JPWO2019187929A1 - 構造体、加飾フィルム及び加飾フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】金属的な外観を有しつつも電波を透過可能な意匠性の高い構造体、加飾フィルム及び加飾フィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】本技術に係る構造体は、加飾部と部材とを具備する。上記加飾部は、絶縁性金属層と、上記絶縁性金属層の意匠面側に隣接し、可視光領域で光透過性を有し、上記絶縁性金属層による反射光に対して干渉を生じさせる色相調整層とを含む。上記部材は、上記加飾部が接着される被加飾領域を有する。【選択図】図２

Description

本技術は、電子機器や車両等に適用可能な構造体、加飾フィルム及び加飾フィルムの製造方法に関する。

従来、電子機器等の筐体部品として、金属的な外観を有しつつも電波を透過可能である部材が考案されている。例えば特許文献１には、無機材料からなる高屈折率膜と低屈折率膜を交互に積層し、所定のフィルター特性を有する光学多層膜が開示されている。光学多層膜には金属が使用されないため、電波は透過可能である。

また、特許文献２及び３には、屈折率が異なる樹脂層を交互に多数積層することにより、選択的に特定の波長の光を反射するフィルムが開示されている。このフィルムには金属が使用されないため、電波は透過可能である。

また、特許文献４には、金属色を呈する窒化チタン層上に透明かつ干渉色を呈する窒化アルミニウム層を積層した成形品が開示されている。金属色かつ虹色の干渉色を呈する美観とすることが可能とされている。

また、特許文献５には錫及び／又は錫合金からなる光輝装飾層を備える成形品が開示されている。光輝装飾層を多層の構成とすることにより、金属色かつ虹色の干渉色を呈する美観とすることが可能とされている。

また、特許文献６には、塗膜を形成する塗料組成物が開示されている。この塗膜上に錫やインジウム等の金属蒸着膜を形成すると、虹彩色模様を発現することが可能とされている。

また、特許文献７には、無機薄膜層上に金属薄膜層を積層したドア開閉装置が開示されている。金属薄膜層を形成する金属粒子は無機薄膜層上において離間した島状の集合体を形成し、金属光沢を有する美観と絶縁性を実現可能とされている。

特開２００５−１２６８１３号公報 特開平３−４１４０１号公報 特開２００９−２６２４６６号公報 特開２００５−５５３２９号公報 特開２００５−２１２７４５号公報 特開２０１３−２４１５８３号公報 特開２０１２−２２５０４１号公報

しかしながら、引用文献１に記載の光学多層膜では、所望の光学特性を得るために２０層以上を積層する必要があり、生産性に問題がある。また、特許文献２及び３に記載のフィルムでは、金属調の光沢を得るために５０層以上を積層する必要があり、生産性に問題がある。さらに、樹脂層が紫外線の影響により劣化するおそれがある共に、成形時に樹脂層が部分的に歪み、膜厚の変化による色ムラが生じるおそれがある。

また、引用文献４に記載の成形品では、金属を蒸着後、金属に対して窒化、酸化又は炭化を行っているが、窒化、酸化又は炭化が完全に行われるわけではなく、一部は金属として残り、完全な絶縁膜とはならない。このため、蒸着膜がない場合に比べ、電波透過性が低下する。

また、引用文献５に記載の成形品では、光輝装飾層が錫及び／又は錫合金からなるため、アルミニウムに比べて反射率が低く、光輝性に乏しい。また、光輝装飾層を厚くすると絶縁性が失われ、電波透過性が低下する。

また、引用文献６に記載の塗料組成物では、金属蒸着膜は錫やインジウムに限られるため、アルミニウムに比べて反射率が小さく、光輝性に乏しい。

以上のような事情に鑑み、本技術の目的は、金属的な外観を有しつつも電波を透過可能な意匠性の高い構造体、加飾フィルム、構造体の製造方法、及び加飾フィルムの製造方法を提供することにある。

上記目的を達成するため、本技術の一形態に係る構造体は、加飾部と、部材とを具備する。
上記加飾部は、絶縁性金属層と、上記絶縁性金属層の意匠面側に隣接し、可視光領域で光透過性を有し、上記絶縁性金属層による反射光に対して干渉を生じさせる色彩調整層とを含む。
上記部材は、上記加飾部が接着される被加飾領域を有する。

この構成によれば、意匠面側から入射した光は絶縁性金属層によって反射され、色彩調整層によって生じる干渉によって色彩が調整される。また、絶縁性金属層は電波を遮蔽しないため、金属調の外観を有しつつも電波を透過可能な意匠性の高い構造体を実現することができる。

上記絶縁性金属層は、微細なクラックを有するものであってもよい。

微細なクラックを設けることにより、絶縁性金属層は、面抵抗値がほぼ絶縁状態となり、電波が絶縁性金属層を透過する際に渦電流が発生することが防止される。これにより、渦電流損失による電磁波エネルギーの低減が十分に抑制され、電波は高い透過率で絶縁性金属層を透過する。

上記絶縁性金属層は、アルミニウム、チタン、クロム、銀及びこれらの少なくともいずれか一つを含む合金のうちのいずれかからなるものであってもよい。

アルミニウム、チタン、クロム、銀及びこれらの合金からなる金属膜は、高い光反射率を有するが電波を遮蔽する。このため、金属膜に微細クラックを設けて絶縁性金属層とすることにより、高い光反射率を有しながら、電波を透過する層とすることが可能である。

上記絶縁性金属層は、金属の不連続膜であってもよい。

特定の金属は、所定の膜厚以下の厚みで成膜することにより、金属不連続膜を形成し、絶縁性金属層とすることが可能である。この場合、微細なクラックを設けることなく、電波を透過する層とすることが可能である。

上記絶縁性金属層は、インジウム、スズ及びこれらの少なくともいずれか一つを含む合金のうちのいずれかからなるものであってもよい。

インジウム、スズ及びこれらの合金は所定の膜厚以下の厚みで成膜することにより、金属不連続膜を形成するため、絶縁性金属層とすることが可能である。

上記色彩調整層は、シリコン、シリコン酸化物、シリコン窒化物、金属酸化物又は金属窒化物からなるものであってもよい。

シリコン、シリコン酸化物、シリコン窒化物、金属酸化物又は金属窒化物は、絶縁性金属層による反射光に対して干渉を生じるため、色彩調整層として利用することが可能である。

上記色彩調整層は、上記絶縁性金属層のモース硬度より高いモース硬度を有するものであってもよい。

色彩調整層のモース硬度を絶縁性金属層のモース硬度より高くし、即ち色彩調整層の破断強度を絶縁性金属層の破断強度より小さくすることにより、色彩調整層を先に破断させ、絶縁性金属層のクラックを誘発させるクラック誘発層として機能させることが可能となる。

上記色彩調整層の厚みは１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であってもよい。

色彩調整層の厚みが１０ｎｍ未満であると色彩調整層による干渉が生じにくく、３００ｎｍを超えると光透過率が小さくなる。このため、色彩調整層の厚みは１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下が好適である。

上記絶縁性金属層の厚みは１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下あってもよい。

絶縁性金属層の厚みが１０ｎｍ未満であると入射光が透過するため、光反射率が低下し、３００ｎｍを超えると表面が荒れて光反射率が小さくなる。このため、絶縁性金属層の厚みは１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下が好適である。

上記絶縁性金属層のクラック片は長辺が１μｍ以上５００μｍ以下であってもよい。

クラック片の長辺が１μｍ未満であると、微細クラックに対するクラック片の面積比が小さくなって光反射率が低下し、クラック片の長辺が５００μｍを超えると電波透過率が低下するため、絶縁性金属層のクラック片は長辺が１μｍ以上５００μｍ以下が好適である。

上記構造体は、上記絶縁性金属層のクラック片を固定する接着層をさらに具備してもよい。

接着層によって絶縁性金属層のクラック片を固定し、クラック片の剥離を防止することが可能である。

上記構造体は、筐体部品、車両又は建築物の少なくとも一部であってもよい。

本技術を適用することによって、金属的な外観を有しつつも電波を透過可能な意匠性の高い筐体部品、車両、及び建築物を実現することが可能となる。

上記目的を達成するため、本技術の一形態に係る加飾フィルムは、ベースフィルムと、絶縁性金属層と、色彩調整層とを具備する。
上記色彩調整層は、上記絶縁性金属層の意匠面側に隣接し、可視光領域で光透過性を有し、上記絶縁性金属層による反射光に対して干渉を生じさせる。

上記絶縁性金属層は、微細なクラックを有するものであってもよい。

上記目的を達成するため、本技術の一形態に係る加飾フィルムの製造方法は、ベースフィルムと、金属層と、上記金属層より高いモース硬度を有し、上記金属層に隣接し、可視光領域で光透過性を有し、上記絶縁性金属層による反射光に対して干渉を生じさせる色彩調整層とを備える積層フィルムを形成し、上記積層フィルムを延伸し、上記金属層及び上記色彩調整層に微細なクラックを生じさせ、上記金属層を絶縁性金属層とする。

以上のように、本技術によれば、金属的な外観を有しつつも電波を透過可能な意匠性の高い構造体、加飾フィルム、構造体の製造方法、及び加飾フィルムの製造方法を提供することが可能である。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果であってもよい。

本技術の第１実施形態に係る携帯端末の斜視図である。 同携帯端末が備える金属加飾部の断面図である。 同金属加飾部が備える絶縁性金属層の平面図である。 同金属加飾部を形成するための加飾フィルムの断面図である。 アルミニウムとスズの反射率波長分散を示すグラフである。 単層のシリコンと反射率波長分散を示すグラフである。 単層のシリコンの反射光の色彩を示す表である。 厚み６０ｎｍのアルミニウム上に単層のシリコンを積層した積層体の反射率波長分散を示すグラフである。 同積層体の反射光の色彩を示す表である。 厚み６０ｎｍのアルミニウム上に単層のＳｉＯ_ｘ（酸化度０．２）を積層した積層体の反射率波長分散を示すグラフである。 同積層体の反射光の色彩を示す表である。 厚み６０ｎｍのアルミニウム上に単層のＳｉＯ_ｘ（酸化度０．５）を積層した積層体の反射率波長分散を示すグラフである。 同積層体の反射光の色彩を示す表である。 本技術の第１の実施形態に係る加飾フィルムとなる積層フィルムの模式図である。 同積層フィルムの金属層に微細クラックが形成された状態を示す模式図である。 同積層フィルムの延伸に用いる２軸延伸装置の模式図である。 本技術の第１実施形態に係る金属加飾部を形成するインモールド成形法を示す模式図である。 同金属加飾部が備える絶縁性金属層の微細クラックのサイズを示す模式図である。 本技術の第２実施形態に係る金属加飾部の模式図である。 同金属加飾部を形成するための加飾フィルムの断面図である。 本技術の第３実施形態に係る金属加飾部の断面図である。 同金属加飾部を形成するための加飾フィルムの断面図である。 同金属加飾部を形成するインサート成形法を示す模式図である。 本技術の変形例に係る加飾フィルムの断面図である。

（第１の実施形態）
本技術の第１の実施形態について説明する。

［電子機器の構成］
図１は、本技術の一実施形態に係る電子機器としての携帯端末の構成例を示す概略図である。図１Ａは、携帯端末１００の正面側を示す正面図であり、図１Ｂは、携帯端末１００の背面側を示す斜視図である。

携帯端末１００は、筐体部１０１と、筐体部１０１内に収容される図示しない電子部品とを有する。図１Ａに示すように筐体部１０１の前面側である前面部１０２には、通話部１０３と、タッチパネル１０４と、対面カメラ１０５とが設けられる。通話部１０３は、電話の相手と通話するために設けられ、スピーカ部１０６及び音声入力部１０７を有する。スピーカ部１０６から相手の音声が出力され、音声入力部１０７を介してユーザの声が相手側に送信される。

タッチパネル１０４には、種々の画像やＧＵＩ（Graphical User Interface）が表示される。ユーザは、タッチパネル１０４を介して静止画や動画を閲覧可能である。またユーザは、タッチパネル１０４を介して種々のタッチ操作を入力する。対面カメラ１０５は、ユーザの顔等を撮影するときに用いられる。各デバイスの具体的な構成は限定されない。

図１Ｂに示すように、筐体部１０１の背面側である背面部１０８には、金属的な外観となるように加飾された金属加飾部１０が設けられる。金属加飾部１０は、金属的な外観を有しつつも電波を透過することが可能である。

後に詳しく説明するが、背面部１０８の所定の領域に被加飾領域１１が形成される。当該被加飾領域１１に加飾フィルム１２が接着されることで、金属加飾部１０が構成される。したがって被加飾領域１１は、金属加飾部１０が形成される領域に相当する。

本実施形態では、加飾フィルム１２が、加飾部に相当する。また被加飾領域１１が形成される筐体部１０１が部材に相当する。被加飾領域１１を有する筐体部１０１と、被加飾領域１１に接着される加飾フィルム１２とにより、本技術に係る構造体が筐体部品として構成される。なお筐体部品の一部に、本技術に係る構造体が用いられる場合もあり得る。

図１Ｂに示す例では、背面部１０８の略中央に部分的に金属加飾部１０が形成される。金属加飾部１０が形成される位置は限定されず適宜設定されてよい。例えば背面部１０８全体に金属加飾部１０が形成されてもよい。これにより背面部１０８の全体を一様に金属的な外観とすることが可能である。

金属加飾部１０の周囲の他の部分を金属加飾部１０と略等しい外観とすることで、背面部１０８の全体を一様に金属的な外観とすることも可能である。その他、金属加飾部１０以外の部分は木目調等の他の外観にすることで、意匠性を向上させることも可能である。ユーザが所望する意匠性が発揮されるように、金属加飾部１０の位置や大きさ、その他の部分の外観等が適宜設定されればよい。

被加飾領域１１に接着される加飾フィルム１２は、意匠面１２ａを有する。意匠面１２ａは、携帯端末１００を使用するユーザが視認可能な面であり、筐体部１０１の外観（デザイン）を構成する要素の１つとなる面である。本実施形態では、背面部１０８の表面側に向けられる面が、加飾フィルム１２の意匠面１２ａとなる。すなわち被加飾領域１１に接着される接着面１２ｂ（図２参照）とは反対側の面が、意匠面１２ａとなる。

筐体部１０１内に収容される電子部品として、本実施形態では、外部のリーダーライタ等と電波を介して通信することが可能なアンテナ部１５（図２参照）が収容される。アンテナ部１５は、例えばベース基板（図示なし）、ベース基板上に形成されたアンテナコイル１６（図２参照）、及びアンテナコイル１６に電気的に接続される信号処理回路部（図示なし）等を有する。アンテナ部１５の具体的な構成は限定されない。なお筐体部１０１に収容される電子部品として、ＩＣチップやコンデンサ等の種々の電子部品が収容されてよい。

［金属加飾部の構成］
図２は、金属加飾部１０の構成を示す模式的な断面図である。上記したように金属加飾部１０は、アンテナ部１５等の位置に応じた領域に形成された被加飾領域１１と、被加飾領域１１に接着される加飾フィルム１２とで構成される。

加飾フィルム１２は、接着層１２１、絶縁性金属層１２２、色彩調整層１２３、易接着層１２４及び保護層１２５を備える。

接着層１２１は、加飾フィルム１２を被加飾領域１１に接着する。接着層１２１の材料は特に限定されず、例えば熱可塑性樹脂とすることができる。また、後述するように絶縁性金属層１２２及び色彩調整層１２３にはクラックが設けられており、接着層１２１はこのクラックの内部に入り込み、絶縁性金属層１２２及び色彩調整層１２３のクラック片を固定する固定層としても機能する。

絶縁性金属層１２２は、金属加飾部１０を金属的な外観とするための層である。絶縁性金属層１２２には、多数の微細なクラック（以下、微細クラックと記載する）１２２ａが形成されている。図３は絶縁性金属層１２２を層面方向に対して垂直な方向から図である。

同図に示すように絶縁性金属層１２２は微細クラック１２２ａによって多数のクラック片１２２ｂに分割されている。これにより、絶縁性金属層１２２は、面抵抗値がほぼ絶縁状態となり、電波が加飾フィルム１２を透過する際に絶縁性金属層１２２において渦電流が発生することが防止される。この結果、渦電流損失による電磁波エネルギーの低減が十分に抑制され、電波は高い透過率で加飾フィルム１２を透過する。

なお、クラック片１２２ｂの形状は図３に示すものに限られず、よりランダム性の高いものであってもよい。

絶縁性金属層１２２の材料は、高い光反射率を有するものが好適であり、アルミニウム、チタン、クロム及び銀のいずれか、又はアルミニウム、チタン、クロム及び銀の少なくとも一つを含む合金とすることができる。

絶縁性金属層１２２の厚みは、１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下が好適である。絶縁性金属層１２２の厚みが１０ｎｍ未満だと入射光が絶縁性金属層１２２を透過して光反射率が低下し、絶縁性金属層１２２の厚みが３００ｎｍを超えると絶縁性金属層１２２の表面が荒れ、光反射率が低下するためである。

色彩調整層１２３は、絶縁性金属層１２２の意匠面１２ａ側に隣接し、可視光領域で光透過性を有し、絶縁性金属層１２２による反射光に対して干渉を生じさせる。これにより、干渉による構造色によって金属加飾部１０の色彩を調整することができる。

色彩調整層１２３は単層膜とすることができる。仮に絶縁性金属層１２２が設けられない場合、金属加飾部１０を金属調とするためには、色彩調整層１２３を多層とし、反射率を高める必要がある。これに対し、加飾フィルム１２が絶縁性金属層１２２を備えることにより、色彩調整層１２３を単層膜としても高い反射率と色彩の両立が可能である。

色彩調整層１２３の材料は、可視光領域で光透過性を有し、絶縁性金属層１２２による反射光に対して干渉を生じさせる材料であればよく、シリコン、シリコン酸化物、シリコン窒化物、金属酸化物又は金属窒化物からなるものとすることができる。

上記金属酸化物としては、酸化コバルト（Ｃｏ_３Ｏ_４）、酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）、酸化鉄（Ｆｅ₂Ｏ₃）、酸化クロム（Ｃｒ₂Ｏ₃）、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）、酸化チタン（ＴｉＯ₂）又は酸化マグネシウム（ＭｇＯ）等を利用することができる。

上記金属窒化物としては、窒化ホウ素（ＢＮ）又は窒化チタン（ＴｉＮ）等を利用することができる。

また、色彩調整層１２３には微細なクラック（以下、微細クラックと記載する）１２３ａが形成されている。微細クラック１２３ａは、図２に示すように、絶縁性金属層１２２に設けられた微細クラック１２２ａに連続するクラックである。

色彩調整層１２３を、絶縁性金属層１２２より引張破断強度が小さい層とすることにより、加飾フィルム１２の製造工程において先に色彩調整層１２３に微細クラック１２３ａが生じる。この微細クラック１２３ａを起点として、絶縁性金属層１２２に微細クラック１２２ａを誘発させることができる。即ち、色彩調整層１２３はクラック誘発層としても機能させることができる。

色彩調整層１２３の引張破断強度を絶縁性金属層１２２より小さくするためには、色彩調整層１２３のモース硬度を絶縁性金属層１２２のモース硬度より高くすればよい。以下に各種材料のモース硬度を示す。

アルミニウム（Ａｌ）：モース硬度 約２．５
クロム（Ｃｒ）：モース硬度 約９
シリコン（Ｓｉ）：モース硬度 約７
チタン（Ｔｉ）：モース硬度 約６
コバルト（Ｃｏ）：モース硬度 約５．５
鉄（Ｆｅ）：モース硬度 約４．５
ニッケル（Ｎｉ）：モース硬度 約３．５
酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）：モース硬度 約９
酸化鉄（Ｆｅ₂Ｏ₃）：モース硬度 約６
酸化クロム（Ｃｒ₂Ｏ₃）：モース硬度 約６
酸化セリウム（ＣｅＯ₂）：モース硬度 約６
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）：モース硬度 約６
酸化チタン（ＴｉＯ₂）：モース硬度 約５．５
酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）：モース硬度 約７
酸化マグネシウム（ＭｇＯ）：モース硬度 約６．５
窒化ホウ素（ＢＮ）：モース硬度 約９
窒化チタン（ＴｉＮ）：モース硬度 約９
炭化ケイ素（ＳｉＣ）：モース硬度 約９．５
炭化ホウ素（Ｂ₄Ｃ）：モース硬度 約９

上記モース硬度から、例えば絶縁性金属層１２２がアルミニウムからなる場合、色彩調整層１２３は酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化クロム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、窒化チタン、炭化ケイ素、又は炭化ホウ素からなるものとすることができる。

また例えば絶縁性金属層１２２がチタンからなる場合、色彩調整層１２３は酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、窒化チタン、炭化ケイ素、又は炭化ホウ素からなるものとすることができる。

また例えば絶縁性金属層１２２がクロムからなる場合、色彩調整層１２３は炭化ケイ素からなるものとすることができる。

なお、色彩調整層１２３をクラック誘発層として利用しないことも可能であり、色彩調整層１２３は微細クラック１２３ａを有しないものであってもよい。この場合、色彩調整層１２３のモース硬度は絶縁性金属層１２２のモース硬度より小さくてもよい。

色彩調整層１２３の厚みは１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下が好適である。色彩調整層１２３の厚みが１０ｎｍ未満の場合には干渉が生じにくく、色彩調整層１２３の厚みが３００ｎｍを超える場合には色彩調整層１２３の光透過率が小さくなるためである。また、色彩調整層１２３は３００ｎｍ以下の厚みで各色への色彩の調整が可能であり、３００ｎｍを超える厚みとする必要がない。

さらに、色彩調整層１２３厚み及び材料組成（酸化度等）は色彩調整層１２３の面内において均一でなくてもよく、面内で厚み又は材料組成の分布を調整することにより、虹色の色彩を呈するものとすることも可能である。

易接着層１２４は、保護層１２５を色彩調整層１２３に接着する層である。易接着層１２４は接着性及び光透過性を有するものであればよい。

保護層１２５は、加飾フィルム１２の各層を保護する層（ハードコート層）である。保護層１２５は、光透過性を有するものであればよく、ＵＶ硬化性樹脂、熱硬化性樹脂又は２液硬化性樹脂等かなるものとすることができる。保護層１２５によって平滑化、防汚、剥離防止、傷防止等が実現される。なお保護層１２５として、アクリル樹脂等がコーティングされてもよい。また、保護層１２５として非塩化ビニル系の材料を選択することで、金属の腐食の防止に有利である。

保護層１２５の表面、即ち易接着層１２４とは反対側の面が加飾フィルム１２の意匠面１２ａとなる。また、意匠面１２ａや保護層１２５の下面には印刷層等が形成されてもよい。

金属加飾部１０は以上のような構成を有する。上述のように金属加飾部１０は、筐体部１０１の被加飾領域１１に加飾フィルムが転写されたものとすることができる。以下この転写用の加飾フィルムについて説明する。

［転写用加飾フィルムの構成］
図４は転写用の加飾フィルム１５０の構成を示す模式的な断面図である。加飾フィルム１５０の構成において上記加飾フィルム１２と同一の構成については加飾フィルム１２と同一の符号を付し、説明を省略する。

同図に示すように、加飾フィルム１５０は、接着層１２１、絶縁性金属層１２２、色彩調整層１２３、易接着層１２４、保護層１２５、離型層１５１及びベースフィルム１５２を備える。

離型層１５１は、保護層１２５に積層され、保護層１２５とベースフィルム１５２を接着する層である。離型層１５１は比較的接着力の小さい接着材料からなる。

ベースフィルム１５２は、加飾フィルム１５０の各層の支持体となる層である。ベースフィルム１５２は、典型的には樹脂フィルムが用いられる。ベースフィルム１５２の材料としては、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）、又はＰＰ（ポリプロピレン）等が用いられる。その他の材料が用いられてもよい。

加飾フィルム１５０は以上のような構成を有する。加飾フィルム１５０が接着層１２１によって被加飾領域１１に貼付され、離型層１５１及びベースフィルム１５２が剥離されると、図２に示す金属加飾部１０が形成される。

［金属加飾部の効果について］
金属加飾部１０では、上述のように、入射光は絶縁性金属層１２２によって反射され、その反射光は色彩調整層１２３による干渉によって色彩が調整される。

絶縁性金属層１２２は微細クラック１２２ａによって層面方向において絶縁され、電波の透過を防止する。このため、絶縁性金属層１２２の材料として通常であれば導電性を有する材料を利用することができ、アルミニウム等の光反射率の高い金属を利用することが可能である。

図５は、アルミニウム（厚み６０ｎｍ）とスズ（厚み６０ｎｍ）の反射率波長分散を示すグラフである。同図に示すようにアルミニウムは広い波長帯域において高い光反射率を有する。

色彩調整層１２３による色彩調整について、図６は、単層のシリコンと反射率波長分散を示すグラフであり、図７は反射光の色彩を示す表である。同図に示すようにシリコンは厚みによって各波長の反射率が異なり、反射光の色彩が各色に変化する。一方でシリコンの光反射率は最大でも６０％以下である。

図８は、厚み６０ｎｍのアルミニウム上に単層のシリコンを積層した積層体の反射率波長分散を示すグラフであり、図９は反射光の色彩を示す表である。同図に示すようにアルミニウム上にシリコンを積層すると、アルミニウムの高い光反射率によって光反射率が向上する。また、シリコンの厚みによる反射光の色彩の変化も生じる。

図１０は、厚み６０ｎｍのアルミニウム上に単層のＳｉＯ_ｘ（酸化度０．２）を積層した積層体の反射率波長分散を示すグラフであり、図１１は反射光の色彩を示す表である。また、図１２は、厚み６０ｎｍのアルミニウム上に単層のＳｉＯ_ｘ（酸化度０．５）を積層した積層体の反射率波長分散を示すグラフであり、図１３は反射光の色彩を示す表である。

図１０乃至図１３に示すように、ＳｉＯ_ｘの酸化度によっても反射率波長分散が変化し、高い光反射率を実現しながら色彩を調整することが可能である。

このように、金属加飾部１０では、絶縁性金属層１２２による高い光反射率と、色彩調整層１２３による色彩の調整が可能であり、電波透過性を有しながら金属調の外観を有する意匠性の高い構造体を実現することが可能である。

［加飾フィルムの製造方法］
加飾フィルム１５０の製造方法について説明する。加飾フィルム１５０の製造方法においては、まず積層フィルムを準備する。図１４は、積層フィルム１６０の構成を示す模式図である。同図に示すように、接着層１２１、金属層１６１、色彩調整層１６２、易接着層１２４、保護層１２５、離型層１５１及びベースフィルム１５２を積層し、積層フィルム１６０を作成する。

積層フィルム１６０の作成方法は特に限定されないが、色彩調整層１６２及び金属層１６１はロールツーロール方式又はバッチ方式の蒸着プロセス等によって成膜することが可能である。

続いて積層フィルム１６０を延伸し、積層フィルム１６０に張力を印加する。図１５は延伸後の積層フィルム１６０の構成を示す模式図である。色彩調整層１６２の材料のモース硬度を金属層１６１のモース硬度より高くし、即ち色彩調整層１６２の引張破断強度を金属層１６１の引張破断強より小さくすると、色彩調整層１６２が金属層１６１より先に破断し、色彩調整層１６２に微細クラック１６２ａが形成される。

すると、色彩調整層１６２の破断によって金属層１６１の破断が誘発され、金属層１６１にも微細クラック１６１ａが形成される。これにより、金属層１６１が破断強度の高い材料からなる場合であっても、より小さい張力で金属層１６１に微細クラック１６１ａを形成することが可能である。

このようにして色彩調整層１６２から色彩調整層１２３が形成され、金属層１６１から絶縁性金属層１２２が形成される（図４参照）。接着層１２１は、加熱等によって微細クラック１２２ａ及び微細クラック１２３ａに流入し、色彩調整層１２３及び絶縁性金属層１２２のクラック片を固定する。加飾フィルム１５０は以上のようにして製造することが可能である。

なお、積層フィルム１６０の延伸は例えば次に示すような２軸延伸装置を用いて行うことができる。図１６は、２軸延伸装置の構成を示す模式図である。２軸延伸装置５００は、ベース部材５０１と、ベース部材５０１上に配置される、互いに略等しい構成を有する４つの延伸機構５０２を有する。

４つの延伸機構５０２は、互いに直交する２軸（ｘ軸及びｙ軸）の各々に２つずつ、各軸上で互いに対向するように配置される。以下、ｙ軸方向の矢印の反対向きに積層フィルム１６０を延伸する延伸機構５０２ａを参照しながら説明を行う。

延伸機構５０２ａは、固定ブロック５０３と、可動ブロック５０４と、複数のクリップ５０５とを有する。固定ブロック５０３は、ベース部材５０１に固定される。固定ブロック５０３には、延伸方向（ｙ方向）に延在する延伸ネジ５０６が貫通されている。

可動ブロック５０４は、ベース部材５０１に移動可能に配置される。可動ブロック５０４は、固定ブロック５０３を貫通する延伸ネジ５０６に接続される。従って延伸ネジ５０６が操作されることで、可動ブロック５０４がｙ方向に移動可能となる。

複数のクリップ５０５は、延伸方向に直交する方向（ｘ方向）に沿って並べられる。複数のクリップ５０５の各々には、ｘ方向に延在するスライドシャフト５０７が貫通している。

各クリップ５０５は、スライドシャフト２５０７に沿ってｘ方向における位置を変更可能である。複数のクリップ５０５の各々と、可動ブロック５０４とは、連結リンク５０８及び連結ピン５０９により連結されている。

延伸ネジ５０６の操作量によって、延伸率が制御される。また複数のクリップ５０５の数や位置、連結リンク５０８の長さ等を適宜設定することでも、延伸率の制御が可能である。なお２軸延伸装置５００の構成は限定されない。

本実施形態に係る２軸延伸装置５００は、フィルムをフルカットされた枚葉で２軸延伸するものであるが、ロールで連続して２軸延伸することも可能である。例えばロール間の走行方向による張力と、ロール間に設けられた走行に同期して動くクリップ５０５により走行方向に直角な張力を与えることにより、連続した２軸延伸が可能となる。

ベース部材５０１上に積層フィルム１６０を配置し、４つ辺の各々に延伸機構５０２の複数のクリップ５０５が取り付けられる。図示しない温調された加熱ランプ又は温調された熱風により積層フィルム１６０が加熱されている状態で、４つの延伸ネジ５０６を操作し２軸延伸を行う。

例えば、各軸方向における延伸率は２％、基板加熱温度は１３０℃の条件とすることができる。延伸率が低すぎると適正な微細クラックが形成されず、金属層１６１が導電性を有してしまう。この場合、渦電流等の影響により、十分な電波透過性が発揮されない。一方で、延伸率が大きすぎると、ベースフィルム１５２へのダメージが大きくなる。

その結果、加飾フィルム１２を被加飾領域１１に接着する際に、エアの噛み込みやしわの発生等により、歩留りが悪化してしまう可能性がある。またベースフィルム１５２や金属層１６１自体の変形により、金属加飾部１０の意匠性が低下してしまうこともある。

本実施形態に係る積層フィルム１６０では、各軸の方向において２％以下のという低い延伸率にて、微細クラックを適正に形成することができる。これによりベースフィルム１５２へのダメージを十分に防止することが可能となり、歩留を向上させることができる。

また加飾フィルム１２が接着された金属加飾部１０の意匠性を高く維持することができる。もちろん延伸率は適宜設定可能であり、上記のような不具合が発生しないのであれば、２％以上の延伸率が設定されてもよい。

［構造体の製造方法］
金属加飾部１０を備える筐体部１０１の製造方法について説明する。金属加飾部１０を備える筐体部１０１はインモールド成形法によって製造することが可能である。

図１７は、インモールド成形法を説明するための模式的な図である。インモールド成形は、図１７に示すようなキャビティ型６０１とコア型６０２とを有する成形装置６００により行われる。図１７Ａに示すように、キャビティ型６０１には、筐体部１０１の形状に応じた凹部６０３が形成されている。

加飾フィルム１５０は、ベースフィルム１５２が凹部６０３側となり、凹部６０３を覆うように配置される。加飾フィルム１５０は、例えばロールツーロール方式によって、成形装置６００の外部から供給される。

図１７Ｂに示すように、キャビティ型６０１とコア型６０２とがクランプされ、コア型６０２に形成されたゲート部６０６を介して、凹部６０３に成形樹脂Ｒが射出される。成形樹脂Ｒは、筐体部１０１の材料となる樹脂である。

キャビティ型６０１には、成形樹脂Ｒが供給されるスプルー部６０８と、これに連結するランナー部６０９とが形成されている。キャビティ型６０１とコア型６０２とがクランプされると、ランナー部６０９とゲート部６０６とが連結される。

これによりスプルー部６０８に供給された成形樹脂Ｒが、凹部６０３に射出される。なお成形樹脂Ｒを射出するための構成は限定されない。

成形樹脂Ｒとしては、例えばＡＢＳ（アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン）樹脂等の汎用樹脂、ＰＣ樹脂、ＡＢＳとＰＣの混合樹脂等のエンジニアリングプラスチック等が用いられる。これらに限定されず、所望の筐体部１０１が得られるように、成形樹脂Ｒの材料や色（透明度）が適宜選択されてよい。

成形樹脂Ｒは、高温で溶かされた状態で凹部６０３に射出される。成形樹脂Ｒは、凹部６０３の内面を押圧するように射出される。この際、凹部６０３に配置された加飾フィルム１５０は成形樹脂Ｒにより押圧されて変形する。

成形樹脂Ｒの熱により、加飾フィルム１５０に形成された接着層１２１が溶かされ、成形樹脂Ｒの表面に加飾フィルム１２が接着される。

成形樹脂Ｒが射出された後、キャビティ型６０１及びコア型６０２は冷却され、クランプが解除される。この際、ベースフィルム１５２は、離型層１５１と共に剥離される。コア型６０２には、加飾フィルム１２が転写された成形樹脂Ｒが付着している。

当該成形樹脂Ｒが取り出されることで、所定の領域に金属加飾部１０が形成された筐体部１０１が製造される。インモールド成形法を用いることで、加飾フィルム１２の位置合わせが容易となり、容易に金属加飾部１０を形成することができる。また筐体部１０１の形状の設計自由度が高く、種々の形状を有する筐体部１０１を製造することができる。

なお筐体部１０１の内側に収容されるアンテナ部１５が、筐体部１０１の成形時にインモールド成形法により取り付けられてもよい。あるいは筐体部１０１の成形後に、筐体部１０１の内側にアンテナ部１５が貼り付けられてもよい。また、筺体内部にアンテナ部１５が内蔵される場合もあり得る。

なお、金属加飾部１０を備える筐体部１０１の製造方法はここに示すものに限られず、他の製造方法によって金属加飾部１０を備える筐体部１０１を製造することも可能である。

［クラック片のサイズについて］
絶縁性金属層１２２のクラック片１２２ｂのサイズについて説明する。図１８は、絶縁性金属層１２２の模式図であり、図３の拡大図である。同図に示すように個々のクラック片１２２ｂの最長辺の長さをクラック片サイズＴとすると、クラック片サイズＴは１μｍ以上５００μｍ以下が好適である。

クラック片サイズＴが１μｍ未満であると、微細クラック１２２ａに対するクラック片１２２ｂの面積が小さすぎ、金属加飾部１０に金属光沢が生じない。また、クラック片サイズＴが５００μｍを超えると、絶縁性金属層１２２を電波が透過する際に渦電流が発生し、電波の透過率が低下する。したがって、クラック片サイズＴは１μｍ以上５００μｍ以下が好適である。

（第２の実施形態）
本技術の第２の実施形態について説明する。なお、本実施形態において、第１の実施形態と同一の構成については第１の実施形態と同一の符号を付し、説明を省略する。

本実施形態に係る加飾フィルム２２（図１９参照）は、第１の実施形態と同様に携帯端末１００（図１参照）の筐体部１０１が備える被加飾領域１１に接着され、金属加飾部２０を形成する。

即ち、被加飾領域１１を有する筐体部１０１と、被加飾領域１１に接着される加飾フィルム２２とにより、本技術に係る構造体が筐体部品として構成される。なお筐体部品の一部に、本技術に係る構造体が用いられる場合もあり得る。

［金属加飾部の構成］
図１９は、本実施形態に係る金属加飾部２０の構成を示す模式的な断面図である。同図に示すように金属加飾部２０は、アンテナ部１５等の位置に応じた領域に形成された被加飾領域１１と、被加飾領域１１に接着される加飾フィルム２２とで構成される。加飾フィルム２２において、被加飾領域１１に接着される面を接着面２２ａとする。

本実施形態において筐体部１０１は、ガラス又は合成樹脂等の光透過性部材であり、筐体部１０１の加飾フィルム２２とは反対側の面が意匠面１０１ａである。意匠面１０１ａは、携帯端末１００を使用するユーザが視認可能な面であり、筐体部１０１の外観を構成する要素の１つとなる面である。

筐体部１０１の加飾フィルム２２側が携帯端末１００の内部であり、アンテナ部１５は、加飾フィルム２２の背面側（筐体部１０１とは反対側）に配置される。

図１９に示すように、加飾フィルム２２は、接着層２２１、色彩調整層２２２、絶縁性金属層２２３、易接着層２２４及び保護層２２５を備える。色彩調整層２２２と絶縁性金属層２２３は、第１の実施形態とは異なり、色彩調整層２２２が筐体部１０１側となるように積層されている。

接着層２２１は、加飾フィルム２２を被加飾領域１１に接着する。接着層２２１の材料は光透過性を有するものであればよく、例えば熱可塑性樹脂とすることができる。また、後述するように色彩調整層２２２及び絶縁性金属層２２３にはクラックが設けられており、接着層２２１はこのクラックの内部に入り込み、色彩調整層２２２及び絶縁性金属層２２３のクラック片を固定する固定層としても機能する。

色彩調整層２２２は、絶縁性金属層２２３の意匠面１０１ａ側に隣接し、可視光領域で光透過性を有し、絶縁性金属層２２３による反射光に対して干渉を生じさせる。これにより、干渉による構造色によって金属加飾部２０の色彩を調整することができる。色彩調整層２２２は下層に絶縁性金属層２２３が設けられているため、単層膜とすることができる。

色彩調整層２２２は、第１の実施形態に係る色彩調整層１２３と同様に、可視光領域で光透過性を有し、絶縁性金属層２２３による反射光に対して干渉を生じさせる材料からなり、シリコン、シリコン酸化物、シリコン窒化物、金属酸化物又は金属窒化物からなるものとすることができる。金属酸化物及び金属窒化物は第１の実施形態において挙げたものを利用することができる。

色彩調整層２２２には微細なクラック（以下、微細クラックと記載する）２２２ａが形成されている。微細クラック２２２ａは、図１９に示すように、絶縁性金属層２２３に設けられた微細クラック２２３ａに連続するクラックである。

第１の実施形態と同様に、色彩調整層２２２のモース硬度を絶縁性金属層２２３のモース硬度より高くすることにより、色彩調整層２２２をクラック誘発層として機能させることが可能である。

なお、色彩調整層２２２をクラック誘発層として利用しないことも可能であり、色彩調整層２２２は微細クラック２２２ａを有しないものであってもよい。

色彩調整層２２２の厚みは第１の実施形態に係る色彩調整層１２３と同様に１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下が好適である。さらに、色彩調整層２２２厚み及び材料組成（酸化度等）は色彩調整層２２２の面内において均一でなくてもよく、面内で厚み又は材料組成の分布を調整することにより、虹色の色彩を呈するものとすることも可能である。

絶縁性金属層２２３は、金属加飾部２０を金属的な外観とするための層である。絶縁性金属層２２３には、多数の微細なクラック（以下、微細クラックと記載する）２２３ａが形成されている。微細クラック２２３ａの形状は第１の実施形態に係る微細クラック１２２ａと同様（図３参照）である。

絶縁性金属層２２３の材料は、高い光反射率を有するものが好適であり、アルミニウム、チタン、クロム及び銀のいずれか、又はアルミニウム、チタン、クロム及び銀の少なくとも一つを含む合金とすることができる。

絶縁性金属層２２３の厚みは、第１の実施形態に係る絶縁性金属層１２２と同様に１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下が好適である。

易接着層２２４は、保護層２２５を絶縁性金属層２２３に接着する層である。易接着層２２４は接着性を有するものであればよく、光透過性を有しないものであってもよい。

保護層２２５は、加飾フィルム２２の各層を保護する層（ハードコート層）である。保護層２２５は、ＵＶ硬化性樹脂、熱硬化性樹脂又は２液硬化性樹脂等かなるものとすることができる。保護層２２５によって平滑化、防汚、剥離防止、傷防止等が実現される。なお保護層２２５として、アクリル樹脂等がコーティングされてもよい。また、保護層２２５として非塩化ビニル系の材料を選択することで、金属の腐食の防止に有利である。

金属加飾部２０は以上のような構成を有する。上述のように金属加飾部２０は、筐体部１０１の被加飾領域１１に加飾フィルムが転写されたものとすることができる。以下この転写用の加飾フィルムについて説明する。

［転写用加飾フィルムの構成］
図２０は転写用の加飾フィルム２５０の構成を示す模式的な断面図である。加飾フィルム２５０の構成において上記加飾フィルム２２と同一の構成については加飾フィルム２２と同一の符号を付し、説明を省略する。

同図に示すように、加飾フィルム２５０は、接着層２２１、色彩調整層２２２、絶縁性金属層２２３、易接着層２２４、保護層２２５、離型層２５１及びベースフィルム２５２を備える。

離型層２５１は、保護層２２５に積層され、保護層２２５とベースフィルム２５２を接着する層である。離型層２５１は比較的接着力の小さい接着材料からなる。

ベースフィルム２５２は、加飾フィルム２５０の各層の支持体となる層である。ベースフィルム２５２は、典型的には樹脂フィルムが用いられる。ベースフィルム２５２の材料としては、例えばＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡ又はＰＰ等が用いられる。その他の材料が用いられてもよい。

加飾フィルム２５０は以上のような構成を有する。加飾フィルム２５０が接着層２２１によって被加飾領域１１に貼付され、離型層２５１及びベースフィルム２５２が剥離されると、図１９に示す金属加飾部２０が形成される。

［金属加飾部の効果について］
第１の実施形態同様に金属加飾部２０では、絶縁性金属層２２３による高い光反射率と、色彩調整層２２２による色彩の調整が可能であり、電波透過性を有しながら金属調の外観を有する意匠性の高い構造体を実現することが可能である。

［加飾フィルムの製造方法］
加飾フィルム２５０は、第１の実施形態と同様の方法で製造することができる。即ち、積層フィルムを準備し、積層フィルムを延伸させて張力を印加することによって色彩調整層２２２及び絶縁性金属層２２３に微細クラックを形成する。積層フィルムの延伸には、第１の実施形態において説明したような延伸機構を利用することができる。

色彩調整層２２２のモース硬度を絶縁性金属層２２３のモース硬度より大きくすることにより、色彩調整層２２２をクラック誘発層として利用することが可能である。加飾フィルム２５０は以上のようにして製造することが可能である。

［構造体の製造方法］
金属加飾部２０を備える筐体部１０１は、第１の実施形態と同様に、インモールド成形によって加飾フィルム２５０を筐体部１０１に転写することによって製造することが可能である。また、他の製造方法によって金属加飾部２０を備える筐体部１０１を製造することも可能である。

［クラック片のサイズについて］
絶縁性金属層２２３のクラック片２２３ｂのサイズは、第１の実施形態と同様（図１８参照）に、個々のクラック片２２３ｂの最長辺の長さをクラック片サイズとすると、クラック片サイズは１μｍ以上５００μｍ以下が好適である。

クラック片サイズＴが１μｍ未満であると、微細クラック２２３ａに対するクラック片２２３ｂの面積が小さすぎ、金属加飾部２０に金属光沢が生じない。また、クラック片サイズが５００μｍを超えると、絶縁性金属層２２３を電波が透過する際に渦電流が発生し、電波の透過率が低下する。したがって、クラック片サイズは１μｍ以上５００μｍ以下が好適である。

（第３の実施形態）
本技術の第３の実施形態について説明する。なお、本実施形態において、第１の実施形態と同一の構成については第１の実施形態と同一の符号を付し、説明を省略する。

本実施形態に係る加飾フィルム３２（図２１参照）は、第１の実施形態と同様に携帯端末１００（図１参照）の筐体部１０１が備える被加飾領域１１に接着され、金属加飾部３０を形成する。

即ち、被加飾領域１１を有する筐体部１０１と、被加飾領域１１に接着される当該加飾フィルム３２とにより、本技術に係る構造体が筐体部品として構成される。なお筐体部品の一部に、本技術に係る構造体が用いられる場合もあり得る。

加飾フィルム３２は、意匠面３２ａを有する。意匠面３２ａは、携帯端末１００を使用するユーザが視認可能な面であり、筐体部１０１の外観（デザイン）を構成する要素の１つとなる面である。本実施形態では、背面部１０８の表面側に向けられる面が意匠面３２ａとなる。

［金属加飾部の構成］
図２１は、本実施形態に係る金属加飾部３０の構成を示す模式的な断面図である。同図に示すように金属加飾部３０は、アンテナ部１５等の位置に応じた領域に形成された被加飾領域１１と、被加飾領域１１に接着される加飾フィルム３２とで構成される。加飾フィルム３２において、被加飾領域１１に接着される面を接着面３２ｂとする。

図２１に示すように、加飾フィルム３２は、接着層３２１、絶縁性金属層３２２、色彩調整層３２３、易接着層３２４、ベースフィルム３２５及び保護層３２６を備える。絶縁性金属層３２２と色彩調整層３２３は、第１の実施形態と同様に、絶縁性金属層３２２が筐体部１０１側となるように積層されている。

接着層３２１は、加飾フィルム３２を被加飾領域１１に接着する。接着層３２１の材料、例えば熱可塑性樹脂とすることができる。また、後述するように絶縁性金属層３２２及び色彩調整層３２３にはクラックが設けられており、接着層３２１はこのクラックの内部に入り込み、絶縁性金属層３２２及び色彩調整層３２３のクラック片を固定する固定層としても機能する。

絶縁性金属層３２２は、金属加飾部３０を金属的な外観とするための層である。絶縁性金属層３２２には、多数の微細なクラック（以下、微細クラックと記載する）３２２ａが形成されている。微細クラック３２２ａの形状は第１の実施形態に係る微細クラック１２２ａと同様（図３参照）である。

絶縁性金属層３２２の材料は、高い光反射率を有するものが好適であり、アルミニウム、チタン、クロム及び銀のいずれか、又はアルミニウム、チタン、クロム及び銀の少なくとも一つを含む合金とすることができる。

絶縁性金属層３２２厚みは、第１の実施形態に係る絶縁性金属層１２２と同様に１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下が好適である。

色彩調整層３２３は、絶縁性金属層３２２の意匠面３２ａ側に隣接し、可視光領域で光透過性を有し、絶縁性金属層３２２による反射光に対して干渉を生じさせる。これにより、干渉による構造色によって金属加飾部３０の色彩を調整することができる。色彩調整層３２３は下層に絶縁性金属層３２２が設けられているため、単層膜とすることができる。

色彩調整層３２３は、第１の実施形態に係る色彩調整層１２３と同様に、可視光領域で光透過性を有し、絶縁性金属層３２２による反射光に対して干渉を生じさせる材料からなり、シリコン、シリコン酸化物、シリコン窒化物、金属酸化物又は金属窒化物からなるものとすることができる。金属酸化物及び金属窒化物は第１の実施形態において挙げたものを利用することができる。

色彩調整層３２３には微細なクラック（以下、微細クラックと記載する）３２３ａが形成されている。微細クラック３２３ａは、図２１に示すように、絶縁性金属層３２２に設けられた微細クラック３２２ａに連続するクラックである。

第１の実施形態と同様に、色彩調整層３２３のモース硬度を絶縁性金属層３２２のモース硬度より高くすることにより、色彩調整層３２３をクラック誘発層として機能させることが可能である。

なお、色彩調整層３２３をクラック誘発層として利用しないことも可能であり、色彩調整層３２３は微細クラック３２３ａを有しないものであってもよい。

色彩調整層３２３の厚みは第１の実施形態に係る色彩調整層１２３と同様に１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下が好適である。さらに、色彩調整層３２３の厚み及び材料組成（酸化度等）は色彩調整層３２３の面内において均一でなくてもよく、面内で厚み又は材料組成の分布を調整することにより、虹色の色彩を呈するものとすることも可能である。

易接着層３２４は、ベースフィルム３２５を色彩調整層３２３に接着する層である。易接着層３２４は接着性及び光透過性を有するものであればよい。

ベースフィルム３２５は、加飾フィルム３２の各層の支持体となる層であり、光透過性を有する。ベースフィルム３２５は、典型的には樹脂フィルムが用いられる。ベースフィルム３２５の材料としては、例えばＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡ又はＰＰ等が用いられる。その他の材料が用いられてもよい。

保護層３２６は、加飾フィルム３２の各層を保護する層（ハードコート層）であり、光透過性を有する。保護層３２６は、ＵＶ硬化性樹脂、熱硬化性樹脂又は２液硬化性樹脂等かなるものとすることができる。保護層３２６によって平滑化、防汚、剥離防止、傷防止等が実現される。なお保護層３２６として、アクリル樹脂等がコーティングされてもよい。また、保護層３２６として非塩化ビニル系の材料を選択することで、金属の腐食の防止に有利である。

金属加飾部３０は以上のような構成を有する。上述のように金属加飾部３０は、筐体部１０１の被加飾領域１１に加飾フィルムがインサート又は接着されたものとすることができる。以下この転写用の加飾フィルムについて説明する。

［インサート用又は接着用加飾フィルムの構成］
図２２はインサート又は接着用の加飾フィルム３５０の構成を示す模式的な断面図である。加飾フィルム３５０の構成において上記加飾フィルム３２と同一の構成については加飾フィルム３２と同一の符号を付し、説明を省略する。

同図に示すように、加飾フィルム３５０は上記加飾フィルム３２と同一の構成を有し、接着層３２１、絶縁性金属層３２２、色彩調整層３２３、易接着層３２４、ベースフィルム３２５及び保護層３２６を備える。

［金属加飾部の効果について］
第１の実施形態同様に金属加飾部３０では、絶縁性金属層３２２による高い光反射率と、色彩調整層３２３による色彩の調整が可能であり、電波透過性を有しながら金属調の外観を有する意匠性の高い構造体を実現することが可能である。

［加飾フィルムの製造方法］
加飾フィルム３５０は、第１の実施形態と同様の方法で製造することができる。即ち、積層フィルムを準備し、積層フィルムを延伸させて張力を印加することによって色彩調整層３２３及び絶縁性金属層３２２に微細クラックを形成する。積層フィルムの延伸には、第１の実施形態において説明したような延伸機構を利用することができる。

色彩調整層３２３のモース硬度を絶縁性金属層３２２のモース硬度より大きくすることにより、色彩調整層３２３をクラック誘発層として利用することが可能である。加飾フィルム３５０は以上のようにして製造することが可能である。

［構造体の製造方法］
金属加飾部３０を備える筐体部１０１の製造方法について説明する。金属加飾部３０を備える筐体部１０１はインサート成形法によって製造することが可能である。

図２３は、インサート成形法を説明するための模式的な図である。インサート成形では、図２３Ａに示すように成形装置６５０のキャビティ型６５１内に加飾フィルム３５０が、保護層３２６をキャビティ型６５１側として配置される。

そして図２３Ｂに示すように、キャビティ型６５１とコア型６５２とがクランプされ、ゲート部６５６を介して、キャビティ型６５１内に成形樹脂Ｒが射出される。

これにより加飾フィルム３５０と一体的に筐体部１０１が形成される。インサート成形法が用いられることによっても、容易に金属加飾部３０を形成することができる。また種々の形状を有する筐体部１０１を製造することができる。

［クラック片のサイズについて］
絶縁性金属層３２２のクラック片３２２ｂのサイズは、第１の実施形態と同様（図１８参照）に、個々のクラック片３２２ｂの最長辺の長さをクラック片サイズとすると、クラック片サイズは１μｍ以上５００μｍ以下が好適である。

クラック片サイズＴが１μｍ未満であると、微細クラック３２２ａに対するクラック片３２２ｂの面積が小さすぎ、金属加飾部２０に金属光沢が生じない。また、クラック片サイズが５００μｍを超えると、絶縁性金属層３２２を電波が透過する際に渦電流が発生し、電波の透過率が低下する。したがって、クラック片サイズは１μｍ以上５００μｍ以下が好適である。

（変形例）
上記各実施形態において、絶縁性金属層には微細クラックによって多数のクラック片に分割され、絶縁性を有するものとしたが、これに限られない。

スズ及びインジウムは１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下の膜厚で蒸着すると海島構造を取り、不連続膜となって絶縁性を示す。したがって、上記各実施形態において絶縁性金属層を、１０ｎｍ以上５０ｎｍの厚みを有し、微細クラックを有しないスズ又はインジウムとすることも可能である。また、１０ｎｍ以上５０ｎｍの膜厚とした場合に絶縁性を有するものであれば、スズ及びインジウムの少なくとも一つを含む合金によって絶縁性金属層を形成してもよい。

図２４は、第１の実施形態に係る加飾フィルム１５０の変形例を示す模式図である。同図に示すように、絶縁性金属層１２２を１０ｎｍ以上５０ｎｍの厚みを有するスズ、インジウム又はこれらの合金からなり、微細クラックを有しない層とすることも可能である。

また、第２の実施形態に係る絶縁性金属層２２３及び第３の実施形態に係る絶縁性金属層３２２も同様に、１０ｎｍ以上５０ｎｍの厚みを有するスズ、インジウム又はこれらの合金からなり、微細クラックを有しない層とすることができる。

（適用例）
本技術は内蔵アンテナ等が内部に収容されたほぼ全ての電子機器に適用可能である。例えばそのような電子機器として、携帯電話、スマートフォン、パソコン、ゲーム機、デジタルカメラ、オーディオ機器、ＴＶ、プロジェクタ、カーナビ、ＧＰＳ端末、ウエアラブル情報機器（眼鏡型、リストバンド型）等の電子機器、これらを無線通信等により操作するリモコン、マウス、タッチペンン等の操作機器、車載レーダーや車載アンテナ等の車両に備えられる電子機器等種々のものが挙げられる。またインターネット等に接続されたＩｏＴ機器にも適用可能である。

また本技術は、電子機器等の筐体部品に限定されず、車両や建築物に対しても適用可能である。すなわち本技術に係る加飾部と、加飾部が接着される被加飾領域を有する部材とを具備する構造体が、車両や建築物の全部又は一部に用いられてもよい。これにより金属的な外観を有しつつも電波を透過可能な壁面等を有する車両や建築物を実現することが可能となり、非常に高い意匠性を発揮させることが可能となる。なお車両は、自動車、バス、電車等、任意の車両を含む。建築物は、一戸建、集合住宅、施設、橋等、任意の建築物を含む。

なお、本技術は以下のような構成も採ることができる。
（１）
絶縁性金属層と、上記絶縁性金属層の意匠面側に隣接し、可視光領域で光透過性を有し、上記絶縁性金属層による反射光に対して干渉を生じさせる色彩調整層とを含む加飾部と、
上記加飾部が接着される被加飾領域を有する部材と
を具備する構造体。

（２）
上記（１）に記載の構造体であって、
上記絶縁性金属層は、微細なクラックを有する
構造体。

（３）
上記（２）に記載の構造体であって、
上記絶縁性金属層は、アルミニウム、チタン、クロム、銀及びこれらの少なくともいずれか一つを含む合金のうちのいずれかからなる
構造体。

（４）
上記（１）に記載の構造体であって、
上記絶縁性金属層は、金属の不連続膜である
構造体。

（５）
上記（４）に記載の構造体であって、
上記絶縁性金属層は、インジウム、スズ及びこれらの少なくともいずれか一つを含む合金のうちのいずれかからなる
構造体。

（６）
上記（１）から（５）のうちいずれか一つに記載の構造体であって、
上記色彩調整層は、シリコン、シリコン酸化物、シリコン窒化物、金属酸化物又は金属窒化物からなる
構造体。

（７）
上記（１）から（６）のうちいずれか一つに記載の構造体であって、
上記色彩調整層は、上記絶縁性金属層のモース硬度より高いモース硬度を有する
構造体。

（８）
上記（１）から（７）のうちいずれか一つに記載の構造体であって、
上記色彩調整層の厚みは１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である
構造体。

（９）
上記（１）から（８）のうちいずれか一つに記載の構造体であって、
上記絶縁性金属層の厚みは１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である
構造体。

（１０）
上記（２）に記載の構造体であって、
上記絶縁性金属層のクラック片は長辺が１μｍ以上５００μｍ以下である
構造体。

（１１）
上記（１）から（１０）のうちいずれか一つに記載の構造体であって、
上記絶縁性金属層のクラック片を固定する接着層
をさらに具備する構造体。

（１２）
上記（１）から（１１）のうちいずれか一つに記載の構造体であって、
筐体部品、車両又は建築物の少なくとも一部である
構造体。

（１３）
ベースフィルムと、
絶縁性金属層と、
上記絶縁性金属層の意匠面側に隣接し、可視光領域で光透過性を有し、上記絶縁性金属層による反射光に対して干渉を生じさせる色彩調整層と
を具備する加飾フィルム。

（１４）
上記（１３）に記載の加飾フィルムであって、
上記絶縁性金属層は、微細なクラックを有する
加飾フィルム。

（１５）
ベースフィルムと、金属層と、上記金属層より高いモース硬度を有し、上記金属層に隣接し、可視光領域で光透過性を有し、上記絶縁性金属層による反射光に対して干渉を生じさせる色彩調整層とを備える積層フィルムを形成し、
上記積層フィルムを延伸し、上記金属層及び上記色彩調整層に微細なクラックを生じさせ、上記金属層を絶縁性金属層とする
加飾フィルムの製造方法。

１０、２０、３０…金属加飾部
１２、２２、３２…加飾フィルム
１２ａ、１０１ａ、３２ａ…意匠面
１００…携帯端末
１０１…筐体部
１２１、２２１、３２１…接着層
１２２、２２３、３２２…絶縁性金属層
１２３、２２２、３２３…色彩調整層
１２４、２２４、３２４…易接着層
１２５、２２５、３２６…保護層
１５２、２５２、３２５…ベースフィルム
１５０、２５０、３５０…加飾フィルム

Claims (15)

1. 絶縁性金属層と、前記絶縁性金属層の意匠面側に隣接し、可視光領域で光透過性を有し、前記絶縁性金属層による反射光に対して干渉を生じさせる色彩調整層とを含む加飾部と、
   前記加飾部が接着される被加飾領域を有する部材と
   を具備する構造体。
2. 請求項１に記載の構造体であって、
   前記絶縁性金属層は、微細なクラックを有する
   構造体。
3. 請求項２に記載の構造体であって、
   前記絶縁性金属層は、アルミニウム、チタン、クロム、銀及びこれらの少なくともいずれか一つを含む合金のうちのいずれかからなる
   構造体。
4. 請求項１に記載の構造体であって、
   前記絶縁性金属層は、金属の不連続膜である
   構造体。
5. 請求項４に記載の構造体であって、
   前記絶縁性金属層は、インジウム、スズ及びこれらの少なくともいずれか一つを含む合金のうちのいずれかからなる
   構造体。
6. 請求項１に記載の構造体であって、
   前記色彩調整層は、シリコン、シリコン酸化物、シリコン窒化物、金属酸化物又は金属窒化物からなる
   構造体。
7. 請求項１に記載の構造体であって、
   前記色彩調整層は、前記絶縁性金属層のモース硬度より高いモース硬度を有する
   構造体。
8. 請求項１に記載の構造体であって、
   前記色彩調整層の厚みは１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である
   構造体。
9. 請求項１に記載の構造体であって、
   前記絶縁性金属層の厚みは１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である
   構造体。
10. 請求項２に記載の構造体であって、
    前記絶縁性金属層のクラック片は長辺が１μｍ以上５００μｍ以下である
    構造体。
11. 請求項２に記載の構造体であって、
    前記絶縁性金属層のクラック片を固定する接着層
    をさらに具備する構造体。
12. 請求項１に記載の構造体であって、
    筐体部品、車両又は建築物の少なくとも一部である
    構造体。
13. ベースフィルムと、
    絶縁性金属層と、
    前記絶縁性金属層の意匠面側に隣接し、可視光領域で光透過性を有し、前記絶縁性金属層による反射光に対して干渉を生じさせる色彩調整層と
    を具備する加飾フィルム。
14. 請求項１３に記載の加飾フィルムであって、
    前記絶縁性金属層は、微細なクラックを有する
    加飾フィルム。
15. ベースフィルムと、金属層と、前記金属層より高いモース硬度を有し、前記金属層に隣接し、可視光領域で光透過性を有し、前記絶縁性金属層による反射光に対して干渉を生じさせる色彩調整層とを備える積層フィルムを形成し、
    前記積層フィルムを延伸し、前記金属層及び前記色彩調整層に微細なクラックを生じさせ、前記金属層を絶縁性金属層とする
    加飾フィルムの製造方法。

Images