JP2005264254A - 金属蒸着膜とこの金属蒸着膜を備えた金属蒸着体およびその製造方法 - Google Patents
金属蒸着膜とこの金属蒸着膜を備えた金属蒸着体およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005264254A JP2005264254A JP2004079875A JP2004079875A JP2005264254A JP 2005264254 A JP2005264254 A JP 2005264254A JP 2004079875 A JP2004079875 A JP 2004079875A JP 2004079875 A JP2004079875 A JP 2004079875A JP 2005264254 A JP2005264254 A JP 2005264254A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- vapor deposition
- metal vapor
- carrier
- nickel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Abstract
【解決手段】柱状体1の集合体によって形成され、表面から見た形状がクラック2によって微小面積に分割された形状とした金属蒸着膜であり、電子部品などの電極として活用した場合に基材との結合が強化できるとともに、膜厚の厚いものを形成することができる。また、転写時においては所定形状に沿って転写できるものである。
【選択図】図1
Description
に蒸着する金属と反応しない不活性ガスを供給することで可能となる。これは、通常、担持体に蒸発源から蒸発した金属を付着堆積させて金属蒸着膜を形成していく時、蒸発金属はかなりのエネルギーを持った状態で担持体に付着すると考えられ、担持体上で大きく動きながら付着堆積していくといわれている。この担持体上での動きが大きい場合は、図3,図4に示すように大きな柱状体3で構成され、表面から見た形状も少しクラック4が形成されたものとなる。
(実施例1)
厚さ16μmのPETフィルムの片面に、シリコン系離型剤からなる厚さ0.3μm、剥離強度が500grの離型層を形成した離型層付きPETフィルムを担持体とし、ニッケル蒸着膜の成膜時にアルゴンガスをニッケル蒸着膜が成膜される部分に向けて供給した。このとき真空槽内の真空度は8×10−2Paであった。
(実施例2)
厚さ16μmのPETフィルムの片面にシリコン系離型剤からなる離型層厚さ0.3μm、剥離強度が5grの離型層を成膜した離型層付きPETフィルムを担持体とし、ニッケル蒸着膜の成膜時にアルゴンガスをニッケル蒸着膜が成膜される部分に向けて供給した。このとき真空槽内の真空度は8×10−2Paの真空度であった。
(比較例)
比較のために従来例1として、厚さ16μmのPETフィルムの片面にシリコン系離型剤からなる離型層厚さ0.3μm、剥離強度が500grの離型層を形成した離型層付きPETフィルムを担持体として、真空度が1×10−22Pa、担持体の送り速度を20m/minとして離型層上に供給ガスなしの条件で膜厚0.5μmのニッケル蒸着膜を成膜した。
2 クラック
5 担持体
6 金属蒸着膜
7 高分子フィルム
8 離型層
9 担持体
10 接着剤
Claims (5)
- 柱状体の集合によって形成され,表面から見た形状がクラックによって微細面積に分割された形状とした金属蒸着膜。
- 担持体上に柱状体の集合によって形成され、表面から見た形状がクラックによって微小面積に分割された形状の金属蒸着膜を設けた金属蒸着体。
- 担持体が誘電体,磁性体,絶縁体の基板またはグリーンシート及び樹脂フィルムである請求項2に記載の金属蒸着体。
- 担持体が表面に離型層を形成した高分子フィルムからなる転写フィルムである請求項2の金属蒸着体。
- 真空槽内に供給される担持体に蒸発源から蒸着する金属の蒸気を供給して付着堆積するに当り、不活性ガスを供給しながら行う金属蒸着体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004079875A JP4439959B2 (ja) | 2004-03-19 | 2004-03-19 | 金属蒸着膜とこの金属蒸着膜を備えた金属蒸着体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004079875A JP4439959B2 (ja) | 2004-03-19 | 2004-03-19 | 金属蒸着膜とこの金属蒸着膜を備えた金属蒸着体およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005264254A true JP2005264254A (ja) | 2005-09-29 |
JP4439959B2 JP4439959B2 (ja) | 2010-03-24 |
Family
ID=35089108
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004079875A Expired - Fee Related JP4439959B2 (ja) | 2004-03-19 | 2004-03-19 | 金属蒸着膜とこの金属蒸着膜を備えた金属蒸着体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4439959B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009157123A1 (ja) * | 2008-06-26 | 2009-12-30 | 株式会社 村田製作所 | センサ装置及びその製造方法 |
CN107211549A (zh) * | 2015-02-03 | 2017-09-26 | 索尼公司 | 壳体部件、电子设备以及壳体部件的制造方法 |
CN108883607A (zh) * | 2016-04-12 | 2018-11-23 | 索尼公司 | 结构体、电子设备、装饰膜以及结构体的制造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112018001783T5 (de) * | 2017-03-31 | 2019-12-05 | Sony Corporation | Konstruktion, zierfolie, verfahren zur herstellung der konstruktion und verfahren zur herstellung der zierfolie |
-
2004
- 2004-03-19 JP JP2004079875A patent/JP4439959B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009157123A1 (ja) * | 2008-06-26 | 2009-12-30 | 株式会社 村田製作所 | センサ装置及びその製造方法 |
CN107211549A (zh) * | 2015-02-03 | 2017-09-26 | 索尼公司 | 壳体部件、电子设备以及壳体部件的制造方法 |
JPWO2016125212A1 (ja) * | 2015-02-03 | 2017-11-09 | ソニー株式会社 | 筐体部品、電子機器、筐体部品の製造方法 |
US10710289B2 (en) | 2015-02-03 | 2020-07-14 | Sony Corporation | Casing component, electronic apparatus, and manufacturing method for a casing component |
CN107211549B (zh) * | 2015-02-03 | 2021-05-28 | 索尼公司 | 壳体部件、电子设备以及壳体部件的制造方法 |
CN108883607A (zh) * | 2016-04-12 | 2018-11-23 | 索尼公司 | 结构体、电子设备、装饰膜以及结构体的制造方法 |
CN108883607B (zh) * | 2016-04-12 | 2021-09-03 | 索尼公司 | 结构体、电子设备、装饰膜以及结构体的制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4439959B2 (ja) | 2010-03-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4132828A (en) | Assembly of metal-coated carbon fibers, process for production thereof, and method for use thereof | |
US4091138A (en) | Insulating film, sheet, or plate material with metallic coating and method for manufacturing same | |
JP5936091B2 (ja) | 炭素被覆金属粉末、炭素被覆金属粉末を含有する導電性ペースト及びそれを用いた積層電子部品、並びに炭素被覆金属粉末の製造方法 | |
US20150368535A1 (en) | Graphene composites and methods of fabrication | |
JP4637819B2 (ja) | スパッタリングターゲットを製造するための方法および装置 | |
JP2007522346A (ja) | 多孔性コーティング部材及び低温噴射法を利用したその製造方法 | |
WO2022047949A1 (zh) | 柔性导电薄膜的生产加工系统及制备工艺 | |
JP4439959B2 (ja) | 金属蒸着膜とこの金属蒸着膜を備えた金属蒸着体およびその製造方法 | |
US20080038482A1 (en) | Method for Low Temperature Production of Nano-Structured Iron Oxide Coatings | |
JP4498476B2 (ja) | 還元性雰囲気炉用炭素複合材料及びその製造方法 | |
JP2010042564A (ja) | フレキシブル基材の製造方法およびフレキシブル基材 | |
US20230033984A1 (en) | Coating tape | |
JP5310486B2 (ja) | 長尺耐熱性樹脂フィルムの成膜方法と金属膜付耐熱性樹脂フィルムの製造装置 | |
JP7191937B2 (ja) | 導電性フィルムの製造方法 | |
JPH02280310A (ja) | 電解コンデンサ用電極材料の製造方法 | |
JPS5944381B2 (ja) | 炭素繊維強化金属複合材料プリプレグの製造法 | |
JP6440553B2 (ja) | 金属または合金からなる皮膜の製造方法 | |
US20130065078A1 (en) | Coated article and method for making said article | |
JP7060614B2 (ja) | カーボンナノチューブ成長用基板およびカーボンナノチューブの製造方法 | |
JPH09310172A (ja) | 樹脂薄膜の製造方法及び製造装置及び電子部品 | |
CN114481067B (zh) | 一种超纯、超厚、致密铝膜的制备方法 | |
JP7471176B2 (ja) | 基体、特に超伝導テープ導体をコーティングする装置、方法及びシステム並びにコーティングされた超伝導テープ導体 | |
JP2004031940A (ja) | 積層体の製造方法及び積層体の製造装置 | |
JPS63270455A (ja) | 金属被着プラスチツクフイルムの製造方法 | |
JPH01147055A (ja) | 金属被着プラスチックフィルムの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070220 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20070313 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090909 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090915 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091110 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20091120 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091208 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100106 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130115 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130115 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130115 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |