WO2021132652A1

WO2021132652A1 - 電磁波透過性積層体

Info

Publication number: WO2021132652A1
Application number: PCT/JP2020/048969
Authority: WO
Inventors: 美代子原; 基原田; 佑一早田
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2019-12-26
Filing date: 2020-12-25
Publication date: 2021-07-01

Abstract

本発明は、意匠性に優れた金属調の外観を有し、視認する角度によって色味が変化し、かつ、電磁波の透過性に優れる電磁波透過性積層体を提供する。本発明の電磁波透過性積層体は、基材と、少なくとも１種の金属粒子を含む金属粒子含有層と、コレステリック液晶層及び誘電体多層膜からなる群から選択される少なくとも１つの反射層と、を有する電磁波透過性積層体であって、金属粒子は、表面が高分子で被覆された平板状金属粒子であって、平板状金属粒子の質量に対する高分子の質量の割合が６５質量％以下である、平板状金属粒子を含み、金属粒子含有層の主面に対する法線方向から観察したときの金属粒子含有層の面積Ａに対する金属粒子の面積の合計値Ｂの割合である面積率（Ｂ／Ａ）が７０％以上である。

Description

電磁波透過性積層体

　本発明は、電磁波透過性積層体に関する。

　従来より、コレステリック液晶層等の反射層が種々の分野で用いられている。
　例えば、特許文献１においては、金属粒子を含む金属粒子含有層と、コレステリック液晶層とを有する熱線遮蔽材が開示されている。

国際公開第２０１２／０６６８４１号

　一方、近年、自動運転技術及び運転支援システムの開発に伴い、先行車までの距離の把握又は周辺の障害物の検出を目的として、電磁波（特にミリ波）のレーダーを用いるセンシング技術の利用が進められている。このようなセンシング技術に使用されるレーダーの送受信機は、車体前部に搭載される。一方で、同じく車体前部に設けられ、金属調の外観を有するフロントグリル及びエンブレム等の外装部品によって、これらのレーダーが送受信する電磁波が遮断されてしまう問題があった。
　なお、上記外装部材には、上記のように金属調の外観特性のみならず、意匠性の点から、視認する角度によって色味が変化する特性も求められていた。

　本発明者らは、特許文献１で具体的に開示される積層体（熱線遮蔽材）を用いて上記特性を評価したところ、金属調の外観特性が必ずしも十分満足できるものではなかった。

　本発明は、上記実情に鑑みて、意匠性に優れた金属調の外観を有し、視認する角度によって色味が変化し、かつ、電磁波の透過性に優れる電磁波透過性積層体を提供することを課題とする。

　本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

（１）　基材と、
　少なくとも１種の金属粒子を含む金属粒子含有層と、
　コレステリック液晶層及び誘電体多層膜からなる群から選択される少なくとも１つの反射層と、を有する電磁波透過性積層体であって、
　金属粒子は、表面が高分子で被覆された平板状金属粒子であって、平板状金属粒子の質量に対する高分子の質量の割合が６５質量％以下である、平板状金属粒子を含み、
　金属粒子含有層の主面に対する法線方向から観察したときの金属粒子含有層の面積Ａに対する金属粒子の面積の合計値Ｂの割合である面積率（Ｂ／Ａ）が７０％以上である、電磁波透過性積層体。
（２）　反射層が、正反射型のコレステリック液晶層であり、
　電磁波透過性積層体の反射スペクトルにおいて、可視光領域にピークが観察され、
　ピークのピーク波長におけるピーク反射率と、ピークの短波長側の立ち上がり位置での第１反射率およびピークの長波長側の立ち上がり位置での第２反射率の平均値との差が５．０～７０．０％である、（１）に記載の電磁波透過性積層体。
（３）　金属粒子含有層における金属粒子の含有量が０．１０ｇ／ｍ^２超であり、
　コレステリック液晶層の厚みが３．００μｍ以上である、（２）に記載の電磁波透過性積層体。
（４）　反射層が、拡散反射型のコレステリック液晶層であり、
　電磁波透過性積層体の拡散反射スペクトルにおいて、可視光領域にピークが観察され、
　ピークのピーク波長におけるピーク反射率と、拡散反射スペクトルの可視光領域における最低反射率との差が７．０～４０．０％である、（１）に記載の電磁波透過性積層体。
（５）　金属粒子含有層における金属粒子の含有量が０．１０ｇ／ｍ^２超であり、
　コレステリック液晶層の厚みが１．００μｍ以上である、（４）に記載の電磁波透過性積層体。
（６）　平板状金属粒子が少なくとも銀を含む、（１）～（５）のいずれかに記載の電磁波透過性積層体。
（７）　平板状金属粒子が、六角形状又は円形状の平板状金属粒子を含む、（１）～（６）のいずれかに記載の電磁波透過性積層体。
（８）　反射層がコレステリック液晶層を含み、コレステリック液晶層の選択反射波長が、可視光領域に位置する、（１）～（７）のいずれかに記載の電磁波透過性積層体。
（９）　周波数が７０～９０ＧＨｚである電磁波の送信側及び受信側の治具間に電磁波透過性積層体を挟んで測定される電磁波強度の、治具間に何も挟まない場合に測定される電磁波強度に対する減衰量が、１ｄＢ以下である、（１）～（８）のいずれかに記載の電磁波透過性積層体。
（１０）　色材層を更に含む、（１）～（９）のいずれかに記載の電磁波透過性積層体。

　本発明によれば、意匠性に優れた金属調の外観を有し、視認する角度によって色味が変化し、かつ、電磁波の透過性に優れる電磁波透過性積層体を提供できる。

本発明の電磁波透過性積層体の一例を示す断面図である。色味変化を測定する際の測定方法を示す概略図である。電磁波透過性積層体の可視光領域（３８０～７８０ｎｍ）における反射スペクトルの一例である。電磁波透過性積層体の可視光領域（３８０～７８０ｎｍ）における拡散反射スペクトルの一例である。

　以下に、本発明の電磁波透過性積層体について図面を参照して説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に制限されるものではない。
　なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　本明細書において、ある成分に含まれる化合物が２種以上存在する場合、その成分の「含有量」は、それら２種以上の化合物の合計含有量を意味する。

［電磁波透過性積層体］
　図１に、本発明の電磁波透過性積層体（以下、単に「積層体」とも記載する）の一例の断面図を示す。
　電磁波透過性積層体（積層体）１０は、基材１２と、基材１２上に配置された金属粒子含有層１４と、反射層１６とを有する。金属粒子含有層１４は、図示しない金属粒子を含み、金属粒子は、表面が高分子で被覆された平板状金属粒子を含む。この高分子の含有量は、平板状金属粒子の含有量に対して６５質量％以下である。
　また、この金属粒子含有層の主面に対する法線方向から観察したときの金属粒子含有層の面積Ａに対する金属粒子の面積の合計値Ｂの割合である面積率（Ｂ／Ａ）は、７０％以上である。
　更に、反射層１６は、コレステリック液晶層及び誘電体多層膜からなる群から選択される。
　図１においては、基材１２、金属粒子含有層１４、及び、反射層１６の順に積層されているが、本発明の積層体においては必ずしも上記積層順に制限されず、例えば、金属粒子含有層、基材、及び、反射層の順に積層されていてもよい。
　以下に、積層体１０を構成する各層及び積層体１０が有する特徴について詳述する。

〔基材〕
　基材としては、後述する金属粒子含有層を支持できる基材であれば、特に制限なく使用できる。
　基材の形状、構造、大きさ、及び材料については、特に制限されず、目的に応じて適宜選択できる。形状としては、例えば、平板状が挙げられる。構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよい。大きさとしては、積層体の大きさ及び／又は形状に応じて適宜選択できる。
　基材としては、目的に応じて適宜選択でき、樹脂基材（樹脂フィルム）が好ましい。樹脂基材としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ４－メチルペンテン－１及びポリブテン－１等のポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリエーテルサルフォン系樹脂、ポリエチレンサルファイド系樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、及び、セルロースアセテート等のセルロース系樹脂からなる群より選択される少なくとも１種で構成されたフィルム並びにこれらの積層フィルムが挙げられる。なかでも、基材としては、ポリカーボネート系樹脂フィルムが好ましい。
　基材の厚みは特に制限されず、使用目的に応じて適宜選択でき、１０～５００μｍが好ましく、１２～４００μｍがより好ましく、１６～３００μｍが更に好ましい。
　基材は、紫外線吸収剤を含んでもよい。また、基材は、基材自体の劣化を防ぐ酸化防止剤及び／又はラジカル補足剤を含んでもよい。

〔金属粒子含有層〕
　金属粒子含有層は、積層体に含まれる層であり、電磁波透過性にも優れる。金属粒子含有層は、少なくとも１種の金属粒子を含む。
　以下に、金属粒子含有層を構成する成分及び物性について記載する。

＜成分＞
（金属粒子）
　金属粒子としては、金属の平板粒子（平板状金属粒子）を含むものであれば特に制限されず、目的に応じて適宜選択できる。金属粒子の形状としては、例えば、平板状の他、粒状、立方体状、六面体状、八面体状、及びロッド状が挙げられる。
　金属粒子含有層における金属粒子の存在形態としては、基材平面に対して金属粒子が略水平に偏在していることが好ましく、例えば、基材と金属粒子とが略接触する形態、基材と金属粒子との距離が積層体の深さ方向に一定で配置されている形態が挙げられる。
　金属粒子の大きさとしては、特に制限されず、目的に応じて適宜選択でき、例えば、５００ｎｍ以下の平均円相当径を有するものであってもよい。
　金属粒子の材料としては、特に制限されず、目的に応じて適宜選択できるが、銀、金、アルミニウム、銅、ロジウム、ニッケル、又は白金が好ましく、銀がより好ましい。

－平板状金属粒子－
　平板状金属粒子としては、２つの主面からなる粒子であれば特に制限されず、目的に応じて適宜選択でき、例えば、三角形状及び六角形状等の多角形状、並びに、円形状が挙げられる。なかでも、六角形状以上の多角形状又は円形状が好ましく、六角形状又は円形状がより好ましい。
　本明細書中、円形状とは、後述する平板状金属粒子の平均円相当径の１０％以下の凹凸を無視したときに、主面上において、平均円相当径の５０％以上の長さを有する辺の個数が１個の平板状金属粒子当たり０個である形状のことをいう。円形状の平板状金属粒子としては、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ：TransmissionElectronMicroscope）を用いて平板状金属粒子を主面の法線方向から観察したときに、外周に角が無く、丸い形状であれば特に制限されず、目的に応じて適宜選択できる。

　本明細書中、六角形状とは、後述する平板状金属粒子の平均円相当径の１０％以下の凹凸を無視したときに、主面上において、平均円相当径の２０％以上の長さを有する辺の個数が１個の平板状金属粒子当たり６個である形状のことをいう。六角形状の平板状金属粒子としては、ＴＥＭで平板状金属粒子を主面の法線方向から観察したときに、六角形状を有する金属粒子であれば特に制限されず、目的に応じて適宜選択できる。六角形状の平板状金属粒子としては、その六角形状の角が鋭角のものでも、鈍角のものでもよいが、可視光域の吸収を軽減し得る点で、六角形状の角がいずれも鈍角であることが好ましい。鈍角の程度としては、特に制限されず、目的に応じて適宜選択できる。

　平板状金属粒子の材料としては、特に制限されず、金属粒子と同じものを目的に応じて適宜選択できる。平板状金属粒子は、少なくとも、銀、金、アルミニウム、銅、ロジウム、ニッケル、又は白金を含むことが好ましく、少なくとも銀を含むことがより好ましい。

　金属粒子含有層に存在する金属粒子のうち、平板状金属粒子の個数は、金属粒子の全個数に対して６０個数％以上が好ましく、６５個数％以上がより好ましく、７０個数％以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、１００個数％以下が好ましい。
　上記の平板状金属粒子の個数の割合は、電子顕微鏡（例えば、ＴＥＭ及び走査電子顕微鏡（ＳＥＭ：ScanningElectronMicroscope））を用いて金属粒子含有層中の金属粒子を少なくとも２００個観察して、平板状金属粒子の個数を計測し、金属粒子の全個数に対する割合を算出することにより得られる。

　平板状金属粒子の平均粒子径（平均円相当径）としては特に制限されず、目的に応じて適宜選択できるが、７０～５００ｎｍが好ましく、１００～４００ｎｍがより好ましい。
　ここで、円相当径は、個々の粒子の投影面積と等しい面積を有する円の直径で表される。また、平均粒子径（平均円相当径）とは、ＴＥＭで粒子を観察して得た画像から任意に選んだ２００個以上の平板状金属粒子の主面直径（円相当径）の平均値を意味する。
　金属粒子含有層は、平均粒子径（平均円相当径）が異なる２種以上の金属粒子を含んでいてもよい。この場合、金属粒子含有層に含まれる金属粒子の平均粒子径（平均円相当径）のピークが２つ以上であってもよい。

　積層体において、平板状金属粒子の平均粒子径の分布における変動係数は、３０％以下が好ましく、２０％以下がより好ましい。ここで、平板状金属粒子の平均粒子径の分布における変動係数は、上述の平均値の算出に用いた２００個以上の平板状金属粒子の粒子径の分布範囲をプロットし、分布の標準偏差を求め、上述の方法で算出された平均値（平均粒子径（平均円相当径））で割った値（％）を意味する。

　平板状金属粒子のアスペクト比としては特に制限されず、目的に応じて適宜選択できるが、８～４０が好ましく、９～３０がより好ましく、１０～２５が更に好ましい。
　アスペクト比は、平板状金属粒子の平均粒子径（平均円相当径）を平板状金属粒子の平均粒子厚みで除算した値を意味する。粒子厚みは、例えば、平板状金属粒子の２つの主面間の距離Ｌに相当する。
　平板状金属粒子の厚み（平均粒子厚み）は特に制限されないが、５～１４ｎｍが好ましい。
　平均粒子厚みの測定方法としては、ガラス基板に平板状金属粒子を含む粒子分散液を滴下し、乾燥させた後、任意の１０個の平板状金属粒子の厚みを測定し、それらを算術平均する方法が挙げられる。平板状金属粒子の厚みの具体的な測定方法としては、乾燥させた平板状金属粒子に対してカーボン蒸着又は金属蒸着による被覆処理を施し、集束イオンビーム（ＦＩＢ：FocusedIonBeam）加工により断面切片を作製し、得られた断面をＴＥＭにより観察して粒子の厚み測定を行う方法（ＦＩＢ－ＴＥＭ法）が挙げられる。

－高分子で被覆された平板状金属粒子（被覆金属粒子）－
　金属粒子含有層には、金属粒子として、その表面が高分子（高分子分散剤）で被覆された平板状金属粒子であって、平板状金属粒子（高分子を含まない）の質量に対する高分子の質量の割合｛（高分子の質量／平板状金属粒子の質量）×１００｝が、６５質量％以下である平板状金属粒子（以下「被覆金属粒子」とも記載する）を含む。被覆金属粒子は、高分子の被覆量が上記範囲であることにより、金属粒子含有層中における平板状金属粒子の充填率をより高め、可視光線の反射率を向上させ、金属の光沢により近い外観を付与できる。
　被覆金属粒子における、平板状金属粒子の質量に対する高分子の質量の割合は、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。また、上記割合の下限は特に制限されないが、平板状金属粒子の分散安定性の点から、１０質量％以上が好ましい。
　なお、上記割合を算出する際の「高分子」とは、平板状金属粒子と直接吸着又は結合している官能基を含む高分子を意図しており、主に、平板状金属粒子を形成する際に、平板状金属粒子の分散安定化のために添加される高分子に相当する。高分子は、平板状金属粒子の表面を被覆する高分子層（被覆層）を形成する。

　被覆金属粒子における、平板状金属粒子に対する高分子の質量割合を制御する方法としては、特に制限されないが、例えば、後述する平板状金属粒子の製造方法の際に使用される高分子の分子量及び／又は添加量を調整する方法、並びに、被覆金属粒子の作製の際に、遠心分離操作により余分な高分子を除去する方法が挙げられる。

　被覆金属粒子における平板状金属粒子に対する高分子の質量割合は、被覆金属粒子を熱重量分析（ＴＧ－ＤＴＡ：Thermo Gravimetry-Differential Thermal Analysis）により測定し、得られた平板状金属粒子及び高分子の質量から算出される。また、金属粒子含有層の形成に用いる被覆金属粒子について、平板状金属粒子及び高分子の仕込み量が既知である場合は、これらの仕込み量から上記質量割合を算出してもよい。

　被覆金属粒子に含まれる高分子の種類は、平板状金属粒子を構成する金属と吸着又は結合する官能基を含む高分子化合物であれば特に制限されず、目的に応じて公知の高分子を適宜使用できる。
　高分子が有する平板状金属粒子を構成する金属と吸着又は結合する官能基としては、例えば、アミン基、カルボキシル基、及び、チオール基が挙げられる。
　被覆金属粒子に含まれる高分子としては、例えば、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、（飽和）ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、並びに、ゼラチン及びセルロース等の天然高分子が挙げられ、平板状金属粒子の分散安定性の点から、ゼラチンが好ましい。

－製造方法－
　平板状金属粒子の合成方法としては、平板状金属粒子を合成し得るものであれば特に制限されず、目的に応じて適宜選択でき、例えば、化学還元法、光化学還元法、及び、電気化学還元法等の液相法が挙げられる。これらのなかでも、形状及びサイズの制御性の点で、化学還元法及び光化学還元法等の液相法が好ましい。
　上記の方法により六角形未満の多角形状の平板状金属粒子を合成した後、合成された平板状金属粒子に対して、硝酸及び亜硫酸ナトリウム等の銀を溶解する薬液によるエッチング処理、又は、加熱によるエージング処理を行うことにより、六角形未満の多角形状の平板状金属粒子の角を鈍らせて、六角形以上の多角形状又は円形状の平板状金属粒子を合成してもよい。
　平板状金属粒子の合成方法としては、上記の合成方法の他、予めフィルム及びガラス等の透明基材の表面に種晶を固定した後、金属粒子（例えばＡｇ）の結晶を平板状に成長させる方法も挙げられる。

　上記の方法により合成された平板状金属粒子の表面に、高分子を被覆させることにより、被覆金属粒子が作製される。具体的な被覆方法としては、特に制限されないが、例えば、上記の方法により合成された平板状金属粒子を含む分散液に、平板状金属粒子を構成する金属と吸着又は結合し得る官能基を有する高分子を添加して、平板状金属粒子と高分子とを接触させる方法が挙げられる。

（金属粒子を構成する金属よりも貴な金属）
　金属粒子含有層は、耐光性及び耐湿熱性の点で、金属粒子を構成する金属（例えば、銀等）よりも貴な金属を含むことが好ましい。ここで、例えば金属粒子を構成する金属が銀である場合において、「銀よりも貴な金属」とは、「銀の標準電極電位よりも高い標準電極電位を有する金属」を意味する。以下、本明細書において、金属粒子を構成する金属（好ましくは銀）よりも貴な金属を単に「貴金属」とも記載する。

　金属粒子含有層中、金属粒子を構成する金属の含有量に対する貴金属の含有量の比率は、０．０１～５原子％が好ましく、０．１～２原子％がより好ましく、０．２～０．５原子％が更に好ましい。
　なお、貴金属の含有量は、例えば、試料を酸により溶解した後、溶液に対して高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ：InductivelyCoupledPlasma）発光分光分析を行うことにより、測定される。

　上記貴金属は、金属粒子含有層中において、平板状金属粒子の表面近傍に存在することが好ましい。金属粒子含有層が、平板状金属粒子の表面近傍に貴金属を含有することで、湿熱環境による銀等の金属のイオン化（酸化）を防ぎ、平板状金属粒子の劣化を抑制できる。
　ここで、平板状金属粒子の表面近傍には、平板状金属粒子の表面、及び表面から２～４原子層までの領域が含まれ、貴金属が平板状金属粒子の表面を被覆している場合も含まれる。
　ここで、平板状金属粒子の表面近傍に貴金属が存在していることは、例えばオージェ光電子分光法（ＡＥＳ：Auger Electron Spectroscopy）、及び、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ：X-ray Photoelectron Spectroscopy）等により検出できる。

　貴金属としては、例えば、金、パラジウム、イリジウム、白金及びオスミウムが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。なかでも、原材料の入手のし易さの点でパラジウム、金又は白金が好ましい。

　貴金属は、平板状金属粒子の合成後に、光還元、還元剤添加又は化学還元を行うことにより、平板状金属粒子の表面近傍に存在させることができる。貴金属としては、金属粒子を構成する金属により還元されて生成されたものが好ましい。還元剤を同時に添加して貴金属を還元する方法の場合、平板状金属粒子の表面近傍以外の位置で貴金属が還元されてしまうため、銀と置換する方法が好ましい。
　また、還元は、例えば、平板状金属粒子を貴金属を含む溶剤中で加熱することによって行ってもよい。溶剤を加熱することにより、平板状金属粒子に含まれる金属によって貴金属が還元される。目的に応じて適宜、光還元、還元剤添加又は化学還元法を、上記の加熱による還元方法に組み合わせてもよい。

　貴金属の還元において、金イオンとの形成錯体の還元電位が０．５Ｖ以下となる錯化剤を共存させることが好ましい。
　上記錯化剤としては、例えば、シアン塩（シアン化ナトリウム、シアン化カリウム及びシアン化アンモウム等）、チオ硫酸、チオ硫酸塩（チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カリウム及びチオ硫酸アンモニウム等）、亜硫酸塩（亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム及び亜硫酸アンモニウム等）、並びに、チオ尿素が挙げられる。なかでも、錯体安定性及び環境負荷の点で、亜硫酸ナトリウム又はチオ硫酸ナトリウムが好ましい。

　平板状金属粒子としては、表面の少なくとも一部が貴金属により被覆された平板状金属粒子が好ましく、表面全体が貴金属により被覆された平板状金属粒子がより好ましい。つまり、平板状金属粒子としては、表面の少なくとも一部が貴金属の被覆層で被覆された平板状金属粒子が好ましい。特に、耐光性に優れる点で、上記平板状金属粒子としては、貴金属として金を含む平板状金属粒子が好ましい。
　平板状金属粒子の主平面における貴金属（好ましくは金）の被覆層の平均厚みは、０．１～２ｎｍが好ましく、０．４～１．８ｎｍがより好ましく、０．７～１．５ｎｍが更に好ましい。

　貴金属（好ましくは金）の被覆層の平均厚みは、以下の方法で得られる。まず、平板状金属粒子の断面方向のＨＡＡＤＦ－ＳＴＥＭ（High-angle Annular Dark Field Scanning TEM）像を撮影する。その撮影画像中で輝度の高い被覆層の厚みを、主平面及び端面のそれぞれについて、１粒子に対して５点測定する。この測定は、ＩｍａｇｅＪ（アメリカ国立衛生研究所（ＮＩＨ：Ｎａｔｉｏｎａｌ　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅｓ　ｏｆ　Ｈｅａｌｔｈ）により提供）等の画像解析ツールを用いて行う。計２０個の粒子について得られた主平面及び端面それぞれの厚みを算術平均することにより、貴金属の被覆層の平均厚みが得られる。

　平板状金属粒子の端面における貴金属の被覆層の平均厚みに対する主平面における貴金属の被覆層の平均厚みの比率は、優れた酸化耐性が発揮される点で、０．０２以上が好ましく、０．１以上がより好ましく、０．３以上が更に好ましい。上記厚みの比率の上限は、特に制限されないが、１０以下が好ましい。

　平板状金属粒子は、所望の特性を付与するために、更なる処理を施してもよい。更なる処理としては、特に制限されず、目的に応じて適宜選択でき、例えば、高屈折率シェル層の形成、並びに、分散剤及び酸化防止剤等の各種添加剤の添加が挙げられる。

（金属粒子の充填率）
　金属粒子含有層中の金属粒子の充填率は、金属調の外観と電磁波透過性とがバランスよく優れる点で、５０～９５質量％が好ましく、６０～９５質量％がより好ましく、７０～９５質量％が更に好ましい。
　上記の金属粒子の充填率は、次の方法で測定される。ＦＩＢ（集束イオンビーム）を用いて、断面方向に沿って積層体を切断して薄い切片を作製し、露出した断面をＴＥＭを用いて観察する。得られた観察画像を画像処理して、金属粒子及び周囲の金属粒子含有層の面積比を求める。この面積比にそれぞれ金属粒子、及び金属粒子含有層の物質の比重をかけ、その合計値に対する金属粒子の質量比を計算することにより、金属粒子の充填率が算出される。

　また、金属粒子含有層における金属粒子の含有量は、特に制限されないが、０．０５ｇ／ｍ^２以上が好ましく、０．１０ｇ／ｍ^２以上がより好ましく、０．１０ｇ／ｍ^２超がさらに好ましく、０．１５ｇ／ｍ^２以上が特に好ましく、３．００ｇ／ｍ^２以下が好ましく、２．００ｇ／ｍ^２以下がより好ましく、１．５０ｇ／ｍ^２以下が更に好ましい。

（バインダー）
　金属粒子含有層には、上述した金属粒子以外の他の成分が含まれていてもよく、例えば、バインダー（媒質）が含まれていてもよい。
　バインダーの種類は特に制限されず、目的に応じて適宜選択できる。バインダーとしては、例えば、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、（飽和）ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、並びに、ゼラチン及びセルロース等の天然高分子が挙げられる。
　なかでも、バインダーに含まれる主ポリマーが、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、（飽和）ポリエステル樹脂又はポリウレタン樹脂であることが好ましく、積層体のこすり耐性をより改善する点で、ポリエステル樹脂又はポリウレタン樹脂がより好ましい。

　ポリエステル樹脂としては、二重結合を含まないために優れた耐候性を付与できる点で、飽和ポリエステル樹脂が好ましい。また、分子末端に水酸基又はカルボキシル基を有するバインダーは、水溶性又は水分散性の硬化剤を用いて硬化して高い硬度、耐久性及び耐熱性が得られる点で、好ましい。
　バインダーとしては、商業的に入手できるものが好ましく使用できる。例えば、互応化学工業株式会社製の水溶性ポリエステル樹脂である、プラスコート（登録商標）Ｚ－６８７及びプラスコートＺ－６９０、ＤＩＣ株式会社製の水溶性ポリウレタン樹脂である、ハイドラン（登録商標）ＨＷ－３５０及びＨＷ－１７４、並びに、三井化学株式会社製のポリウレタン樹脂である、タケラック（登録商標）ＷＳ４０００が挙げられる。
　また、本明細書中、金属粒子含有層に含まれる主ポリマーとは、金属粒子含有層に含まれるバインダーの５０質量％以上を占める成分を意味する。

　なお、金属粒子含有層がバインダーを含むことで、積層体が有する金属調の外観の色味を調整できる。例えば、プラズモン共鳴波長を９００ｎｍにもつようなアスペクト比をもつ平板状金属粒子と、屈折率１．５のバインダーとを含む層を形成した場合、その金属粒子含有層は、入射光の波長がプラズモン共鳴波長に近いほど、金属に近い光学特性を発揮し、プラズモン共鳴波長から遠いほど、バインダーに近い光学特性を発揮する。よって、このような場合、積層体の金属粒子含有層によって反射される反射光のうち、短波長側の反射率が低下するため、積層体を金色又は銅色に呈色させることができる。

　金属粒子含有層に含まれるバインダーの含有量は、金属粒子の含有量に対して、１～１００００質量％が好ましく、１０～１０００質量％がより好ましく、２０～５００質量％が更に好ましい。金属粒子含有層が上記下限値以上のバインダーを含むことで、積層体のこすり耐性等の物理特性を改善できる。
　バインダーの屈折率ｎは、１．４～１．７が好ましい。

（添加剤）
　金属粒子含有層は、上記の金属粒子及びバインダー以外の添加剤を含んでいてもよい。金属粒子含有層に含まれていてもよい添加剤としては、例えば、界面活性剤、酸化防止剤及び分散剤が挙げられる。

　積層体において、ハジキの発生を抑えて良好な面状を有する層が得られる点で、金属粒子含有層が界面活性剤を含むことが好ましい。
　界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤等の公知の界面活性剤が挙げられる。市場より入手可能な界面活性剤としては、例えば、ラピゾールＡ－９０（日油株式会社製）、及び、ナロアクティーＨＮ－１００（三洋化成工業株式会社製）が挙げられる。
　界面活性剤の含有量は、金属粒子含有層中のバインダーの全質量に対して、０．０５～１０質量％が好ましく、０．１～５質量％がより好ましい。

　金属粒子含有層は、金属粒子を構成する銀等の金属の酸化を防止するために、メルカプトテトラゾール及びアスコルビン酸等の金属粒子の表面に吸着する機能を有する酸化防止剤を含んでいてもよい。また、酸化防止を目的として、Ｎｉ等の酸化犠牲層が平板状金属粒子の表面に形成されていてもよい。金属粒子は、酸素を遮断することを目的として、ＳｉＯ_２等の酸化物膜で被覆されていてもよい。
　金属粒子含有層は、金属粒子の分散性付与を目的として、例えば、４級アンモニウム塩及びアミン類等のＮ元素、Ｓ元素及びＰ元素の少なくともいずれかを含む低分子量又は高分子量の分散剤を含んでいてもよい。

＜金属粒子含有層の特性＞
（金属粒子の面積率）
　本発明の積層体が有する金属粒子含有層では、金属粒子含有層の主面の法線方向から観察したときの金属粒子含有層の面積Ａ（金属粒子含有層の主面の法線方向から投影した金属粒子含有層の全投影面積Ａ）に対する金属粒子の面積の合計値Ｂの割合である面積率〔（Ｂ／Ａ）×１００〕（以下、単に「面積率」とも記載する）が、７０％以上である。上記面積率が７０％以上であると、可視光線の反射率が大きくなり、好ましい金属調の外観が十分に得られる。また、上記面積率が高い場合、金属粒子の配列状態（粒子同士の密度分布又は重なり具合）が揃って、可視光の反射性能のばらつきを十分抑えることができる。
　上記の面積率は、８０％以上が好ましく、９９％以上がより好ましい。上限としては、１００％が挙げられる。

　上記の面積率は、必要に応じて積層体から金属粒子含有層を取り出した後、ＳＥＭを用いて金属粒子含有層の主面の法線方向から金属粒子含有層を観察して得られる画像（ＳＥＭ画像）、又は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて金属粒子含有層の主面の法線方向から金属粒子含有層を観察して得られる画像を、画像処理することにより測定される。なお、上記の面積の合計値Ｂを計測する際は、表面側に配置する金属粒子の面積のみを計測するのではなく、観察画像において視認可能な、より下層側に配置する金属粒子の面積も計測して、合計値Ｂに算入するものとする。
　金属粒子含有層の面積率を向上させる方法としては、例えば、金属粒子として平板状金属粒子を使用する方法、及び、金属粒子含有層中の金属粒子の充填率を高める方法が挙げられる。これらのいずれの方法によっても、金属粒子含有層の面内方向に沿った金属粒子の配列がより密になるとともに、金属粒子含有層内において金属粒子が厚み方向に重なる積層構造を形成し易くなるため、面積率が向上すると考えられる。
　金属粒子含有層の面積率の向上、及び、それに伴う金属反射特性の向上の点で、金属粒子として平板状金属粒子（より好ましくは六角形状又は円形状の金属粒子）を使用し、且つ、金属粒子含有層中の金属粒子の充填率が上記の好ましい範囲に含まれるように調整することが好ましい。

（厚み）
　金属粒子含有層の厚みは、特に制限されないが、１０～５００ｎｍが好ましく、１０～４００ｎｍがより好ましく、１０～３００ｎｍが更に好ましい。

〔反射層〕
　反射層は、コレステリック液晶層及び誘電体多層膜からなる群から選択される。
　以下、各層について詳述する。

＜コレステリック液晶層＞
　コレステリック液晶層においては、螺旋構造のピッチ、屈折率及び厚みからなる群より選択される少なくとも１種を変えることにより、視認される角度による色の変化及び視認される色自体を調整できる。上記螺旋構造のピッチは、カイラル剤の添加量を変えることによって容易に調整可能である。螺旋構造のピッチの調整については、富士フイルム研究報告Ｎｏ．５０（２００５年）ｐ．６０－６３に詳細に記載されており、この記載は本明細書に包含される。また、上記螺旋構造のピッチは、コレステリック配向状態を固定するときの温度、照度及び照射時間等の条件を変えることによっても調整できる。

　コレステリック液晶層は、コレステリック配向状態で固定した液晶化合物で構成されることが好ましい。つまり、コレステリック液晶層は、コレステリック液晶相を固定しなる層であることが好ましい。液晶化合物のコレステリック配向状態は、右円偏光を反射する配向状態であってもよく、左円偏光を反射する配向状態であってもよい。液晶化合物は特に制限されず、各種公知のものが使用できる。
　積層体において、コレステリック液晶層の配置は特に制限されず、金属粒子含有層に直接接していてもよいし、後述する色材層及び粘着剤層等の他の層を介して基材上に有していてもよい。
　以下、コレステリック液晶層を構成する成分について詳細に説明する。

（液晶組成物）
　上記コレステリック液晶層は、液晶組成物を硬化してなる層であることが好ましい。
　液晶化合物としては、公知の液晶化合物を用いることができ、重合性基を２つ以上有することが好ましい。つまり、液晶化合物としては、重合性液晶化合物が好ましい。
　重合性基としては、不飽和重合性基、環状エーテル基、エポキシ基、および、アジリジニル基が挙げられ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和基がより好ましい。
　上記コレステリック液晶層を形成するための液晶組成物は、例えば、重合性液晶化合物を含み、更に、カイラル剤、配向制御剤、重合開始剤及び配向助剤等の任意の成分を含んでいてもよい。
　重合性液晶化合物は、液晶構造を有する化合物であればよく、棒状液晶化合物であっても、円盤状液晶化合物であってもよい。コレステリック液晶層における螺旋構造のピッチの調整容易性の点で、棒状液晶化合物が好ましい。

　棒状液晶化合物としては、例えば、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、及び、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が挙げられる。上記のような低分子液晶化合物だけではなく、液晶性高分子化合物も用いることができる。
　上記コレステリック液晶層は、重合によって棒状液晶化合物の配向を固定してなる層であることがより好ましい。
　棒状液晶化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．　Ｃｈｅｍ．，　１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開第９５／０２２５８６号、同９５／０２４４５５号、同９７／０００６００号、同９８／０２３５８０号、同９８／０５２９０５号、特開平１－２７２５５１号公報、同６－０１６６１６号公報、同７－１１０４６９号公報、同１１－０８００８１号公報、及び、特開２００１－３２８９７３号公報に記載の化合物が例示される。

　円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報又は特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の化合物が例示される。

　液晶組成物は、液晶化合物を、１種単独で含んでいても、２種以上を含んでいてもよい。
　液晶化合物の含有量は、特に制限されないが、液晶組成物の全固形分に対して、２５質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が更に好ましい。なかでも、６０～９９質量％が特に好ましく、７０～９８質量％が最も好ましい。
　なお、固形分とは、液晶組成物中の溶媒を除いた成分を意味し、その性状が液状であっても固形分として計算する。

－カイラル剤（光学活性化合物）－
　液晶組成物は、コレステリック液晶層形成の容易性、及び、螺旋構造のピッチの調整容易性の点で、カイラル剤（光学活性化合物）を含むことが好ましい。
　カイラル剤は、コレステリック液晶層における螺旋構造を誘起する機能を有する。
　カイラル剤は、液晶化合物によって誘起する螺旋の捩れ方向又は螺旋ピッチが異なるため、目的に応じて選択すればよい。
　カイラル剤としては、特に制限されず、公知の化合物（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４－３項、ＴＮ（ｔｗｉｓｔｅｄ　ｎｅｍａｔｉｃ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ－ｔｗｉｓｔｅｄ　ｎｅｍａｔｉｃ）用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）、イソソルビド、及び、イソマンニド誘導体を用いることができる。
　カイラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物又は面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。
　軸性不斉化合物又は面性不斉化合物としては、例えば、ビナフチル化合物、ヘリセン化合物、及び、パラシクロファン化合物が挙げられる。

　液晶組成物は、カイラル剤として、重合性基を有するカイラル剤を含んでいてもよい。
　上記重合性基としては、重合可能な基であれば特に制限されないが、反応性の点で、エチレン性不飽和基、又は、環状エーテル基が好ましく、エチレン性不飽和基がより好ましい。

　カイラル剤がエチレン性不飽和基又は環状エーテル基を有する場合、反応性の点で、液晶組成物に含まれる液晶化合物が有するエチレン性不飽和基又は環状エーテル基と、カイラル剤が有するエチレン性不飽和基又は環状エーテル基とが、同種の基である（例えば、両者がいずれもエチレン性不飽和基であり、好ましくは（メタ）アクリロキシ基である）ことが好ましく、同じ基であることがより好ましい。
　重合性基を有するカイラル剤としては、反応性の点で、２つ以上の重合性基を有するカイラル剤が好ましく、２つ以上のエチレン性不飽和基を有するカイラル剤、又は、２つ以上の環状エーテル基を有するカイラル剤がより好ましく、２つ以上のエチレン性不飽和基を有するカイラル剤が更に好ましい。
　カイラル剤は、液晶化合物であってもよい。

　なお、後述するように、コレステリック液晶層を製造する際に、光照射によってコレステリック液晶層の螺旋ピッチの大きさを制御する場合、光に感応しコレステリック液晶層の螺旋ピッチを変化させる機能を有するカイラル剤（以下、「感光性カイラル剤」ともいう。）を含むことが好ましい。
　感光性カイラル剤とは、光を吸収することにより構造が変化し、コレステリック液晶層の螺旋ピッチを変化させる機能を有する化合物である。このような化合物としては、光異性化反応、光二量化反応、及び、光分解反応の少なくとも１つを起こす化合物が好ましい。
　光異性化反応を起こす化合物とは、光の作用で立体異性化又は構造異性化を起こす化合物をいう。このような化合物としては、例えば、アゾベンゼン化合物及びスピロピラン化合物が挙げられる。
　また、光二量化反応を起こす化合物とは、光の照射によって、二つの基の間に付加反応を起こして環化する化合物をいう。このような化合物としては、例えば、桂皮酸誘導体、クマリン誘導体、カルコン誘導体、及び、ベンゾフェノン誘導体が挙げられる。
　また、上記光としては、特に制限されず、紫外光、可視光及び赤外光が挙げられる。

　感光性カイラル剤としては、以下の下記式（ＣＨ１）で表されるカイラル剤が好ましい。下記式（ＣＨ１）で表されるカイラル剤は、光照射時の光量に応じてコレステリック液晶相の螺旋ピッチ（螺旋周期、ねじれ周期）等の配向構造を変化させる機能を有する。

　式（ＣＨ１）中、Ａｒ^ＣＨ１及びＡｒ^ＣＨ２はそれぞれ独立に、アリール基又は複素芳香環基を表し、Ｒ^ＣＨ１及びＲ^ＣＨ２はそれぞれ独立に、水素原子又はシアノ基を表す。

　式（ＣＨ１）のＡｒ^ＣＨ１及びＡｒ^ＣＨ２におけるアリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、シアノ基、及び、複素環基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、又は、アリールオキシカルボニル基が好ましい。
　式（ＣＨ１）のＡｒ^ＣＨ１及びＡｒ^ＣＨ２におけるアリール基の総炭素数は、６～４０が好ましく、６～３０がより好ましい。

　式（ＣＨ１）のＡｒ^ＣＨ１及びＡｒ^ＣＨ２における複素芳香環基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、及び、シアノ基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、又は、アシルオキシ基が好ましい。
　式（ＣＨ１）のＡｒ^ＣＨ１及びＡｒ^ＣＨ２における複素芳香環基の総炭素数は、４～４０が好ましく、４～３０がより好ましい。
　式（ＣＨ１）のＡｒ^ＣＨ１及びＡｒ^ＣＨ２における複素芳香環基としては、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、又は、ベンゾフラニル基が好ましく、ピリジル基、又は、ピリミジニル基がより好ましい。

　式（ＣＨ１）におけるＡｒ^ＣＨ１及びＡｒ^ＣＨ２としては、アリール基が好ましく、下記式（ＣＨ２）又は式（ＣＨ３）で表されるアリール基が好ましい。

　式（ＣＨ２）中、Ｒ^ＣＨ３は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、又は、シアノ基を表し、Ｌ^ＣＨ１は、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又は、ヒドロキシ基を表し、ｎＣＨ１は０～４の整数を表し、＊は式（ＣＨ１）におけるエチレン不飽和結合との結合位置を表す。
　式（ＣＨ３）中、Ｒ^ＣＨ４は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボキシ基、又は、シアノ基を表し、Ｌ^ＣＨ２は、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又は、ヒドロキシ基を表し、ｎＣＨ２は０～６の整数を表し、＊は式（ＣＨ１）におけるエチレン不飽和結合との結合位置を表す。

　式（ＣＨ２）におけるＲ^ＣＨ３及び式（ＣＨ３）におけるＲ^ＣＨ４としては、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、又は、アシルオキシ基が好ましく、アルコキシ基、ヒドロキシ基、又は、アシルオキシ基がより好ましく、アルコキシ基が更に好ましい。
　式（ＣＨ２）におけるＬ^ＣＨ１及び式（ＣＨ３）におけるＬ^ＣＨ２としては、炭素数１～１０のアルコキシ基、又は、ヒドロキシ基が好ましい。
　式（ＣＨ２）におけるｎＣＨ１は、０又は１が好ましい。
　式（ＣＨ３）におけるｎＣＨ２は、０又は１が好ましい。

　式（ＣＨ１）におけるＲ^ＣＨ１及びＲ^ＣＨ２はそれぞれ独立に、水素原子が好ましい。

　液晶組成物は、カイラル剤を、１種単独で含んでいても、２種以上を含んでいてもよい。
　カイラル剤の含有量は、使用する液晶化合物の構造や螺旋構造の所望のピッチに応じ適宜選択できるが、コレステリック液晶層形成の容易性、及び、螺旋構造のピッチの調整容易性の点で、液晶組成物の全固形分に対し、１～２０質量％が好ましく、２～２０質量％がより好ましく、３～２０質量％が更に好ましい。
　コレステリック液晶層におけるコレステリック液晶の螺旋構造のピッチ、並びに、後述する選択反射波長及びその範囲は、使用する液晶化合物の種類だけでなく、カイラル剤の含有量を調製することによっても、容易に変化させることができる。一概には言えないが、液晶組成物におけるカイラル剤の含有量が２倍になると、上記ピッチが１／２になり、且つ、選択反射波長の中心値も１／２となる場合がある。

－重合開始剤－
　液晶組成物は、重合開始剤を含むことが好ましく、光重合開始剤を含むことがより好ましい。
　液晶組成物がエチレン性不飽和基を１つ有する液晶化合物を含む場合、液晶組成物は、ラジカル重合開始剤を含むことが好ましく、光ラジカル重合開始剤を含むことがより好ましい。
　液晶組成物が環状エーテル基を１つ有する液晶化合物を含む場合、液晶組成物は、カチオン重合開始剤を含むことが好ましく、光カチオン重合開始剤を含むことがより好ましい。
　また、液晶組成物は、重合開始剤として、ラジカル重合開始剤、又は、カチオン重合開始剤のいずれか一方のみを含むことが好ましい。

　重合開始剤としては、公知の重合開始剤を用いることができ、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤が好ましい。
　光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル化合物（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン化合物及びフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）、及び、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が挙げられる。

　光ラジカル重合開始剤としては、公知のものを用いることができ、例えば、α－ヒドロキシアルキルフェノン化合物、α－アミノアルキルフェノン化合物、及び、アシルホスフィンオキサイド化合物が挙げられる。
　光カチオン重合開始剤としては、公知のものを用いることができ、例えば、ヨードニウム塩化合物、及び、スルホニウム塩化合物が挙げられる。

　液晶組成物は、重合開始剤を、１種単独で含んでいても、２種以上を含んでいてもよい。
　重合開始剤の含有量は、使用する液晶化合物の構造及び／又は螺旋構造の所望のピッチに応じて適宜選択できるが、コレステリック液晶層形成の容易性、螺旋構造のピッチの調整容易性、重合速度、及び、コレステリック液晶層の強度の点で、液晶組成物の全固形分に対し、０．０５～１０質量％が好ましく、０．０５～５質量％がより好ましく、０．１～５質量％が更に好ましい。

－架橋剤－
　液晶組成物は、硬化後のコレステリック液晶層の強度向上及び耐久性向上のため、架橋剤を含んでいてもよい。架橋剤としては、紫外線、熱又は湿気で硬化するものが使用できる。
　架橋剤としては、特に制限されず、目的に応じて適宜選択でき、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の多官能アクリレート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート及びエチレングリコールジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；２，２－ビスヒドロキシメチルブタノール－トリス［３－（１－アジリジニル）プロピオネート］及び４，４－ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン等のアジリジン化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート及びビウレット型イソシアネート等のイソシアネート化合物；オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物；並びに、ビニルトリメトキシシラン及びＮ－（２－アミノエチル）３－アミノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物が挙げられる。また、架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を用いることができ、コレステリック液晶層の強度及び耐久性向上に加えて生産性を向上させることができる。

　液晶組成物は、架橋剤を、１種単独で含んでいても、２種以上を含んでいてもよい。
　架橋剤の含有量は、コレステリック液晶層の強度及び耐久性の点で、液晶組成物の全固形分に対し、１～２０質量％が好ましく、３～１５質量％がより好ましい。

－多官能重合性化合物－
　液晶組成物は、多官能重合性化合物を含むことが好ましい。
　多官能重合性化合物としては、上述した化合物における、２つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ環状エーテル基を有さない液晶化合物、２つ以上の環状エーテル基を有し、かつエチレン性不飽和基を有さない液晶化合物、２つ以上のエチレン性不飽和基及び２つ以上の環状エーテル基を有する液晶化合物、２つ以上の重合性基を有するカイラル剤、並びに、架橋剤が挙げられる。
　なかでも、多官能重合性化合物としては、２つ以上のエチレン性不飽和基を有し、かつ環状エーテル基を有さない液晶化合物、２つ以上の環状エーテル基を有し、かつエチレン性不飽和基を有さない液晶化合物、及び、２つ以上の重合性基を有するカイラル剤よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物を含むことが好ましく、２つ以上の重合性基を有するカイラル剤を含むことがより好ましい。

　液晶組成物は、多官能重合性化合物を、１種単独で含んでいても、２種以上を含んでいてもよい。
　多官能重合性化合物の含有量は、液晶組成物の全固形分に対し、０．５～７０質量％が好ましく、１～５０質量％がより好ましく、１．５～２０質量％が更に好ましく、２～１０質量％が特に好ましい。

－その他の添加剤－
　液晶組成物は、必要に応じて、上述した以外のその他の添加剤を含んでいてもよい。
　その他の添加剤としては、公知の添加剤を用いることができ、例えば、配光制御剤、界面活性剤、重合禁止剤、酸化防止剤、水平配向剤、紫外線吸収剤、光安定剤、着色剤、及び、金属酸化物粒子が挙げられる。

　液晶組成物は、溶剤を含んでいてもよい。溶剤としては、特に制限されず、目的に応じて適宜選択できるが、有機溶剤が好ましい。
　有機溶剤としては、特に制限されず、目的に応じて適宜選択でき、例えば、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン等のケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、並びに、エーテル類が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。なかでも、環境への負荷を考慮した場合にはケトン類が好ましい。上述の成分が溶剤として機能していてもよい。

　液晶組成物における溶剤の含有量は、特に制限されず、所望の塗布性が得られる溶剤の含有量に調整すればよい。
　液晶組成物の全質量に対する固形分の含有量は、特に制限されないが、１～９０質量％が好ましく、５～８０質量％がより好ましく、１０～８０質量％が更に好ましい。
　コレステリック液晶層を形成する際の硬化時における液晶組成物の溶剤の含有量は、液晶組成物の全固形分に対し、５質量％以下が好ましく、３質量％以下がより好ましく、２質量％以下が更に好ましく、１質量％以下が特に好ましい。
　液晶組成物を硬化してなるコレステリック液晶層における溶剤の含有量は、コレステリック液晶層の全質量に対し、５質量％以下が好ましく、３質量％以下がより好ましく、２質量％以下が更に好ましく、１質量％以下が特に好ましい。

（コレステリック液晶層の特性）
－選択反射性－
　コレステリック液晶層は、特定の波長域に選択反射性を有することが好ましい。
　本明細書において、選択反射波長とは、対象となる物（部材）における透過率の極小値をＴｍｉｎ（％）とした場合、下記の式で表される半値透過率：Ｔ１／２（％）を示す２つの波長の平均値のことをいい、コレステリック液晶層が選択反射性を有するとは、選択反射波長を満たす特定の波長域をコレステリック液晶層が有することをいう。
　　半値透過率を求める式：Ｔ１／２＝１００－（１００－Ｔｍｉｎ）÷２
　上記コレステリック液晶層における選択反射波長（コレステリック液晶層の法線方向から光を入射した際の選択反射波長）は、特に制限されず、例えば、可視光（３８０～７８０ｎｍ）及び近赤外光（７８０ｎｍを超え２，０００ｎｍ以下）のいずれの範囲にも設定することが可能である。
　なかでも、コレステリック液晶層の選択反射波長は、可視光領域に位置することが好ましい。つまり、コレステリック液晶層は、波長３８０～７８０ｎｍの少なくとも一部の波長域に選択反射性を有することが好ましい。

－厚み－
　コレステリック液晶層の厚みは、特に制限されないが、０．３０μｍ以上が好ましく、０．５０μｍ以上が好ましく、０．６０μｍ以上が更に好ましく、１５．００μｍ以下が好ましく、１０．００μｍ以下がより好ましく、８．００μｍ以下が更に好ましい。
　積層体がコレステリック液晶層を２層以上有する場合は、各コレステリック液晶層の厚みが、上記の範囲に含まれることが好ましい。

（コレステリック液晶層の層構成）
　積層体は、所望する色味及び／又は光沢度に応じて、２層以上のコレステリック液晶層を有していてもよい。
　積層体が２層以上のコレステリック液晶層を有する場合、それぞれのコレステリック液晶層の組成及び厚みは、同じであってもよく、異なっていてもよい。
　積層体が２層以上のコレステリック液晶層を有する場合、基材の２つの表面上のそれぞれにコレステリック液晶層が形成されることが好ましい。
　積層体が２層以上のコレステリック液晶層を有する場合、それぞれのコレステリック液晶層の選択反射波長は同じであっても、異なっていてもよい。
　積層体が２層以上のコレステリック液晶層を有する場合、積層体は、右円偏光を反射するコレステリック液晶層と、左円偏光を反射するコレステリック液晶層とを有することが好ましい。なお、積層体が右円偏光を反射するコレステリック液晶層と、左円偏光を反射するコレステリック液晶層とを有する場合、右円偏光を反射するコレステリック液晶層の選択反射波長と、左円偏光を反射するコレステリック液晶層の選択反射波長とは、同じであっても、異なっていてもよい。

　積層体は、特定波長からの反射率が強められる点で、コレステリック液晶層を２層以上有することが好ましい。積層体が有するコレステリック液晶層の上限は特に制限されないが、１０層以下が好ましい。
　積層体が２層以上のコレステリック液晶層を有する場合、各コレステリック液晶層に隣接する層として基材及び／又は後述する配向層をそれぞれ設けてもよい。即ち、積層体が２層以上のコレステリック液晶層を有する場合、積層体は、コレステリック液晶層と、任意に設ける基材及び／又は配向層とからなる組合せを２つ以上有していてもよい。

　後述する配向層は、コレステリック液晶層に隣接して配置される層であり、配向層への配向処理（ラビング処理）の有無によって、コレステリック液晶層の拡散反射性を制御できる。
　より具体的には、ラビング処理を施していない配向層上でコレステリック液晶層を形成すると、コレステリック液晶層の法線方向から、螺旋軸のずれを、生じさせることができる。この螺旋軸のずれにより、得られるコレステリック液晶層が散乱性の層となる。この層の内部には、複数の配向欠陥が存在しうる。

　なお、コレステリック液晶層としては、正反射型のコレステリック液晶層、および、拡散反射型のコレステリック液晶層が挙げられる。
　通常、コレステリック液晶層断面をＴＥＭ観察すると、明部と暗部との縞模様が観察できる。縞模様は、層面に略平行な方向に明部と暗部とが繰り返されるように観察される。この明部と暗部の繰り返し２回分（明部２つおよび暗部２つ）が螺旋１ピッチ分に相当する。
　正反射型のコレステリック液晶層とは、コレステリック液晶層断面のＴＥＭ観察において、コレステリック液晶層中の明部をなす線および暗部をなす線がコレステリック液晶層表面に対して平行であるコレステリック液晶層を意味する。なお、上記平行とは、コレステリック液晶層断面のＴＥＭ観察において、明部をなす線および暗部をなす線と、コレステリック液晶表面とのなす角度が２°未満であることを意味する。
　拡散反射型のコレステリック液晶層とは、コレステリック液晶層断面のＴＥＭ観察において、コレステリック液晶層中の明部をなす線および暗部をなす線とコレステリック液晶層表面とのなす角度が２°以上である領域を有するコレステリック液晶層を意味する。上記のような領域がコレステリック液晶層に含まれることにより、層の法線方向から螺旋軸のずれを、生じさせることができる。この螺旋軸のずれにより、散乱性の層となる。この層の内部には、複数の上記領域が存在していてもよい。
　上記のような拡散反射性のコレステリック液晶層については、特開２０１６－００４２１１号公報及びＷＯ２０１５／０２５９０９の記載を参照することができる。

＜誘電体多層膜＞
　誘電体多層膜は、屈折率の異なる少なくとも２つの層が交互に多層積層されてなる膜である。
　誘電体多層膜は、相対的に高い屈折率を有する高屈折率層と、相対的に低い屈折率を有する低屈折率層とが交互に積層されてなる膜であることが好ましい。高屈折率層と低屈折率層は、有機層からなるものであっても無機層からなるものであってもよい。また、誘電体多層膜は特定の波長領域を選択的に反射するものであればよく、偏光反射性を有していても有していなくてもよい。
　誘電体多層膜の層構成（例えば、高屈折率層及び低屈折率層の屈折率、両者の屈折率差、及び、層厚等）を適宜設定することにより、所望の選択反射波長及び反射波長帯域を設定できる。なお、選択反射波長は、可視光（３８０～７８０ｎｍ）及び近赤外光（７８０ｎｍを超え２，０００ｎｍ以下）のいずれの範囲にも設定することが可能である。

　高屈折率層の形成に用いられる材料としては、屈折率が１．７～２．５の材料が好ましい。具体例としては、Ｓｂ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｓ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＣｅＯ_２、ＣｅＦ_３、ＨｆＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｎｄ_２Ｏ_３、Ｐｒ_６Ｏ_１１、Ｓｃ_２Ｏ_３、ＳｉＯ、Ｔａ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＴｌＣｌ、Ｙ_２Ｏ_３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、及び、ＺｒＯ_２が挙げられる。
　低屈折率層の形成に用いられる材料としては、屈折率が１．２～１．６の材料が好ましい。具体例としては、Ａｌ_２Ｏ_３、ＢｉＦ_３、ＣａＦ_２、ＬａＦ_３、ＰｂＣｌ_２、ＰｂＦ_２、ＬｉＦ、ＭｇＦ_２、ＭｇＯ、ＮｄＦ_３、ＳｉＯ_２、Ｓｉ_２Ｏ_３、ＮａＦ、ＴｈＯ_２、ＴｈＦ_４、及び、Ｎａ_３ＡｌＦ_６が挙げられる。

＜積層体の特性＞
　積層体の第１好適態様として、反射層が、正反射型のコレステリック液晶層であり、積層体の反射スペクトルにおいて、可視光領域にピークが観察され、ピークのピーク波長におけるピーク反射率と、ピークの短波長側の立ち上がり位置での第１反射率およびピークの長波長側の立ち上がり位置での第２反射率の平均値との差が５～７０％である態様が挙げられる。言い換えれば、積層体の第１好適態様においては、その反射スペクトルにおいて、ピーク反射率と上記平均値との差が所定の範囲であるピークが観察される。なお、上記所定の関係を満たすピークは、反射スペクトルにおいて複数観察されてもよい。
　以下、上記特性に関して、図３を用いて説明する。
　図３は、積層体の可視光領域（３８０～７８０ｎｍ）における反射スペクトルの一例である。反射層が正反射型のコレステリック液晶層である場合、図３に示すように、コレステリック液晶層由来の反射と、金属粒子含有層由来の反射とが組み合わされたスペクトルが得られる。コレステリック液晶層は特定の波長範囲に選択反射波長を有する特性を有し、図３に示すピークは、コレステリック液晶層に由来するピークであり、ピーク波長ＰＷはコレステリック液晶層の選択反射波長に該当する。
　なお、図３に示す反射スペクトルの反射率は、コレステリック液晶層側から測定した鏡面反射率と拡散反射率との和からなる全光線反射率を表す。つまり、上記反射スペクトルは、全光線反射スペクトルを意味する。

　積層体の第１好適態様においては、図３に示すように、反射スペクトルにおいて、ピーク波長ＰＷを有するピークが観測される。このピークのピーク波長ＰＷにおける反射率を、図３に示すように、ピーク反射率ＰＲとする。次に、このピークの短波長側の立ち上がり位置（図３中の立ち上がり位置Ｓ１）での反射率Ｒ１、および、ピークの長波長側の立ち上がり位置（図３中の立ち上がり位置Ｓ２）での反射率Ｒ２をそれぞれ算出し、その平均値｛（Ｒ１＋Ｒ２）／２｝を求める。次に、反射率Ｒ１と算出された平均値との差を求め、積層体の第１好適態様においては、その差が５．０～７０．０％であり、６．０～６５．０％が好ましく、１５．０～６５．０％がより好ましい。
　上記差が所定の範囲である場合、積層体の色味がより強く視認でき、かつ、より金属調カラーとして視認できる。
　なお、上記第１好適態様において算出される上記差は、コレステリック液晶層の選択反射波長における、積層体の全光線反射率と、金属粒子含有層の全光線反射率との差に該当する。

　積層体の第２好適態様として、反射層が、拡散反射型のコレステリック液晶層であり、積層体の拡散反射スペクトルにおいて、可視光領域にピークが観察され、ピークのピーク波長におけるピーク反射率と、拡散反射スペクトルの可視光領域における最低反射率との差が７～４０％である態様が挙げられる。言い換えれば、積層体の第２好適態様においては、その拡散反射スペクトルにおいて、ピーク反射率と上記最低反射率との差が所定の範囲であるピークが観察される。なお、上記所定の関係を満たすピークは、拡散反射スペクトルにおいて複数観察されてもよい。
　以下、上記特性に関して、図４を用いて説明する。
　図４は、積層体の可視光領域（３８０～７８０ｎｍ）における拡散反射スペクトルの一例である。反射層が拡散反射型のコレステリック液晶層である場合、図４に示すように、コレステリック液晶層由来の反射と、金属粒子含有層由来の反射とが組み合わされた拡散反射スペクトルが得られる。コレステリック液晶層は特定の波長範囲に選択反射波長を有する特性を有し、図３に示すピークは、コレステリック液晶層に由来するピークであり、ピーク波長ＰＷはコレステリック液晶層の選択反射波長に該当する。
　なお、図４に示す拡散反射スペクトルの反射率は、コレステリック液晶層側から測定した拡散反射率を表す。

　積層体の第２好適態様においては、図４に示すように、拡散反射スペクトルにおいて、ピーク波長ＰＷを有するピークが観測される。このピークのピーク波長ＰＷにおける反射率を、図４に示すように、ピーク反射率ＰＲとする。次に、拡散反射スペクトルの可視光領域における最も小さい反射率（最低反射率ＬＲ）を求める。次に、反射率Ｒ１と最低反射率ＬＲとの差を求め、積層体の第２好適態様においては、その差が６．０～４０．０％であり、７．０～４０．０％が好ましく、１５．０～４０．０％がより好ましい。
　上記差が所定の範囲である場合、積層体の色味がより強く視認でき、かつ、より金属調カラーとして視認できる。
　なお、上記第２好適態様において算出される上記差は、コレステリック液晶層の選択反射波長における、積層体の拡散反射率と、金属粒子含有層の拡散反射率との差に該当する。

　また、金属調意匠と反射色相意匠とを同時に良好に示す点から、反射層が正反射型のコレステリック液晶層である場合、金属粒子含有層における金属粒子の含有量は０．１０ｇ／ｍ^２超（好ましくは、０．１５ｇ／ｍ^２以上）であることが好ましく、かつ、正反射型のコレステリック反射層の厚みは３．０μｍ以上であることが好ましい。
　また、金属調意匠と反射色相意匠とを同時に良好に示す点から、反射層が拡散反射型のコレステリック液晶層である場合、金属粒子含有層における金属粒子の含有量は０．１０ｇ／ｍ^２超（好ましくは、０．１５ｇ／ｍ^２以上）であることが好ましく、かつ、拡散反射型のコレステリック反射層の厚みは１．００μｍ以上であることが好ましい。
　さらに、反射層が正反射型のコレステリック液晶層である場合、金属粒子の含有量に対する、正反射型のコレステリック反射層の厚みの比（正反射型のコレステリック液晶層の厚み（μｍ）÷金属粒子含有量（ｇ／ｍ^２））は、１．５～１００であることが好ましく、１０～７０であることがより好ましい。
　さらに、反射層が拡散反射型のコレステリック液晶層である場合、金属粒子の含有量に対する、拡散反射型のコレステリック反射層の厚みの比（拡散反射型のコレステリック液晶層の厚み（μｍ）÷金属粒子含有量（ｇ／ｍ^２））は、０．２５～５０であることが好ましく、５～４０であることがより好ましい。

〔その他の層〕
　積層体は、上記の基材、金属粒子含有層、及び、反射層以外の層を有していてもよい。他の層としては、例えば、配向層、色材層、粘着剤層、ハードコート層、紫外線カット層、及び、保護層が挙げられる。また、積層体の最表面及び／又は金属粒子含有層に、ヘアライン構造、又は、サンドブラスト構造を有していてもよい。

＜配向層＞
　積層体は、コレステリック液晶層に接する配向層を有していてもよい。配向層は、液晶化合物を含む層の形成の際、液晶組成物中の液晶化合物の分子を配向させるために用いられる。
　積層体は、コレステリック液晶層に接する配向層を有することが好ましい。

　配向層は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、ＳｉＯ等の無機化合物の斜方蒸着、及び、マイクログルーブを有する層の形成等の公知の手段で設けることができる。また、電場の付与、磁場の付与又は光照射により配向機能が生じる配向層も用いることができる。
　また、配向層としては、ラビング処理が施されていない層を用いてもよい。

　なお、コレステリック液晶層と隣接する他の層（例えば、基材及び他のコレステリック液晶層等）の材料によっては、他の層を直接配向処理（例えば、ラビング処理）することで、配向層として機能させることもできる。そのような層を構成する材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が挙げられる。
　また、コレステリック液晶層の上に別のコレステリック液晶層を直接積層する場合、下層のコレステリック液晶層が、配向層として振舞い、上層のコレステリック液晶層に含まれる液晶化合物を配向させることができる場合もある。このような場合、配向層を設けなくても、また、特別な配向処理（例えば、ラビング処理）を実施しなくても上層の液晶化合物を配向できる。
　配向層の厚みは、特に制限はないが、０．０１～１０μｍが好ましい。

　以下、配向層の好ましい例として、表面をラビング処理して形成されるラビング処理配向層、及び、光配向層について説明する。

（ラビング処理配向層）
　ラビング処理配向層を構成する材料（以下、「配向層ポリマー」とも記載する）としては、例えば、特開平８－３３８９１３号公報の段落００２２に記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ－メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、並びに、ポリカーボネートが挙げられる。また、シランカップリング剤を用いることもできる。
　なかでも、水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ－メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールが更に好ましい。

　ラビング処理配向層に接するコレステリック液晶層を形成する際、配向層のラビング処理面に液晶組成物を塗布して、液晶化合物の分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向層ポリマーとコレステリック液晶層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、又は、架橋剤を用いて配向層ポリマーを架橋させることで、コレステリック液晶層を形成できる。

－ラビング処理－
　コレステリック液晶層を形成するための上記塗布液が塗布される、配向層、基材、又は、その他の層の表面は、必要に応じてラビング処理をしてもよい。ラビング処理は、ポリマーを主成分とする膜の表面を、紙や布で一定方向に擦ることにより実施する。ラビング処理の一般的な方法については、例えば、「液晶便覧」（丸善社発行、平成１２年１０月３０日）に記載されている。

　ラビング密度を変える方法としては、上記「液晶便覧」（丸善社発行）に記載されている方法を用いることができる。ラビング密度（Ｌ）は、下記式（Ａ）で定量化されている。
　　式（Ａ）　　Ｌ＝Ｎｌ（１＋２πｒｎ／６０ｖ）
　式（Ａ）中、Ｎはラビング回数、ｌはラビングローラーの接触長、ｒはローラーの半径、ｎはローラーの回転数（ｒｐｍ）、ｖはステージ移動速度（秒速）である。

　ラビング密度を高くする方法としては、ラビング回数を増やす、ラビングローラーの接触長を長くする、ローラーの半径を大きくする、ローラーの回転数を増やす、及び、ステージ移動速度を遅くする等の方法が挙げられる。一方、ラビング密度を低くするためには、この逆の方法を行えばよい。ラビング処理の際の条件としては、特許第４０５２５５８号公報の記載も参照できる。

（光配向層）
　光照射により形成される光配向層に用いられる光配向材料は、多数の文献に記載されている。光配向材料としては、公知の材料を使用すればよく、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－０７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－０９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号公報、及び、特許第４１５１７４６号公報に記載のアゾ化合物；特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物；特開２００２－２６５５４１号公報、及び、特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び／又はアルケニル置換ナジイミド化合物；特許第４２０５１９５号公報、及び、特許第４２０５１９８号公報に記載の光架橋性シラン誘導体；並びに、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、及び、特許第４１６２８５０号公報に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又は、ポリエステルが挙げられる。なかでも、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又は、ポリエステルが好ましい。

　光配向層は、光配向材料を用いて形成した膜に、直線偏光照射又は非偏光照射を施すことにより、形成する。
　本明細書において、「直線偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。直線偏光照射に用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に制限されない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００～７００ｎｍが好ましい。なかでも、２００～４００ｎｍの紫外光がより好ましい。

　光照射に用いる光源としては、公知の光源を使用でき、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ及びカーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー（例えば、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー及びＹＡＧレーザー）、発光ダイオード、並びに、陰極線管が挙げられる。

　直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、二色色素偏光板及びワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）又はブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、並びに、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルター及び波長変換素子等の光学部材を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。

　直線偏光の場合の光照射方法としては、例えば、配向層が有する主面の一方から配向層表面に対して垂直、又は、斜めから光を照射する方法が挙げられる。光の入射角度は、用いる光配向材料によって異なるが、配向層の表面に対して、０～９０°（垂直）が好ましく、４０～９０°がより好ましい。
　非偏光を利用する場合、配向層の表面に対して斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０～８０°が好ましく、２０～６０°がより好ましく、３０～５０°が更に好ましい。
　照射時間は、１～６０分間が好ましく、１～１０分間がより好ましい。

＜色材層＞
　積層体は、意匠性に優れる点で、色材層を更に有することが好ましい。色材層は、着色剤を含む層である。
　積層体は、色材層を１層のみ有していても、２層以上有していてもよい。

　積層体が色材層を有する場合、色材層の少なくとも１層が、反射層を介して視認するための層であることが好ましい。色材層の少なくとも１層を反射層を介して視認することにより、反射層における入射光の角度に応じた異方性に基づき、視認する角度に応じて積層体の色の変化が生じ、特殊な意匠性を示すと推察される。また、反射光の視認性も向上する。

　色材層の全光透過率は、２０～９５％が好ましく、４０～９０％がより好ましい。

　色材層の色としては、特に制限されないが、白、灰、黒、赤、橙、黄、緑、青、及び、紫が挙げられ、白、灰、黒、赤、橙、又は、黄が好ましい。また、色材層の色は、金属調の色であってもよい。

　色材層は、強度及び耐傷性の点で、樹脂を含んでいてもよい。樹脂としては、後述するバインダー樹脂が挙げられる。また、色材層は、重合性化合物を硬化してなる層であってもよく、重合性化合物及び重合開始剤を含む層であってもよい。
　重合性化合物及び重合開始剤としては、特に制限されず、公知のものを用いることができる。

（着色剤）
　着色剤としては、例えば、顔料及び染料が挙げられ、耐久性の点で、顔料が好ましい。

　顔料としては、特に制限されず、公知の無機顔料及び有機顔料が使用できる。
　無機顔料としては、例えば、二酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、及び、硫酸バリウム等の白色顔料、カーボンブラック、チタンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、及び、黒鉛等の黒色顔料、酸化鉄、バリウムイエロー、カドミウムレッド、並びに、クロムイエローが挙げられる。
　無機顔料としては、特開２００５－００７７６５号公報の段落００１５及び段落０１１４に記載の無機顔料を適用することもできる。

　有機顔料としては、例えば、フタロシアニンブルー及びフタロシアニングリーン等のフタロシアニン系顔料、アゾレッド、アゾイエロー及びアゾオレンジ等のアゾ系顔料、キナクリドンレッド、シンカシャレッド及びシンカシャマゼンタ等のキナクリドン系顔料、ペリレンレッド及びペリレンマルーン等のペリレン系顔料、カルバゾールバイオレット、アントラピリジン、フラバンスロンイエロー、イソインドリンイエロー、インダスロンブルー、ジブロムアンザスロンレッド、アントラキノンレッド、並びに、ジケトピロロピロールが挙げられる。
　より具体的な有機顔料としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１７７、１７９、２２４、２４２、２５４、２５５及び２６４等の赤色顔料、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１３８、１３９、１５０、１８０及び１８５等の黄色顔料、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｏｒａｎｇｅ　３６、３８及び７１等の橙色顔料、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７、３６及び５８等の緑色顔料、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１５：６等の青色顔料、並びに、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　２３等の紫色顔料が挙げられる。
　有機顔料としては、特開２００９－２５６５７２号公報の段落００９３に記載の有機顔料を使用してもよい。

　顔料としては、光透過性及び光反射性を有する顔料（いわゆる、光輝性顔料）を使用してもよい。光輝性顔料としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、鉄、ニッケル、スズ、酸化アルミニウム、及びこれらの合金等の金属製光輝性顔料、干渉マイカ顔料、ホワイトマイカ顔料、グラファイト顔料、並びに、ガラスフレーク顔料が挙げられる。光輝性顔料は、無着色のものであってもよく、着色されたものであってもよい。
　光輝性顔料は、積層体の成形において露光を行う場合、露光による硬化を妨げない範囲において用いられることが好ましい。

　着色剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上の着色剤を用いる場合、無機顔料と有機顔料とを組み合わせてもよい。
　色材層中の着色剤の含有量は、目的とする色の発現の点で、色材層の全質量に対して、１質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、１０質量％以上が更に好ましい。着色剤の含有量の上限は特に制限されず、色材層の全質量に対して１００質量％であってもよい。

（分散剤）
　色材層に含まれる着色剤、特に顔料の分散性を向上する点で、色材層は、分散剤を含んでいてもよい。分散剤を含むことにより、形成される色材層における着色剤の分散性が向上し、得られる積層体における発色がより均一になる。
　分散剤としては、着色剤の種類及び形状に応じて適宜選択でき、高分子分散剤が好ましい。
　高分子分散剤としては、例えば、シリコーンポリマー、アクリルポリマー及びポリエステルポリマーが挙げられる。積層体に耐熱性を付与したい場合には、例えば、分散剤として、グラフト型シリコーンポリマー等のシリコーンポリマーを用いることが好ましい。

　分散剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　色材層中の分散剤の含有量は、着色剤１００質量部に対して、１～３０質量部が好ましい。

（バインダー樹脂）
　色材層は、成形加工適正の点で、バインダー樹脂を含んでいてもよい。
　バインダー樹脂としては、特に制限されず、公知の樹脂を適用できる。バインダー樹脂としては、所望の色を得る点で、透明な樹脂が好ましく、具体的には、全光透過率が８０％以上の樹脂が好ましい。全光透過率は、分光光度計（例えば、（株）島津製作所製、分光光度計ＵＶ－２１００）により測定される。
　バインダー樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル、ポリウレタン及びポリオレフィンが挙げられる。バインダー樹脂は、特定の単量体の単独重合体であってもよく、特定の単量体と他の単量体との共重合体であってもよい。
　バインダー樹脂は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。色材層中のバインダー樹脂の含有量は、成形加工性の点で、色材層の全質量に対して、５～７０質量％が好ましい。

（添加剤）
　色材層は、上記の成分以外に、必要に応じて添加剤を含んでいてもよい。
　添加剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、及び、特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～００７１に記載の界面活性剤、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤（重合禁止剤ともいう。フェノチアジンが好ましい。）、並びに、特開２０００－３１０７０６号公報の段落００５８～００７１に記載の添加剤が挙げられる。

（色材層の形成方法）
　色材層の形成方法としては、例えば、色材層形成用組成物を用いる方法、及び、着色されたフィルムを貼り合せる方法が挙げられ、色材層形成用組成物を用いる方法が好ましい。また、ｎａｘレアルシリーズ、ｎａｘアドミラシリーズ、及びｎａｘマルチシリーズ（日本ペイント株式会社製）、並びに、レタンＰＧシリーズ（関西ペイント株式会社製）等の市販の塗料を用いて色材層を形成してもよい。

　色材層形成用組成物を用いる方法としては、色材層形成用組成物を塗布して色材層を形成する方法、及び、色材層形成用組成物を印刷して色材層を形成する方法が挙げられる。印刷方法としては、例えば、スクリーン印刷、インクジェット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、及び、オフセット印刷が挙げられる。

　色材層形成用組成物は、着色剤を含む。色材層形成用組成物は、有機溶剤を更に含むことが好ましく、色材層に含まれ得る各成分を含んでいてもよい。
　色材層形成用組成物に含まれ得る各成分の含有量は、色材層中の各成分の含有量に関する記載のうち、「色材層」を「色材層形成用組成物の全固形分」と読み替えた量の範囲で調節することが好ましい。

　有機溶剤としては、特に制限されず、公知の有機溶剤を適用でき、例えば、エステル化合物、エーテル化合物、ケトン化合物及び芳香族炭化水素化合物が挙げられる。
　有機溶剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　有機溶剤の含有量は、色材層形成用組成物の全質量に対して、５～９０質量％が好ましく、３０～７０質量％がより好ましい。

　色材層形成用組成物の調製方法としては、特に制限されず、例えば、有機溶剤と、着色剤等の色材層に含まれる成分とを混合すればよい。色材層形成用組成物が顔料を含む場合、顔料の均一分散性、及び、分散安定性をより高める点で、顔料と分散剤とを含む顔料分散液を用いて、色材層形成用組成物を調製することが好ましい。

（色材層の厚み）
　色材層の厚みは、特に制限されないが、視認性及び立体成形性の点で、０．５μｍ以上が好ましく、３μｍ以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、５０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましい。
　積層体が２層以上の色材層を有する場合は、各色材層の厚みが上記の範囲に含まれることが好ましい。

＜粘着剤層＞
　積層体は、粘着剤層を有することが好ましい。粘着剤層は、例えば、上記の基材又は金属粒子含有層の表面に配置され、他の部材との密着性を高める機能を有する。
　粘着剤層の形成に利用可能な材料としては、特に制限されず、公知の粘着剤又は接着剤を目的に応じて適宜選択できる。
　粘着剤及び接着剤としては、例えば、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、アクリル樹脂、スチレン／アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、ゴム系粘着剤、エチレン酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリアミド樹脂が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
　粘着剤層は、更に、紫外線吸収剤、帯電防止剤、滑剤及びブロッキング防止剤からなる群より選択される少なくとも１種を含んでいてもよい。

　粘着剤層の厚みは、特に制限されず、０．１～３０μｍが好ましい。
　粘着剤層を形成する方法としては、特に制限されないが、例えば、上記の材料を含む組成物を基材又は金属粒子含有層の表面に塗布することにより形成できる。

＜ヘアライン層＞
　積層体は、ヘアライン構造をもつヘアライン層を有していてもよい。ヘアライン構造とは、毛髪程の微細な溝又は凹凸が多数並んで、面内に沿った共通する方向に延びてなる形状を意味する。ヘアライン構造が、積層体の最外面及び金属粒子含有層の表面からなる群より選ばれる少なくとも１つの面に形成される場合、本発明の積層体を用いた際に意匠性に優れた金属の質感をより表現できる。
　なお、積層体の「最外面」とは、積層体の積層方向の最も外側に存在する表面（主面）を意味する。
　なお、金属粒子含有層の表面にヘアライン構造が設けられる場合、ヘアライン構造有する金属粒子含有層は、金属粒子含有層、かつ、ヘアライン層に該当する。

　上述したように、ヘアライン構造は、積層体の最外面及び金属粒子含有層の表面のいずれに形成されていてもよい。
　なかでも、ヘアライン構造は、ヘアライン加工された金属面に近い、鋭く鮮明な質感となり、意匠性により優れた金属調の外観が得られることから、金属粒子含有層の表面の少なくとも一方に形成されていることが好ましい。
　更には、ヘアライン構造は、耐傷性が向上する観点から、積層体の露出した最外面に形成されず、積層体の内部、即ち、金属粒子含有層の表面のうち他の層と接する表面に形成されることがより好ましい。

　また、ヘアライン構造は、積層体の最外面又は金属粒子含有層の表面の一部のみに形成されていてもよく、積層体の最外面又は金属粒子含有層の表面の全面に形成されていてもよい。
　積層体が有するヘアライン構造において、溝が延びる方向に対して直交する方向の算術平均粗さ（Ｒａ）は、積層体の外観における金属質感を強調することができるため、０．０１～１．５μｍが好ましく、０．０２～１．０μｍがより好ましい。
　ここで、算術平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１に規定された算術平均粗さを意味する。
　積層体は、１つのヘアライン構造を有していてもよく、２つ以上のヘアライン構造を有していてもよい。

　積層体の最外面又は金属粒子含有層の表面にヘアライン構造を形成する方法は、特に制限されず、ヘアライン構造を施す方法として公知の方法で形成すればよい。
　ヘアライン構造の形成方法としては、例えば、上記の基材又は金属粒子含有層の表面に、サンドペーパー又は金属ブラシを備える加工装置を用いて微細な溝を形成する方法が挙げられる。また、上記の加工装置を用いて金型の表面にヘアライン構造を形成し、その金型を用いて上記の基材又は金属粒子含有層を作製することにより、転写されたヘアライン構造を有する基材又は金属粒子含有層を作製してもよい。
　また、積層体におけるヘアライン構造の形成は、予めヘアライン構造を形成した基材、金属粒子含有層又はその他の層を積層することにより行ってもよく、積層体を製造した後、積層体の最外面に対して上記の加工を施すことにより行ってもよい。製造のし易さの点で、上記の方法により基材にヘアライン構造を形成した後、ヘアライン構造を有する基材を金属粒子含有層等の層に積層することが好ましい。

　積層体は、上記の層以外の層を有してもよい。積層体が有してもよい層としては、ハードコート層、オーバーコート層、保護層、及び、バック層が挙げられる。
　ハードコート層は、積層体に耐擦傷性を付加する機能を有する。ハードコート層としては特に制限されず、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂及びフッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂からなるハードコート層が挙げられる。ハードコート層には金属酸化物粒子を含んでいてもよい。ハードコート層の厚みは、１～５０μｍが好ましい。
　オーバーコート層は、金属粒子含有層の表面に密接することにより、物質移動による平板状金属粒子の酸化・硫化を防止し、耐擦傷性を付与する機能を有する。オーバーコート層としては、例えば、バインダー、マット剤及び界面活性剤を含み、必要に応じて、更に紫外線吸収剤、光安定剤及び／又は酸化防止剤を含む層が挙げられる。バインダーとしては、例えば、上記のハードコート層を構成する熱硬化型又は光硬化型樹脂が挙げられる。オーバーコート層の厚みは、０．０１～１．０００μｍが好ましい。
　保護層は、上記金属粒子含有層又はコレステリック液晶層を保護する機能を有する。保護層は、耐久性の点で樹脂を含むことが好ましく、シロキサン樹脂、フッ素樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂及びポリオレフィン樹脂よりなる群から選ばれた少なくとも１種の樹脂を含むことがより好ましい。
　バック層は、積層体内部のセンサー類が透け、意匠性を低下させることを防止する機能を有する。電波透過性、及び、意匠性の点で、バック層は、白顔料を有する白色反射層、又は黒顔料を有する黒色吸収層であることが好ましい。

〔積層体の製造方法〕
　積層体の製造方法としては、特に制限されず、目的に応じて適宜選択でき、例えば、塗布方法により、基材の表面に金属粒子含有層を形成し、更に金属粒子含有層上に反射層を形成する方法が挙げられる。
　以下、上記方法について、詳述する。

＜金属粒子含有層の形成方法＞
　金属粒子含有層の形成方法としては、特に制限されず、目的に応じて適宜選択でき、例えば、基材の表面上に、上記の被覆金属粒子を含む分散液（金属粒子含有層形成用組成物）を、ディップコーター、ダイコーター、スリットコーター、バーコーター及びグラビアコーター等の方法で塗布する方法、並びに、ＬＢ膜法、自己組織化法及びスプレー塗布等の方法で面配向させる方法が挙げられる。
　なお、被覆金属粒子の面配向を促進するために、金属粒子含有層形成用組成物を塗布した後、カレンダーローラー及びラミローラー等の圧着ローラーで基材及び塗布膜を有する積層体をプレスしてもよい。

　金属粒子含有層形成用組成物は、溶剤（分散剤）を含んでいてもよい。溶剤としては、被覆金属粒子を分散させるものであれば特に制限されず、水又は水溶性有機溶剤が好ましい。溶剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

　金属粒子含有層形成用組成物における溶剤の含有量は、特に制限されず、所望の塗布性が得られる溶剤の含有量に調整すればよい。
　金属粒子含有層形成用組成物の全質量に対する固形分の含有量は、特に制限されないが、０．１～２０質量％が好ましく、０．５～１５質量％がより好ましい。
　金属粒子含有層形成用組成物に含まれる各成分の含有量は、特に制限されないが、上記の金属粒子含有層に含まれる各成分の含有量に関する記載において、「金属粒子含有層」を「金属粒子含有層形成用組成物の全固形分」と読み替えた量の範囲で調節することが好ましい。

＜反射層の形成方法＞
　金属粒子含有層上に反射層を形成する方法は、特に制限されず、別途用意した反射層を金属粒子含有層上に貼合する方法が挙げられる。
　以下では、反射層であるコレステリック液晶層及び誘電体多層膜の場合について詳述する。

（コレステリック液晶層の形成方法）
　コレステリック液晶層の形成方法としては、上述した液晶組成物を用いる方法が挙げられる。
　まず、液晶組成物の塗布による塗布膜の形成は、例えば、溶剤の添加により液晶組成物の粘度を低減するか、又は、加熱による溶融液として得られる塗布液を、ロールコーティング方式、グラビア印刷方式及びスピンコート方式等の方式で展開する方法により行うことができる。塗布膜の形成は、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、及び、ダイコーティング法等の方法によっても行うことができる。また、インクジェット装置を用いて、液晶組成物をノズルから吐出して、塗布膜を形成することもできる。

　上記の方法で形成された液晶組成物の塗布膜を硬化することにより、コレステリック液晶層を形成する。硬化により、液晶化合物を含む液晶化合物の分子の配向状態を維持して固定する。
　硬化は、液晶化合物が有する重合性基の重合反応により実施することが好ましい。硬化は、露光又は加熱により行うことが好ましく、露光により行うことがより好ましい。

　液晶組成物の塗布膜を露光により硬化する場合、液晶組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。
　露光の光源としては、光重合開始剤の種類に応じて適宜選択でき、可視光領域の光（例えば、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍ）を照射できる光源が好ましい。そのような光源としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯及びメタルハライドランプが挙げられる。
　露光量としては、特に制限されないが、５～２，０００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、１０～１，０００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。
　また、露光による硬化の際に、液晶化合物の配列を容易にするため、加熱することが好ましい。加熱温度としては、使用する液晶化合物及び液晶組成物の組成に応じて選択すればよいが、例えば、６０～１２０℃が挙げられる。
　露光により、コレステリック液晶層を形成するだけでなく、必要に応じて、色材層等の他の層も合わせて硬化してもよい。
　露光方法としては、例えば、特開２００６－０２３６９６号公報の段落００３５～００５１に記載の方法を適用してもよい。

　液晶組成物の塗膜を熱により硬化する場合、加熱温度及び加熱時間は特に制限されず、使用する熱重合開始剤及び液晶化合物に応じて適宜選択すればよい。加熱温度は、６０～２００℃が好ましく、加熱時間は、５分間～２時間が好ましい。
　加熱手段は、特に制限されず、公知の加熱手段を用いることができる。加熱手段としては、例えば、ヒーター、オーブン、ホットプレート、赤外線ランプ及び赤外線レーザーが挙げられる。

　塗布液が溶剤を含む場合、液晶組成物の塗布後であって、硬化のための重合反応前に、公知の方法で塗布膜を乾燥することが好ましい。例えば、放置又は風乾によって乾燥してもよく、加熱によって乾燥してもよい。
　液晶組成物の塗布及び乾燥後のコレステリック液晶層において、液晶組成物中の液晶化合物が配向していればよい。

　なお、液晶組成物を塗布する際の被塗布物は特に制限されず、配向層であってもよいし、基材であってもよい。なかでも、配向性の制御がしやすい点で、配向層が好ましい。

　金属粒子含有層上にコレステリック液晶層を積層する方法としては、別の基材（または、基材と配向層とを有する積層体）上にコレステリック液晶層を形成して得られた積層体を、粘着剤層等を介して、金属粒子含有層上に貼合する方法が挙げられる。

（誘電体多層膜の製造方法）
　誘電体多層膜の形成方法としては、例えば、イオンプレーティング、及び、イオンビーム等の真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相成長法（ＰＶＤ法）、化学的気相成長法（ＣＶＤ法）が挙げられる。
　金属粒子含有層上に誘電体多層膜を積層する方法としては、別の基材上に誘電体多層膜を形成して得られた積層体を、粘着剤層等を介して、金属粒子含有層上に貼合する方法が挙げられる。

＜その他の工程＞
　積層体の製造方法は、積層体の層構成に応じて、上記の工程以外に、例えば、粘着剤層を形成する工程、配向層を形成する工程、各層を転写し貼り合わせする工程、及び、色材層を形成する工程等の工程を有していてもよい。
　粘着剤層、配向層及び色材層等の上記各層の形成については、上述した方法、又は、公知の方法を用いて行うことができる。

〔積層体の特性〕
＜電磁波透過性＞
　積層体は、下記の試験方法に従って測定される周波数７０～９０ＧＨｚの電磁波（ミリ波）の透過性が、１ｄＢ以下であることが好ましく、０．５ｄＢ以下であることがより好ましい。
　電磁波透過性の測定は、下記の試験方法に従って行う。まず、電磁波の送信側及び受信側の治具間に積層体のサンプルを挟んで電磁波強度を測定する。次いで、両治具間に何も挟まない場合に測定された電磁波強度を測定する。これらの測定結果から、両治具間に何も挟まない場合に測定された電磁波に対する、積層体のサンプルを挟んだ場合に測定された電磁波強度の減衰量をｄＢで換算する。
　本試験において、電磁波の周波数は７０～９０ＧＨｚに設定する。また、本試験では、電磁波の送信側及び受信側の治具としてＶｉｒｇｉｎｉａ　Ｄｉｏｄｅｓ製ミリ波モジュール「ＷＲ１０－ＶＮＡＸ」を使用し、ベクトルネットワークアナライザ　Ｎ５２２７Ａを用いて測定する。

＜厚み＞
　積層体の厚みは特に制限されず、使用目的に応じて適宜選択でき、１６～１０００μｍが好ましく、３０～８００μｍがより好ましく、５０～５００μｍが更に好ましい。

〔積層体の用途〕
　上述した積層体は、意匠性に優れた金属調の外観を有し、かつ、電磁波の透過性に優れることから、例えば、電磁波レーダーの送受信機を搭載する自動車の外装部品に用いることが好ましく、車体外装部に設けられ、金属調の外観を有するエンブレム、グリル、及び、ドアノブ部を構成する材料として用いることがより好ましい。
　積層体は、上記以外に、例えば、外装ボディの加飾部、内装の加飾部、及び、その他デバイスの加飾部に使用してもよい。また、電磁誘導方式の無線充電を妨げないことから、スマートフォンの外装加飾部に使用してもよい。

　以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら制限されるものではない。
　以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容及び処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

〔製造例１：銀ナノディスク分散液Ｂの調製〕
＜銀ナノディスク分散液Ａの調製＞
　高Ｃｒ－Ｎｉ－Ｍｏステンレス鋼（ＮＴＫＲ－４、日本金属工業（株）製）製の反応容器にイオン交換水１３Ｌを計量した。ＳＵＳ３１６Ｌ製のシャフトにＮＴＫＲ－４製のプロペラ４枚及びＮＴＫＲ－４製のパドル４枚を取り付けた撹拌機を備えるチャンバーを用いて撹拌しながら、反応容器に１０ｇ／Ｌのクエン酸三ナトリウム（無水物）水溶液１．０Ｌを添加して、３５℃に液温を保持した。上記溶液に８．０ｇ／Ｌのポリスチレンスルホン酸水溶液０．６８Ｌを添加し、更に、０．０４Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を用いて濃度を２３ｇ／Ｌに調整した水素化ホウ素ナトリウム水溶液０．０４１Ｌを、上記溶液に添加した。反応容器中の上記溶液に、０．１０ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液１３Ｌを５．０Ｌ／ｍｉｎで添加し、種溶液を調製した。
　上記種溶液に、１０ｇ／Ｌのクエン酸三ナトリウム（無水物）水溶液１．０Ｌとイオン交換水１１Ｌを添加して、更に８０ｇ／Ｌのヒドロキノンスルホン酸カリウム水溶液０．６８Ｌを添加した。撹拌の速度を８００ｒｐｍに上げて、０．１０ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液８．１Ｌを０．９５Ｌ／ｍｉｎで反応容器に添加した後、３０℃に降温した。
　４４ｇ／Ｌのメチルヒドロキノン水溶液８．０Ｌを反応容器に添加し、次いで、後述する４０℃のゼラチン水溶液の全量を反応容器に添加した。撹拌の速度を１，２００ｒｐｍに上げて、後述する亜硫酸銀白色沈澱物混合液の全量を反応容器に添加した。
　調製液のｐＨ変化が止まった段階で、調製液に１Ｎ（ｍｏｌ／Ｌ）の水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液５．０Ｌを０．３３Ｌ／ｍｉｎで添加した。その後、７０ｇ／Ｌの１，２－ベンズイソチアゾリン－３－オン（ＮａＯＨで水溶液をアルカリ性に調節して溶解した。）０．０７８Ｌを調製液に添加し、銀ナノディスク分散液Ａを調製した。

＜ゼラチン水溶液の調製＞
　ＳＵＳ３１６Ｌ（オーステナイト系ステンレス鋼）製の溶解タンクにイオン交換水１６．７Ｌを計量した。ＳＵＳ３１６Ｌ製の撹拌機で低速撹拌を行いながら、脱イオン処理を施したアルカリ処理牛骨ゼラチン（ＧＰＣによる重量平均分子量：２０万）１．４ｋｇを上記溶解タンクに添加した。更に、脱イオン処理、蛋白質分解酵素処理、及び過酸化水素による酸化処理を施したアルカリ処理牛骨ゼラチン（ＧＰＣによる重量平均分子量：２．１万）０．９１ｋｇを上記溶解タンクに添加した。その後、４０℃に昇温し、ゼラチンの膨潤と溶解を同時に行って完全に溶解させ、ゼラチン水溶液を調製した。

＜亜硫酸銀白色沈澱物混合液の調製＞
　ＳＵＳ３１６Ｌ製の溶解タンクにイオン交換水８．２Ｌを計量し、１００ｇ／Ｌの硝酸銀水溶液８．２Ｌを上記溶解タンクに添加した。ＳＵＳ３１６Ｌ製の撹拌機で高速撹拌を行いながら、１４０ｇ／Ｌの亜硫酸ナトリウム水溶液２．７Ｌを短時間で上記溶液に添加して、亜硫酸銀の白色沈澱物を含む混合液を調製した。この混合液は、使用する直前に調製した。

＜銀ナノディスク分散液Ｂの調製＞
　上記の銀ナノディスク分散液Ａを遠沈管（遠心分離機用容器）に８００ｇ採取し、１Ｎ（ｍｏｌ／Ｌ）のＮａＯＨ及び／又は１Ｎ（ｍｏｌ／Ｌ）の硫酸を用いて、上記分散液Ａの２５℃におけるｐＨが９．２±０．２になるように調整した。遠心分離機（ｈｉｍａｃＣＲ２２ＧＩＩＩ、アングルローターＲ９Ａ、日立工機（株）製）を用いて、３５℃に設定して９，０００ｒｐｍ、６０分間の遠心分離操作を行った後、上澄液を７８４ｇ捨てた。沈澱した平板粒子に０．２ｍＭのＮａＯＨ水溶液を加えて合計４００ｇとし、撹拌棒を用いて撹拌して粗分散液を調製した。これと同様の操作で遠沈管２４本分の粗分散液を調製して、合計９，６００ｇの粗分散液をＳＵＳ３１６Ｌ製のタンクに添加して混合した。更に、ノニオン系界面活性剤（ＢＡＳＦ社製「Ｐｌｕｒｏｎｉｃ３１Ｒ１」）の１０ｇ／Ｌ溶液（メタノール：イオン交換水＝１：１（体積比）の混合液で希釈）１０ｍｌをタンクに添加した。オートミキサー２０型（プライミクス（株）製、撹拌部はホモミキサーＭＡＲＫ　ＩＩ）を用いて、タンク中の粗分散液混合物に９，０００ｒｐｍで１２０分間のバッチ式分散処理を施した。分散中の粗分散液混合物の液温は５０℃に保持した。

　このように得られた分散液を、再び遠沈管に８００ｇ採取して、遠心分離機（ｈｉｍａｃＣＲ２２ＧＩＩＩ、アングルローターＲ９Ａ、日立工機（株）製）を用いて、３５℃に設定して９，０００ｒｐｍ、６０分間の遠心分離操作を行った後、上澄液を７６０ｇ捨てた。沈澱した平板粒子に０．２ｍＭのＮａＯＨ水溶液を加えて合計８００ｇとし、撹拌棒を用いて撹拌して粗分散液を調製した。これと同様の操作で遠沈管１２本分の粗分散液を調製して、合計９，６００ｇの粗分散液をＳＵＳ３１６Ｌ製のタンクに添加して混合した。更に、ノニオン系界面活性剤（ＢＡＳＦ社製「Ｐｌｕｒｏｎｉｃ３１Ｒ１」）の１０ｇ／Ｌ溶液（メタノール：イオン交換水＝１：１（体積比）の混合液で希釈）１０ｍｌをタンクに添加した。オートミキサー２０型（プライミクス（株）製、撹拌部はホモミキサーＭＡＲＫ　ＩＩ）を用いて、タンク中の粗分散液混合物に９，０００ｒｐｍで１２０分間のバッチ式分散処理を施した。分散中の粗分散液混合物の液温は５０℃に保持した。分散後、液温を２５℃に下げてから、プロファイルＩＩフィルター（日本ポール（株）製、製品型式ＭＣＹ１００１Ｙ０３０Ｈ１３）を用いてシングルパスの濾過を行った。
　このようにして、銀ナノディスク分散液Ａに脱塩処理及び再分散処理を施して、銀ナノディスク分散液Ｂを調製した。

＜銀ナノディスク分散液Ｂの評価＞
　調製された銀ナノディスク分散液Ｂには、三角形状及び六角形状等の多角形状並びに円形状の銀ナノディスクが含まれていることを確認した。銀ナノディスク分散液Ｂに含まれる銀ナノ粒子は全て銀ナノディスクであった。

　銀ナノディスク分散液Ｂの透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）観察により得られた画像を、画像処理ソフトＩｍａｇｅＪに取り込み、画像処理を施した。数視野のＴＥＭ画像から任意に抽出した５００個の粒子に関して画像解析を行い、同面積円相当径を算出した。これらの母集団に基づき統計処理した結果、銀ナノディスク分散液Ｂ中の銀ナノディスクの平均粒子径は、１１８ｎｍであった。

　また、銀ナノディスク分散液Ｂをシリコーン基材上に滴下して乾燥し、銀ナノディスクの個々の厚みを、集束イオンビーム（ＦＩＢ）を用いたＦＩＢ－ＴＥＭ法により測定した。銀ナノディスク分散液Ｂ中の銀ナノディスクについて、上記の方法で任意の１０個の銀ナノディスクの厚みを測定し、算術平均して得られた平均粒子厚みは、８ｎｍであった。
　即ち、銀ナノディスク分散液Ｂ中の銀ナノディスクは、平均粒子厚みに対する平均粒子径の比（平均粒子径／平均粒子厚み）で表されるアスペクト比が１４．８であった。

　また、銀ナノディスク分散液Ｂ中の銀ナノディスクの表面にはゼラチンが吸着していた。下記の方法で、ゼラチンの質量と銀ナノディスクの質量との比率（ゼラチン質量／銀ナノディスク質量）（以後、比率Ｘとも称する）を測定した。
　調製した銀ナノディスク分散液Ｂを１０ｍＬ採取し、これを１２０℃のオーブンで１２時間乾燥させ、１０ｍｇほどサンプリングした。得られたサンプルを、熱分析装置（ＴＧ／ＤＴＡ６２００セイコーインスツルメンツ（ＳＩＩ）製）で常温から９００℃まで１０℃／秒で昇温し、ＴＧ－ＤＴＡを測定した。最終的な減少割合をＡとして、比率Ｘ（ゼラチン質量／銀ナノディスク質量）をＸ＝Ａ／（１－Ａ）の式に基づいて算出した。
　算出された銀ナノディスク分散液Ｂ中の銀ナノディスクの比率Ｘは、０．１５質量％であった。

〔製造例２：銀ナノディスク塗布液の調製〕
＜銀ナノディスク塗布液１の調製＞
　下記に示す組成を有する銀ナノディスク塗布液１を調製した。
・銀ナノディスク分散液Ｂ（銀ナノディスク２．１質量％含有）：８０質量部
・界面活性剤Ａ（「ラピゾールＡ－９０」日油（株）製、固形分濃度１質量％）：０．２質量部
・界面活性剤Ｂ（「ナロアクティーＣＬ－９５」三洋化成工業（株）製、固形分濃度１質量％）：０．２質量部
・イオン交換水：１９．８質量部

〔製造例３：配向層塗布液の調製〕
　下記に示す組成を有する配向層塗布液を調製した。
・下記式で表される変性ポリビニルアルコール（下記式中の各構成単位の右下の数字は、モル比を表す。）：２８質量部
・クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学（株）製）：１．２質量部
・光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ　２９５９、ＢＡＳＦ社製）：０．８４質量部
・グルタルアルデヒド：２．８質量部
・水：６９９質量部
・メタノール：２２６質量部

〔製造例４：コレステリック液晶層塗布液の調製〕
＜コレステリック液晶層塗布液１Ａの調製＞
　下記に示す組成を有するコレステリック液晶層塗布液１Ａを調製した。
・メチルエチルケトン：６３．２質量部
・シクロヘキサノン：３．３質量部
・液晶化合物１（棒状液晶化合物）：２４．３質量部
・液晶化合物２（棒状液晶化合物）：３．０質量部
・液晶化合物３（棒状液晶化合物）：３．０質量部
・光重合開始剤Ａ（ＩＲＧＡＣＵＲＥ　９０７、ＢＡＳＦ社製）：０．９１質量部
・カイラル剤Ａ：２．２質量部
・界面活性剤Ａ：０．０９７質量部

　コレステリック液晶層塗布液１Ａの調製に使用した化合物を以下に示す。

・液晶化合物１：下記に示す棒状液晶化合物。

・液晶化合物２：下記に示す棒状液晶化合物。

・液晶化合物３：下記に示す棒状液晶化合物。

・カイラル剤Ａ：下記に示す化合物。

・界面活性剤Ａ：下記に示す化合物。

　コレステリック液晶層塗布液１Ａを用いて、後述する方法で形成されるコレステリック液晶層の選択反射波長は、４００ｎｍであった。

＜コレステリック液晶層塗布液１Ｂ～１Ｆの調製＞
　後述する方法で形成されるコレステリック液晶層の選択反射波長が４５０ｎｍ、５００ｎｍ、５５０ｎｍ、６００ｎｍ、６５０ｎｍになるようにカイラル剤Ａの含有量を調整したこと以外は、コレステリック液晶層塗布液１Ａの調製方法に従って、コレステリック液晶層塗布液１Ｂ～１Ｆを調製した。

＜コレステリック液晶層塗布液２Ａの調製＞
　下記に示す組成を有するコレステリック液晶層塗布液２Ａを調製した。
・メチルエチルケトン：６３．２質量部
・シクロヘキサノン：３．３質量部
・液晶化合物４（棒状液晶化合物）：２９．０質量部
・光重合開始剤Ａ：０．９１質量部
・カイラル剤Ｂ：３．５質量部
・界面活性剤Ａ：０．０９７質量部

　コレステリック液晶層塗布液２Ａの調製に使用した化合物を以下に示す。

・液晶化合物４：下記に示す棒状液晶化合物。

・カイラル剤Ｂ：下記に示す化合物。

　コレステリック液晶層塗布液２Ａを用いて、後述する方法で形成されるコレステリック液晶層の選択反射波長は、４００ｎｍであった。

＜コレステリック液晶層塗布液２Ｂ～２Ｆの調製＞
　後述する方法で形成されるコレステリック液晶層の選択反射波長が４５０ｎｍ、５００ｎｍ、５５０ｎｍ、６００ｎｍ、６５０ｎｍになるようにカイラル剤Ｂの含有量を調整したこと以外は、コレステリック液晶層塗布液２Ａの調製方法に従って、コレステリック液晶層塗布液２Ｂ～２Ｆを調製した。

〔実施例１：積層体１の作製〕
＜銀ナノディスク含有層１の形成＞
　基材１（ポリカーボネート樹脂フィルム、住友化学（株）製「Ｃ０００」、厚み１００μｍ）の表面上に、ワイヤーバーコーターを用いて、上記で調製した銀ナノディスク塗布液１を銀ナノディスクの塗布量が０．４０ｇ／ｍ^２となるように塗布した。その後、１１５℃で７分間加熱し、乾燥及び固化させ、銀ナノディスク含有層１を形成し、基材１／銀ナノディスク含有層１からなる層構成を有する積層体Ａｇを作製した。

＜積層体１Ａの作製＞
－配向層の形成－
　基材１（ポリカーボネート樹脂フィルム、住友化学（株）製「Ｃ０００」、厚み１００μｍ）の表面上に、ワイヤーバーコーターを用いて、上記製造例３で調製した配向層塗布液を塗布した。その後、１００℃で１２０秒間乾燥し、厚み１．５μｍの配向層１を有する基材を作製した。

－配向層のラビング処理－
　上記作製した配向層１の表面に、基材１の短辺を基準に反時計回りに３１．５°回転させた方向に沿ってラビング処理（レーヨン布、圧力：０．１ｋｇｆ（０．９８Ｎ）、回転数：１，０００ｒｐｍ、搬送速度：１０ｍ／ｍｉｎ、回数：１往復）を施し、ラビング処理された配向層１を形成した。

－コレステリック液晶層１Ａの形成－
　ラビング処理された配向層１の表面に、ワイヤーバーコーターを用いて、上記製造例４で調製したコレステリック液晶層塗布液１Ａを塗布した。得られた塗布膜を、８５℃で１２０秒間加熱して塗布膜を乾燥させた後、低酸素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ以下）、８５℃で、照射量３０ｍＪ／ｃｍ^２のメタルハライドランプの光を照射し、厚み５．００μｍのコレステリック液晶層１Ａを形成した。これにより、基材１／配向層１／コレステリック液晶層１Ａからなる層構成を有する積層体１Ａを作製した。
　得られた積層体１Ａに対して、日本分光（株）製分光光度計「Ｖ－６７０」を用いて、基材１の側（基材１の法線方向）から波長３８０～１１００ｎｍの範囲の光を照射して積層体１Ａの全光反射率を測定したところ、積層体１Ａの反射率の極大値は４００ｎｍであった。また、積層体１Ａの目視での反射色味は紫色であった。

＜積層体２Ａの作製＞
　コレステリック液晶層塗布液１Ａの代わりに、コレステリック液晶層塗布液２Ａを用いた以外は、上記＜積層体１Ａの作製＞と同様の手順に従って、積層体２Ａを作製した。
　得られた積層体２Ａに対して、日本分光（株）製分光光度計「Ｖ－６７０」を用いて、基材１の側（基材１の法線方向）から波長３８０～１１００ｎｍの範囲の光を照射して積層体２Ａの全光反射率を測定したところ、積層体２Ａの反射率の極大値は４００ｎｍであった。また、積層体２Ａの目視での反射色味は紫色であった。

＜積層体の積層＞
　次に、下記の成分を混合し、粘着剤層形成用塗布液を調製した。
・サイビノール（登録商標）ＡＴ－Ｄ４５　　　７２質量部
（サイデン化学（株）製、固形分５０質量％）
・メチルエチルケトン（溶剤）　　　　　　　　２８質量部

　積層体Ａｇの銀ナノディスク含有層１の表面上に、コンマコーターを用いて粘着剤層形成用塗布液を塗布し、塗布膜を１２０℃で２分間乾燥することで、厚み２５μｍの粘着剤層を形成した。
　次に、上記で作製された積層体１Ａを、積層体１Ａ中のコレステリック液晶層１Ａが銀ナノディスク含有層１側に配置するように、形成された粘着剤層を介して積層した。
　得られた積層体に対して、上記と同様にして、更に粘着剤層を介して積層体２Ａを積層して、積層体Ａｇ／粘着剤層／積層体１Ａ／粘着剤層／積層体２Ａからなる層構成を有する積層体１を作製した。

〔実施例２：積層体２の作製〕
　コレステリック液晶層塗布液１Ａの代わりにコレステリック液晶層塗布液１Ｂを用い、コレステリック液晶層塗布液２Ａの代わりにコレステリック液晶層塗布液２Ｂを用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体２を作製した。

〔実施例３：積層体３の作製〕
　コレステリック液晶層塗布液１Ａの代わりにコレステリック液晶層塗布液１Ｃを用い、コレステリック液晶層塗布液２Ａの代わりにコレステリック液晶層塗布液２Ｃを用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体３を作製した。

〔実施例４：積層体４の作製〕
　コレステリック液晶層塗布液１Ａの代わりにコレステリック液晶層塗布液１Ｄを用い、コレステリック液晶層塗布液２Ａの代わりにコレステリック液晶層塗布液２Ｄを用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体４（積層体Ａｇ／粘着剤層／積層体１Ｄ／粘着剤層／積層体２Ｄ）を作製した。積層体１Ｄは、コレステリック液晶層塗布液１Ｄを用いて形成された積層体であり、積層体２Ｄは、コレステリック液晶層塗布液２Ｄを用いて形成された積層体である。

〔実施例５：積層体５の作製〕
　コレステリック液晶層塗布液１Ａの代わりにコレステリック液晶層塗布液１Ｅを用い、コレステリック液晶層塗布液２Ａの代わりにコレステリック液晶層塗布液２Ｅを用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体５を作製した。

〔実施例６：積層体６の作製〕
　コレステリック液晶層塗布液１Ａの代わりにコレステリック液晶層塗布液１Ｆを用い、コレステリック液晶層塗布液２Ａの代わりにコレステリック液晶層塗布液２Ｆを用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体６を作製した。

〔実施例７：積層体７の作製〕
＜色材層１の形成＞
　実施例１で作製した積層体Ａｇ中の基材１の銀ナノディスク含有層１を設けた面とは反対側の表面上に、ワイヤーバーコーターを用いて、下記の色材層塗布液１を顔料固形分塗布量が０．２ｍｇ／ｍ^２となるように塗布した。その後、８０℃で２分間加熱して塗布膜を乾燥させ、色材層１を形成して、銀ナノディスク含有層１／基材１／色材層１からなる層構成を有する色材層付き積層体Ａｇを作製した。

　色材層塗布液１は、以下に示す組成を有する。
・マゼンダ顔料（「ＰＩＣＯＦＩＮＥ　ＭＡＧＥＮＴＡ　ＡＨ１１３１」、山陽色素（株）製、固形分濃度１５質量％）：１０質量部
・イエロー顔料（「ＰＩＣＯＦＩＮＥ　ＹＥＬＬＯＷ　Ｌ６２００」、山陽色素（株）製、固形分濃度１５質量％）：１０質量部
・酢酸ブチル：８０質量部

＜積層体１Ｅ、１Ｆ、２Ｅ及び２Ｆの作製＞
　コレステリック液晶層塗布液１Ａに代えて、コレステリック液晶層塗布液１Ｅ、１Ｆ、２Ｅ及び２Ｆをそれぞれ使用したこと以外は、上記の積層体１Ａの作製方法に従って、基材１／配向層１／コレステリック液晶層１Ｅからなる層構成を有する積層体１Ｅ、基材１／配向層１／コレステリック液晶層１Ｆからなる層構成を有する積層体１Ｆ、基材１／配向層１／コレステリック液晶層２Ｅからなる層構成を有する積層体２Ｅ、及び、基材１／配向層１／コレステリック液晶層２Ｆからなる層構成を有する積層体２Ｆをそれぞれ作製した。
　上記の方法に従って積層体１Ｅ、１Ｆ、２Ｅ及び２Ｆの全光反射率を測定したところ、積層体１Ｅ、１Ｆ、２Ｅ及び２Ｆの反射率の極大値はそれぞれ、６００ｎｍ、６５０ｎｍ、６００ｎｍ及び６５０ｎｍであった。また、積層体１Ｅ、１Ｆ、２Ｅ及び２Ｆの目視での反射色味はそれぞれ、橙色、赤色、橙色及び赤色であった。

＜積層体の積層＞
　色材層付き積層体Ａｇの色材層１の表面上に、コンマコーターを用いて上記粘着剤層形成用塗布液を塗布し、塗布膜を１２０℃で２分間乾燥することで、厚み２５μｍの粘着剤層を形成した。
　次に、上記で作製された積層体１Ｆを、積層体１Ｆ中のコレステリック液晶層１Ｆが色材層１側に配置するように、形成された粘着剤層を介して積層した。
　得られた積層体に対して、上記と同様にして、更に粘着剤層を介して積層体２Ｆ、積層体１Ｅ、及び、積層体２Ｅをそれぞれ積層して、色材層付き積層体Ａｇ／粘着剤層／積層体１Ｆ／粘着剤層／積層体２Ｆ／粘着剤層／積層体１Ｅ／粘着剤層／積層体２Ｅからなる層構成を有する積層体７を作製した。

〔実施例８：積層体８の作製〕
＜積層体３Ａの作製＞
－配向層の形成－
　基材１（ポリカーボネート樹脂フィルム、住友化学（株）製「Ｃ０００」、厚み１００μｍ）の表面上に、ワイヤーバーコーターを用いて、上記製造例３で調製した配向層塗布液を塗布した。その後、１００℃で１２０秒間乾燥し、厚み１．５０μｍの配向層１を有する基材を作製した。

－コレステリック液晶層３Ａの形成－
　ラビング処理を施していない配向層１の表面に、ワイヤーバーコーターを用いて、上記製造例４で調製したコレステリック液晶層塗布液１Ａを塗布した。得られた塗布膜を、８５℃で１２０秒間加熱して塗布膜を乾燥させた後、低酸素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ以下）、８５℃で、照射量３０ｍＪ／ｃｍ^２のメタルハライドランプの光を照射し、厚み５．００μｍのコレステリック液晶層３Ａを形成した。これにより、基材１／配向層１／コレステリック液晶層３Ａからなる層構成を有する積層体３Ａを作製した。
　得られた積層体３Ａに対して、日本分光（株）製分光光度計「Ｖ－６７０」を用いて、基材１の側（基材１の法線方向）から波長３８０～１１００ｎｍの範囲の光を照射して積層体３Ａの全光反射率を測定したところ、積層体３Ａの反射率の極大値は４００ｎｍであった。また、積層体３Ａの目視での反射色味は紫色であった。

＜積層体の積層＞
　積層体Ａｇの銀ナノディスク含有層１の表面上に、コンマコーターを用いて上記粘着剤層形成用塗布液を塗布し、塗布膜を１２０℃で２分間乾燥することで、厚み２５μｍの粘着剤層を形成した。
　次に、上記で作製された積層体３Ａを、積層体３Ａ中のコレステリック液晶層３Ａが銀ナノディスク含有層１側に配置するように、形成された粘着剤層を介して積層して、積層体Ａｇ／粘着剤層／積層体３Ａからなる層構成を有する積層体８を作製した。

〔実施例９：積層体９の作製〕
　コレステリック液晶層塗布液１Ａの代わりにコレステリック液晶層塗布液１Ｂを用いた以外は、実施例８と同様の手順に従って、積層体９を作製した。

〔実施例１０：積層体１０の作製〕
　コレステリック液晶層塗布液１Ａの代わりにコレステリック液晶層塗布液１Ｃを用いた以外は、実施例８と同様の手順に従って、積層体１０を作製した。

〔実施例１１：積層体１１の作製〕
　コレステリック液晶層塗布液１Ａの代わりにコレステリック液晶層塗布液１Ｄを用いた以外は、実施例８と同様の手順に従って、積層体１１を作製した。

〔実施例１２：積層体１２の作製〕
　コレステリック液晶層塗布液１Ａの代わりにコレステリック液晶層塗布液１Ｅを用いた以外は、実施例８と同様の手順に従って、積層体１２を作製した。

〔実施例１３：積層体１３の作製〕
　コレステリック液晶層塗布液１Ａの代わりにコレステリック液晶層塗布液１Ｆを用いた以外は、実施例８と同様の手順に従って、積層体１３を作製した。

〔実施例１４：積層体１４の作製〕
　コレステリック液晶層塗布液１Ａの代わりにコレステリック液晶層塗布液１Ｄを用い、
厚み２．５０μｍのコレステリック液晶層４Ｄを形成した以外は、実施例１の積層体１Ａと同様の作製手順に従って、積層体４Ｄを作製した。
　積層体Ａｇの銀ナノディスク含有層１の表面上に、コンマコーターを用いて上記粘着剤層形成用塗布液を塗布し、塗布膜を１２０℃で２分間乾燥することで、厚み２５μｍの粘着剤層を形成した。
　次に、上記で作製された積層体４Ｄを、積層体４Ｄ中のコレステリック液晶層４Ｄが銀ナノディスク含有層１側に配置するように、形成された粘着剤層を介して積層して、積層体Ａｇ／粘着剤層／積層体４Ｄからなる層構成を有する積層体１４を作製した。

〔実施例１５：積層体１５の作製〕
　積層体４から積層体２Ｄを除き、積層体Ａｇ／粘着剤層／積層体１Ｄからなる積層体１５を作製した。

〔実施例１６：積層体１６の作製〕
　積層体Ａｇ作製の際の銀ナノディスクの塗布量を０．４０ｇ／ｍ^２から０．１５ｇ／ｍ^２に変更したこと以外は、実施例４と同様の手順に従って、積層体１６を作製した。

〔実施例１７：積層体１７の作製〕
　積層体Ａｇ作製の際の銀ナノディスクの塗布量を０．４０ｇ／ｍ^２から０．１０ｇ／ｍ^２に変更したこと以外は、実施例４と同様の手順に従って、積層体１７を作製した。

〔実施例１８：積層体１８の作製〕
　コレステリック液晶層の厚みを５．００μｍから０．５０μｍに変更した以外は、実施例１１と同様の手順に従って、積層体１８を作製した。

〔実施例１９：積層体１９の作製〕
　積層体Ａｇ作製の際の銀ナノディスクの塗布量を０．４０ｇ／ｍ^２から０．１５ｇ／ｍ^２に変更したこと以外は、実施例１１と同様の手順に従って、積層体１９を作製した。

〔実施例２０：積層体２０の作製〕
　積層体Ａｇ作製の際の銀ナノディスクの塗布量を０．４０ｇ／ｍ^２から０．１０ｇ／ｍ^２に変更したこと以外は、実施例１１と同様の手順に従って、積層体２０を作製した。

〔実施例２１：積層体２１の作製〕
　積層体７のコレステリック液晶層つき基材が配置する側に、以下に示すヘアライン構造付き基材をヘアライン構造が最外面に配置するように粘着層を介して積層し、積層体２１を作製した。

＜ヘアライン構造付き基材の形成＞
　基材（ポリカーボネート樹脂フィルム、住友化学（株）製「Ｃ０００」、厚み１００μｍ）の主面の一方に、サンドペーパー（１０００番）を貼り付けた金属製ロールを接触させることにより、表面にヘアライン構造を有する基材（ヘアライン構造付き基材）を作製した。
　得られたヘアライン構造付き基材のヘアライン構造の表面粗さ（溝が延びる方向に対して直交する方向について測定した。以下同じ）は、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２μｍであり、最大高さ粗さ（Ｒｍａｘ）が３．０μｍであり、十点平均粗さ（Ｒｚ）が２．５μｍであった。

〔実施例２２〕
　実施例２１のヘアライン構造付き基材の形成方法に従って、ヘアライン構造付き基材を作製した。
　ヘアライン構造付き基材のヘアライン構造を有する表面上に、ワイヤーバーコーターを用いて、実施例１に記載の方法で調製した銀ナノディスク塗布液１を銀ナノディスクの塗布量が４００ｍｇ／ｍ^２となるように塗布した。その後、１１５℃で８分間加熱し、乾燥及び固化させ、銀ナノディスク含有層を形成し、ヘアライン構造付き積層体１を作製した。
　さらに、上記ヘアライン構造付き積層体１の銀ナノディスク含有層とは反対の面に、ワイヤーバーコーターを用いて、色材層塗布液１を顔料固形分塗布量が０．２ｍｇ／ｍ^２となるように塗布した。その後、８０℃で２分間加熱して塗布膜を乾燥させ、色材層１を形成して、銀ナノディスク含有層／ヘアライン構造付き基材／色材層１からなる層構成を有する色材層付き積層体Ａｇ２を作製した。
　積層体７の色材層付き積層体Ａｇを、上記色材層付き積層体Ａｇ２に変更したこと以外は実施例７と同様の手順に従って、積層体２２を形成した。

〔比較例１：比較用積層体Ｃ１の作製〕
＜銀蒸着膜Ｃ１の形成＞
　基材１（ポリカーボネート樹脂フィルム、住友化学（株）製「Ｃ０００」、厚み１００μｍ）の表面上に、ＵＬＶＡＣ製小型実験用蒸着装置を用いて、可視光透過率が３０％になるように蒸着量を調整して、銀をスパッタし、銀蒸着膜Ｃ１を形成した。

　積層体Ａｇに代えて上記で作製された銀蒸着膜Ｃ１を有する基材１を使用し、銀蒸着膜Ｃ１の表面上に粘着剤層を形成すること以外は、実施例１に記載の方法に従って、比較用積層体Ｃ１を作製した。

〔比較例２：比較用積層体Ｃ２の作製〕
　銀ナノディスクの塗布量を０．４０ｇ／ｍ^２から０．０３ｇ／ｍ^２になるように変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、比較用積層体Ｃ２を作製した。

〔比較例３：比較用積層体Ｃ３の作製〕
　実施例７に記載の手順に従って、色材層付き積層体Ａｇを作製し、比較用積層体Ｃ３として用いた。

〔評価〕
＜面積率の測定＞
　ＳＥＭ（ＦＥＩ社製「Ｎｏｖａ２００型ＦＩＢ－ＳＥＭ複合機」）を用いて、各実施例及び各比較例で作製した積層体を、金属粒子含有層の主面の法線方向から観察し、得られたＳＥＭ画像を画像処理して、金属粒子含有層の面積Ａに対する金属粒子の面積の合計値Ｂの割合である面積率〔（Ｂ／Ａ）×１００〕を算出した。評価結果を表１に示す。

＜電磁波透過性の評価＞
　各実施例及び各比較例で作製した積層体の電磁波（ミリ波）透過性を測定した。具体的には、電磁波の送信側及び受信側の治具間に受信側が積層体の最外面Ａ（後述）となるように各積層体のサンプルを挟んで電磁波強度を測定し、両治具間に何も挟まない場合に測定された電磁波強度に対する、各積層体のサンプルを挟んだ場合に測定された電磁波強度の減衰量をｄＢで換算した。得られた電磁波強度の減衰量から、１ｄＢを基準として以下のとおり評価（「Ａ」又は「Ｂ」）した。
　電磁波の周波数は、７０～９０ＧＨｚに設定した。また、Ｖｉｒｇｉｎｉａ　Ｄｉｏｄｅｓ製ミリ波モジュール「ＷＲ１０－ＶＮＡＸ」を電磁波の送信側及び受信側の治具として使用し、ベクトルネットワークアナライザ　Ｎ５２２７Ａを用いて測定した。
「Ａ」：１ｄＢ未満
「Ｂ」：１ｄＢ以上

＜色味変化＞
　各実施例及び各比較例で作製した積層体の最外面Ａから視野角による色味変化を測定した。具体的には、マルチアングル測色計（ＢＹＫ－ｍａｃｉ　ＢＹＫ－ＧＡＲＤＮＥＲ製）を使用して、図２に示すように、各積層体の法線方向に対して４５°傾いた方向から入射光を入射させ、入射光が各積層体の表面で反射して法線方向から－４５°傾いた方向に反射光が出射される態様において、反射光が出射される角度を基準に－１５°、１５°、２５°、４５°、７５°及び１１０°の位置で反射率を測定した。各位置での得られた４００～７００ｎｍの反射スペクトルのピーク波長のうち、最大値と最小値の差（ピークシフト）を測定し、以下の評価を実施した。
「Ａ」：反射ピークシフトが１５ｎｍ以上である
「Ｂ」：反射ピークシフトが１５ｎｍ未満である

＜金属調の外観＞
　各実施例及び各比較例で作製した積層体の最外面Ａから金属調の外観を観察した。具体的には、目視にて、各積層体を観察し、金属のような正反射（鏡像）がみられるか、以下の評価を実施した。実用上、ＡまたはＢが好ましい。
「Ａ」：正反射がみられ、金属調である
「Ｂ」：正反射がややみられ、やや弱い金属調
「Ｃ」：正反射がみられず、金属調ではない

＜反射率差ＡおよびＢの評価＞
　日本分光（株）製分光光度計「Ｖ－６７０」を用いて、実施例１～７、１４～１７および２１～２２の積層体の最外面Ａ側から波長３８０～８００ｎｍの範囲の光を照射して全光反射率を測定し、反射スペクトルを得た。得られた反射スペクトルから、可視光領域（３８０～７８０ｎｍ）における、ピークのピーク波長におけるピーク反射率（最も大きい極大反射率）と、ピークの短波長側の立ち上がり位置における反射率および長波長側の立ち上がり位置における反射率の平均反射率との差（反射率差Ａ）を算出した。
　また、日本分光（株）製分光光度計「Ｖ－６７０」の積分球ユニットに正反射成分を除去する光トラップを設置した装置を用いて、実施例８～１３および１８～２０の積層体の最外面Ａ側から波長３８０～８００ｎｍの範囲の光を照射して拡散反射率を測定し、拡散反射スペクトルを得た。得られた拡散反射スペクトルから、可視光領域（３８０～７８０ｎｍ）における、ピークのピーク波長におけるピーク反射率（最も大きい極大反射率）と、最低反射率の平均反射率との差（反射率差Ｂ）を算出した。

＜色味視認性＞
　各実施例で作製した積層体の最外面Ａから色味の外観を観察した。具体的には、目視にて、各積層体を観察し、色味が強く視認できるか、以下の評価を実施した。
「Ａ」：色味が強く視認でき、金属調カラーに見える。
「Ｂ」：色味がやや視認でき、金属調カラーに見える。
「Ｃ」：色味が殆ど見られない。

　表１中、「積層体」の「層構成」欄の表示は、各積層体が下記の層構成を有することを意味する。なお、下記の各層構成において粘着剤層及び配向層の記載は省略する。また、上記の外観評価では、下記の各層構成の右側に記載した層の側から観察を行った。また、下記の各層構成において、最も右側の層の表面を「最外面Ａ」とする。
「Ａ」：基材／銀ナノディスク含有層／コレステリック液晶層／基材／コレステリック液晶層／基材
「Ｂ」：銀ナノディスク含有層／基材／色材層／コレステリック液晶層／基材／コレステリック液晶層／基材／コレステリック液晶層／基材／コレステリック液晶層／基材
「Ｃ」：基材／銀ナノディスク含有層／コレステリック液晶層／基材
「Ｄ」：基材／銀蒸着層／コレステリック液晶層／基材／コレステリック液晶層／基材
「Ｅ」：銀ナノディスク含有層／基材／色材層
「Ｆ」：銀ナノディスク含有層／基材／色材層／コレステリック液晶層／基材／コレステリック液晶層／基材／コレステリック液晶層／基材／コレステリック液晶層／基材／ヘアライン構造付き基材
「Ｇ」：銀ナノディスク含有層／ヘアライン構造付き基材／色材層／コレステリック液晶層／基材／コレステリック液晶層／基材／コレステリック液晶層／基材／コレステリック液晶層／基材

　表１中、「面積率（％）」欄は、上記＜面積率の測定＞の結果を示す。
　表１中、「反射率差Ａ」欄は上述した反射率差Ａ（％）の結果を示し、「反射率差Ｂ」欄は上述した反射率差Ｂ（％）の結果を示す。
　表１中、「反射層種類」欄は、コレステリック液晶層が正反射型のコレステリック液晶層である場合には「正反射」と、拡散反射型のコレステリック液晶層である場合には「拡散反射」と示す。
　表１中、「コレステリック液晶層の厚み（μｍ）」欄は、コレステリック液晶層の合計厚み（μｍ）を表す。
　表１中、「配向層のラビング処理」欄は、コレステリック液晶層を形成する際に用いられる配向層にラビング処理が施されているか否かを示し、「有」は配向層にラビング処理が施されていることを、「無」は配向層にラビング処理が施されていないことを意味する。
　表１中、「コレステリック液晶層の種類」欄は、各積層体に含まれるコレステリック液晶層の種類を表し、各記号はコレステリック液晶層を使用するために用いられた塗布液の種類を表す。例えば、実施例１中の「１Ａ＋２Ａ」は、積層体が、コレステリック液晶層塗布液１Ａを用いて形成されたコレステリック液晶層と、コレステリック液晶層塗布液２Ａを用いて形成されたコレステリック液晶層とを含むことを意味する。
　表１中、「選択反射波長」欄は、コレステリック液晶層の選択反射波長（ｎｍ）を表す。
　表１中、「色味」欄は、目視にて観察される得られた積層体の色味を表す。

　表１に示すように、本発明の積層体は、所望の効果を示すことが確認された。
　また、実施例１～７、および、１４～１７の比較より、反射率差Ａが５．０～７０．０％である場合、色味視認性がより優れることが確認された。
　また、実施例８～１３、および、１８～２０の比較より、反射率差Ｂが５．０～４０．０％である場合、色味視認性がより優れることが確認された。
　また、実施例１～７、および、１４～１７の比較より、金属粒子の含有量が０．１０ｇ／ｍ^２超であり、正反射型のコレステリック液晶層の厚みが３．００μｍ以上である場合、より効果が優れることが確認された。
　また、実施例８～１３、および、１８～２０の比較より、金属粒子の含有量が０．１０ｇ／ｍ^２超であり、拡散反射型のコレステリック液晶層の厚みが１．００μｍ以上である場合、より効果が優れることが確認された。

　１０　　電磁波透過性積層体（積層体）
　１２　　基材
　１４　　金属粒子含有層
　１６　　反射層

Claims

　基材と、
　少なくとも１種の金属粒子を含む金属粒子含有層と、
　コレステリック液晶層及び誘電体多層膜からなる群から選択される少なくとも１つの反射層と、を有する電磁波透過性積層体であって、
　前記金属粒子は、表面が高分子で被覆された平板状金属粒子であって、前記平板状金属粒子の質量に対する前記高分子の質量の割合が６５質量％以下である、平板状金属粒子を含み、
　前記金属粒子含有層の主面に対する法線方向から観察したときの前記金属粒子含有層の面積Ａに対する前記金属粒子の面積の合計値Ｂの割合である面積率（Ｂ／Ａ）が７０％以上である、電磁波透過性積層体。
　前記反射層が、正反射型のコレステリック液晶層であり、
　前記電磁波透過性積層体の反射スペクトルにおいて、可視光領域にピークが観察され、
　前記ピークのピーク波長におけるピーク反射率と、前記ピークの短波長側の立ち上がり位置での第１反射率および前記ピークの長波長側の立ち上がり位置での第２反射率の平均値との差が５．０～７０．０％である、請求項１に記載の電磁波透過性積層体。
　前記金属粒子含有層における前記金属粒子の含有量が０．１０ｇ／ｍ^２超であり、
　前記コレステリック液晶層の厚みが３．００μｍ以上である、請求項２に記載の電磁波透過性積層体。
　前記反射層が、拡散反射型のコレステリック液晶層であり、
　前記電磁波透過性積層体の拡散反射スペクトルにおいて、可視光領域にピークが観察され、前記ピークのピーク波長におけるピーク反射率と、前記拡散反射スペクトルの可視光領域における最低反射率との差が７．０～４０．０％である、請求項１に記載の電磁波透過性積層体。
　前記金属粒子含有層における前記金属粒子の含有量が０．１０ｇ／ｍ^２超であり、
　前記コレステリック液晶層の厚みが１．００μｍ以上である、請求項４に記載の電磁波透過性積層体。
　前記平板状金属粒子が少なくとも銀を含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の電磁波透過性積層体。
　前記平板状金属粒子が、六角形状又は円形状の平板状金属粒子を含む、請求項１～６のいずれか１項に記載の電磁波透過性積層体。
　前記反射層が前記コレステリック液晶層を含み、
　前記コレステリック液晶層の選択反射波長が、可視光領域に位置する、請求項１～７のいずれか１項に記載の電磁波透過性積層体。
　周波数が７０～９０ＧＨｚである電磁波の送信側及び受信側の治具間に前記電磁波透過性積層体を挟んで測定される電磁波強度の、前記治具間に何も挟まない場合に測定される電磁波強度に対する減衰量が、１ｄＢ以下である、請求項１～８のいずれか１項に記載の電磁波透過性積層体。
　色材層を更に含む、請求項１～９のいずれか１項に記載の電磁波透過性積層体。