm以上的第一凸部，该第一凸部的直径(正圆换算)的平均值为1.000μm～16.000μm，
通过利用图像处理软件SPIP(Image Metrology公司制造)对所述表面形状进行滤波而得到平滑图像，在从所述表面形状的XYZ数据中减去所述平滑图像的XYZ数据而得到的具有多个凸部的图像中，将承载部高度设定为0时，所述多个凸部包含高度0.01μm处的直径(正圆换算)为0.4μm以上的第二凸部，该第二凸部的密度为0.023个/μm2～7.210个/μm2，并且高度0.01μm处的所述第二凸部的截面的合计面积相对于所述区域的总面积为0.900％～90.000％。
2.如权利要求1所述的透光性结构体，其中，所述第一凸部的直径(正圆换算)的平均值为1.000μm～12.000μm，所述第二凸部的密度为0.023个/μm2～0.180个/μm2，并且所述第二凸部的截面的合计面积相对于所述区域的总面积为1.000％～22.400％。
3.如权利要求2所述的透光性结构体，其中，所述第一凸部的直径(正圆换算)的平均值为1.000μm～8.000μm，所述第二凸部的密度为0.033个/μm2～0.180个/μm2，并且所述第二凸部的截面的合计面积相对于所述区域的总面积为1.270％～16.000％。
4.如权利要求1～3中任一项所述的透光性结构体，其中，所述透光性结构体具有：透光性基材和形成于所述透光性基材上的防眩层。
5.如权利要求4所述的透光性结构体，其中，所述防眩层为以二氧化硅作为主要成分的膜，该膜的根据JIS K5600-5-4的铅笔硬度为5H以上。
6.如权利要求4或5所述的透光性结构体，其中，在所述防眩层上还具有功能层。
7.如权利要求1～3中任一项所述的透光性结构体，其中，所述透光性结构体具有表面成为所述凹凸结构的透光性基材。
8.如权利要求7所述的透光性结构体，其中，所述透光性基材为板状或膜状的无机玻璃或树脂材料。
9.如权利要求7所述的透光性结构体，其中，在所述凹凸结构上还具有功能层。
10.如权利要求6～9中任一项所述的透光性结构体，其中，所述功能层为减反射层或拒水拒油层。
11.如权利要求1～10中任一项所述的透光性结构体，其中，所述透光性结构体的雾度为0.1％～15％。
12.如权利要求1～11中任一项所述的透光性结构体，其中，所述透光性结构体整体由曲面构成、或至少一部分由曲面构成。
13.如权利要求12所述的透光性结构体，其中，所述透光性结构体由曲面部分与平坦部分构成。
14.如权利要求12或13所述的透光性结构体，其中，所述曲面所具有的曲率半径为25000mm以下。
15.如权利要求12或13所述的透光性结构体，其中，所述曲面所具有的曲率半径为30mm～3000mm。
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