JPS63270455A - 金属被着プラスチツクフイルムの製造方法 - Google Patents
金属被着プラスチツクフイルムの製造方法Info
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- JPS63270455A JPS63270455A JP10528287A JP10528287A JPS63270455A JP S63270455 A JPS63270455 A JP S63270455A JP 10528287 A JP10528287 A JP 10528287A JP 10528287 A JP10528287 A JP 10528287A JP S63270455 A JPS63270455 A JP S63270455A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は金属被着プラスチックフィルムの製造方法に関
するもので、特にプラスチックフィルムに熱的損傷を与
えることなく、該プラスチックフィルムに金属薄膜を強
固に接着したものを得る方法に関するものである。
するもので、特にプラスチックフィルムに熱的損傷を与
えることなく、該プラスチックフィルムに金属薄膜を強
固に接着したものを得る方法に関するものである。
〔従来の技術及びその問題点〕′
近年、プラスチックへのメタライジングが盛んになって
おり、装飾品からフィルムコンデンサ、磁気テープ、フ
レキシブルプリント回路（ＦＰＣ）等の電子機器分野に
至るまで広範囲に渡って利用されている。
おり、装飾品からフィルムコンデンサ、磁気テープ、フ
レキシブルプリント回路（ＦＰＣ）等の電子機器分野に
至るまで広範囲に渡って利用されている。
しかしプラスチックは一般に耐熱性が低く、又表面自由
エネルギーも小さい等の理由により、真空蒸着、スパッ
タ等の物理的蒸着法を用いてメタライジングしても、前
記プラスチックに強固に接着した金属ｙＩ膜を形成する
ことは困難であった。
エネルギーも小さい等の理由により、真空蒸着、スパッ
タ等の物理的蒸着法を用いてメタライジングしても、前
記プラスチックに強固に接着した金属ｙＩ膜を形成する
ことは困難であった。
そこで前記接着性を向上させるため、プラスチックの表
面をプラズマ処理してからメタライジングすることが最
近試みられている。即ち、真空中に導入したガスをグロ
ー放電等の手段により低温プラズマ化し、該プラズマ中
のイオンをプラスチック等の基体物質にあてることによ
り、該基体物質の金属への接着性を向上させることが試
みられている。
面をプラズマ処理してからメタライジングすることが最
近試みられている。即ち、真空中に導入したガスをグロ
ー放電等の手段により低温プラズマ化し、該プラズマ中
のイオンをプラスチック等の基体物質にあてることによ
り、該基体物質の金属への接着性を向上させることが試
みられている。
前記プラズマ処理によってプラスチックへの金属薄膜の
接着性は向上するものの、プラズマ処理によってプラス
チックフィルムが熱損傷を受け、そのために該プラスチ
ックフィルム表面に金属薄膜を形成した際に、熱負は現
象を生じて表面平滑性が損なわれる場合が多く問題どな
っていた。
接着性は向上するものの、プラズマ処理によってプラス
チックフィルムが熱損傷を受け、そのために該プラスチ
ックフィルム表面に金属薄膜を形成した際に、熱負は現
象を生じて表面平滑性が損なわれる場合が多く問題どな
っていた。
Ｃ問題点を解決するための手段〕
本発明は上記の点に鑑みなされたものであり、その目的
とするところは、プラスチックフィルムへの金属薄膜の
接着性が優れており、かつ表面平滑性も良好な金属被着
プラスチックフィルムの製造方法を提供することである
。
とするところは、プラスチックフィルムへの金属薄膜の
接着性が優れており、かつ表面平滑性も良好な金属被着
プラスチックフィルムの製造方法を提供することである
。
即ち本発明は、プラスチックフィルム表面を低温プラズ
マで処理した後、該プラスチックフィルム表面に金属薄
膜を形成させるに際して、プラズマ処理時のプラスチッ
クフィルム表面温度を該プラスチックフィルムのガラス
転移温度以下に保つことを特徴とする金属被着プラスチ
ックフィルムの製造方法である。
マで処理した後、該プラスチックフィルム表面に金属薄
膜を形成させるに際して、プラズマ処理時のプラスチッ
クフィルム表面温度を該プラスチックフィルムのガラス
転移温度以下に保つことを特徴とする金属被着プラスチ
ックフィルムの製造方法である。
本発明においてプラズマ処理に用いるガスとしては、ヘ
リウム、ネオン、アルゴン等の不活性ガスや、酸素、窒
素、−酸化炭素、二酸化炭素等の活性ガスを単独又は混
合して用いることが出来るが、化学的接着に必要な官能
基（例えば、−ＣＯｌ−ＯＨ１−Ｃ○０Ｈ４９等）を導
入して接着性を向上させるためには、酸素又は酸素を含
む化合物のガスを用いることが望ましい。
リウム、ネオン、アルゴン等の不活性ガスや、酸素、窒
素、−酸化炭素、二酸化炭素等の活性ガスを単独又は混
合して用いることが出来るが、化学的接着に必要な官能
基（例えば、−ＣＯｌ−ＯＨ１−Ｃ○０Ｈ４９等）を導
入して接着性を向上させるためには、酸素又は酸素を含
む化合物のガスを用いることが望ましい。
而して低温プラズマの発生は、プラズマ発生装置内に上
記ガスを導入し、例えば電極間に１０〜７００ｗの高周
波電力（周波数１３．５６ＭＨｚ）を印加することによ
って行なわれる。又プラズマ処理時間は印加電圧によっ
ても異なるが、一般には数秒から数十分処理すれば充分
である。尚低温プラズマ発生のための放電周波数帯とし
ては、前記高周波のほか、低周波、マイクロ波、直流等
を用いても差し支えない。
記ガスを導入し、例えば電極間に１０〜７００ｗの高周
波電力（周波数１３．５６ＭＨｚ）を印加することによ
って行なわれる。又プラズマ処理時間は印加電圧によっ
ても異なるが、一般には数秒から数十分処理すれば充分
である。尚低温プラズマ発生のための放電周波数帯とし
ては、前記高周波のほか、低周波、マイクロ波、直流等
を用いても差し支えない。
これらのプラズマ発生装置内におけるガス圧力は、目的
の低温プラズマが容易に発生する圧力、即ち１０Ｔｏｒ
ｒ以下、より好ましくは０． ＩＴｏｒｒ以下にするこ
とが必要である。
の低温プラズマが容易に発生する圧力、即ち１０Ｔｏｒ
ｒ以下、より好ましくは０． ＩＴｏｒｒ以下にするこ
とが必要である。
本発明においてプラズマ処理時のプラスチックフィルム
表面温度を該プラスチックフィルムのガラス転移温度（
Ｔｇ）以下に限定したのは、前記表面温度がＴｇを超え
ると、プラズマ処理時にプラスチックフィルムが熱損傷
を受け、金属薄膜形成後の表面平滑性が損なわれるため
であって、より好ましくは０．８７ｇ以下に保つことが
望ましい。
表面温度を該プラスチックフィルムのガラス転移温度（
Ｔｇ）以下に限定したのは、前記表面温度がＴｇを超え
ると、プラズマ処理時にプラスチックフィルムが熱損傷
を受け、金属薄膜形成後の表面平滑性が損なわれるため
であって、より好ましくは０．８７ｇ以下に保つことが
望ましい。
そのためには、例えばプラスチックフィルムの材質、プ
ラズマガスの種類等に応じて、プラズマ処理時間及び放
電電力を適正な値にコントロールすることが必要である
。
ラズマガスの種類等に応じて、プラズマ処理時間及び放
電電力を適正な値にコントロールすることが必要である
。
以下図面を参照して本発明を更に詳細に説明する。第１
図は、酸素ガス（圧力０．０ＩＴｏｒｒ）を用いてポリ
フェニレンサルファイド（ＰＰＳ）フィルム（融点Ｔｍ
：２８５°Ｃ１ガラス転移温度Ｔｇ：８５°Ｃ）表面を
プラズマ処理した際のフィルム表面温度を測定したデー
タであって、処理時間を長くすると該フィルム表面温度
は徐々に高くなり、その後飽和している。又同一処理時
間では、放電電力が大きい程、フィルム表面温度は高く
なっている。
図は、酸素ガス（圧力０．０ＩＴｏｒｒ）を用いてポリ
フェニレンサルファイド（ＰＰＳ）フィルム（融点Ｔｍ
：２８５°Ｃ１ガラス転移温度Ｔｇ：８５°Ｃ）表面を
プラズマ処理した際のフィルム表面温度を測定したデー
タであって、処理時間を長くすると該フィルム表面温度
は徐々に高くなり、その後飽和している。又同一処理時
間では、放電電力が大きい程、フィルム表面温度は高く
なっている。
本発明においては、第１図においてハツチングを施した
領域（表面温度：Ｔｇ以下）、より好ましくはクロスハ
ツチングを施した領域（表面温度＝０．８７ ｇ以下）
内に入る様に処理時間及び放電電力を選定してプラズマ
処理することが必要である。
領域（表面温度：Ｔｇ以下）、より好ましくはクロスハ
ツチングを施した領域（表面温度＝０．８７ ｇ以下）
内に入る様に処理時間及び放電電力を選定してプラズマ
処理することが必要である。
尚本発明における金属薄膜形成の方法としては、真空蒸
着、スパッタ、イオンブレーティング等の物理的蒸着法
の内、いずれを用いても差し支えない。
着、スパッタ、イオンブレーティング等の物理的蒸着法
の内、いずれを用いても差し支えない。
本発明においては、プラズマ処理時にプラスチックフィ
ルム表面温度を該プラスチックフィルムのガラス転移温
度（Ｔｇ）以下に保っているので、プラスチックフィル
ムが熱的損傷を受けなく、表面平滑性が良好で金属薄膜
の接着性も良好な金属被着プラスチックフィルムを製造
することが出来る。
ルム表面温度を該プラスチックフィルムのガラス転移温
度（Ｔｇ）以下に保っているので、プラスチックフィル
ムが熱的損傷を受けなく、表面平滑性が良好で金属薄膜
の接着性も良好な金属被着プラスチックフィルムを製造
することが出来る。
〔実施例１〕
次に本発明を実施例により更に具体的に説明する。
厚さ３０−のポリエチレンテレフタレー） （ＰＥＴ）
フィルム（東し製、商品名ニルミラー）をプラズマ処理
機構を有するスパッタ装置内にセットし、充分排気後、
フィルム表面温度Ｔｆが５５°Ｃとなるよう、酸素ガス
圧０．０ＩＴｏｒｒ、周波数１３．５６ＭＨｚ、放電電
力１００Ｗの条件下で７０秒プラズマ処理を施した。尚
ＰＥＴフィルムのガラス転移温度Ｔｇは６８°Ｃである
。
フィルム（東し製、商品名ニルミラー）をプラズマ処理
機構を有するスパッタ装置内にセットし、充分排気後、
フィルム表面温度Ｔｆが５５°Ｃとなるよう、酸素ガス
圧０．０ＩＴｏｒｒ、周波数１３．５６ＭＨｚ、放電電
力１００Ｗの条件下で７０秒プラズマ処理を施した。尚
ＰＥＴフィルムのガラス転移温度Ｔｇは６８°Ｃである
。
その前記装置内にアルゴンガスを導入し、ガス圧３．０
Ｘ１０−３Ｔｏｒｒ、周波数１３．５６ＭＨｚ、放電電
力１００ｗの条件下で銅をｌ−付着させて、銅被層プラ
スチックフィルムとした。
Ｘ１０−３Ｔｏｒｒ、周波数１３．５６ＭＨｚ、放電電
力１００ｗの条件下で銅をｌ−付着させて、銅被層プラ
スチックフィルムとした。
〔実施例２］
厚さ２５−のポリエーテルエーテルケトン（三井東圧化
学製、商品名： ＴＡＬ ＰＡ−２０００）を前記スパ
ッタ装置内にセットし、充分排気後、フィルム表面温度
Ｔｆが１１０°Ｃとなるよう、酸素ガス圧０．０１Ｔｏ
ｒｒ、周波数１３．５６Ｍ）ｆｚ、放電電力２００ ｗ
の条件下で１２０秒プラズマ処理を施した。尚ポリエー
テルエーテルケトンのガラス転移温度Ｔｇは１４３°Ｃ
である。
学製、商品名： ＴＡＬ ＰＡ−２０００）を前記スパ
ッタ装置内にセットし、充分排気後、フィルム表面温度
Ｔｆが１１０°Ｃとなるよう、酸素ガス圧０．０１Ｔｏ
ｒｒ、周波数１３．５６Ｍ）ｆｚ、放電電力２００ ｗ
の条件下で１２０秒プラズマ処理を施した。尚ポリエー
テルエーテルケトンのガラス転移温度Ｔｇは１４３°Ｃ
である。
その後装置内にアルゴンガスを導入し、ガス圧３．０Ｘ
１０−’Ｔｏｒｒ、周波数１３周波数１３−．５故Ｗの
条件下でアルミニウムを０．５μ付着させて、アルミニ
ウム被着プラスチックフィルムとした。
１０−’Ｔｏｒｒ、周波数１３周波数１３−．５故Ｗの
条件下でアルミニウムを０．５μ付着させて、アルミニ
ウム被着プラスチックフィルムとした。
〔比較例１〕
厚さ３０−〇ＰＥＴフィルム（東し製、商品名ニルミラ
ー）を前記スパッタ装置内にセットし、充分排気後、酸
素ガス圧０．０ＩＴｏｒｒ，周波数１３．５６ＭＨｚ、
放電電力１００ｗの条件下で３００秒プラズマ処理を施
した。面この条件下でのフィルム表面温度Ｔｆは１５０
°Ｃに達していた。
ー）を前記スパッタ装置内にセットし、充分排気後、酸
素ガス圧０．０ＩＴｏｒｒ，周波数１３．５６ＭＨｚ、
放電電力１００ｗの条件下で３００秒プラズマ処理を施
した。面この条件下でのフィルム表面温度Ｔｆは１５０
°Ｃに達していた。
その後装置内にアルゴンガスを導入し、ガス圧３、０Ｘ
１０−’Ｔｏｒｒ，周波数１３周波数１３．５６放Ｉ電
力１００Ｗの条件下で銅を１μ付着させて、銅被覆プラ
スチックフィルムとした。
１０−’Ｔｏｒｒ，周波数１３周波数１３．５６放Ｉ電
力１００Ｗの条件下で銅を１μ付着させて、銅被覆プラ
スチックフィルムとした。
〔比較例２〕
厚さ２５μのポリエーテルエーテルケトン（三井東圧化
学製、商品名： ＴＡ Ｌ Ｐ Ａ−２０００）を前記
スパッタ装置内にセットし、充分排気後、酸素ガス圧０
．０ＩＴｏｒｒ，周波数１３．５６ＭＨｚ、放電電力２
００ ｗの条件下で３６０秒プラズマ処理を施した．尚
この条件下でフィルム表面温度は１５０°Ｃに達してい
た。
学製、商品名： ＴＡ Ｌ Ｐ Ａ−２０００）を前記
スパッタ装置内にセットし、充分排気後、酸素ガス圧０
．０ＩＴｏｒｒ，周波数１３．５６ＭＨｚ、放電電力２
００ ｗの条件下で３６０秒プラズマ処理を施した．尚
この条件下でフィルム表面温度は１５０°Ｃに達してい
た。
その後装置内にアルゴンガスを導入し、ガス圧３、０Ｘ
１０−３Ｔｏｒｒ，周波数１３．５６ＭＨｚ，放電電力
１００Ｗの条件下でアルミニウムを０．５μ付着させて
、アルミニウム被着プラスチックフィルムとした。
１０−３Ｔｏｒｒ，周波数１３．５６ＭＨｚ，放電電力
１００Ｗの条件下でアルミニウムを０．５μ付着させて
、アルミニウム被着プラスチックフィルムとした。
前記実施例１、２及び比較例１、２について、プラズマ
処理後のフィルム表面のぬれ性を水に対する接触角で、
又フィルム外観を目視で評価した。
処理後のフィルム表面のぬれ性を水に対する接触角で、
又フィルム外観を目視で評価した。
更に金属被着プラスチックフィルムの接着強度及び外観
を夫々１８０” Ｐｅｅ１強度法及び目視で評価し、こ
れらの結果をまとめて第１表に示した．尚１８０＠Ｐｅ
ｅ１強度法は、第２図に示すように、金属被着プラスチ
ックフィルムの金属薄膜１側の面に、エポキシ樹脂系接
着剤２を介してアルミニウム補強板３を接着させ、該ア
ルミニウム補強板３を固定して、金属被着プラスチック
フィルムを１８０”に折曲げて矢印方向に引張ることに
より、金属薄Ｉｌｌとプラスチックフィルム４との間の
剥離力を測定する方法である。
を夫々１８０” Ｐｅｅ１強度法及び目視で評価し、こ
れらの結果をまとめて第１表に示した．尚１８０＠Ｐｅ
ｅ１強度法は、第２図に示すように、金属被着プラスチ
ックフィルムの金属薄膜１側の面に、エポキシ樹脂系接
着剤２を介してアルミニウム補強板３を接着させ、該ア
ルミニウム補強板３を固定して、金属被着プラスチック
フィルムを１８０”に折曲げて矢印方向に引張ることに
より、金属薄Ｉｌｌとプラスチックフィルム４との間の
剥離力を測定する方法である。
第１表から明らかな様に、フィルム表面温度が本発明の
範囲内である実施例１及び２においては、金属薄膜の接
着性が優れていて、表面平滑性も良好な金属被着プラス
チックフィルムが得られているが、フィルム表面温度が
本発明の範囲よりも高い比較例１及び２においては、前
記フィルムの表面平滑性が損なわれ、又金属薄膜の接着
性も劣っている。
範囲内である実施例１及び２においては、金属薄膜の接
着性が優れていて、表面平滑性も良好な金属被着プラス
チックフィルムが得られているが、フィルム表面温度が
本発明の範囲よりも高い比較例１及び２においては、前
記フィルムの表面平滑性が損なわれ、又金属薄膜の接着
性も劣っている。
本発明の方法によれば、表面平滑性が良好で金属薄膜の
接着性も良好な金属被着プラスチックフィルムを製造す
ることが出来、工業上顕著な効果を奏するものである。
接着性も良好な金属被着プラスチックフィルムを製造す
ることが出来、工業上顕著な効果を奏するものである。
第１図はプラズマ処理時間及び放電電力がフィルム表面
温度に及ぼす影響を示す説明図、第２図は１８０°Ｐｅ
ｅ１強度法の概略説明図である。 １・・・金属薄膜、 ２・・・エポキシ樹脂系接着剤、
３・・・アルミニウム補強板、 ４・・・プラスチック
フィルム。 プラズマ処理時間ｔ（分） 第１図
温度に及ぼす影響を示す説明図、第２図は１８０°Ｐｅ
ｅ１強度法の概略説明図である。 １・・・金属薄膜、 ２・・・エポキシ樹脂系接着剤、
３・・・アルミニウム補強板、 ４・・・プラスチック
フィルム。 プラズマ処理時間ｔ（分） 第１図
Claims (1)
- プラスチックフィルム表面を低温プラズマで処理した後
、該プラスチックフィルム表面に金属薄膜を形成させる
に際して、プラズマ処理時のプラスチックフィルム表面
温度を該プラスチックフィルムのガラス転移温度以下に
保つことを特徴とする金属被着プラスチックフィルムの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10528287A JPS63270455A (ja) | 1987-04-28 | 1987-04-28 | 金属被着プラスチツクフイルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10528287A JPS63270455A (ja) | 1987-04-28 | 1987-04-28 | 金属被着プラスチツクフイルムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63270455A true JPS63270455A (ja) | 1988-11-08 |
Family
ID=14403318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10528287A Pending JPS63270455A (ja) | 1987-04-28 | 1987-04-28 | 金属被着プラスチツクフイルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63270455A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000273226A (ja) * | 1999-03-24 | 2000-10-03 | Matsushita Electric Works Ltd | 樹脂基材表面への金属膜形成方法 |
| JP2003034883A (ja) * | 2001-07-26 | 2003-02-07 | Matsushita Electric Works Ltd | 金属膜の形成方法 |
| JP2009074153A (ja) * | 2007-09-25 | 2009-04-09 | Sakae Riken Kogyo Co Ltd | 合成樹脂製成形体表面への導電性皮膜の形成方法 |
| WO2020145424A1 (ko) * | 2019-01-08 | 2020-07-16 | 주식회사 아이엠기술 | 강건성이 요구되는 플라스틱 외형의 금속코팅방법 |
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1987
- 1987-04-28 JP JP10528287A patent/JPS63270455A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000273226A (ja) * | 1999-03-24 | 2000-10-03 | Matsushita Electric Works Ltd | 樹脂基材表面への金属膜形成方法 |
| JP2003034883A (ja) * | 2001-07-26 | 2003-02-07 | Matsushita Electric Works Ltd | 金属膜の形成方法 |
| JP2009074153A (ja) * | 2007-09-25 | 2009-04-09 | Sakae Riken Kogyo Co Ltd | 合成樹脂製成形体表面への導電性皮膜の形成方法 |
| WO2020145424A1 (ko) * | 2019-01-08 | 2020-07-16 | 주식회사 아이엠기술 | 강건성이 요구되는 플라스틱 외형의 금속코팅방법 |
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