JP7211359B2 - 構造体、加飾フィルム、構造体の製造方法、及び加飾フィルムの製造方法 - Google Patents
構造体、加飾フィルム、構造体の製造方法、及び加飾フィルムの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7211359B2 JP7211359B2 JP2019522039A JP2019522039A JP7211359B2 JP 7211359 B2 JP7211359 B2 JP 7211359B2 JP 2019522039 A JP2019522039 A JP 2019522039A JP 2019522039 A JP2019522039 A JP 2019522039A JP 7211359 B2 JP7211359 B2 JP 7211359B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mohs hardness
- metal
- metal layer
- region
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 27
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 366
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 337
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 337
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 66
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 66
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 65
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 49
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical group [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 48
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 47
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 39
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 20
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 19
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 19
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 18
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 17
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 15
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 14
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 14
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 13
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 12
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 12
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 11
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 11
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 10
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 8
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 7
- 238000007666 vacuum forming Methods 0.000 claims description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 235
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 44
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 44
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 30
- 238000013461 design Methods 0.000 description 22
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 21
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 20
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 19
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 16
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 14
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 11
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 6
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 6
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 6
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 6
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 5
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 5
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 4
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 4
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 3
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 3
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 3
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000012994 photoredox catalyst Substances 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017107 AlOx Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000699670 Mus sp. Species 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002737 metalloid compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000000550 scanning electron microscopy energy dispersive X-ray spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B44—DECORATIVE ARTS
- B44C—PRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
- B44C1/00—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects
- B44C1/20—Applying plastic materials and superficially modelling the surface of these materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B44—DECORATIVE ARTS
- B44C—PRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
- B44C5/00—Processes for producing special ornamental bodies
- B44C5/04—Ornamental plaques, e.g. decorative panels, decorative veneers
- B44C5/0415—Ornamental plaques, e.g. decorative panels, decorative veneers containing metallic elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/14—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor incorporating preformed parts or layers, e.g. injection moulding around inserts or for coating articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/14—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor incorporating preformed parts or layers, e.g. injection moulding around inserts or for coating articles
- B29C45/14688—Coating articles provided with a decoration
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C55/00—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor
- B29C55/02—Shaping by stretching, e.g. drawing through a die; Apparatus therefor of plates or sheets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/01—Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic
- B32B15/017—Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic one layer being formed of aluminium or an aluminium alloy, another layer being formed of an alloy based on a non ferrous metal other than aluminium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/20—Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
- B32B27/308—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising acrylic (co)polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
- B32B27/365—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters comprising polycarbonates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
- B32B3/10—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a discontinuous layer, i.e. formed of separate pieces of material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
- B32B3/26—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer
- B32B3/30—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer characterised by a layer formed with recesses or projections, e.g. hollows, grooves, protuberances, ribs
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
- B32B7/022—Mechanical properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
- B32B7/023—Optical properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B44—DECORATIVE ARTS
- B44C—PRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
- B44C1/00—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects
- B44C1/24—Pressing or stamping ornamental designs on surfaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5886—Mechanical treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2701/00—Use of unspecified macromolecular compounds for preformed parts, e.g. for inserts
- B29K2701/12—Thermoplastic materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2031/00—Other particular articles
- B29L2031/722—Decorative or ornamental articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
- B32B2307/406—Bright, glossy, shiny surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
- B32B2307/416—Reflective
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
- B32B2307/536—Hardness
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2405/00—Adhesive articles, e.g. adhesive tapes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2451/00—Decorative or ornamental articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04M—TELEPHONIC COMMUNICATION
- H04M1/00—Substation equipment, e.g. for use by subscribers
- H04M1/02—Constructional features of telephone sets
- H04M1/0202—Portable telephone sets, e.g. cordless phones, mobile phones or bar type handsets
- H04M1/0279—Improving the user comfort or ergonomics
- H04M1/0283—Improving the user comfort or ergonomics for providing a decorative aspect, e.g. customization of casings, exchangeable faceplate
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
前記加飾部は、第1の面と、前記第1の面の反対側の前記第1の面よりも反射率が高い第2の面と、前記第1の面側の硬度が相対的に高い第1の内部領域と、前記第2の面側の前記硬度が相対的に低い第2の内部領域と、微細なクラックとを有する金属層を含む。
前記部材は、前記加飾部が接着される被加飾領域を有する。
これにより金属としてアルミニウム等が用いられる場合でも、微細なクラックを容易に形成することが可能となる。
これによりアルミニウム等により第2の層が構成される場合でも、微細なクラックを容易に形成することが可能となる。
これにより微細なクラックを容易に形成することが可能となる。
これにより金属光沢の劣化を防止することが可能となり、高い意匠性を維持することが可能となる。
反射率の高いアルミニウムや銀等を用いて、電波を透過可能な金属層を実現することが可能となるので、高い意匠性を発揮させることが可能となる。
これらの金属及び半金属を用いることで、微細なクラックを容易に形成することが可能となり、また金属光沢の劣化を防止することが可能となる。
これにより微細なクラックを容易に形成することが可能となる。
これにより微細なクラックを容易に形成することが可能となり、金属的な外観を有しつつも電波を透過可能な意匠性の高い構造体を実現することができる。
これにより微細なクラックを容易に形成することが可能となる。
これにより高い反射率を維持しつつ十分な電波透過性を発揮することが可能となる。
これにより十分な電波透過性を発揮することが可能となる。
これにより金属光沢による高い意匠性を発揮することが可能となる。
これにより高い意匠性を発揮することが可能となる。
本技術を適用することで、金属的な外観を有しつつも電波を透過可能な意匠性の高い筐体部品、車両、及び建築物を実現することが可能となる。
前記金属層は、前記ベースフィルムに形成され、第1の面と、前記第1の面の反対側の前記第1の面よりも反射率が高い第2の面と、前記第1の面側の硬度が相対的に高い第1の内部領域と、前記第2の面側の前記硬度が相対的に低い第2の内部領域と、微細なクラックとを有する。
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックが形成される。
前記微細クラックが形成された金属層を含む加飾フィルムが形成される。
前記加飾フィルムにキャリアフィルムを接着することで転写用フィルムが形成される。
インモールド成形法、ホットスタンプ法、又は真空成形法により前記転写用フィルムから前記加飾フィルムが転写されるように成型部品が形成される。
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックが形成される。
図1は、本技術の一実施形態に係る電子機器としての携帯端末の構成例を示す概略図である。図1Aは、携帯端末100の正面側を示す正面図であり、図1Bは、携帯端末100の背面側を示す斜視図である。
高硬度面20b、その反対側の高反射面20a、高硬度面20b側の硬度が相対的に高い第1の内部領域27、及び高反射面20a側の硬度が相対的に低い第2の内部領域28を有する金属層20として、他に種々の構成例が挙げられる。
シリコン(Si):モース硬度 約7
チタン(Ti):モース硬度 約6
コバルト(Co):モース硬度 約5.5
鉄(Fe):モース硬度 約4.5
ニッケル(Ni):モース硬度 約3.5
酸化アルミニウム(Al2O3):モース硬度 約9
酸化鉄(Fe2O3):モース硬度 約6
酸化クロム(Cr2O3):モース硬度 約6
酸化セリウム(CeO2):モース硬度 約6
酸化ジルコニウム(ZrO2):モース硬度 約6
酸化チタン(TiO2):モース硬度 約5.5
酸化ケイ素(SiO2):モース硬度 約7
酸化マグネシウム(MgO):モース硬度 約6.5
窒化ホウ素(BN):モース硬度 約9
窒化チタン(TiN):モース硬度 約9
炭化ケイ素(SiC):モース硬度 約9.5
炭化ホウ素(B4C):モース硬度 約9
本技術は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。
無延伸PET:約70MPa
PC:約69~約72MPa
PMMA:約80MPa
PP:約30~約72MPa
従ってこれらの材料からなるベースフィルムを支持層750Aとして用いることで、低い延伸率にて微細クラック522を適正に形成することが可能となる。なお支持層750Aとして、非塩化ビニル系の材料を選択することで、金属の腐食の防止に有利である。
(1) 第1の面と、前記第1の面の反対側の前記第1の面よりも反射率が高い第2の面と、前記第1の面側の硬度が相対的に高い第1の内部領域と、前記第2の面側の前記硬度が相対的に低い第2の内部領域と、微細なクラックとを有する金属層を含む加飾部と、
前記加飾部が接着される被加飾領域を有する部材と
を具備する構造体。
(2)(1)に記載の構造体であって、
前記金属層は、第1の硬度を有する物質、及び前記物質よりも高い反射率及び前記第1の硬度よりも低い第2の硬度を有する金属を含み、
前記第1の内部領域に含まれる前記物質の割合が前記第2の内部領域に含まれる前記物質の割合よりも高く、前記第2の内部領域に含まれる前記金属の割合が前記第1の内部領域に含まれる前記金属の割合よりも高い
構造体。
(3)(1)又は(2)に記載の構造体であって、
前記金属層は、第1の硬度を有する物質からなる第1の層と、前記物質よりも高い反射率及び前記第1の硬度よりも低い第2の硬度を有する金属からなり、前記第1の層に積層される第2の層とを有する
構造体。
(4)(2)又は(3)に記載の構造体であって、
前記第1の硬度を有する物質は、金属、半金属、金属化合物、又は半金属化合物である
構造体。
(5)(2)から(4)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記第1の硬度を有する物質は、金属である
構造体。
(6)(2)から(5)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記第2の硬度を有する金属は、アルミニウム、銀、金、又は銅である
構造体。
(7)(2)から(6)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記第1の硬度を有する物質は、クロム、シリコン、チタン、コバルト、鉄、又はニッケルである
構造体。
(8)(2)から(6)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記第1の硬度を有する物質は、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化クロム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、窒化チタン、炭化ケイ素、又は炭化ホウ素である
構造体。
(9)(1)から(8)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記第1の内部領域は、前記金属層の厚み方向における中央から前記第1の面までの間の所定の位置から前記第1の面までの領域であり、
前記第2の内部領域は、前記中央から前記第2の面までの間の所定の位置から前記第2の面までの領域である
構造体。
(10)(1)から(9)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記第1の内部領域は、モース硬度が相対的に高く
前記第2の内部領域は、モース硬度が相対的に低い
構造体。
(11)(3)から(10)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記第1の層は、10nm以上300nm以下の厚みを有し、
前記第2の層は、30nm以上300nm以下の厚みを有する
構造体。
(12)(1)から(11)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記微細なクラックは、ピッチが1μm以上500μm以下の範囲に含まれる
構造体。
(13)(1)から(12)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記第2の面は、可視光領域の表面反射率が50%以上である
構造体。
(1)(1)から(13)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記微細なクラックは、不規則に形成されている
構造体。
(15)(1)から(14)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
筐体部品、車両、又は建築物の少なくとも一部として構成される
構造体。
(16) ベースフィルムと、
前記ベースフィルムに形成され、第1の面と、前記第1の面の反対側の前記第1の面よりも反射率が高い第2の面と、前記第1の面側の硬度が相対的に高い第1の内部領域と、前記第2の面側の前記硬度が相対的に低い第2の内部領域と、微細なクラックとを有する金属層と
を具備する加飾フィルム。
(17) ベースフィルムに蒸着により第1の面と前記第1の面よりも反射率が高い第2の面とを有する金属層を、前記第1の面側の第1の内部領域の硬度が前記第2の面側の第2の内部領域の硬度よりも高くなるように形成し、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成し、
前記微細クラックが形成された金属層を含む加飾フィルムを形成し、
前記加飾フィルムにキャリアフィルムを接着することで転写用フィルムを形成し、
インモールド成形法、ホットスタンプ法、又は真空成形法により前記転写用フィルムから前記加飾フィルムが転写されるように成型部品を形成する
構造体の製造方法。
(18) ベースフィルムに蒸着により第1の面と前記第1の面よりも反射率が高い第2の面とを有する金属層を、前記第1の面側の第1の内部領域の硬度が前記第2の面側の第2の内部領域の硬度よりも高くなるように形成し、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成し、
前記微細クラックが形成された金属層を含む転写用フィルムを形成し、
インモールド成形法、ホットスタンプ法、又は真空成形法により前記ベースフィルムから剥離した前記金属層が転写されるように成型部品を形成する
構造体の製造方法。
(19) ベースフィルムに蒸着により第1の面と前記第1の面よりも反射率が高い第2の面とを有する金属層を、前記第1の面側の第1の内部領域の硬度が前記第2の面側の第2の内部領域の硬度よりも高くなるように形成し、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成し、
前記微細クラックが形成された金属層を含む加飾フィルムを形成し、
インサート成形法により前記加飾フィルムと一体的に成形部品を形成する
構造体の製造方法。
(20) ベースフィルムに蒸着により第1の面と前記第1の面よりも反射率が高い第2の面とを有する金属層を、前記第1の面側の第1の内部領域の硬度が前記第2の面側の第2の内部領域の硬度よりも高くなるように形成し、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成する
加飾フィルムの製造方法。
(21)(1)から(15)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記金属層は、第1の硬度を有する物質、及び前記物質よりも高い反射率及び前記第1の硬度よりも低い第2の硬度を有する金属を含み、前記第1の面から前記第2の面にかけて、前記物質の割合が低くなり前記金属の割合が高くなる
構造体。
(22)(2)から(15)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記第1の硬度を有する前記物質は、前記第2の硬度を有する前記金属の化合物である
構造体。
(23)(1)から(15)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記第1の内部領域の硬度は、前記第1の内部領域の平均硬度であり、
前記第2の内部領域の硬度は、前記第2の内部領域の平均硬度である
構造体。
(24)(1)から(15)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記第2の面は、可視光領域の表面反射率が70%以上である
構造体。
(25)(1)から(15)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記加飾フィルムは、前記第2の面に積層された保護層を有し、当該保護層における可視光領域の表面反射率は、65%以上である
構造体。
(26)(1)から(15)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記加飾部は、引張破断強度が前記金属層よりも小さく前記金属層を支持する支持層を有する
構造体。
(27)(26)に記載の構造体であって、
前記支持層部は、ベースフィルムである
構造体。
(28)(26)に記載の構造体であって、
前記基体部は、ベースフィルムに形成されたコーティング層である
構造体。
(29)(17)から(19)のうちいずれか1つに記載の製造方法であって、
前記微細なクラックの形成ステップは、前記ベースフィルムを各々の軸方向の延伸率2%以下で2軸延伸する
構造体の製造方法。
(30)(17)から(19)、及び(29)のうちいずれか1つに記載の製造方法であって、
前記金属層の形成ステップは、巻出ロールから巻取ロールに向けて回転ドラムの周面に沿って搬送される前記ベースフィルムに対して真空蒸着を行う
構造体の製造方法。
11、611…被加飾領域
12…加飾フィルム
19、619、719…ベースフィルム
20、20H~K、620、720…金属層
20a…高反射面
20b…高硬度面
22、522、622、722…微細クラック
25…高硬度層
26…高反射層
27…第1の内部領域
28…第2の内部領域
30、630…転写用フィルム
100…携帯端末
101…筐体部
200、300、400…真空蒸着装置
250…2軸延伸装置
500、550…成形装置
612…加飾部
Claims (17)
- 金属又は金属化合物からなる第1のモース硬度を有する物質である第1のモース硬度物質と、前記第1のモース硬度物質よりも可視光領域の表面反射率が高く、かつ前記第1のモース硬度よりも低い第2のモース硬度を有する金属である第2のモース硬度金属とを有する単層の金属層を含む加飾フィルムと、
前記加飾フィルムが接着される被加飾領域を有する部材と
を具備し、
前記第2のモース硬度金属は、アルミニウム、銀、金、又は銅であり、
前記第1のモース硬度物質は、クロム、シリコン、チタン、コバルト、鉄、ニッケル、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化クロム、酸化チタン、又は窒化チタンであり、
前記金属層は、
視認される側の視認側面と、前記視認側面にピッチが1μm以上500μm以下の範囲に含まれるように形成された微細なクラックと、前記視認側面の反対側の反対側面とを有し、
厚み方向において前記視認側面から前記金属層の厚みの半分以下となる所定の厚みまでの領域を第1の近傍領域とし、厚み方向において前記反対側面から前記所定の厚みまでの領域を第2の近傍領域とすると、
前記視認側面が金属的な外観を有するように、前記第1の近傍領域に含まれる前記第2のモース硬度金属の割合が、前記第2の近傍領域に含まれる前記第2のモース硬度金属の割合よりも高くなるように構成され、
前記第1の近傍領域と比べて前記第2の近傍領域の引張破断強度が低くなるように、前記第2の近傍領域に含まれる前記第1のモース硬度物質の割合が、前記第1の近傍領域に含まれる前記第1のモース硬度物質の割合よりも高くなるように構成される
構造体。 - 請求項1に記載の構造体であって、
前記第2のモース硬度金属は、アルミニウムであり、
前記第1のモース硬度物質は、クロム、コバルト、又は前記第2のモース硬度金属として用いられる前記アルミニウムに酸素が添加されることで構成される酸化アルミニウムである
構造体。 - 請求項2に記載の構造体であって、
前記第1のモース硬度物質は、クロム、又は前記第2のモース硬度金属として用いられる前記アルミニウムに酸素が添加されることで構成される酸化アルミニウムである
構造体。 - 請求項1から3のうちいずれか1項に記載の構造体であって、
前記金属層は、前記第2のモース硬度金属の割合が前記反対側面から前記視認側面にかけて増加し、前記第1のモース硬度物質の割合が前記反対側面から前記視認側面にかけて減少する
構造体。 - 請求項4に記載の構造体であって、
前記第2のモース硬度金属は、アルミニウムであり、
前記第1のモース硬度物質は、前記第2のモース硬度金属として用いられる前記アルミニウムに酸素が添加されることで構成される酸化アルミニウムであり、
前記金属層は、前記第1の近傍領域における前記酸素の添加濃度が、前記第2の近傍領域における前記酸素の添加濃度よりも低くなるように構成される
構造体。 - 請求項5に記載の構造体であって、
前記金属層は、前記酸素の添加濃度が前記反対側面から前記視認側面にかけて減少する
構造体。 - 請求項1から6のうちいずれか1項に記載の構造体であって、
前記視認側面は、可視光領域の表面反射率が70%以上である
構造体。 - 請求項1から7のうちいずれか1項に記載の構造体であって、
前記加飾フィルムは、前記視認側面に積層された保護層を有し、当該保護層における可視光領域の表面反射率は、65%以上である
構造体。 - 請求項1から8のうちいずれか1項に記載の構造体であって、
前記微細なクラックは、不規則に形成されている
構造体。 - 請求項1から8のうちいずれか1項に記載の構造体であって、
前記微細なクラックは、網目状に形成されている
構造体。 - 請求項1から10のうちいずれか1項に記載の構造体であって、
筐体部品、車両、又は建築物の少なくとも一部として構成される
構造体。 - ベースフィルムと、
前記ベースフィルムに形成され、金属又は金属化合物からなる第1のモース硬度を有する物質である第1のモース硬度物質と、前記第1のモース硬度物質よりも可視光領域の表面反射率が高く、かつ前記第1のモース硬度よりも低い第2のモース硬度を有する金属である第2のモース硬度金属とを有する単層の金属層と
を具備し、
前記第2のモース硬度金属は、アルミニウム、銀、金、又は銅であり、
前記第1のモース硬度物質は、クロム、シリコン、チタン、コバルト、鉄、ニッケル、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化クロム、酸化チタン、又は窒化チタンであり、
前記金属層は、
視認される側の視認側面と、前記視認側面にピッチが1μm以上500μm以下の範囲に含まれるように形成された微細なクラックと、前記視認側面の反対側の反対側面とを有し、
厚み方向において前記視認側面から前記金属層の厚みの半分以下となる所定の厚みまでの領域を第1の近傍領域とし、厚み方向において前記反対側面から前記所定の厚みまでの領域を第2の近傍領域とすると、
前記視認側面が金属的な外観を有するように、前記第1の近傍領域に含まれる前記第2のモース硬度金属の割合が、前記第2の近傍領域に含まれる前記第2のモース硬度金属の割合よりも高くなるように構成され、
前記第1の近傍領域と比べて前記第2の近傍領域の引張破断強度が低くなるように、前記第2の近傍領域に含まれる前記第1のモース硬度物質の割合が、前記第1の近傍領域に含まれる前記第1のモース硬度物質の割合よりも高くなるように構成される
加飾フィルム。 - ベースフィルムに対して真空蒸着を行うことにより、金属又は金属化合物からなる第1のモース硬度を有する物質である第1のモース硬度物質と、前記第1のモース硬度物質よりも可視光領域の表面反射率が高く、かつ前記第1のモース硬度よりも低い第2のモース硬度を有する金属である第2のモース硬度金属とを有する単層の金属層を形成する金属層形成ステップと、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成するクラック形成ステップと、
視認される側に前記微細なクラックが形成された前記金属層が配置されるように成型部品を形成する成型部品形成ステップと
を具備し、
前記第2のモース硬度金属は、アルミニウム、銀、金、又は銅であり、
前記第1のモース硬度物質は、クロム、シリコン、チタン、コバルト、鉄、ニッケル、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化クロム、酸化チタン、又は窒化チタンであり
前記金属層の視認される側の視認側面から前記金属層の厚み方向において前記金属層の厚みの半分以下となる所定の厚みまでの領域を第1の近傍領域とし、前記金属層の厚み方向において前記視認側面の反対側の反対側面から前記所定の厚みまでの領域を第2の近傍領域とすると、
前記金属層形成ステップは、
前記視認側面が金属的な外観を有するように、前記第1の近傍領域に含まれる前記第2のモース硬度金属の割合が、前記第2の近傍領域に含まれる前記第2のモース硬度金属の割合よりも高くなるように、かつ
前記第1の近傍領域と比べて前記第2の近傍領域の引張破断強度が低くなるように、前記第2の近傍領域に含まれる前記第1のモース硬度物質の割合が、前記第1の近傍領域に含まれる前記第1のモース硬度物質の割合よりも高くなるように
前記金属層を形成し、
前記クラック形成ステップは、前記視認側面にピッチが1μm以上500μm以下の範囲に含まれるように前記微細なクラックを形成し、
前記成型部品形成ステップは、前記微細なクラックが形成された前記視認側面が、視認される側に向けられるように前記成型部品を形成するステップであって、
前記微細なクラックが形成された前記金属層を含む加飾フィルムを形成し、
前記加飾フィルムにキャリアフィルムを接着することで転写用フィルムを形成し、
インモールド成形法、ホットスタンプ法、又は真空成形法により前記転写用フィルムから前記加飾フィルムが転写されるように前記成型部品を形成する
構造体の製造方法。 - ベースフィルムに対して真空蒸着を行うことにより、金属又は金属化合物からなる第1のモース硬度を有する物質である第1のモース硬度物質と、前記第1のモース硬度物質よりも可視光領域の表面反射率が高く、かつ前記第1のモース硬度よりも低い第2のモース硬度を有する金属である第2のモース硬度金属とを有する単層の金属層を形成する金属層形成ステップと、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成するクラック形成ステップと、
視認される側に前記微細なクラックが形成された前記金属層が配置されるように成型部品を形成する成型部品形成ステップと
を具備し、
前記第2のモース硬度金属は、アルミニウム、銀、金、又は銅であり、
前記第1のモース硬度物質は、クロム、シリコン、チタン、コバルト、鉄、ニッケル、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化クロム、酸化チタン、又は窒化チタンであり
前記金属層の視認される側の視認側面から前記金属層の厚み方向において前記金属層の厚みの半分以下となる所定の厚みまでの領域を第1の近傍領域とし、前記金属層の厚み方向において前記視認側面の反対側の反対側面から前記所定の厚みまでの領域を第2の近傍領域とすると、
前記金属層形成ステップは、
前記視認側面が金属的な外観を有するように、前記第1の近傍領域に含まれる前記第2のモース硬度金属の割合が、前記第2の近傍領域に含まれる前記第2のモース硬度金属の割合よりも高くなるように、かつ
前記第1の近傍領域と比べて前記第2の近傍領域の引張破断強度が低くなるように、前記第2の近傍領域に含まれる前記第1のモース硬度物質の割合が、前記第1の近傍領域に含まれる前記第1のモース硬度物質の割合よりも高くなるように
前記金属層を形成し、
前記クラック形成ステップは、前記視認側面にピッチが1μm以上500μm以下の範囲に含まれるように前記微細なクラックを形成し、
前記成型部品形成ステップは、前記微細なクラックが形成された前記視認側面が、視認される側に向けられるように前記成型部品を形成するステップであって、
前記微細なクラックが形成された前記金属層を含む転写用フィルムを形成し、
インモールド成形法、ホットスタンプ法、又は真空成形法により前記ベースフィルムから剥離した前記金属層が転写されるように前記成型部品を形成する
構造体の製造方法。 - ベースフィルムに対して真空蒸着を行うことにより、金属又は金属化合物からなる第1のモース硬度を有する物質である第1のモース硬度物質と、前記第1のモース硬度物質よりも可視光領域の表面反射率が高く、かつ前記第1のモース硬度よりも低い第2のモース硬度を有する金属である第2のモース硬度金属とを有する単層の金属層を形成する金属層形成ステップと、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成するクラック形成ステップと、
視認される側に前記微細なクラックが形成された前記金属層が配置されるように成型部品を形成する成型部品形成ステップと
を具備し、
前記第2のモース硬度金属は、アルミニウム、銀、金、又は銅であり、
前記第1のモース硬度物質は、クロム、シリコン、チタン、コバルト、鉄、ニッケル、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化クロム、酸化チタン、又は窒化チタンであり
前記金属層の視認される側の視認側面から前記金属層の厚み方向において前記金属層の厚みの半分以下となる所定の厚みまでの領域を第1の近傍領域とし、前記金属層の厚み方向において前記視認側面の反対側の反対側面から前記所定の厚みまでの領域を第2の近傍領域とすると、
前記金属層形成ステップは、
前記視認側面が金属的な外観を有するように、前記第1の近傍領域に含まれる前記第2のモース硬度金属の割合が、前記第2の近傍領域に含まれる前記第2のモース硬度金属の割合よりも高くなるように、かつ
前記第1の近傍領域と比べて前記第2の近傍領域の引張破断強度が低くなるように、前記第2の近傍領域に含まれる前記第1のモース硬度物質の割合が、前記第1の近傍領域に含まれる前記第1のモース硬度物質の割合よりも高くなるように
前記金属層を形成し、
前記クラック形成ステップは、前記視認側面にピッチが1μm以上500μm以下の範囲に含まれるように前記微細なクラックを形成し、
前記成型部品形成ステップは、前記微細なクラックが形成された前記視認側面が、視認される側に向けられるように前記成型部品を形成するステップであって、
前記微細なクラックが形成された前記金属層を含む加飾フィルムを形成し、
インサート成形法により前記加飾フィルムと一体的に前記成形部品を形成する
構造体の製造方法。 - 請求項13から15のうちいずれか1項に記載の構造体の製造方法であって、
前記クラック形成ステップは、前記ベースフィルムを各々の軸方向の延伸率2%以下で2軸延伸する
構造体の製造方法。 - ベースフィルムに対して真空蒸着を行うことにより、金属又は金属化合物からなる第1のモース硬度を有する物質である第1のモース硬度物質と、前記第1のモース硬度物質よりも可視光領域の表面反射率が高く、かつ前記第1のモース硬度よりも低い第2のモース硬度を有する金属である第2のモース硬度金属とを有する単層の金属層を形成する金属層形成ステップと、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成するクラック形成ステップと
を具備し、
前記第2のモース硬度金属は、アルミニウム、銀、金、又は銅であり、
前記第1のモース硬度物質は、クロム、シリコン、チタン、コバルト、鉄、ニッケル、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化クロム、酸化チタン、又は窒化チタンであり
前記金属層の視認される側の視認側面から前記金属層の厚み方向において前記金属層の厚みの半分以下となる所定の厚みまでの領域を第1の近傍領域とし、前記金属層の厚み方向において前記視認側面の反対側の反対側面から前記所定の厚みまでの領域を第2の近傍領域とすると、
前記金属層形成ステップは、
前記視認側面が金属的な外観を有するように、前記第1の近傍領域に含まれる前記第2のモース硬度金属の割合が、前記第2の近傍領域に含まれる前記第2のモース硬度金属の割合よりも高くなるように、かつ
前記第1の近傍領域と比べて前記第2の近傍領域の引張破断強度が低くなるように、前記第2の近傍領域に含まれる前記第1のモース硬度物質の割合が、前記第1の近傍領域に含まれる前記第1のモース硬度物質の割合よりも高くなるように
前記金属層を形成し、
前記クラック形成ステップは、前記視認側面にピッチが1μm以上500μm以下の範囲に含まれるように前記微細なクラックを形成する
加飾フィルムの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017106471 | 2017-05-30 | ||
JP2017106471 | 2017-05-30 | ||
PCT/JP2018/016989 WO2018221099A1 (ja) | 2017-05-30 | 2018-04-26 | 構造体、加飾フィルム、構造体の製造方法、及び加飾フィルムの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018221099A1 JPWO2018221099A1 (ja) | 2020-04-02 |
JP7211359B2 true JP7211359B2 (ja) | 2023-01-24 |
Family
ID=64454576
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019522039A Active JP7211359B2 (ja) | 2017-05-30 | 2018-04-26 | 構造体、加飾フィルム、構造体の製造方法、及び加飾フィルムの製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200086679A1 (ja) |
EP (1) | EP3632674A4 (ja) |
JP (1) | JP7211359B2 (ja) |
KR (1) | KR102511461B1 (ja) |
CN (1) | CN110709238B (ja) |
TW (1) | TWI760490B (ja) |
WO (1) | WO2018221099A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101925470B1 (ko) * | 2017-06-27 | 2018-12-05 | 주식회사 엘지화학 | 장식 부재 및 이의 제조방법 |
CN112298065B (zh) * | 2020-09-15 | 2022-02-11 | 东风延锋汽车饰件系统有限公司 | 采用无缝化设计的智能显示内饰件、智能显示系统及汽车 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016125212A1 (ja) | 2015-02-03 | 2016-08-11 | ソニー株式会社 | 筐体部品、電子機器、筐体部品の製造方法 |
WO2017179463A1 (ja) | 2016-04-12 | 2017-10-19 | ソニー株式会社 | 構造体、電子機器、加飾フィルム、及び構造体の製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4023177Y1 (ja) * | 1964-06-29 | 1965-08-07 | ||
US4364995A (en) * | 1981-02-04 | 1982-12-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Metal/metal oxide coatings |
JPS59174805A (ja) * | 1983-03-24 | 1984-10-03 | Reiko Co Ltd | 光線調整フイルム |
JP5400454B2 (ja) | 2009-04-13 | 2014-01-29 | 三恵技研工業株式会社 | 電磁波透過性の金属複合材料の製造方法 |
JP2016144930A (ja) | 2015-02-03 | 2016-08-12 | 王子ホールディングス株式会社 | 遮熱フィルム、遮熱合わせガラス、遮熱フィルムの製造方法および遮熱合わせガラスの製造方法 |
US11351753B2 (en) * | 2016-06-30 | 2022-06-07 | Nitto Denko Corporation | Electromagnetic wave transmissive metal member, article using the same, and production method for electromagnetic wave transmissive metal film |
-
2018
- 2018-04-26 KR KR1020197034474A patent/KR102511461B1/ko active IP Right Grant
- 2018-04-26 US US16/616,292 patent/US20200086679A1/en not_active Abandoned
- 2018-04-26 JP JP2019522039A patent/JP7211359B2/ja active Active
- 2018-04-26 EP EP18809358.7A patent/EP3632674A4/en not_active Withdrawn
- 2018-04-26 WO PCT/JP2018/016989 patent/WO2018221099A1/ja active Application Filing
- 2018-04-26 CN CN201880034204.3A patent/CN110709238B/zh active Active
- 2018-05-07 TW TW107115372A patent/TWI760490B/zh active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016125212A1 (ja) | 2015-02-03 | 2016-08-11 | ソニー株式会社 | 筐体部品、電子機器、筐体部品の製造方法 |
WO2017179463A1 (ja) | 2016-04-12 | 2017-10-19 | ソニー株式会社 | 構造体、電子機器、加飾フィルム、及び構造体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200014288A (ko) | 2020-02-10 |
CN110709238A (zh) | 2020-01-17 |
TWI760490B (zh) | 2022-04-11 |
KR102511461B1 (ko) | 2023-03-16 |
CN110709238B (zh) | 2023-03-17 |
EP3632674A4 (en) | 2020-05-27 |
TW201902694A (zh) | 2019-01-16 |
JPWO2018221099A1 (ja) | 2020-04-02 |
EP3632674A1 (en) | 2020-04-08 |
WO2018221099A1 (ja) | 2018-12-06 |
US20200086679A1 (en) | 2020-03-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6627781B2 (ja) | 筐体部品、電子機器、筐体部品の製造方法 | |
CN108883607B (zh) | 结构体、电子设备、装饰膜以及结构体的制造方法 | |
TWI791466B (zh) | 電磁波穿透性金屬光澤構件、使用其之物品及金屬薄膜 | |
WO2020153137A1 (ja) | 構造体、加飾フィルム、構造体の製造方法、及び加飾フィルムの製造方法 | |
CN109311262B (zh) | 电磁波透过性金属部件、使用该部件的物品、及电磁波透过性金属膜的制造方法 | |
JP6665781B2 (ja) | 筐体部品、電子機器、筐体部品の製造方法 | |
JP7211359B2 (ja) | 構造体、加飾フィルム、構造体の製造方法、及び加飾フィルムの製造方法 | |
CN112020423B (zh) | 电磁波透过性金属光泽物品、及金属薄膜 | |
TWI780132B (zh) | 結構體、裝飾性膜、結構體之製造方法、及裝飾性膜之製造方法 | |
WO2019187929A1 (ja) | 構造体、加飾フィルム及び加飾フィルムの製造方法 | |
CN112004664B (zh) | 电磁波透过性金属光泽物品 | |
CN112004663B (zh) | 电磁波透过性金属光泽物品、及金属薄膜 | |
WO2019208488A1 (ja) | 電磁波透過性金属光沢物品 | |
JP2022180188A (ja) | 積層体及び加飾部材 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210323 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220314 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20220314 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220719 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220920 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221004 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221129 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20221213 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221226 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7211359 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |