JP5061539B2 - 樹脂製品及びその製造方法並びに金属皮膜の成膜方法 - Google Patents
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Description
樹脂基材の形態としては、特に限定されないが、板材、シート材、フィルム材等を例示できる。樹脂基材の樹脂としては、特に限定されないが、熱可塑性樹脂が好ましく、PC(ポリカーボネート)、アクリル樹脂、ポリスチレン、PVC(ポリ塩化ビニル)、ポリウレタン等を例示できる。
本発明においては、樹脂基材の上に(金属皮膜の下地となる)下地膜を成膜してもよいし成膜しなくてもよい。下地膜としては、特に限定されないが、次のものを例示できる。
1.有機系化合物よりなる下地膜
有機系塗料(アクリル系塗料等)を塗布して形成された塗膜を例示できる。その膜厚は0.5〜20μm程度が好ましい。
2.無機系化合物よりなる下地膜
無機系塗料(SiO2、TiO2等の金属化合物を主成分とするもの)を塗布して形成された塗膜や、物理真空蒸着法により付けた金属化合物よりなる薄膜等を例示できる。
本発明において光輝性及び不連続構造の金属皮膜が成膜されるメカニズムは、第1の金属を真空蒸着して不連続構造(海島構造)の第1膜を形成した後、その第1膜の表面を空気に触れさせると、空気による何らかの作用により(現在は不明)、その上に真空蒸着される第2の金属が連続成長することを妨げるような改質表面が生成され、従って第2の金属がたとえ連続構造をとりやすい金属であっても第1の不連続構造を維持して不連続構造に成膜される、というものと推定される。
従って、第1の金属はもともと真空蒸着で不連続構造をとりやすい金属であることが好ましく、そのような金属としては、Inを用いる。一方、第2の金属としては、Crを用いる。
金属皮膜の膜厚は、特に限定されないが、10〜100nmが好ましい。10nm未満では光輝性が低下する傾向となり、100nmを越えると電気抵抗が低くなり、例えばミリ波透過性を損なう傾向となるからである。
第1膜と第2膜とに分けて考えると、第1膜は5〜30nmが好ましい。5nm未満では膜が不安定となり、30nmを越えると二膜構成にする意味(効果)がないからである。また、第2膜は5〜95nmが好ましい。5nm未満では色効果などが発揮できなくなり、95nmを越えると島状モルフォロジーが崩れ、耐久性や、例えばミリ波透過性が低くなるからである。
第1膜の表面を空気に触れさせて改質する処理について、まずその方法としては、第1膜を真空蒸着により成膜した後にその真空蒸着に用いていた真空状態のチャンバに空気を導入する方法ないし大気に開放する方法を例示できる。また、第1膜の表面を空気に触れさせる改質時間としては、30分以上であることが好ましい。
金属皮膜の上に金属皮膜を保護するための保護膜を形成することが好ましい。樹脂基材の下面側が意匠面である場合には、金属皮膜の上に保護膜としておさえ塗膜等を形成するとよい。さらに、おさえ塗膜の上に樹脂背後材が射出成形等されてもよい。一方、金属皮膜の上面側が意匠面である場合、金属皮膜の上に保護膜としてのクリヤートップ塗膜等を形成するとよい。
金属皮膜が不連続であることから、電気抵抗が高いためミリ波透過性や落雷防止性があり、腐食の伝搬を抑制するため耐食性があり、樹脂基材の屈曲に金属皮膜が追従しやすい等の性質がある。これらの性質から、樹脂製品の種類(用途)として、特に限定されないが、次のものを例示できる。
(a)ミリ波透過性による用途として、ミリ波レーダー装置カバーを例示できる。該カバーの適用部位は、特に限定されないが、自動車の外装塗装製品への適用が好ましく、特にラジエータグリル、グリルカバー、サイドモール、バックパネル、バンパー、エンブレム等に適する。
(b)落雷防止性による用途として、雨傘等を例示できる。
(c)処理部分のみ電気が通らないことによる用途として、プリント配線基板を例示できる。
(d)耐食性による用途として、エンブレム、ラジエータグリル、光輝モール等を例示できる。
(e)屈曲に追従することによる用途として、軟質光輝モール等を例示できる。
(f)その他、赤外線透過性による用途として、電子レンジ用容器を例示できる。
(4)樹脂基材と、前記樹脂基材の上に第1の金属としてのInが真空蒸着されてなる第1膜と、前記第1膜の上に前記第1の金属とは異なる第2の金属としてのCrが真空蒸着されてなる第2膜とを含む光輝性及び不連続構造の金属皮膜とを含み、前記金属皮膜によるミリ波往復透過減衰量が2dB以下である樹脂製品。
(1)樹脂基材11の上に下地膜12を成膜する。
(2)下地膜12付きの樹脂基材11をチャンバに入れてチャンバ内を真空引きし、下地膜12の上に第1の金属を真空蒸着して不連続構造の第1膜を形成するステップ
(3)前記真空状態のチャンバを大気に開放して、第1膜の表面を大気に触れさせて改質するステップ
(4)再びチャンバ内を真空引きし、改質表面の上に第2の金属を真空蒸着して不連続構造の第2膜を形成するステップ
この(2)〜(4)により、光輝性及び不連続構造の金属皮膜を成膜する。
比較例1は、Crを真空蒸着して膜厚30nmのCr膜を成膜した例であり、ミリ波往復透過減衰量(蒸着分)が3.49dBと大きかった。このことは、Cr膜が十分な不連続構造を形成しておらず、電気抵抗値が低いことを表しており、ミリ波透過性はNGである。
比較例2は、Inを真空蒸着して膜厚3nmのIn膜を成膜した後、引き続き(真空状態を維持したまま)Crを真空蒸着して膜厚27nmのCr膜を成膜した例であり、やはりミリ波透過性はNGであった。
比較例4は、比較例3に対して酸素ガスを導入してIn膜の表面を酸素ガスに曝す時間を20分に延長した例であり、やはりミリ波透過性はNGであった。従って、In膜の表面は酸素によっては改質されないものと考えられる。
実施例2は、実施例1に対してIn膜の膜厚を大きくする一方、Cr膜の膜厚を小さくした例であり、ミリ波往復透過減衰量(蒸着分)はさらに小さい0.24dBであった。この結果は、表1にはないが、Inを真空蒸着して膜厚30nmのIn膜のみを成膜した場合の結果と同等であり、金属皮膜が十分な不連続構造を形成していて、電気抵抗値が高いことを表している。
これらの実施例1,2によれば、高価なInの使用量を削減してコストを下げても、十分な光輝性及び不連続構造の金属皮膜が得られる。
11 樹脂基材
12 下地膜
13 金属皮膜
Claims (3)
- 樹脂基材と、
前記樹脂基材の上に第1の金属としてのInが真空蒸着されてなる不連続構造の第1膜と、前記第1膜の表面が空気に触れて改質された改質表面と、前記改質表面の上に第2の金属としてのCrが真空蒸着されてなる不連続構造の第2膜とを含む光輝性及び不連続構造の金属皮膜と
を含む樹脂製品。 - 樹脂基材の上に第1の金属としてのInを真空蒸着して不連続構造の第1膜を形成するステップと、
前記第1膜の表面を空気に触れさせて改質するステップと、
前記改質した表面の上に第2の金属としてのCrを真空蒸着して不連続構造の第2膜を形成するステップと
を含んで光輝性及び不連続構造の金属皮膜を成膜する樹脂製品の製造方法。 - 第1の金属としてのInを真空蒸着して不連続構造の第1膜を形成するステップと、
前記第1膜の表面を空気に触れさせて改質するステップと、
前記改質した表面の上に第2の金属としてのCrを真空蒸着して不連続構造の第2膜を形成するステップと
を含んで光輝性及び不連続構造の金属皮膜を成膜する金属皮膜の成膜方法。
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