CN107211549B - 壳体部件、电子设备以及壳体部件的制造方法 - Google Patents

Abstract

根据本技术的一个实施方式的壳体部件包括装饰膜和壳体部。所述装饰膜包括金属层，所述金属层通过气相沉积形成在基础膜上，并通过拉伸所述基础膜而在所述金属层中形成微细裂纹。所述壳体部包括被装饰区域，所述装饰膜被粘合至所述被装饰区域。

Description

壳体部件、电子设备以及壳体部件的制造方法

技术领域

本技术涉及可适用于电子设备的壳体部件、应用该壳体部件的电子设备以及壳体部件的制造方法。

背景技术

传统上，将具有金属状外观、同时能够使诸如毫米波之类的电磁波透过的构件设计为电子设备等的壳体部件。例如，专利文献1披露了一种用于在汽车的车标上装载汽车雷达的外部元件。例如，将铟沉积在树脂膜上并通过嵌入成型方法将所述膜贴附到车标的表面层。由此，可以形成具有装饰性金属光泽、并且由于铟的岛形结构而在电磁频带内不具有吸收区域(专利文献1的说明书第0006段，等等)的外部元件。

然而，在形成铟的岛形结构的方法中，在例如沉积面积较大的情况下，存在难于形成整体均匀的膜厚度的问题。此外，当形成壳体部件时，存在由于流入其中的树脂的温度而容易破坏岛形结构的问题(专利文献1的说明书第0007和0008段，等等)。

为了解决该问题，在专利文献1中，披露了下面的技术。即，将其中将金属区域作为岛、并将围绕该岛的非金属区域作为海的海岛结构人工地形成具有规律性。然后，将每个金属区域通过非金属区域相互绝缘，并且合适地控制金属区域的面积、以及与相邻金属区域之间的间隔。由此，可以获得具有与沉积铟的膜相比毫不逊色的电磁波透过性的材料(专利文献1的说明书第0013段，等等)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利申请公开号2010-251899。

发明内容

技术问题

如上所述，用于形成具有金属光泽同时能够透过无线电波、而且还具有高可设计性的壳体部件的技术是所需的。

鉴于此，本技术的目的是提供一种具有金属状外观同时能够透过无线电波的具有高可设计性的壳体部件、应用该壳体部件的电子设备以及壳体部件的制造方法。

解决问题的技术方案

为了达到上面提到的目的，根据本技术的一个实施方式的壳体部件包括装饰膜和壳体部。

所述装饰膜包括金属层，所述金属层通过气相沉积形成在基础膜上，并通过拉伸所述基础膜而在所述金属层中形成微细裂纹。

所述壳体部包括被装饰区域，所述装饰膜被粘合至所述被装饰区域。

在该壳体部件中，包括金属层的装饰膜被粘合至壳体部的被装饰区域。金属层通过气相沉积形成在基础膜上。在金属层中，通过拉伸基础膜形成微细裂纹。这样，拓宽了构成金属层的金属材料的选择范围。可以实现一种能够透过无线电波并具有金属状外观、而且具有高可设计性的壳体部件。

所述装饰膜可以包括其中形成有所述金属层的基础膜。

因为通过拉伸基础膜形成微细裂纹，所以可以以高粘着性在基础膜上形成金属层。结果，可以提高由包含基础膜的装饰膜装饰的被装饰区域的耐久性。

可以通过对所述基础膜执行双轴拉伸来形成所述微细裂纹。

这样，可以容易地形成微细裂纹。

所述金属层可以具有抑制拉伸性的抑制结构。

这样，可以使用具有高拉伸性的金属材料，并且提高可设计性。

所述抑制结构可以是其中构成所述金属层的金属材料具有霜柱形状的结构。

通过使金属材料具有霜柱形状，可以抑制金属层的拉伸性。

所述金属层可以是通过真空气相沉积形成在所述基础膜上的。在这种情况下，所述抑制结构可以是通过在预定温度条件和预定压力条件下执行所述真空气相沉积形成的。

通过控制温度条件和压力条件，可以容易地形成抑制结构。

所述金属层可以是通过对从卷出辊沿着旋转筒的外周面朝向卷绕辊输送的所述基础膜执行真空气相沉积形成的。

在使用卷对卷方式的情况下，可以以低成本容易地批量生产装饰膜。

所述金属层可以是由铝、钛、以及包含铝和钛中的至少之一的合金之中的任一种材料构成的。

可以用这些难以用湿渡形成并且具有高拉伸性的材料形成金属层。这样，可以提高壳体部件的可设计性。

所述金属层可以具有由金属层或氧化金属层层叠而成的叠层结构。

这样，可以抑制金属层的拉伸性并且提高壳体部件的可设计性。

所述金属层可以包括铝、氧化铝、钛、氧化钛、以及包含铝和钛中的至少之一的合金之中的任一种材料的层。

这样，可以提高壳体部件的可设计性。

所述微细裂纹可以以小于或等于1μm且大于或等于500μm的节距形成。

这样，可以呈现足够的无线电波透过特性。

根据本技术的一个实施方式的电子设备包括：所述装饰层、所述壳体部、以及容纳在所述壳体部内的电子元件。

所述电子设备可以包括设置所述在被装饰区域的内侧的天线单元。

根据本技术的一个实施方式的壳体部件的制造方法包括：通过气相沉积在基础膜上形成金属层，通过拉伸所述基础膜而在所述金属层中形成微细裂纹。

形成装饰膜，所述装饰膜包含其中形成有所述微细裂纹的金属层。

通过将承载膜粘合至所述装饰膜来形成转印膜。

通过模内成型方法或烫印方法形成成型部件，以将所述装饰膜从所述转印膜转印下来。

根据本技术的另一个实施方式的壳体部件的制造方法包括：通过气相沉积在要成为承载膜的基础膜上形成金属层，并通过拉伸所述基础膜而在所述金属层中形成微细裂纹。

形成包含所述基础膜和所述金属层的转印膜。

通过模内成型方法或烫印方法形成成型部件，以将所述金属层从所述转印膜转印下来。

根据本技术的另一个实施方式的壳体部件的制造方法包括：通过气相沉积在基础膜上形成金属层，并通过拉伸所述基础膜而在所述金属层中形成微细裂纹。

形成装饰膜，所述装饰膜包含其中形成有所述微细裂纹的金属层。

通过嵌入成型方法，与所述装饰膜一体地形成成型部件。

所述金属层的形成步骤可以包括在预定温度条件和预定压力条件下执行真空气相沉积，以使得构成所述金属层的金属材料具有霜柱形状。

本发明的有益效果

如上所述，根据本技术，可以实现具有金属状外观同时能够透过无线电波的具有高可设计性的壳体部件。应该注意的是这里所述的效果并不必要是限制性的且可以是本发明中描述的任何效果。

附图说明

图1是示出了作为根据一实施方式的电子设备的便携式终端的结构示例的示意图。

图2是示出了图1中示出的金属装饰部的结构示例的示意性横截面视图。

图3是示出了由基础膜和金属层构成的光泽膜的结构示例的示意图。

图4是示出了真空沉积装置的结构示例的示意图。

图5是示意性地示出了在真空气相沉积之后、双轴拉伸之前的光泽膜的放大视图。

图6是示出了膜温度和真空度与要成为金属层的膜的形状之间的关系的示意图。

图7是示出了双轴拉伸装置的结构示例的示意图。

图8是用于描述模内成型方法的示意图。

图9是用于描述嵌入成型方法的示意图。

图10是用于描述无线电波透过特性的评估的示意图。

图11是通过由显微镜对样本2的表面状态进行放大和拍摄而获得的图片。

图12是示出了将装置膜的前后侧倒过来粘合的情形的示意图。

图13是示出了金属装饰部的另一结构示例的示意图。

图14是示出了包括基础膜和金属层的转印膜的结构示例的图。

具体实施方式

下文中将参照附图描述根据本技术的实施方式。

[电子设备的结构]

图1是示出了作为根据本技术的一个实施方式的电子设备的便携式终端的结构示例的示意图。图1的部分A是示出了便携式终端100的正面侧的正视图，图1的部分B是示出了便携式终端100的背面侧的透视图。

便携式终端100包括壳体部101和容纳在壳体部101内的电子元件(未示出)。如图1的部分A所示，在作为壳体部101的前面侧的前面部102上，设有通话部103、触摸面板104和面对摄像头105。通话部103设置用于在电话上与对方通话，并且包括扬声器单元106和音频输入单元107。对方的声音从扬声器单元106输出，而用户的声音经由音频输入单元107传送给对方。

在触摸面板104上，显示各种图像和GUI(图形用户界面)。用户能够经由触摸面板104看到静止图像或者动态图像。此外，用户经由触摸面板104输入各种触摸操作。面对摄像头105在拍摄用户的面部等的图像的时候使用。每个装置的具体结构不受限制。

如图1的部分B所示，在作为壳体部101的背面侧的背面部108上，设有装饰成具有金属状外观的金属装饰部10。金属装饰部10具有金属状外观，并且能够透过无线电波。

在背面部108的预定区域中，设有被装饰区域11，后面会详细描述。通过将根据本技术的装饰膜12粘合至所述被装饰区域11中，构成金属装饰部10。因此，被装饰区域11是要设置金属装饰部10的区域。具有被装饰区域11的壳体部101、和粘合至被装饰区域11的装饰膜12，构成了根据本技术的壳体部件。

在图1的部分B中示出的示例中，在背面部108的大致中央处，部分地形成金属装饰部10。形成金属装置部10的位置并不受限制，可以合适地设定。例如，可以在整个背面部108上形成金属装饰部10。这样，可以使整个背面部108具有一样的金属状外观。

也可以通过使金属装饰部10周围的其他部分的外观与金属装饰部10的外观基本类似，使得整个背面部108具有一样的金属状外观。此外，也可以通过使除了金属装饰部108之外的部分具有诸如木纹外观之类的其他外观来提高可设计性。可以合适地设定金属装饰部10的位置和尺寸、其他部分的外观等，以便于呈现用户所期望的设计性。

作为容纳在壳体部101内的电子元件，在本实施方式中，容纳了经由无线电波能够与外部读写器等通信的天线单元15(见图2)。天线单元15例如包括基板(未示出)、形成在基板上的天线线圈16(见图2)、电连接到天线线圈16的信号处理电路单元(未示出)等。天线单元15的具体结构不受限制。要注意的是，作为容纳在壳体部101内的电子元件，也可以容纳诸如IC芯片和电容器之类的各种电子元件。

图2是示出了金属装饰部10的结构示例的示意性横截面视图。如上所述，金属装饰部10包括在与天线单元15等的位置对应的区域中设置的被装饰区域11、和粘合至被装饰区域11的装饰膜12。

装饰膜12包括粘着层18、基础膜19、金属层20和密封树脂21。粘着层18是用于将装饰膜12粘合至被装饰区域11的层。粘着层18是通过在基础膜19的与形成有金属层20的表面相对侧的表面上涂布粘着材料而形成的。粘着材料的种类、涂布方法等不受限制。

密封树脂21是由透明材料构成的，并且起到了保护基础膜19和金属层20的保护层的作用。密封树脂21是通过涂布UV固化树脂、热固化树脂、双液固化性树脂(Two-ComponentCuring Resin)等形成的。通过形成密封树脂21，例如实现了平滑化、防污、防止剥离、防止刮伤等。

基础膜19是由具有拉伸性的材料构成的，典型地是使用树脂膜作为基础膜19。作为基础膜19的材料，例如可以使用PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、丙烯酸树脂等。也可以使用其他材料。

金属层20被形成用于使被装饰区域11具有金属状外观。金属层20是通过真空气相沉积形成在基础膜19上的层，并且形成了许多微细的裂纹(下文中称做微细裂纹)22。

通过所述微细裂纹22，在金属层20上形成多个不连续面。因此，当将无线电波施加到壳体部101时，可以充分地防止产生涡电流。因此，可以充分地防止由于涡电流损失而导致的电磁波能量降低，并且实现了高的无线电波透过性。

在本实施方式中，当形成装饰膜12时，首先形成由基础膜19和金属层20构成的光泽膜23。此后，在光泽膜23上形成粘着层18和密封树脂21。要注意的是，各层的形成顺序并不局限于此。此外，根据壳体部101的成形条件等，在一些情况下可省略粘着层18和密封树脂21。在这种情况下，光泽膜23作为根据本技术的装饰膜而粘合至被装饰区域11。

图3是示出了由基础膜19和金属层20构成的光泽膜23的结构示例的放大示意图。光泽膜23是通过在以辊到辊(roll-to-roll)方式输送基础膜19的状态下实施真空气相沉积而形成的，后面将会描述。图3的部分A是在沿着基础膜19的行进方向(图中的X方向)切断光学膜的情况下的横截面视图。图3的部分B是在沿着与基础膜19的行进方向正交的方向(图中的Y方向)切断光学膜的情况下的横截面视图。

如图3的部分A和图3的部分B所示，在本实施方式中，金属层20被形成为使得构成金属层20的金属材料具有霜柱的形状。即，多个在其中集合了金属材料微细颗粒的微细柱状结构，像霜柱一样形成在基础膜19上。下文中，当每个微细的柱称作微细柱25时，在相邻的微细柱25之间存在微小的空隙(未示出)。

在本实施方式中，霜柱状结构对应于抑制金属层20的拉伸性的抑制结构。要注意的是，这种结构也可以表现为(微细)柱结构或纤维状结构。

如图3的部分A中所示，对于每个微细柱25来讲，微细颗粒的生长方向是以在Z方向上远离基础膜19的方式来移位，并且成为像香蕉一样的弯曲形状。每个微细柱25弯曲的方向基本上是彼此相同的。

如图3的部分B中所示，每个微细柱25的横截面的尺寸或位置存在变化。即多个微细柱25分别形成在基础膜19上的随机位置处。然而，并不局限于此，多个微细柱25也可以形成为沿着Y方向布置在大致直线上。

形成在金属层19中的微细裂纹22被形成在微细柱25之间。微细裂纹22是通过扩张微细柱25之间的微细空隙形成的，并且比所述空隙足够大。通过观察光泽膜23的横截面，可以充分确认具有金属层20的霜柱状结构和微细裂纹22。

将描述形成光泽膜23的方法。光泽膜23是通过气相沉积和双轴拉伸形成的。图4是示出了真空沉积装置的结构示例的示意图。在该真空沉积装置500中，可以通过辊到辊方式执行连续的真空气相沉积。

真空沉积装置500包括设置在真空腔室(未示出)内的膜输送机构501、分隔壁502、坩埚503和加热源(未示出)。膜输送机构501包括卷出辊505、旋转筒506和卷绕辊507。将基础膜19从卷出辊505沿着旋转筒506的外周表面朝向卷绕辊507输送。

坩埚503设置在面对旋转筒506的位置处。在坩埚503中，容纳构成金属层20的金属材料90。旋转筒506的面对坩埚503的区域成为成膜区域510，并且在输送通过成膜区域510期间，金属材料90的微细颗粒91沉积在基础膜19上。分隔壁502限制以朝向除了成膜区域510之外的区域的角度行进的微细颗粒91。

作为金属材料25，例如可使用对可见光具有高的反射率和相对低的透磁率的金属(例如Al、Ti、Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ag、W、Ir、Au、Pt、Sn或包含这些金属的合金)。当然，并不局限于此，也可以使用其他金属材料。例如，在考虑了可设计性或材料成本的情况下，合适地选择金属材料25。

虽然金属层20的膜厚度也不受限制，但是例如是以反射几乎所有可见光的厚度(例如几nm到100nm)成膜的。通过以大于或等于大约10nm的厚度形成金属层20，可以呈现出足够高的反射率。

在旋转筒506被充分冷却的状态下，输送基础膜19。坩埚503内的金属材料90由例如加热器、激光或电子枪等加热源(未示出)加热。这样，从坩埚503产生包含微细颗粒91的蒸汽。然后，通过在行进经过成膜区域510的基础膜19上沉积微细颗粒91，将金属层20形成在基础膜19上。需要注意的是，真空沉积装置500的结构不受限制。

图5是示意性地示出了在真空气相沉积之后、双轴拉伸之前的光泽膜23′的放大视图。图5的部分A是在基础膜19的行进方向上切断的情况下的横截面视图，图5的部分B是在与行进方向正交的方向上切断的情况下的横截面视图。图5的部分A和部分B中示出的光泽膜23′是处于形成微细裂纹22之前的状态。

在进入图4中的成膜区域510并开始成膜之后，金属材料90的微细颗粒91随即以预定的角度从行进中的基础膜19的前侧扬起。当基础膜19行进经过成膜区域510时，金属颗粒91的沉积方向接近于基础膜19的法线方向。然后，在成膜区域510的中间位置处，金属材料90的微细颗粒91在基本与基础膜19的法线方向相同的方向上沉积。

当基础膜19经过成膜区域510的中间位置时，金属材料90的微细颗粒91从基础膜19的后侧以预定角度到达基础膜19。当基础膜19的输送继续推进时，微细颗粒91的沉积方向接近于基础膜19的平面方向。结果，形成了多个具有像香蕉一样弯曲形状的微细柱25。

此外，在本实施方式中，真空气相沉积的温度条件和压力条件被合适地控制，以使得金属层20具有霜柱状结构。即本发明人已经发现了多个微细柱25以足够的粘着性形成在基础膜19上的合适条件。该条件是由膜温度、真空度、成膜速度、沉积材料等决定的。特别地，膜温度和真空度的影响显著。通过考虑到这点，可通过控制膜温度和真空度实现根据本技术的霜柱状结构。

图6是示出了膜温度和真空度与要成为金属层20的膜的形状之间的关系的示意图。如图6中所示，在膜温度高和真空度高(压力低)的情况下，获得了致密且坚硬、并且具有与基础膜10的粘着力的膜结构A。在膜结构A的情况下，因为保持了较高的拉伸性，所以难以通过下面要描述的双轴拉伸形成合适的微细裂纹22。

在膜温度低和真空度低(压力高)的情况下，获得了膜结构C，该膜结构C是充满空隙的粗糙膜，非常易碎，并且没有粘着力。在膜结构C的情况下，容易通过双轴拉伸形成裂纹，但由于金属层20的强度，可能会损坏金属光泽的外观。此外，因为与基础膜19的粘着力较低，在通过模内成型(In-Mold Molding)方法、嵌入成型(Insert Molding)方法等形成壳体部101时，金属层20很有可能会溢出落下。

当将膜温度和真空度控制成为上面描述的膜温度和真空度的中间值时，因为是以最初附着到基础膜19上的颗粒作为核而开始生长的、并且生长成为柱状(柱结构)，所以获得了具有适度硬度、粘着力的膜结构B。在膜结构B的情况下，与膜结构A或块状金属(bulkmetal)相比，可以抑制拉伸性，并且可通过双轴拉伸合适地形成微细裂纹22。此外，与膜结构C相比，膜结构B具有合适的强度和足够的粘着力，所以可实现金属装饰部10的高耐久性，并且可通过模内成型等在壳体部101上实现合适的装饰。

通过将膜温度和真空度控制在中间范围内，可以形成具有膜结构B的金属层20。作为所述中间范围，例如膜温度在从大约-30℃到大约100℃的范围内，真空度在大约1×10^{- 4}Pa到大约1×10^-2Pa的范围内。当然，并不局限于此，使金属层20具有膜结构B的合适条件例如可以仅需要根据所要沉积的金属材料来合适设定。例如，在金属层20具有膜结构A的情况下，可以仅需要降低膜温度和真空度。此外，在金属层20具有膜结构C的情况下，可以仅需要升高膜温度和真空度。

图7是示出了双轴拉伸装置的结构示例的示意图。双轴拉伸装置550包括基底构件551、和设置在基底构件551上并且具有基本相同结构的四个拉伸机构552。在这四个拉伸机构552中，分别在彼此正交的两个轴(x轴和y轴)的每个轴上布置两个机构，以使得这两个机构在每个轴上彼此面对。下文中将参照朝着与y轴方向的箭头相反的方向拉伸光泽膜23′的拉伸机构552a进行描述。

拉伸机构552a包括固定块553、活动块554和多个夹紧件(Clip)555。固定块553被固定到基底构件551。在拉伸方向(y方向)上延伸的拉伸螺钉556贯穿固定块553。

活动块554可移动地设置在基底构件551上。活动块554连接到贯穿固定块553的拉伸螺钉556。因此，通过操作拉伸螺钉556，活动块554可以在y方向上移动。

多个夹紧件555沿着与拉伸方向正交的方向(x方向)布置。在x方向上延伸的滑动轴557贯穿多个夹紧件555中的每个夹紧件555。每个夹紧件555在x方向上的位置可以沿着滑动轴557变化。多个夹紧件555中的每个夹紧件555、与活动块554是通过连接杆558和连接销559彼此连接的。

可以通过拉伸螺钉556的操作量，来控制拉伸率(拉伸量相对于原始尺寸的比率)。此外，也可以通过合适地设定多个夹紧件555的数量或位置、连接销558的长度等，来控制拉伸率。需要注意的是，双轴拉伸装置550的结构不受限制。在根据本实施方式的双轴拉伸装置550中，虽然是利用全切片(full-cut sheet)对膜执行双轴拉伸的，但是也可以通过辊连续地执行双轴拉伸。例如，通过施加由辊之间的行进方向引起的张力、以及由设置在辊之间的与行进同步移动的夹紧件555引起的与行进方向垂直的张力，可以执行连续的双轴拉伸。

真空气相沉积后的光泽膜23′被布置在基底构件551上，拉伸机构552的多个夹紧件555被附装到四条边的每条边上。在通过温控加热灯(未示出)或温控热风加热光泽膜23′的状态下，通过操作四个拉伸螺钉556来执行双轴拉伸。这样，如图3中所示，在金属层20上形成多个微细裂纹22。

需要注意的是，虽然拉伸率不受限制，但是典型的是将拉伸率设定在从大约2％到大约10％的范围内。拉伸率可以基于光泽膜23的尺寸、金属材料拉伸性等合适设定。所形成的微细裂纹22的节距虽然也取决于天线的频带，但是作为不能由人的肉眼判别的尺寸，可以被设定在例如大于等于1μm且小于等于500μm的范围内。但是并不局限于此，例如也可以基于外观上的可设计性等进行合适设定。

图8是用于描述模内成型方法的示意图。模内成型是通过图8中示出的包括腔模601和芯模602的成型装置600执行的。如图8的部分A中所示，在腔模601中形成与壳体部101的形状对应的凹部603。转印膜30设置成覆盖该凹部603。转印膜30是通过将图2中示出的装饰膜12粘合至承载膜31而形成的。通过例如辊到辊方式从成型装置600的外部提供转印膜30。

如图8的部分B中所示，将腔模601和芯模602夹紧，并且经由形成在芯模602中的内浇口部(Gate Part)606将成型树脂35注入凹部603中。在腔模601中，形成供应成型树脂35的直浇道部(Sprue Part)608和连接到直浇道部的横浇道部(Runner Part)609。当将腔模601和芯模602夹紧时，横浇道部609和内浇口部606彼此连接。这样，将供应到直浇道部608的成型树脂35注入凹部603中。需要注意的是，用于注入成型树脂35的结构不受限制。

作为成型树脂35，使用例如诸如ABS(丙烯腈·丁二烯·苯乙烯)树脂之类的通用树脂、诸如PC(聚碳酸酯)树脂、ABS和PC混合树脂之类的工程塑料等。并不局限于此，可以合适地选择成型树脂的材料和颜色(透明度)以便获得所期望的壳体部(壳体部件)。

将在高温下处于熔化状态的成型材料35注入凹部603中。成型材料35被注入以对凹部603的内表面施压。此时，通过成型树脂35对布置在凹部603上的转印膜30施压，以使其变形。通过成型树脂35的热量，使得形成在转印膜30上的粘着层18熔化，并将装饰膜12粘合至成型树脂35的表面。

在注入成型树脂35之后，将腔模601和芯模602冷却，并将夹具松开。上面转印了装饰膜12的成型树脂35被附着到芯模602。通过取出该成型树脂35，制造出在预定区域中形成有金属装饰部10的壳体部101。需要注意的是，当将夹具松开时，承载膜30剥离。

通过使用模内成型方法，可以容易地使装饰膜12的位置吻合，并且简单地形成金属装饰部10。此外，壳体部101的形状的设计自由度较高，可以制造出具有各种形状的壳体部101。

需要注意的是，在壳体部101内侧容纳的天线单元15可以在壳体部101成型时通过模内成型方法附装。替代性地，也可以在壳体部101成型之后，将天线单元15贴附到壳体部101的内侧。此外，在一些情况下，也可将天线单元15内置于壳体内部。

如图2中所示，在本实施方式中，基础膜19和壳体部101经由粘着层18粘合。并不局限于此，如图12中所示，也可以是密封树脂21侧被粘合至壳体部101。在这种情况下，使用透明的基础膜19，而密封树脂21可以是不透明的。即，作为密封树脂21，可以使用任意颜色的树脂。这样，可以提高可设计性。此外，可以使基础膜19起到保护层的作用。

图9是用于描述嵌入成型方法的示意图。在嵌入成型中，作为嵌入膜，在成型装置650的腔模651内设置装饰膜12。然后如图9的部分B中所示，将腔模651和芯模652夹紧，经由内浇口部656将成型树脂35注入腔模651中。这样，壳体部101与装饰膜12一体成型。通过使用嵌入成型方法，还可以容易地形成金属装饰部10。此外，可以制造出具有各种形状的壳体部101。需要注意的是，执行模内成型和嵌入成型的成型装置的结构并不受限制。

将要描述在形成根据本技术的金属装饰部10的情况下的金属装饰性和无线电透过性。图10的部分A是用于描述无线电波透过性的评估方法的示意图。图10的部分B是示出了无线电波透过性的评估结果的表格。

作为用于该评估的样本，形成了从样本1到样本8的8个样本。在每个样本中，金属层20的膜是通过使用具有大约100μm厚度的PET膜作为基础膜19，并通过真空气相沉积形成的，以具有图6中示出的膜结构B。

作为气相沉积条件，是使用从大约1×10^-3Pa到大约1×10^-2Pa的真空度，以大约1nm/s的速度执行成膜的。此时，坩埚503与基础膜19之间的距离大约是500nm。每个样本的金属材料如图10的部分B的表格中一样。此外，其中，TiO₂(氧化钛)的氧化膜是通过在气相沉积Ti的同时以大约30sccm流动氧气来成膜的。

在真空气相沉积之后，利用图10的部分B中示出的拉伸率，执行双轴拉伸工艺。需要注意的是，在拉伸率为0％的情况下，不执行拉伸工艺(样本1)。在这些样本之中的每个样本中，确认了其中可以以高反射性反射光的高可设计性。

如图10的部分A中所示，使用网络分析器(高频电路)70来评估无线电波透过性。网络分析器70的反射功率端子71和通过功率端子72位于直径为100mm长度为260mm的导波管73的两端。在导波管73的中央部分处设有孔75，在孔75中形成开口尺寸为40mm×40mm的正方形孔74。

将上述每个样本分别夹在所述孔75中，以对其无线电波透过性进行评估。在本实施方式中，作为无线电波透过性的评估值，计算由WiFi等通常使用的2.45GHz下的衰减率。如图10的部分B中所示，通过减去作为参考值的没有放入样本时的值，获得以dB表示的衰减率。衰减率越接近0dB，无线电波透过性越高。而负的值越大，无线电波透过性较低。

样本1是厚度为20nm、没有被拉伸的Co膜。在该样本1中，表面电阻和无线电波衰减率分别为22Ω/cm和-9.3dB，无线电波透过性较低。

样本2是厚度相同、且在x和y方向被分别拉伸大约3％的Co膜。在该样本2中，表面电阻是无限大，无线电波衰减率是-0.5dB。即，呈现出非常高的无线电波透过性。其外观也是与没有被拉伸的样本1的外观基本相同的深色金属，足以将其装饰为具有金属光泽。

图11是通过用显微镜对样本2的表面状态进行放大和拍摄而获得的图片。该图片被拍摄为包括图11中示出的x轴和y轴。然而，为了容易识别所述轴和刻度部分，各条线在该图片上被增强图示。

图11中示出的x轴和y轴的一个刻度的尺寸大约是100μm。因此可以看出，在样本2的金属层20上，在双轴方向上形成节距大约为10μm的微细裂纹22。需要注意的是，图10的部分B中示出的裂纹尺寸(μm)等于微细裂纹22的节距。

样本3是厚度为64nm、且执行双轴拉伸的Al膜。如图10的部分B中所示，在双轴方向上合适地形成节距大约为15μm的微细裂纹22，无线电波衰减率非常高，为-0.1dB。

这些Al、Ti等均是具有亮度和光泽的金属，并且是用于实现金属光泽的非常有用的金属材料。然而，因为Al、Ti等具有高的拉伸性，所以通过传统的技术难以形成微细裂纹22。在本技术中，通过在气相沉积中形成金属层20以具有霜柱状结构，可以抑制拉伸性。因此，即使在使用诸如Al和Ti之类的具有高拉伸性的金属材料的情况下，也可以通过双轴拉伸工艺合适地形成微细裂纹22。结果，可以呈现出高的无线电波透过性，并且具有非常好的金属光泽外观。

样本4是Co和Al的双层膜。即使在具有这种双层结构的情况下，也能形成具有合适无线电波透过性的光泽膜23。这样，可以增加金属光泽的变化性，进一步提高了可设计性。需要注意的是，根据本技术，即使在使用三层或更多层的叠层结构的情况下也能实现高的无线电波透过性。

在样本5-8中，通过使用Ti+TiO₂的双层结构，可利用Ti膜表面和TiO₂膜光的干涉产生颜色。即使在利用这样的由金属+氧化膜构成的装饰膜的情况下，也可以通过本技术呈现出高的无线电波透过性。如图10的部分B中所示，通过调节TiO₂的厚度，可以实现各种金属光泽并提高可设计性。

如上所述，作为金属层20，可以形成具有由金属层或氧化金属层层叠而成的叠层结构的金属层。即使在包括Al、Al₂O₃(氧化铝)、Ti、TiO₂和包含Al和Ti中的至少一种金属的合金中的任一种的层的情况下，也可以呈现出高的无线电波透过性。

如上所述，在本实施方式中，装饰膜12被粘合至壳体部101的被装饰区域11。在所述装饰膜12中，通过真空气相沉积在基础膜19上形成金属层20，并且通过对基础膜19执行双轴拉伸，在金属层20中形成微细裂纹22。

因为通过气相沉积沉积形成金属材料膜，所以可以使用诸如Al和Ti之类的难以通过诸如非电解镀(electroless plating)之类的湿镀在树脂上进行沉积的材料。因此，可使用的金属材料的选择范围是非常大的。此外，因为通过双轴拉伸形成微细裂纹22，所以可以在真空气相沉积中形成具有高粘着性的金属层20。因此，在模内成型时和嵌入成型时，金属层20不会溢出落下，并且可以合适地使壳体部101成型。此外，还可以提高金属装饰部10本身的耐久性。

此外，因为在真空气相沉积中金属层形成为具有霜柱形状并且抑制了拉伸性，所以可以使用具有高拉伸性的诸如Al、Ti、Ag、Au和Sn之类的金属材料。在这点上，也显著拓宽了金属材料的选择范围，并且可以将壳体部101形成为具有所期望的金属外观。结果，可以实现能够透过无线电波并且具有金属状外观、具有高的可设计性的壳体部件。

此外，尽管真空成膜方法在传统上是高成本的加工方法，但是在本实施方式中，因为可通过辊到辊方式在膜上连续成膜。因此，可以显著降低成本并实现生产率的提高。

在具有上述无线电波透过性的铟箔中，通过不连续的铟膜实现无线电波透过性。然而，在该铟箔中，因为膜厚度非常薄，所以没有获得充足的反射率，会变暗，并且金属装饰的可设计性非常低。此外，铟是稀有金属，所以花费了材料成本。

还可以构想到一种通过向金属镀膜增加应力并使其形成裂纹的形成非连续膜的方法。然而，可通过湿镀成膜的金属材料是有限的。特别地，Al、Ti、Zn等无法通过非电解镀覆盖树脂。此外，存在诸如废液处理之类的环境问题。

还可以构想到一种通过精细图案蚀刻形成非连续膜的方法。然而，由于增加了抗蚀剂涂布、曝光、蚀刻、清洗和树脂密封之类的工艺而导致成本增加。

相反，在包括根据本技术的金属装饰部的壳体部中，可以呈现如下的各种效果。

可以提高无线电波透过特性，而且还可通过金属装饰提高设计性附加价值。

因为通过气相沉积等可以使用基本所有的金属，所以纹理的选择范围很广。

即使在利用高拉伸性的金属材料的情况下，也可以通过充分地冷却基础膜19来控制气相沉积条件，实现结晶性的微细化、霜柱状的生长结构、微细柱之间的空隙等。结果，因为可在双轴拉伸中容易地实现易于形成微细裂纹22的结构(拉伸性被抑制的结构)，所以可以实现具有无线电波透过性的装饰。

因为相比于传统上使用的产品可以提高光泽度和反射率，所以可以实现高的附加价值。

因为可以通过诸如辊到辊方式之类的批量生产工艺容易地形成光泽膜23，所以在批量生产和成本降低方面是非常有利的。

因为不需要实施掩模工艺或蚀刻工艺就可以成型，所以可以实现成本降低并防止产生有害废弃物。

因为可以容易地在最外部形成保护金属层20的保护层(例如图2中的密封树脂21)，所以可以防止诸如金属层20剥落之类的缺陷，并且防止金属层20由于长期使用而减少。因此，可以保持外观品质。此外，通过对保护部进行着色，可以实现金属+着色的新的设计表现。

因为可以容易地形成树脂性的壳体部101，所以可以实现商品重量的减轻。

本技术适用于在内部容纳有内部天线等的基本所有的电子设备。这种电子设备的示例包括诸如移动电话、智能手机、个人计算机、游戏机、数码相机、音频设备、TV、投影仪、汽车导航系统、GPS终端、数字摄像机和可穿戴信息设备(眼镜型、腕带型)之类的电子设备，诸如遥控器、鼠标和触摸笔之类的通过无线通信等操作这些电子设备的操作设备，以及诸如车载雷达和车载天线之类的设置在车辆中的电子设备，等等。

需要注意的是，包括上面列出的效果在内的在本说明书中记载的效果仅是示例性的并不是限制性的，而且可以提供额外的效果。而且，上文多个效果的描述并不意味着这些效果必须同时呈现。而是意味着，可根据条件等获得上面提到的效果中的至少任一种，而且当然也可以呈现在本说明书中没有描述的效果。

<其他实施方式>

本技术并不局限于上面说明的实施方式，也可以实现其他各种实施方式。

图13是示出了金属装饰部的其他结构示例的示意图。在图13的部分A中示出的金属装饰部210中，在装饰性膜212内的基础膜219上执行凹凸加工，并通过真空气相沉积在凹凸表面219a上形成金属层220。然后，通过双轴拉伸形成微细裂纹222。这样，金属层220的表面也具有与基础膜219的凹凸对应的凹凸形状。结果，金属装饰部210可以是金属精整加工(metal processing finishing)的毛丝面加工(hair line processing)和喷砂加工(blast processing)之类的设计。通过改变凹凸的形状、尺寸等，可以改变金属装饰部210的纹理。需要注意的是，当在与凹凸表面219a相对侧的表面219b上形成金属层220的情况下，也可以获得相同的效果。

在图13的部分B中示出的金属装饰部310中，在装饰膜312内的金属层320上，形成作为光学干涉膜的氧化膜380。这是与图10的部分B中示出的样本5至8的Ti+TiO₂的双层结构相当的结构，可以呈现出很高的可设计性。例如，还可以实现根据观看金属装饰部310的角度而发生色泽、纹理等变化的结构。这也可以通过合适地设定基础膜219的凹凸形状、或者密着树脂221的材质或厚度来实现。

图14是包括基础膜和金属层的转印膜的结构示例的示意图。转印膜430包括基础膜419、剥离层481、硬涂层482、金属层420、密着树脂421和粘着层418。剥离层481和硬涂层482按所述顺序形成在基础膜419上。

因此，金属层420是在其中形成有剥离层481和硬涂层482的基础膜419上形成的。然后，通过拉伸基础膜419，在金属层420中形成微细裂纹422。

如图14的部分B中所示，当通过模内成型方法形成壳体部101时，将基础膜419和剥离层481剥离，将包括金属层420的装饰膜412粘合至被装饰区域411。如上所述，基础膜419可以用作承载膜。需要注意的是，其中形成有剥离层481和硬涂层482的基础膜419也可以视为根据本技术的基础膜。

在上文中，已经通过霜柱状结构实现了抑制金属层拉伸性的抑制结构。但并不局限于此，抑制结构也可以用其他的结构实现。例如，可以将在构成金属层的金属材料中混入杂质的结构用作抑制结构。例如，与通过纯金属形成金属层的情形相比，不通过纯金属、而是通过混入1％或更多杂质的材料形成金属层也可以抑制拉伸性。此外，通过形成金属氧化层作为金属层的基底层，也可以抑制拉伸性。需要注意的是，对于具有低拉伸性的金属而言，可以不形成抑制结构。在这种情形中，也可以通过真空气相沉积和双轴拉伸形成根据本技术的装饰膜。

在上文中，如图3等所示，形成弯曲的微细柱25。并不局限于此，也可以通过真空气相沉积将微细柱形成在固定于平面上的基础膜上。在这种情况下，金属材料的微细颗粒呈直线状生长，形成在一个方向上延伸的微细柱。当然，也可以通过批量成膜处理形成光泽膜23。

在上文中，通过模内成型和嵌入成型，使壳体部成型。并不局限于此，包括根据本技术的金属装饰部的壳体部件可以通过真空成型或压力成型来成型。

用于形成微细裂纹22的拉伸并不局限于双轴拉伸。可以执行单轴拉伸或者三轴或更多轴拉伸。此外，可以进一步通过辊到辊方式，对由图4中示出的卷绕辊507卷起的基础膜19执行双轴拉伸。此外，在执行真空气相沉积之后，可以进一步在由卷绕辊507卷起之前执行双轴拉伸。

在上文中，装饰膜12通过模内成型方法或嵌入成型方法粘合至壳体部101。并不局限于此，装饰膜12可以通过诸如热转印和粘附之类的其他方法粘合至壳体部101。即，可以通过使用图8和图14中示出的转印膜30和430，利用烫印(hot stamping)方法形成壳体部，该壳体部具有被装饰区域，包括金属层的装饰膜被转印到该被装饰区域。

上文所述的各实施方式的特征部分之中的至少两个特征部分也可以组合。即，各实施方式中描述的各种特征部分可以在不区分各实施方式的情况下任意组合。

需要注意的是，本技术还可以采取以下的结构。

(1)一种壳体部件，包括：

装饰膜，所述装饰膜包括金属层，所述金属层通过气相沉积形成在基础膜上，并通过拉伸所述基础膜而在所述金属层中形成微细裂纹；以及

壳体部，所述壳体部包括被装饰区域，所述装饰膜被粘合至所述被装饰区域。

(2)根据(1)所述的壳体部件，其中

所述装饰膜包括其中形成有所述金属层的基础膜。

(3)根据(1)或(2)所述的壳体部件，其中

通过对所述基础膜执行双轴拉伸来形成所述微细裂纹。

(4)根据(1)-(3)中任一项所述的壳体部件，其中

所述金属层具有抑制拉伸性的抑制结构。

(5)根据(4)所述的壳体部件，其中

所述抑制结构是其中构成所述金属层的金属材料具有霜柱形状的结构。

(6)根据(4)或(5)所述的壳体部件，其中

所述金属层是通过真空气相沉积形成在所述基础膜上的，且

所述抑制结构是通过在预定温度条件和预定压力条件下执行所述真空气相沉积形成的。

(7)根据(6)所述的壳体部件，其中

所述金属层是通过对从卷出辊沿着旋转筒的外周面朝向卷绕辊输送的所述基础膜执行真空气相沉积形成的。

(8)根据(4)-(7)中任一项所述的壳体部件，其中

所述金属层是由铝、钛、以及包含铝和钛中的至少之一的合金之中的任一种材料构成的。

(9)根据(4)-(7)中任一项所述的壳体部件，其中

所述金属层具有由金属层或氧化金属层层叠而成的叠层结构。

(10)根据(9)所述的壳体部件，其中

所述金属层包括铝、氧化铝、钛、氧化钛、以及包含铝和钛中的至少之一的合金之中的任一种材料的层。

(11)根据(1)-(10)中任一项所述的壳体部件，其中

所述微细裂纹是以小于或等于1μm且大于或等于500μm的节距形成的。

(12)一种电子设备，包括：

装饰膜，所述装饰膜包括金属层，所述金属层通过气相沉积形成在基础膜上，并通过拉伸所述基础膜而在所述金属层中形成微细裂纹；以及

壳体部，所述壳体部包括被装饰区域，所述装饰膜被粘合至所述被装饰区域；以及

电子元件，所述电子元件被容纳在所述壳体部内。

(13)根据(12)所述的电子设备，

所述电子元件包括设置在所述被装饰区域的内侧的天线单元。

(14)一种壳体部件的制造方法，包括：

通过气相沉积在基础膜上形成金属层，并通过拉伸所述基础膜而在所述金属层中形成微细裂纹；

形成装饰膜，所述装饰膜包含其中形成有所述微细裂纹的金属层；

通过将承载膜粘合至所述装饰膜来形成转印膜；以及

通过模内成型方法或烫印方法形成成型部件，以将所述装饰膜从所述转印膜转印下来。

(15)一种壳体部件的制造方法，包括：

通过气相沉积在要成为承载膜的基础膜上形成金属层，并通过拉伸所述基础膜而在所述金属层中形成微细裂纹；

形成包含所述基础膜和所述金属层的转印膜；以及

通过模内成型方法或烫印方法形成成型部件，以将所述金属层从所述转印膜转印下来。

(16)一种壳体部件的制造方法，包括：

通过气相沉积在基础膜上形成金属层，并通过拉伸所述基础膜而在所述金属层中形成微细裂纹；

形成装饰膜，所述装饰膜包含其中形成有所述微细裂纹的金属层；以及

通过嵌入成型方法，与所述装饰膜一体地形成成型部件。

(17)根据(14)-(16)任一项所述的壳体部件的制造方法，其中

所述金属层的形成步骤包括在预定温度条件和预定压力条件下执行真空气相沉积，以使得构成所述金属层的金属材料具有霜柱形状。

参考标记列表

10、210、310 金属装饰部

11、411 被装饰区域

12、212、312、412 装饰膜

15 天线单元

19、219、419 基础膜

20、220、320、420 金属层

22、422 微细裂纹

25 微细柱

30、430 转印膜

31 承载膜

90 金属材料

100 便携式终端

101 壳体部

500 真空沉积装置

550 双轴拉伸装置

600、650 成型装置

Claims (15)

1.一种壳体部件，包括：

装饰膜，所述装饰膜包括金属层，所述金属层通过气相沉积形成在基础膜上，并通过拉伸所述基础膜而在所述金属层中形成微细裂纹，并且所述金属层具有抑制拉伸性的抑制结构；以及

壳体部，所述壳体部包括被装饰区域，所述装饰膜被粘合至所述被装饰区域，

其中所述抑制结构是其中构成所述金属层的金属材料具有霜柱形状的霜柱结构，所述霜柱结构具有微细柱和在所述微细柱之间的微小空隙，其中所述微细裂纹大于所述微小空隙。

2.根据权利要求1所述的壳体部件，其中

所述装饰膜包括其中形成有所述金属层的基础膜。

3.根据权利要求1所述的壳体部件，其中

通过对所述基础膜执行双轴拉伸来形成所述微细裂纹。

4.根据权利要求1所述的壳体部件，其中

所述金属层是通过真空气相沉积形成在所述基础膜上的，且

所述抑制结构是通过在预定温度条件和预定压力条件下执行所述真空气相沉积形成的。

5.根据权利要求4所述的壳体部件，其中

所述金属层是通过对从卷出辊沿着旋转筒的外周面朝向卷绕辊输送的所述基础膜执行真空气相沉积形成的。

6.根据权利要求1所述的壳体部件，其中

所述金属层是由铝、钛、以及包含铝和钛中的至少之一的合金之中的任一种材料构成的。

7.根据权利要求1所述的壳体部件，其中

所述金属层具有由金属层或氧化金属层层叠而成的叠层结构。

8.根据权利要求7所述的壳体部件，其中

所述金属层包括铝、氧化铝、钛、氧化钛、以及包含铝和钛中的至少之一的合金之中的任一种材料的层。

9.根据权利要求1所述的壳体部件，其中

所述微细裂纹是以大于或等于1μm且小于或等于500μm的节距形成的。

10.一种电子设备，包括：

装饰膜，所述装饰膜包括金属层，所述金属层通过气相沉积形成在基础膜上，并通过拉伸所述基础膜而在所述金属层中形成微细裂纹，并且所述金属层具有抑制拉伸性的抑制结构；以及

壳体部，所述壳体部包括被装饰区域，所述装饰膜被粘合至所述被装饰区域；以及

电子元件，所述电子元件被容纳在所述壳体部内，

其中所述抑制结构是其中构成所述金属层的金属材料具有霜柱形状的霜柱结构，所述霜柱结构具有微细柱和在所述微细柱之间的微小空隙，其中所述微细裂纹大于所述微小空隙。

11.根据权利要求10所述的电子设备，

所述电子元件包括设置在所述被装饰区域的内侧的天线单元。

12.一种壳体部件的制造方法，包括：

通过气相沉积在基础膜上形成金属层，并通过拉伸所述基础膜而在所述金属层中形成微细裂纹，并且所述金属层具有抑制拉伸性的抑制结构；

形成装饰膜，所述装饰膜包含其中形成有所述微细裂纹的金属层；

通过将承载膜粘合至所述装饰膜来形成转印膜；以及

通过模内成型方法或烫印方法形成成型部件，以将所述装饰膜从所述转印膜转印下来，

其中所述抑制结构是其中构成所述金属层的金属材料具有霜柱形状的霜柱结构，所述霜柱结构具有微细柱和在所述微细柱之间的微小空隙，其中所述微细裂纹大于所述微小空隙。

13.根据权利要求12所述的壳体部件的制造方法，其中

所述金属层的形成步骤包括在预定温度条件和预定压力条件下执行真空气相沉积，以使得构成所述金属层的金属材料具有所述霜柱形状。

14.一种壳体部件的制造方法，包括：

通过气相沉积在要成为承载膜的基础膜上形成金属层，并通过拉伸所述基础膜而在所述金属层中形成微细裂纹，并且所述金属层具有抑制拉伸性的抑制结构；

形成包含所述基础膜和所述金属层的转印膜；以及

通过模内成型方法或烫印方法形成成型部件，以将所述金属层从所述转印膜转印下来，

其中所述抑制结构是其中构成所述金属层的金属材料具有霜柱形状的霜柱结构，所述霜柱结构具有微细柱和在所述微细柱之间的微小空隙，其中所述微细裂纹大于所述微小空隙。

15.一种壳体部件的制造方法，包括：

通过气相沉积在基础膜上形成金属层，并通过拉伸所述基础膜而在所述金属层中形成微细裂纹，并且所述金属层具有抑制拉伸性的抑制结构；

形成装饰膜，所述装饰膜包含其中形成有所述微细裂纹的金属层；以及

通过嵌入成型方法，与所述装饰膜一体地形成成型部件，

其中所述抑制结构是其中构成所述金属层的金属材料具有霜柱形状的霜柱结构，所述霜柱结构具有微细柱和在所述微细柱之间的微小空隙，其中所述微细裂纹大于所述微小空隙。

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