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Hintergrund der Erfindung
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1. Gebiet der Erfindung
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Die
vorliegende Erfindung betrifft elektromagnetisch durchlässige,
d. h. für elektromagnetische Wellen durchlässige,
glänzende Harzprodukte, die eine Harzbasis und einen darauf
ausgebildeten Chromfilm umfassen, sowie Verfahren zur Herstellung
der elektromagnetisch durchlässigen, glänzenden
Harzprodukte.
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2. Beschreibung des Standes
der Technik
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Gegenwärtig
werden Oberflächen von Kühlergrills und dergleichen,
die aus einem Harz hergestellt sind, häufig beschichtet
bzw. plattiert, um ihnen im Hinblick auf das Aussehen einen Glanz
(metallischen Glanz) zu verleihen. Es wurde ein plattiertes Produkt
vorgeschlagen, bei dem die Belastungsrissbildung gehemmt ist und
bei dem eine Verschlechterung der Qualität des Aussehens
deshalb verhindert werden kann und das eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit
und Witterungsbeständigkeit aufweist. Dieses plattierte Produkt,
das in
JP-A-9-70920 beschrieben
ist, umfasst einen Chromfilm mit einer Dicke, die auf etwa 400 Å eingestellt
ist, wodurch der Chromfilm Kristallkorngrenzen aufweist. Diese Effekte
sind darauf zurückzuführen, dass der Chromfilm
Kristallkorngrenzen aufweist. Selbst wenn das plattierte Produkt
einer äußeren Belastung ausgesetzt ist, erhöht
dies insbesondere lediglich den Abstand zwischen angrenzenden Kristallkörnern
und führt kaum zur Ausübung einer Belastung auf
das Metall (Chrom) selbst. Insbesondere ist eine Rissbildung des Metallfilms
(Chromfilms) ausgeschlossen.
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Andererseits
gibt es Fälle, bei denen ein Kraftfahrzeug mit einem Radargerät
für eine Abstandsmessung ausgestattet ist, das den Fahrer
warnt, wenn sich das Fahrzeug einem in der Nähe befindlichen
Objekt angenähert hat, um dessen Sicherheit zu verbessern.
Das Radargerät ist an verschiedenen Teilen des Kraftfahrzeugs
angeordnet, z. B. auf der Rückseite des Kühlergrills,
im Heckbereich, usw. Ein solches Radargerät emittiert elektromagnetische
Wellen in die Richtung eines Objekts, um den Abstand zum Objekt
zu messen. Deshalb kann das Radargerät dann, wenn eine
Substanz (z. B. ein Metall), das die elektromagnetischen Wellen
absorbiert, zwischen dem Radargerät und dem Objekt vorliegt,
dessen Funktion nicht ausüben. Folglich müssen
die Harzprodukte im Kraftfahrzeugaußenbereich, die sich
vor dem Radargerät befinden, wie z. B. der Kühlergrill
(Abdeckungsteil für das Radargerät), ebenfalls
eine elektromagnetische Durchlässigkeit aufweisen.
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Um
die Anforderung zu erfüllen, wurde ein Indium(In)-Film,
der als Film mit einer diskontinuierlichen Struktur (Meer-Insel-Struktur)
vorliegen kann, als glänzende Beschichtung mit elektromagnetischer
Durchlässigkeit vorgeschlagen.
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Die
Kosten für Indium steigen jedoch derzeit und es war deshalb
erforderlich, das Metall durch ein anderes Metall (insbesondere
ein billiges Metall) zu ersetzen.
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Es
wurde gefunden, dass dann, wenn ein Chromfilm auf einer Harzbasis
abgeschieden und danach zusammen mit dem Harz erwärmt wird,
der Chromfilm Risse entwickelt, die so fein sind, dass sie keinen
Einfluss auf das Aussehen haben, und der Chromfilm dadurch eine
diskontinuierliche Struktur aufweist, und dass der so behandelte
Chromfilm einen erhöhten Oberflächenwiderstand
und eine verminderte Dämpfung bzw. Abschwächung
von elektromagnetischen Wellen aufweist (elektromagnetische Wellen
stärker durchlässt).
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Zusammenfassung der Erfindung
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Demgemäß ist
es eine Aufgabe der Erfindung, ein elektromagnetisch durchlässiges,
glänzendes Harzprodukt bereitzustellen, das einen Chromfilm
umfasst, der eine diskontinuierliche Struktur und somit eine elektromagnetische
Durchlässigkeit aufweist, obwohl er einen Glanz aufweist.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist die Bereitstellung eines
Verfahrens zur Herstellung dieses elektromagnetisch durchlässigen,
glänzenden Harzprodukts.
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(A) Elektromagnetisch durchlässige,
glänzende Harzprodukte
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Die
Erfindung stellt ein elektromagnetisch durchlässiges, glänzendes
Harzprodukt bereit, das eine Harzbasis und einen auf der Harzbasis
ausgebildeten Chromfilm aufweist, wobei der Chromfilm eine diskontinuierliche
Struktur und eine Dicke von 20 nm oder mehr aufweist.
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Die
Erfindung stellt ein weiteres elektromagnetisch durchlässiges,
glänzendes Harzprodukt bereit, wobei das Produkt umfasst:
Eine Harzbasis, einen auf der Harzbasis ausgebildeten Metallfilm,
wobei der Metallfilm eine diskontinuierliche Struktur aufweist und
aus einem Metall mit einem höheren Lichtreflexionsvermögen als
Chrom hergestellt ist, und einen auf dem Metallfilm ausgebildeten
Chromfilm, wobei der Chromfilm eine diskontinuierliche Struktur
und eine Dicke von 20 nm oder mehr aufweist.
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(B) Verfahren zur Herstellung elektromagnetisch
durchlässiger, glänzender Harzprodukte
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Die
Erfindung stellt ein Verfahren zur Herstellung eines elektromagnetisch
durchlässigen, glänzenden Harzprodukts bereit,
welches das Abscheiden eines Chromfilms auf einer Harzbasis durch
Trockenplattieren und danach das Erwärmen des abgeschiedenen
Films zusammen mit der Harzbasis zum Umwandeln des Chromfilms in
einen Film mit einer diskontinuierlichen Struktur umfasst.
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Die
Erfindung stellt ferner ein weiteres Verfahren zur Herstellung eines
elektromagnetisch durchlässigen, glänzenden Harzprodukts
bereit, wobei das Verfahren das Abscheiden eines Metallfilms, der
aus einem Metall hergestellt ist, das ein höheres Lichtreflexionsvermögen
als Chrom aufweist, auf einer Harzbasis durch Trockenplattieren,
das Abscheiden eines Chromfilms auf dem Metallfilm durch Trockenplattieren
und danach das Erwärmen der abgeschiedenen Filme zusammen
mit der Harzbasis zum Umwandeln des Metallfilms und des Chromfilms
in Filme mit einer diskontinuierlichen Struktur umfasst.
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Der
Mechanismus, durch den ein Chromfilm (einschließlich eines
Mehrschichtfilms, der aus einem Chromfilm und einem anderen Metallfilm
zusammengesetzt ist) Risse bildet, wird nachstehend erläutert.
Es wird davon ausgegangen, dass die folgenden zwei Faktoren für
die Rissbildung eines Chromfilms ursächlich sind.
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Erstens
ist Chrom ein Metall mit einem hohen Pilling-Bedworth-Verhältnis
(1,99), wobei es sich um das Verhältnis zwischen dem Molvolumen
eines Metalloxids und dem Molvolumen des Metalls in dem Metalloxid handelt.
Chrom zeigt somit bei der Oxidation eine beträchtliche
Volumenänderung (Zunahme). Folglich führt die
atmosphärische Oxidation eines Chromfilms, der abgeschieden
worden ist, zur Häufung vieler Spannungen (innerer Belastungen)
in dem Film.
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Zweitens
ist der lineare Ausdehnungskoeffizient des Harzes (linearer Ausdehnungskoeffizient
von Polycarbonaten: 6,6 × 10–5/K)
höher als derjenige von Chrom (linearer Ausdehnungskoeffizient:
0,62 × 10–5/K) (d. h.
der erstgenannte Koeffizient beträgt mindestens das 10-fache
des letztgenannten Koeffizienten). Aus diesem Grund dehnt sich das
Harz beim Erwärmen stärker aus als der Chromfilm
und somit werden auf den Chromfilm äußere Belastungen
ausgeübt.
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Als
Ergebnis bildet der Chromfilm aufgrund der inneren Belastungen und
der äußeren Belastungen Risse.
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In
dem Fall eines Mehrschichtfilms, der aus einem Chromfilm und einem
anderen Metallfilm zusammengesetzt ist, bildet der Chromfilm folglich
Risse und diese Rissbildung führt dazu, dass der andere
Metallfilm Risse bildet, da dieser Film mit dem Chromfilm in einem
engen Kontakt steht.
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Nachstehend
sind Ausführungsformen der Erfindung als Beispiele gezeigt.
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1. Harzbasis
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Die
Form der Harzbasis ist nicht speziell beschränkt. Beispiele
dafür umfassen Plattenmaterialien, Blattmaterialien und
Filmmaterialien.
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Das
Harz, das die Harzbasis bildet, ist nicht speziell beschränkt,
mit der Ausnahme, dass das Harz vorzugsweise optisch transparent
ist, so dass der Glanz des Metallfilms bzw. der Metallfilme (einschließlich
des Chromfilms), der bzw. die darauf abgeschieden werden soll(en),
verstärkt wird. Thermoplastische Harze sind jedoch bevorzugt.
Beispiele dafür umfassen Polycarbonate (PC), Acrylharze,
Polystyrol (PS), Polyvinylchlorid (PVC), Polyethylenterephthalat
(PET), Acrylnitril/Butadien/Styrol-Copolymere (ABS) und Polyurethane.
Der Ausdruck „optisch transparent” steht nicht
nur für „farblos und transparent”, sondern
auch für „farbig und transparent”.
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Der
lineare Ausdehnungskoeffizient des Harzes ist nicht speziell beschränkt.
Ein Harz mit einem line aren Ausdehnungskoeffizienten von 4,0 × 10–5 bis 15,0 × 10–5/K ist jedoch bevorzugt. Mehr
bevorzugt ist ein Harz mit einem linearen Ausdehnungskoeffizienten
von 5,0 × 10–5 bis 10,0 × 10–5/K.
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2. Chromfilm
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Das
zur Bildung des Chromfilms verwendete Chrom ist nicht speziell beschränkt
und es kann sich entweder um Chrom (reines Metall) oder eine Chromlegierung
handeln.
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Die
Dicke des Chrommetalls ist nicht speziell beschränkt. Sie
beträgt jedoch vorzugsweise 150 bis 210 nm, mehr bevorzugt
25 bis 75 nm.
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Die
Bedingungen für das Trockenplattieren zum Abscheiden eines
Chromfilms mit einer solchen Dicke sind nicht speziell beschränkt.
In dem Fall einer Filmabscheidung beispielsweise durch Sputtern
beträgt die Ausgangsleistung jedoch vorzugsweise 100 bis
800 W und der Abscheidungszeitraum beträgt vorzugsweise 10
bis 500 Sekunden. Es sollte jedoch beachtet werden, dass nicht alle
Kombinationen der Ausgangsleistung und des Abscheidungszeitraums,
die jeweils in diesen Bereichen liegen, bevorzugt sind, da die Filmdicke
zu dem Produkt aus Ausgangsleistung und Abscheidungszeitraum proportional
ist.
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3. Metallfilm
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Wenn
das Harzprodukt einen Metallfilm umfasst, der aus einem Metall mit
einem höheren Lichtreflexionsvermögen als Chrom
hergestellt ist, weist dieses Harzprodukt einen verstärkten
Glanz (metallischen Glanz) auf.
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Das
Metall, das ein höheres Lichtreflexionsvermögen
(Reflexionsvermögen für sichtbares Licht) aufweist
als Chrom ist nicht speziell beschränkt. Dieses Metall
kann ein reines Metall oder eine Legierung sein. Beispiele für
das Metall umfassen Aluminium (Al), Silber (Ag), Nickel (Ni), Gold
(Au) und Platin (Pt).
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Bei
den Werten für das Lichtreflexionsvermögen handelt
es sich hier um Werte des Lichtreflexionsvermögens, die
bei einer Wellenlänge von 550 nm gemessen werden.
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Die
Dicke des Metallfilms ist nicht speziell beschränkt. Es
ist jedoch bevorzugt, dass der Metallfilm dünner ist als
der Chromfilm, da ein solcher dünner Metallfilm beim Erwärmen
zur Rissbildung neigt (dazu neigt, in einen Film mit einer diskontinuierlichen
Struktur umgewandelt zu werden). Obwohl die spezifische Filmdicke
nicht speziell beschränkt ist, beträgt sie vorzugsweise
15 bis 150 nm, mehr bevorzugt 20 bis 75 nm.
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Beispielsweise
beträgt in dem Fall, bei dem ein Aluminiumfilm mit einer
solchen Dicke durch Sputtern abgeschieden werden soll, die Ausgangsleistung
vorzugsweise 100 bis 800 W und der Abscheidungszeitraum beträgt
vorzugsweise 10 bis 500 Sekunden. Es sollte jedoch beachtet werden,
dass nicht alle Kombinationen der Ausgangsleistung und des Abscheidungszeitraums,
die jeweils in diesen Bereichen liegen, bevorzugt sind, da die Filmdicke
zu dem Produkt aus Ausgangsleistung und Abscheidungszeitraum proportional
ist.
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Der
Ausdruck „Film mit einer diskontinuierlichen Struktur” steht
für einen Film, der viele feine Risse (Risse, die nicht
so groß sind, dass sie einen Einfluss auf das Aussehen
ausüben) darin aufweist und aufgrund der Risse diskontinuierlich
ist. Ein Metallfilm mit einer diskontinuierlichen Struktur weist
einen hohen Oberflächenwiderstand auf und ist elektromagnetisch
durchlässig.
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4. Trockenplattieren
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Das
Trockenplattieren ist nicht speziell beschränkt. Eine physikalische
Dampfabscheidung (PVD) ist jedoch bevorzugt. Die physikalische Dampfabscheidung
ist nicht speziell beschränkt und Beispiele dafür
umfassen Vakuumabscheidung, Sputtern und Ionenplattieren.
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Das
Trockenplattieren, das zur Abscheidung des Chromfilms eingesetzt
wird, und das Trockenplattieren, das zum Abscheiden des Metallfilms
eingesetzt wird, können gleich (gleiche Art der Technik)
oder verschieden (verschiedene Arten von Techniken) sein.
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5. Erwärmen
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Die
Temperatur, bei der die abgeschiedenen Filme zusammen mit der Harzbasis
erwärmt werden, ist nicht speziell beschränkt.
Die Temperatur liegt jedoch vorzugsweise bei 60°C bis zum
Glasübergangspunkt (Tg) der Harzbasis.
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Der
Zeitraum des Erwärmens ist nicht speziell beschränkt.
Der Zeitraum des Erwärmens beträgt jedoch vorzugsweise
30 min bis 8 Stunden.
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6. Elektromagnetisch durchlässige,
glänzende Harzprodukte
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Die
Anwendungen der elektromagnetisch durchlässigen, glänzenden
Harzprodukte sind nicht speziell beschränkt. Beispiele
dafür umfassen Anwendungen, bei denen es erforderlich ist,
Glanz und elektromagnetische Durchlässigkeit zu kombinieren,
wie z. B. bei Abdeckungen für ein Millimeterwellen-Radargerät
und Gehäusen für Kommunikationsgeräte.
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Die
Erfindung stellt bereit: Elektromagnetisch durchlässige,
glänzende Harzprodukte, die einen Chromfilm mit einer diskontinuierlichen
Struktur umfassen und somit eine elektromagnetische Durchlässigkeit aufweisen,
obwohl sie einen Glanz aufweisen, sowie Verfahren zur Herstellung
dieser elektromagnetisch durchlässigen, glänzenden
Harzprodukte.
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Kurze Beschreibung der Zeichnungen
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1 ist
eine diagrammartige Schnittansicht eines kleinen Teils in der Nähe
der Oberfläche eines elektromagnetisch durchlässigen,
glänzenden Harzprodukts als eine Ausführungsform
der Erfindung.
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2 ist
eine Photomikrographie eines Teils der Oberfläche der Probe
von Vergleichsbeispiel 6.
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3 ist
eine Photomikrographie eines Teils der Oberfläche der Probe
von Beispiel 21.
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4 ist
eine Photomikrographie eines Teils der Oberfläche der Probe
von Beispiel 12.
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5 ist
eine Photomikrographie eines Teils der Oberfläche der Probe
8 nach dem Erwärmen.
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6 ist
ein Graph, der die Beziehung zwischen dem Oberflächenwiderstand
und der Millimeterwellendämpfung zeigt.
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7 ist
ein Graph, der die Beziehung zwischen dem Oberflächenwiderstand
und dem Reflexionsvermögen zeigt.
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8 ist
ein Graph, der die Abhängigkeit des Oberflächenwiderstands
von der Beziehung zwischen der Dicke des Chromfilms und der Dicke
des Aluminiumfilms zeigt.
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Beschreibung der bevorzugten
Ausführungsformen
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In
einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung
wird ein elektromagnetisch durchlässiges, glänzendes
Harzprodukt bereitgestellt, welches umfasst: Ein plattenförmiges
Polycarbonat, einen Aluminiumfilm, der auf dem Polycarbonat gebildet
worden ist und der aus Aluminium hergestellt ist und eine diskontinuierliche
Struktur aufweist, und einen Chromfilm, der auf dem Aluminiumfilm
ausgebildet ist und eine diskontinuierliche Struktur sowie eine
Dicke von 20 nm oder mehr aufweist.
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Beispiele
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Gemäß der 1 umfasst
ein elektromagnetisch durchlässiges, glänzendes
Harzprodukt 10 der Erfindung eine Polycarbonatbasis 11,
einen Aluminium(Al)-Film 13, der auf der Polycarbonatbasis 11 durch
Trockenplattieren abgeschieden worden ist, und einen Chromfilm 12,
der auf dem Aluminiumfilm 13 durch Trockenplattieren abgeschieden
worden ist. Nach der Abscheidung der Filme 13 und 12 wurden
diese Filme zusammen mit der Polycarbonatbasis 11 erwärmt.
Als Ergebnis liegen der Aluminiumfilm 13 und der Chromfilm 12 als
Filme mit einer diskontinuierlichen Struktur vor.
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Die
Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf Beispiele und Vergleichsbeispiele
detaillierter beschrieben.
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Als
erstes wurde ein Vortest durchgeführt, in dem Proben, die
durch Abscheiden von mindestens einem eines Chromfilms und eines
Aluminiumfilms auf einer Harzbasis durch Trockenplattieren erhalten
worden sind, 2 Stunden bei 120°C erwärmt wurden,
und es wurde untersucht, wie sich der Oberflächenwiderstand,
die Durchlässigkeit und das Reflexionsvermögen
durch das Erwärmen änderten.
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Proben
wurden durch Abscheiden eines Aluminium(Al)-Films auf einem plattenförmigen
Polycarbonat (PC) mit einer Dicke von 3 mm und Abscheiden eines
Chrom(Cr)-Films darauf hergestellt und diese Proben wurden bezüglich
des Oberflächenwiderstands, der Durchlässigkeit
und des Reflexionsvermögens vor dem Erwärmen und
nach dem Erwärmen untersucht. Der Aluminiumfilm und der
Chromfilm wurden jeweils durch Sputtern abgeschieden. Gemäß der
Tabelle 1 wurden die Abscheidungsbedingungen (Abscheidungszeitraum) so
geändert, dass dadurch die Dicke jedes Films geändert
wurde (für Aluminium wurden fünf Stufen bei einer Ausgangsleistung
von 200 W, d. h. 60 Sekunden (Filmdicke 23 nm), 90 Sekunden (Filmdicke
35 nm), 120 Sekunden (Filmdicke 45 nm), 180 Sekunden (Filmdicke
70 nm) und Null (Filmdicke 0 nm) eingesetzt und für Chrom
wurden drei Stufen bei einer Ausgangsleistung von 400 W, d. h. 30
Sekunden (Filmdicke 30 nm), 120 Sekunden (Filmdicke 120 nm) und
Null (Filmdicke 0 nm) eingesetzt). Folglich wurden vierzehn Arten
von Proben erhalten. Die gemessenen Werte für den Oberflächenwiderstand,
die Durchlässigkeit und das Reflexionsvermögen
für jede Probe sind in den Tabellen 2 bis 4 gezeigt. In
den Tabellen 2 bis 4 handelt es sich bei dem oberen Abschnitt und
dem unteren Abschnitt in jeder Zeile um einen Wert, der vor dem
Erwärmen gemessen worden ist, bzw. um einen Wert, der nach
dem Erwärmen gemessen worden ist. Die Werte des Oberflächenwiderstands
sind mit Exponenten angegeben. Beispielsweise stellt in 1,90E+01
E 10 dar und +01 stellt den Exponenten von 10 dar. Der Wert 1,90E+01
ist daher 1,90 × 101, d. h. 19,0.
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Eine
Photomikrographie der Oberfläche (Seite des Chromfilms)
der Probe 8 (Al-Filmdicke 45 nm, Cr-Filmdicke 30 nm) nach dem Erwärmen
ist in der
5 gezeigt. Tabelle 1 Probe Nr.
| 2.
Sputtern | Cr (400
W) |
| Null
(0
nm) | 30
s
(30 nm) | 120
s
(120 nm) |
| 1. Sputtern | |
| Al (200
W) | 60
s
(23 nm) | Probe
1 | Probe
2 | Probe
3 |
| 90
s
(35 nm) | Probe
4 | Probe
5 | Probe
6 |
| 120
s
(45 nm) | Probe
7 | Probe
8 | Probe
9 |
| 180
s
(70 nm) | Probe
10 | Probe
11 | Probe
12 |
| Null
(0
nm) | - | Probe
13 | Probe
14 |
Tabelle 2 Oberflächenwiderstand (Einheit: Ω/☐)
| 2.
Sputtern | Cr (400
W) |
| Null
(0
nm) | 30
s
(30 nm) | 120
s
(120 nm) |
| 1. Sputtern | |
| Al (200 W) | 60
s
(23 nm) | 1,90E+01
1,70E+01 | 1,28E+01
1,50E+05 | 1,04E+02
1,52E+07 |
| 90
s
(35 nm) | 7,16E+00
6,89E+00 | 6,27E+00
1,02E+01 | 3,31E+01
1,64E+06 |
| 120
s
(45 nm) | 4,48E+00
4,27E+00 | 4,13E+00
4,18E+00 | 6,25E+00
1,52E+05 |
| 180
s
(70 nm) | 2,31E+00
2,13E+00 | 2,41E+00
2,43E+00 | 2,29E+00
1,00E+04 |
| Null
(0
nm) | - | 4,65E+02
8,46E+08 | 2,63E+03
5,71E+10 |
Tabelle 3 Durchlässigkeit (Einheit: %D)
| 2.
Sputtern | Cr (400
W) |
| Null
(0
nm) | 30
s
(30 nm) | 120
s
(120 nm) |
| 1. Sputtern | |
| Al (200
W) | 60
s
(23 nm) | 16,17
16,81 | 1,82
2,31 | 0,07
0,15 |
| 90
s
(35 nm) | 3,88
4,05 | 0,54
0,76 | 0,00
0,16 |
| 120
s
(45 nm) | 1,09
1,14 | 0,15
0,20 | 0,00
0,12 |
| 180
s
(70 nm) | 0,06
0,07 | 0,00
0,00 | 0,00
0,07 |
| Null
(0
nm) | - | 6,71
7,78 | 0,06
0,12 |
Tabelle 4 Reflexionsvermögen (Einheit:
R%)
| 2.
Sputtern | Cr (400
W) |
| Null
(0
nm) | 30
s
(30 nm) | 120
s
(120 nm) |
| 1. Sputtern | |
| Al (200
W) | 60
s
(23 nm) | 34,35
38,61 | 56,31
56,18 | 55,44
55,05 |
| 90
s
(35 nm) | 58,47
61,15 | 62,50
63,01 | 61,22
60,10 |
| 120
s
(45 nm) | 61,05
64,15 | 64,11
66,14 | 65,78
64,06 |
| 180
s
(70 nm) | 65,08
69,10 | 61,54
66,97 | 61,22
62,01 |
| Null
(0
nm) | - | 40,23
39,09 | 40,74
38,14 |
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Die
von dem Abscheidungszeitraum verschiedenen Abscheidungsbedingungen
sind nachstehend angegeben.
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Als
Abscheidungsvorrichtung wurde eine Abscheidungsvorrichtung „i-Miller
II” verwendet, die von Shibaura Mechatronics Corp. hergestellt
worden ist. Die eingestellten Bedingungen umfassten ein Endvakuum von
5,00 × 10–3 Pa, eine Argonflussrate
von 25 sccm und eine Drehzahl der Basis von 6 U/min. Die Kammertemperatur
und die Basistemperatur wurden jeweils auf 27°C eingestellt.
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Während
der Abscheidung jedes Aluminiumfilms betrugen der Druck, der Strom
und die Spannung 0,103 Pa, 0,51 A bzw. 366 V.
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Während
der Abscheidung jedes Chromfilms betrugen der Druck, der Strom und
die Spannung 0,106 Pa, 0,97 A bzw. 411 V.
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Der
Oberflächenwiderstand, die Durchlässigkeit und
das Reflexionsvermögen jeder Probe wurden in der folgenden
Weise gemessen. Auch in den später angegebenen Beispielen
und Vergleichsbeispielen wurden diese Eigenschaften in der gleichen
Weise gemessen.
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(1) Oberflächenwiderstand
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In
dem Fall, bei dem der zu messende Oberflächenwiderstand
1,0 × 104 (1,0E+0,4) Ω/☐ oder
weniger betrug, wurde der Oberflächenwiderstand mit dem
Vier-Anschluss-vier-Sonden-Verfahren gemäß JIS-K7194 bestimmt.
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In
dem Fall, bei dem der zu messende Oberflächenwiderstand
mehr als 1,0 × 104 (1,0E+0,4) Ω/☐ betrug,
wurde der Oberflächenwiderstand mit dem Doppelringsondenverfahren
gemäß JIS-K6911 bestimmt.
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(2) Durchlässigkeit
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Ein
Spektrophotometer (Handelsbezeichnung „UV-1650PC”,
von Shimadzu Corp. hergestellt) wurde zur Messung der Durchlässigkeit
bei einer Messwellenlänge von 550 nm verwendet.
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Die
Durchlässigkeit nur der Basis (die weder den Chromfilm
noch irgendeinen anderen Film umfasste) als Bezug wurde als 100%
angesetzt.
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(3) Reflexionsvermögen
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Ein
Spektrophotometer (Handelsbezeichnung „UV-1650PC”,
von Shimadzu Corp. hergestellt) wurde zur Messung des Reflexionsvermögens
bei einer Messwellenlänge von 550 nm verwendet.
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Das
Reflexionsvermögen eines Spiegels mit aufgedampftem Aluminium
als Bezug wurde als 100% angesetzt.
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Die
Ergebnisse dieses Tests zeigen das Folgende. Der Oberflächenwiderstand
von Proben, die einen Chromfilm aufwiesen, nahm beim Erwärmen
zu. Die Proben, die einen dicken Aluminiumfilm und einen dünnen Chromfilm
aufwiesen (Probe 5, Probe 8 und Probe 11), zeigten jedoch eine relativ
geringe Änderung des Oberflächenwiderstands beim
Erwärmen. Dies ist darauf zurückzuführen,
dass der Ausdehnungskoeffizient von Aluminium (linearer Ausdehnungskoeffizient:
2,39 × 10–5/K) höher
ist als der Ausdehnungskoeffizient von Chrom (linearer Ausdehnungskoeffizient:
0,62 × 10–5/K) und nahe
an dem Ausdehnungskoeffizient der PC-Basis (linearer Ausdehnungskoeffizient:
6,6 × 10–5/K) liegt (d.
h. Aluminium liegt zwischen Chrom und PC), und somit dient der Aluminiumfilm
als Puffer zur Hemmung einer Rissbildung des Chromfilms und des
Aluminiumfilms durch Erwärmen. Folglich entwickelten der
Chromfilm und der andere Film wenige (und lineare) Risse, wie es
in der 5 gezeigt ist, und wurden nicht in einen Film
mit einer diskontinuierlichen Struktur umgewandelt.
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Die
durch Abscheiden nur eines Aluminiumfilms erhaltenen Proben (Probe
1, Probe 4, Probe 7 und Probe 10) zeigten keine Zunahme des Oberflächenwiderstands
beim Erwärmen.
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Andererseits änderten
sich die Messwerte der Durchlässigkeit und des Reflexionsvermögens
beim Erwärmen nur geringfügig. Es wurde gefunden,
dass diese Eigenschaften durch das Erwärmen nur wenig beeinflusst
werden.
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Die
in der Tabelle 5 gezeigten Proben wurden in der folgenden Weise
hergestellt. Ein Aluminium(Al)-Film wurde durch Sputtern auf einer
plattenförmigen Polycarbonat(PC)-Basis mit einer Dicke
von 3 mm abgeschieden und ein Chrom(Cr)-Film wurde darauf durch
Sputtern abgeschieden. Alternativ wurde nur ein Chromfilm durch
Sputtern abgeschieden. Danach wurde ein 2-stündiges Erwärmen
des bzw. der abgeschiedenen Films bzw. Filme bei 120°C
zusammen mit der Polycarbonatbasis durchgeführt. Auf diese
Weise wurden 29 Proben der Beispiele hergestellt. Ferner wurden
fünf Proben von Vergleichsbeispielen durch Abscheiden eines
Aluminiumfilms allein auf der gleichen Polycarbonatbasis durch Sputtern
und dann Erwärmen des abgeschiedenen Films mit der Polycarbonatbasis
unter den gleichen Bedingungen hergestellt. Die Chromfilme in den
Beispielen wiesen sieben Dickenwerte im Bereich von 30 bis 120 nm
auf, die durch Ändern der Ausgangsleistung (400 W oder
600 W) und des Zeitraums (30 Sekunden, 60 Sekunden, 90 Sekunden
oder Null) während der Abscheidung erhalten wurden. Die
Aluminiumfilme in einem Teil der Beispiele und in den Vergleichsbeispielen
wiesen sechs Dickenwerte im Bereich von 12 bis 35 nm auf, die durch Ändern
der Ausgangsleistung (200 W oder 400 W) und des Zeitraums (20 Sekunden,
30 Sekunden, 60 Sekunden, 90 Sekunden oder Null) während
der Abscheidung erhalten wurden.
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Die
bei einer Ausgangsleistung von 400 W erhaltenen Chromfilmdicken
waren 30 nm, 60 nm und 120 nm bei 30 Sekunden, 60 Sekunden bzw.
120 Sekunden und diejenigen, die bei einer Ausgangsleistung von 600
W erhalten worden sind, waren 45 nm, 90 nm und 135 nm bei 30 Sekunden,
60 Sekunden bzw. 90 Sekunden.
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Die
bei einer Ausgangsleistung von 200 W erhaltenen Aluminiumfilmdicken
waren 12 nm, 23 nm und 35 nm bei 30 Sekunden, 60 Sekunden bzw. 90
Sekunden und diejenigen, die bei einer Ausgangsleistung von 400
W erhalten worden sind, waren 16 nm und 23 nm bei 20 Sekunden bzw.
30 Sekunden.
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Die
Proben der Beispiele und der Vergleichsbeispiele wurden bezüglich
der Durchlässigkeit, des Reflexionsvermögens,
des Oberflächenwiderstands und der Millimeterwellendämpfung
untersucht und die entsprechenden Messwerte sind in der Tabelle
6 gezeigt. Die vor dem Erwärmen gemessenen Werte des Oberflächenwiderstands
und die nach dem Erwärmen gemessenen Werte des Oberflächenwiderstands
sind in der Tabelle 7 gezeigt. Ferner sind die Durchlässigkeiten
und die Werte für das Reflexionsvermögen in der
Tabelle 8 gezeigt und die Millimeterwellendämpfungen und
das Aussehen sind in der Tabelle 9 gezeigt.
-
Ein
Graph, der die Beziehung zwischen dem Oberflächenwiderstand
und der Millimeterwellendämpfung zeigt, ist in der 6 gezeigt,
und ein Graph, der die Beziehung zwischen dem Oberflächenwiderstand und
dem Reflexionsvermögen zeigt, ist in der 7 gezeigt.
-
Photomikrographien
der Oberflächen (Seite des Chromfilms) der Probe von Beispiel
12 (Al-Filmdicke 12 nm, Cr-Filmdicke 120 nm) und der Probe von Beispiel
21 (Al-Filmdicke 35 nm, Cr-Filmdicke 45 nm) sind in der
3 (Beispiel
21) und in der
4 (Beispiel 12) gezeigt. Tabelle 5 T/P Nr.
| | Cr |
| 400 W | 600 W | (0 nm)
Null |
| 30
s
(30 nm) | 60
s
(60 nm) | 120
s
(120 nm) | 30
s
(45 nm) | 60
s
(90 nm) | 90
s
(135 nm) |
| Al | 200 W | 30
s
(12 nm) | Bsp.
13 | Bsp.
22 | Bsp.
12 | Bsp.
10 | Bsp.
11 | Bsp.
5 | Vgl.-Bsp.
1 |
| 60
s
(23 nm) | - | - | Bsp.
1 | Bsp.
20 | Bsp.
19 | Bsp.
2 | Vgl.-Bsp.
2 |
| 90
s
(35 nm) | - | - | - | Bsp.
21 | Bsp.
18 | Bsp.
7 | Vgl.-Bsp.
3 |
| 400 W | 20
s
(16 nm) | Bsp.
14 | Bsp.
23 | Bsp.
8 | Bsp.
9 | Bsp.
24 | Bsp.
6 | Vgl.-Bsp.
4 |
| 30
s
(23 nm) | Bsp.
15 | Bsp.
16 | Bsp.
3 | - | Bsp.
17 | Bsp.
4 | Vgl.-Bsp.
5 |
| Null (0
nm) | - | Bsp.
25 | Bsp.
26 | Bsp.
27 | Bsp.
28 | Bsp.
29 | - |
Tabelle 6
| Nr. | Durchlässigkeit (%D) | Reflexionsvermögen
(R%) | Oberflächenwiderstand
(Ω/☐) | Millimeterwellendämpfung
(dB) |
| Vgl.-Bsp.
1 | 45,18 | 27,65 | 5,32E+01 | 6,589 |
| Vgl.-Bsp.
2 | 15,36 | 33,42 | 1,97E+01 | 16,270 |
| Vgl.-Bsp.
3 | 3,66 | 54,86 | 8,77E+00 | 24,464 |
| Vgl.-Bsp.
4 | 28,22 | 36,55 | 1,78E+01 | 17,633 |
| Vgl.-Bsp.
5 | 10,13 | 54,65 | 9,07E+00 | 22,894 |
| Bsp.
25 | 1,25 | 43,56 | 2,46E+08 | 1,176 |
| Bsp.
26 | 0,07 | 42,07 | 3,85E+06 | 1,264 |
| Bsp.
27 | 2,91 | 44,54 | 3,53E+08 | 1,233 |
| Bsp.
28 | 0,24 | 42,26 | 5,26E+08 | 1,222 |
| Bsp.
29 | 0,09 | 40,39 | 1,43E+07 | 1,251 |
| Bsp.
13 | 4,60 | 48,44 | 6,16E+08 | 1,154 |
| Bsp.
22 | 0,79 | 45,19 | 8,03E+07 | 1,247 |
| Bsp.
12 | 0,13 | 47,79 | 1,90E+08 | 1,165 |
| Bsp.
10 | 1,67 | 48,96 | 2,26E+09 | 1,159 |
| Bsp.
11 | 0,84 | 49,93 | 8,18E+07 | 1,138 |
| Bsp.
5 | 0,16 | 51,06 | 4,52E+13 | 1,144 |
| Bsp.
1 | 0,15 | 59,25 | 9,66E+06 | 1,492 |
| Bsp.
20 | 0,93 | 59,74 | 1,14E+08 | 1,331 |
| Bsp.
19 | 0,22 | 58,35 | 5,71E+07 | 1,201 |
| Bsp.
2 | 0,16 | 59,24 | 3,89E+07 | 1,400 |
| Bsp.
21 | 0,45 | 61,45 | 4,26E+05 | 4,029 |
| Bsp.
18 | 0,31 | 56,20 | 4,73E+07 | 2,237 |
| Bsp.
7 | 0,22 | 60,60 | 9,91E+07 | 1,122 |
| Bsp.
14 | 3,32 | 54,68 | 1,46E+09 | 1,330 |
| Bsp.
23 | 0,66 | 58,25 | 5,52E+07 | 1,254 |
| Bsp.
8 | 0,33 | 55,42 | 1,33E+10 | 1,178 |
| Bsp.
9 | 1,50 | 60,24 | 2,91E+09 | 1,310 |
| Bsp.
24 | 0,21 | 57,67 | 1,26E+08 | 1,215 |
| Bsp.
6 | 0,23 | 58,37 | 3,24E+11 | 1,143 |
| Bsp.
15 | 1,43 | 64,26 | 2,59E+06 | 2,589 |
| Bsp.
16 | 0,43 | 65,13 | 2,67E+06 | 3,105 |
| Bsp.
3 | 0,13 | 66,38 | 2,53E+07 | 1,349 |
| Bsp.
17 | 0,26 | 66,38 | 1,41E+08 | 1,164 |
| Bsp.
4 | 0,18 | 65,31 | 1,61E+08 | 1,104 |
Tabelle 7 Oberflächenwiderstand (Einheit: Ω/☐) Oberer Abschnitt: Vor dem Erwärmen Unterer Abschnitt: Nach dem Erwärmen
| | Cr |
| 400 W | 600 W | Null
(0 nm) |
| 30
s
(30 nm) | 60
s
(60 nm) | 120
s
(120 nm) | 30
s
(45 nm) | 60
s
(90 nm) | 90
s
(135 nm) |
| Al | 200 W | 30
s
(12 nm) | 2,70E+01
6,16E+08 | 2,32E+02
8,03E+07 | 6,89E+
03
1,90E+
08 | 9,73E+01
2,26E+09 | 5,90E+02
8,18E+07 | 4,15E+
03
4,52E+
13 | 5,32E+01
5,32E+01 |
| 60
s
(23 nm) | - | - | 7,72E+
01
9,66E+
06 | 8,96E+00
1,14E+08 | 4,33E+01
5,71E+07 | 1,07E+
02
3,89E+
07 | 1,97E+01
1,97E+01 |
| 90
s
(35 nm) | - | - | - | 5,32E+00
4,26E+05 | 1,03E+01
4,73E+07 | 2,26E+
01
9,91E+
07 | 8,77E+00
8,77E+00 |
| 400 W | 20
s
(16 nm) | 2,15E+01
1,46E+09 | 2,94E+01
5,52E+07 | 7,64E+
03
1,33E+
10 | 1,67E+01
2,91E+09 | 3,36E+02
1,26E+08 | 7,91E+
03
3,24E+
11 | 1,78E+01
1,78E+01 |
| 30
s
(23 nm) | 7,52E+00
2,59E+06 | 1,24E+01
2,67E+07 | 3,08E+
01
2,53E+
07 | - | 2,01E+01
1,41E+08 | 5,15E+
01
1,61E+
08 | 9,07E+00
9,07E+00 |
| Null (0
nm) | - | 2,01E+03
2,46E+08 | 1,07E+
03
3,85E+
06 | 7,83E+02
3,53E+08 | 8,77E+02
5,26E+08 | 1,04E+
03
1,43E+
07 | - |
Tabelle 8 Durchlässigkeit, Reflexionsvermögen Oberer Abschnitt: Durchlässigkeit
(Einheit: %D) Unterer Abschnitt: Reflexionsvermögen
(Einheit: R%)
| | Cr |
| 400 W | 600 W | Null
(0 nm) |
| 30
s
(30 nm) | 60
s
(60 nm) | 120
s
(120 nm) | 30
s
(45 nm) | 60
s
(90 nm) | 90
s
(135 nm) |
| Al | 200 W | 30
s
(12 nm) | 4,60
48,44 | 0,79
45,19 | 0,13
47,79 | 1,67
48,96 | 0,84
49,93 | 0,16
51,06 | 45,18
27,65 |
| 60
s
(23 nm) | - | - | 0,15
59,25 | 0,93
59,74 | 0,22
58,35 | 0,16
59,24 | 15,36
33,42 |
| 90
s
(35 nm) | - | - | - | 0,45
61,45 | 0,31
56,20 | 0,22
60,60 | 3,66
54,86 |
| 400 W | 20
s
(16 nm) | 3,32
54,68 | 0,66
58,25 | 0,33
55,42 | 1,50
60,24 | 0,21
57,67 | 0,23
58,37 | 28,22
36,55 |
| 30
s
(23 nm) | 1,43
64,26 | 0,43
65,13 | 0,13
66,38 | - | 0,26
66,38 | 0,18
65,31 | 10,13
54,65 |
| Null (0
nm) | - | 1,25
43,56 | 0,07
42,07 | 2,91
44,54 | 0,24
42,26 | 0,09
40,39 | - |
Tabelle 9 Millimeterwellendämpfung, Aussehen Oberer Abschnitt: Millimeterwellendämpfung
(Einheit: dB) Unterer Abschnitt: Aussehen
| | Cr |
| 400 W | 600 W | Null
(0 nm) |
| 30
s
(30 nm) | 60
s
(60 nm) | 120
s
(120 nm) | 30
s
(45 nm) | 60
s
(90 nm) | 90
s
(135 nm) |
| Al | 200 W | 30
s
(12 nm) | 1,154
problemlos | 1,247
problemlos | 1,165
problemlos | 1,159
problemlos | 1,138
problemlos | 1,144
problemlos | 6,589
problemlos |
| 60
s
(23 nm) | - | - | 1,492
problemlos | 1,331
problemlos | 1,201
problemlos | 1,400
problemlos | 16,270
problemlos |
| 90
s
(35 nm) | - | - | - | 4,029
problemlos | 2,237
problemlos | 1,122
problemlos | 24,464
problemlos |
| 400 W | 20
s
(16 nm) | 1,330
problemlos | 1,254
problemlos | 1,178
feine Risse | 1,310
problemlos | 1,215
problemlos | 1,143
feine Risse | 17,633
problemlos |
| 30
s
(23 nm) | 2,589
problemlos | 3,105
problemlos | 1,349
problemlos | - | 1,164
problemlos | 1,104
problemlos | 22,894
problemlos |
| Null (0
nm) | - | 1,176
problemlos | 1,264
problemlos | 1,233
problemlos | 1,222
problemlos | 1,251
feine Risse | - |
-
Die
von dem Abscheidungszeitraum verschiedenen Abscheidungsbedingungen
sind nachstehend angegeben.
-
Als
Abscheidungsvorrichtung wurde eine Abscheidungsvorrichtung „i-Miller
II” verwendet, die von Shibaura Mechatronics Corp. hergestellt
worden ist. Die eingestellten Bedingungen umfassten ein Endvakuum von
5,00 × 10–3 Pa, eine Argonflussrate
von 25 sccm und eine Drehzahl der Basis von 6 U/min. Die Kammertemperatur
und die Basistemperatur wurden jeweils auf 27°C eingestellt.
-
Während
der Abscheidung des Aluminiumfilms bei einer Ausgangsleistung von
200 W betrugen der Druck, der Strom und die Spannung 0,103 Pa, 0,51
A bzw. 366 V. Während der Abscheidung des Aluminiumfilms
bei einer Ausgangsleistung von 400 W betrugen der Druck, der Strom
und die Spannung 0,106 Pa, 1,03 A bzw. 401 V.
-
Während
der Abscheidung des Chromfilms bei einer Ausgangsleistung von 400
W betrugen der Druck, der Strom und die Spannung 0,106 Pa, 0,97
A bzw. 411 V. Während der Abscheidung des Chromfilms bei
einer Ausgangsleistung von 600 W betrugen der Druck, der Strom und
die Spannung 0,113 Pa, 1,41 A bzw. 429 V.
-
(4) Millimeterwellendämpfung
-
Die
Millimeterwellendämpfung wurde mit einer Vorrichtung zur
Untersuchung der Absorption elektromagnetischer Wellen gemessen
(Verfahren des freien Raums des Japan Fine Ceramics Center).
-
Insbesondere
wurden elektromagnetische Wellen im W-Band (76,575 GHz), die von
einem Oszillator emittiert wurden, bei einem Einfallswinkel von
0° auf eine Probe auftreffen gelassen und die elektromagnetischen
Wellen, die durch die Probe hindurchgetreten waren, wurden mit einem
Empfänger, der gegenüber dem Oszillator angeordnet
war, empfangen. Auf diese Weise wurde die Millimeterwellendämpfung
bestimmt.
-
(5) Aussehen
-
Jede
Probe wurde bezüglich des Aussehens visuell untersucht.
Die Proben, in denen visuell keine Risse festgestellt wurden, wurden
mit „problemlos” bezeichnet, und die Proben, bei
denen Risse visuell festgestellt wurden, wurden mit „feine
Risse” bezeichnet.
-
Die
Ergebnisse dieser Untersuchungen zeigen das Folgende. In den Proben
der Beispiele (29 Proben) entwickelte(n) der Chromfilm oder der
Chromfilm und der Aluminiumfilm Risse und wandelte(n) sich in einen Film
mit einer diskontinuierlichen Struktur um, wie es in den 3 und 4 gezeigt
ist. Deshalb wiesen diese Proben einen Oberflächenwiderstand
von 1,0 × 105 Ω/☐ oder
höher und eine Millimeterwellendämpfung von 5 dB
oder weniger auf. Ferner wiesen diese Proben ein Reflexionsvermögen
von 40 R% oder höher auf.
-
Diese
Effekte in jeder Probe sind auf die Tatsache zurückzuführen,
dass der Chromfilm aufgrund der inneren Belastungen, die durch eine
partielle Oxidation in der Luft verursacht worden sind, und die äußeren Belastungen,
die auf die Harzbasis während des Erwärmens zurückzuführen
sind, einer Rissbildung unterlag. Diese Rissbildung des Chromfilms
führte dazu, dass der Aluminiumfilm, der mit dem Chromfilm
in Kontakt war, Risse bildete.
-
Andererseits
wies in jeder der Proben der Vergleichsbeispiele (fünf
Proben) der Aluminiumfilm keine Risse auf. Diese Proben wiesen einen
Oberflächenwiderstand von 6,0 × 101 Ω/☐ oder
weniger und eine Millimeterwellendämpfung von 6 dB oder
mehr auf.
-
Dies
ist auf das Folgende zurückzuführen. Aluminium
weist ein Pilling-Bedworth-Verhältnis von 1,28 auf, das
niedriger ist als das Verhältnis von Chrom, und es weist
einen linearen Ausdehnungskoeffizienten von 2,39 × 10–5/K auf, der höher ist
als der Koeffizient von Chrom.
-
Aufgrunddessen
sind die Belastungen (innere Belastungen und äußere
Belastungen), die in dem Aluminiumfilm erzeugt werden, geringer
als die Belastungen, die in Chromfilmen erzeugt werden.
-
Die
in der Tabelle 10 gezeigten Proben wurden in der folgenden Weise
hergestellt. Ein plattenförmiges Polycarbonat mit einer
Dicke von 3 mm (PC, Glasübergangspunkt 124°C),
ein plattenförmiges Acrylharz mit einer Dicke von 3 mm
(Glasübergangspunkt 84°C) oder ein filmförmiges
Polyethylenterephthalat mit einer Dicke von 200 μm (PET,
Glasübergangstemperatur 83°C) wurde als Basis
zur Herstellung von neun Proben von Beispielen verwendet, während
die Temperatur während des Erwärmens geändert
wurde (60°C, 80°C oder 120°C). Drei Proben
von Vergleichsbeispielen, bei denen ein Glas mit einer Dicke von
1 mm (Objektträgerglas) als Basis verwendet wurde, wurden
hergestellt. Ferner wurden vier Proben von Vergleichsbeispielen
unter Verwendung dieser vier Basisarten ohne Durchführen
eines Erwärmens hergestellt. Ein Aluminiumfilm mit einer Dicke
von 23 nm wurde auf jeder Basis durch Sputtern abgeschieden und
ein Chromfilm mit einer Dicke von 135 nm wurde durch Sputtern darauf
abgeschieden. Bezüglich der Bedingungen der Sputtervorgänge
wurde die Aluminiumfilmabscheidung unter den gleichen Bedingungen
wie bei der vorstehend beschriebenen Aluminiumfilmabscheidung durchgeführt,
die bei einer Ausgangsleistung von 400 W für einen Abscheidungszeitraum
von 30 Sekunden durchgeführt wurde. Die Chromfilmabscheidung
wurde unter den gleichen Bedingungen wie bei der vorstehend beschriebenen
Chromfilmabscheidung durchgeführt, die bei einer Ausgangsleistung
von 600 W für einen Abscheidungszeitraum von 90 Sekunden
durchgeführt wurde. Der Zeitraum des Erwärmens
betrug 2 Stunden.
-
Die
gemessenen Werte für den Oberflächenwiderstand
für diese Proben der Beispiele und der Vergleichsbeispiele
sind in der Tabelle 11 gezeigt und die gemessenen Werte für
das Reflexionsvermögen für diese Proben der Beispiele
und der Vergleichsbeispiele sind in der Tabelle 12 gezeigt. In jedem
der Beispiele und Vergleichsbeispiele wurden zwei Prüfkörper
hergestellt und jeder davon wurde untersucht.
-
Eine
Photomikrographie der Oberfläche (Seite des Chromfilms)
der Probe von Vergleichsbeispiel 6 (Oberflächenwiderstand
3,54E+00, Reflexionsvermögen 66,84 R%) ist in der
2 gezeigt. Tabelle 10 T/P Nr.
| Erwärmungstemperatur | 120°C × 2
Stunden | 80°C × 2
Stunden | 60°C × 2
Stunden | Keine
Wärmebehandlung |
| Basis | |
| PC
(Glasübergangspunkt: 124°C) | Beispiel
30 | Beispiel
31 | Beispiel
32 | Vgl.-Bsp.
9 |
| Acryl
(Glasübergangspunkt: 84°C) | Beispiel
33 | Beispiel
34 | Beispiel
35 | Vgl.-Bsp.
10 |
| PET-Film
(200 μm) (Glasübergangspunkt: 83°C) | Beispiel
36 | Beispiel
37 | Beispiel
38 | Vgl.-Bsp.
11 |
| Objektträgerglas | Vgl.-Bsp.
6 | Vgl.-Bsp.
7 | Vgl.-Bsp.
8 | Vgl.-Bsp.
12 |
Tabelle 11 Oberflächenwiderstand (Einheit: Ω/☐)
| Erwärmungstemperatur | 120°C × 2
Stunden | 80°C × 2
Stunden | 60°C × 2
Stunden | Keine Wärmebehandlung |
| Basis | |
| PC
(Glasübergangspunkt: 124°C) | 1,08E+08
3,52E+08 | 1,15E+07
9,65E+06 | 1,70E+07
5,34E+07 | 6,30E+03
2,42E+02 |
| Acryl
(Glasübergangspunkt: 84°C) | Konnte
aufgrund einer Verformung nicht gemessen werden | 4,27E+05
4,99E+05 | 2,18E+05
1,43E+06 | 8,81E+02
1,90E+03 |
| PET-Film
(200 μm) (Glasübergangspunkt: 83°C) | Konnte
aufgrund einer Verformung nicht gemessen werden | 6,32E+06
7,83E+06 | 5,16E+06
1,23E+06 | 7,64E+02
2,18E+02 |
| Objektträgerglas | 3,39E+00
3,54E+00 | 3,86E+00
3,49E+00 | 3,85E+00
3,23E+00 | 3,73E+00
3,53E+00 |
Tabelle 12 Reflexionsvermögen (Einheit:
R%)
| Erwärmungstemperatur | 120°C × 2
Stunden | 80°C × 2
Stunden | 60°C × 2
Stunden | Keine Wärmebehandlung |
| Basis | |
| PC
(Glasübergangspunkt: 124°C) | 65,14
65,43 | 65,48
65,12 | 65,23
65,19 | 65,89
66,73 |
| Acryl
(Glasübergangspunkt: 84°C) | 64,12
64,87 | 64,55
65,23 | 64,39
64,83 | 65,12
64,83 |
| PET-Film
(200 μm) (Glasübergangspunkt: 83°C) | 65,34
65,28 | 65,23
64,91 | 64,73
65,23 | 65,83
65,12 |
| Objektträgerglas | 66,23
66,84 | 66,39
67,12 | 67,69
66,21 | 66,74
67,23 |
-
Die
vorstehend angegebenen Ergebnisse zeigen das Folgende. Die Proben
der Beispiele wiesen einen Oberflächenwiderstand von 2,00 × 105 Ω/☐ oder mehr auf, mit
Ausnahme der Proben der Beispiele 33 und 34, bei denen der Oberflächenwiderstand
nicht gemessen werden konnte, da sich die Basis aufgrund des Erwärmens,
das bei einer Temperatur durchgeführt wurde, die höher
war als die Glasübergangstemperatur, verformt hatte.
-
Andererseits
wiesen in den Proben, bei denen ein Glas als Basis verwendet wurde,
selbst durch das in der 2 gezeigte Erwärmen
der Chromfilm und der andere Film keine Risse auf und deren Oberflächenwiderstand
blieb gering. Dies ist auf die Tatsache zurückzuführen,
dass das Glas einen niedrigeren Ausdehnungskoeffizienten (linearen
Ausdehnungskoeffizienten) als Harze und eine große Härte
aufwies.
-
In
der 8 ist ein Graph gezeigt, der die Unterschiede
beim Oberflächenwiderstand zusammenfasst, die durch Unterschiede
bei der Dicke jedes Films in Proben verursacht werden, die jeweils
durch Abscheiden eines Aluminiumfilms und eines Chromfilms in dieser
Reihenfolge auf einer Harzbasis und dann Erwärmen der abgeschiedenen
Filme bei 120°C für 2 Stunden zusammen mit der
Harzbasis hergestellt worden sind.
-
Aus
der 8 ist Folgendes ersichtlich. Wenn die Dicke des
Chromfilms nicht geringer ist als die Dicke des Aluminiumfilms,
dann beträgt der Oberflächenwiderstand 1,00 × 104 Ω/☐ oder mehr. Dies ist
auf die Tatsache zurückzuführen, dass das Erwärmen
zu einer Rissbildung bei dem Chromfilm und dem Aluminiumfilm führt
und jeder dieser Filme in einen Film mit einer diskontinuierlichen
Struktur umgewandelt wird. Ferner wurde das Reflexionsvermögen
durch Einstellen der Dicke des Aluminiumfilms auf 23 nm oder mehr
auf 55 R% oder höher erhöht.
-
Die
Erfindung ist nicht auf die vorstehend angegebenen Beispiele beschränkt.
Die Erfindung kann in zweckmäßig modifizierten
Ausführungsformen ausgeführt werden, solange die
Modifizierungen nicht vom Schutzbereich der Erfindung abweichen.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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Zitierte Nicht-Patentliteratur
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- - JIS-K7194 [0055]
- - JIS-K6911 [0056]