JP6736105B1 - 絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法及びスマートエントリー解錠・施錠構造用樹脂成形品 - Google Patents
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Abstract
Description
樹脂成形品(W)の表面に、クロムと熱膨張率が異なる基礎材料を塗布してクラック基礎材膜を形成するクラック基礎材膜形成工程(S2)と、
スパッタリング装置内において、樹脂成形品(W)表面に成膜されたクラック基礎材膜に、スパッタリングによりクロム膜を成膜するクロム膜成膜工程(S3)と、
スパッタリング装置内において、クロム膜と樹脂成形品(W)表面とのつき回り性を向上させるために、真空雰囲気が前記クロム膜成膜工程(S3)より低真空度(程度の低い減圧状態)においてクロム膜を成膜するつき回り性向上工程(S4)と、
クラック基礎材膜の上にクロム膜が成膜された樹脂成形品(W)を加熱し、前記クロム膜成膜工程(S3)及び前記つき回り性向上工程(S4)において成膜されたクロム膜とクラック基礎材膜の熱膨張率の相違によりクロム膜にクラックを生じさせるクラック膜形成工程(S5)と、
次に、薄膜形成装置において、クロム膜が成膜された樹脂成形品(W)に、緩衝膜としての透明保護膜を形成する緩衝膜形成工程(S6)と、
スパッタリング装置内において、前記緩衝膜形成工程(S6)により膜厚が調整された樹脂成形品(W)表面のクロム膜の明るさを確保するために、スパッタリングにより、更にクラックしたクロム膜部分を成膜する高明度クロム膜成膜工程(S7)と、から成る、ことを特徴とする。
樹脂成形品(W)の表面に、クロムと熱膨張率が異なる基礎材料を塗布してクラック基礎材膜を形成するクラック基礎材膜形成工程(S22)と、
スパッタリング装置内において、樹脂成形品(W)表面に成膜されたクラック基礎材膜に、スパッタリングによりクロム膜を成膜するクロム膜成膜工程(S23)と、
スパッタリング装置内において、クロム膜と樹脂成形品(W)表面とのつき回り性を向上させるために、真空雰囲気が前記クロム膜成膜工程(S23)より低真空度(程度の低い減圧状態)においてクロム膜を成膜するつき回り性向上工程(S24)と、
次に、薄膜形成装置において、クロム膜が成膜された樹脂成形品(W)に、緩衝膜としての透明保護膜を形成する緩衝膜形成工程(S25)と、
クラック基礎材膜の上にクロム膜が成膜された樹脂成形品(W)を加熱し、前記クロム膜成膜工程(S23)及び前記つき回り性向上工程(S24)において成膜されたクロム膜とクラック基礎材膜の熱膨張率の相違によりクロム膜にクラックを生じさせるクラック膜形成工程(S26)と、
スパッタリング装置内において、前記緩衝膜形成工程(S25)により膜厚が調整された樹脂成形品(W)表面のクロム膜の明るさを確保するために、スパッタリングにより、更にクラックしたクロム膜部分を成膜する高明度クロム膜成膜工程(S27)と、から成る、ことを特徴とする。
樹脂成形品(W)の表面に、クロムと熱膨張率が異なる基礎材料を塗布してクラック基礎材膜を形成するクラック基礎材膜形成工程(S32)と、
スパッタリング装置内において、樹脂成形品(W)表面に成膜されたクラック基礎材膜に、スパッタリングによりクロム膜を成膜するクロム膜成膜工程(S33)と、
前記クロム膜成膜工程(S33)により、クラック基礎材膜の上にクロム膜が成膜された樹脂成形品(W)を加熱し、クラック基礎材膜とクロム膜の熱膨張率の相違によりクロム膜にクラックを生じさせるクラック膜形成工程(S34)と、
スパッタリング装置内において、樹脂成形品(W)表面とのつき回り性を向上させるためにクラックしたクロム膜部分を成膜するつき回り性向上工程(S35)と、
次に、薄膜形成装置において、クロム膜が成膜された樹脂成形品(W)に、緩衝膜としての透明保護膜を形成する緩衝膜形成工程(S36)と、
同じくスパッタリング装置内において、前記緩衝膜形成工程(S36)により膜厚が調整された樹脂成形品(W)表面のクロム膜の明るさを確保するために、スパッタリングにより、更にクラックしたクロム膜部分を成膜する高明度クロム膜成膜工程(S37)と、から成る、ことを特徴とする。
スパッタリング装置内において処理する際の真空雰囲気が、
前記高明度クロム膜成膜工程(S7,S27、S37)は、前記クロム膜成膜工程(S3,S23,S33)より高真空度(程度の高い減圧状態)で処理する、ことが好ましい。
前記クラック膜形成工程(S5、S26、S34)は、基礎材料の上にクロム膜が成膜された樹脂成形品(W)について、部分的に加熱する、ことができる。
樹脂成形品(W)の表面に、クラック基礎材膜形成工程(S2)により、クロムと熱膨張率が異なる基礎材料を塗布してクラック基礎材膜が形成され、
スパッタリング装置内においてクロム膜成膜工程(S3)により、樹脂成形品(W)表面に成膜されたクラック基礎材膜に、スパッタリングによりクロム膜が成膜され、
スパッタリング装置内においてつき回り性向上工程(S4)により、クロム膜と樹脂成形品(W)表面とのつき回り性を向上させるために、真空雰囲気が前記クロム膜成膜工程(S3)より低真空度(程度の低い減圧状態)においてクロム膜を成膜され、
クラック基礎材膜の上にクロム膜が成膜された樹脂成形品(W)を、クラック膜形成工程(S5)により加熱し、前記クロム膜成膜工程(S3)及び前記つき回り性向上工程(S4)において成膜されたクロム膜とクラック基礎材膜の熱膨張率の相違によりクロム膜にクラックが生じ、
薄膜形成装置において緩衝膜形成工程(S6)により、クロム膜が成膜された樹脂成形品(W)に、緩衝膜としての透明保護膜が形成され、
スパッタリング装置内において高明度クロム膜成膜工程(S7)により、前記緩衝膜形成工程(S6)により膜厚が調整された樹脂成形品(W)表面のクロム膜の明るさを確保するために、スパッタリングにより、更にクラックしたクロム膜部分にクロム膜が成膜され、表面にクロムめっき調の金属意匠であるが絶縁性と電波透過性を有するクロム膜が成膜された合成樹脂製のスマートエントリー用の合成樹脂製本体部(2)と、
電波透過性成膜が成膜された前記合成樹脂製本体部(2)内に取り付けられた、静電容量の変化を検知する静電容量センサ(3)と、
前記静電容量センサ(3)が人の接触を感知すると、前記スマートキーに電波を発信する、前記合成樹脂製本体部(2)内に取り付けられた発信機と、から成り、
前記スマートキーを持った人がドア又はロッカー等の開閉構造に近づき、その人が前記合成樹脂製本体部(2)に触れると、前記静電容量センサ(3)が感知し、その感知したことを前記発信機のアンテナから解錠又は施錠の電波を発信し、この電波を受信したスマートキーが合成樹脂製本体部(2)の解錠信号又は施錠信号を開閉構造側へ発信し、この信号を受信した開閉構造を人が解錠又は施錠できるように構成した、ことを特徴とする。
樹脂成形品(W)の表面に、クラック基礎材膜形成工程(S22)により、クロムと熱膨張率が異なる基礎材料を塗布してクラック基礎材膜が形成され、
スパッタリング装置内においてクロム膜成膜工程(S23)により、樹脂成形品(W)表面に成膜されたクラック基礎材膜に、スパッタリングによりクロム膜が成膜され、
スパッタリング装置内においてつき回り性向上工程(S24)により、クロム膜と樹脂成形品(W)表面とのつき回り性を向上させるために、真空雰囲気が前記クロム膜成膜工程(S23)より低真空度(程度の低い減圧状態)においてクロム膜が成膜され、
薄膜形成装置において緩衝膜形成工程(S25)により、クロム膜が成膜された樹脂成形品(W)に、緩衝膜としての透明保護膜が形成され、
クラック膜形成工程(S26)により、クラック基礎材膜の上にクロム膜が成膜された樹脂成形品(W)を加熱し、前記クロム膜成膜工程(S23)及び前記つき回り性向上工程(S24)において成膜されたクロム膜とクラック基礎材膜の熱膨張率の相違によりクロム膜にクラックが生じ、
スパッタリング装置内において高明度クロム膜成膜工程(S27)により、前記緩衝膜形成工程(S25)により膜厚が調整された樹脂成形品(W)表面のクロム膜の明るさを確保するために、スパッタリングにより、更にクラックしたクロム膜部分にクロム膜が成膜され、表面にクロムめっき調の金属意匠であるが絶縁性と電波透過性を有するクロム膜が成膜された合成樹脂製のスマートエントリー用の合成樹脂製本体部(2)と、
電波透過性成膜が成膜された前記合成樹脂製本体部(2)内に取り付けられた、静電容量の変化を検知する静電容量センサ(3)と、
前記静電容量センサ(3)が人の接触を感知すると、前記スマートキーに電波を発信する、前記合成樹脂製本体部(2)内に取り付けられた発信機と、から成り、
前記スマートキーを持った人がドア又はロッカー等の開閉構造に近づき、その人が前記合成樹脂製本体部(2)に触れると、前記静電容量センサ(3)が感知し、その感知したことを前記発信機のアンテナから解錠又は施錠の電波を発信し、この電波を受信したスマートキーが合成樹脂製本体部(2)の解錠信号又は施錠信号を開閉構造側へ発信し、この信号を受信した開閉構造を人が解錠又は施錠できるように構成した、ことを特徴とする。
樹脂成形品(W)の表面に、クラック基礎材膜形成工程(S32)により、クロムと熱膨張率が異なる基礎材料を塗布してクラック基礎材膜が形成され、
スパッタリング装置内においてクロム膜成膜工程(S33)により、樹脂成形品(W)表面に成膜されたクラック基礎材膜に、スパッタリングによりクロム膜が成膜され、
前記クロム膜成膜工程(S33)により、クラック基礎材膜の上にクロム膜が成膜された樹脂成形品(W)をクラック膜形成工程(S34)により加熱し、クラック基礎材膜とクロム膜の熱膨張率の相違によりクロム膜にクラックが生じ、
スパッタリング装置内においてつき回り性向上工程(S35)により、樹脂成形品(W)表面とのつき回り性を向上させるためにクラックしたクロム膜部分にクロム膜が成膜され、
薄膜形成装置において緩衝膜形成工程(S36)により、クロム膜が成膜された樹脂成形品(W)に、緩衝膜としての透明保護膜が形成され、
スパッタリング装置内において高明度クロム膜成膜工程(S37)により、前記緩衝膜形成工程(S36)により膜厚が調整された樹脂成形品(W)表面のクロム膜の明るさを確保するために、スパッタリングにより、更にクラックしたクロム膜部分にクロム膜が成膜され、表面にクロムめっき調の金属意匠であるが絶縁性と電波透過性を有するクロム膜が成膜された合成樹脂製のスマートエントリー用の合成樹脂製本体部(2)と、
電波透過性成膜が成膜された前記合成樹脂製本体部(2)内に取り付けられた、静電容量の変化を検知する静電容量センサ(3)と、
前記静電容量センサ(3)が人の接触を感知すると、前記スマートキーに電波を発信する、前記合成樹脂製本体部(2)内に取り付けられた発信機と、から成り、
前記スマートキーを持った人がドア又はロッカー等の開閉構造に近づき、その人が前記合成樹脂製本体部(2)に触れると、前記静電容量センサ(3)が感知し、その感知したことを前記発信機のアンテナから解錠又は施錠の電波を発信し、この電波を受信したスマートキーが合成樹脂製本体部(2)の解錠信号又は施錠信号を開閉構造側へ発信し、この信号を受信した開閉構造を人が解錠又は施錠できるように構成した、ことを特徴とする。
図1は実施例1の絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法を示す工程図である。図2は実施例1の絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法で処理した各処理工程における樹脂成形品を示す断面図であり、(a)は前処理後の状態、(b)はクラック基礎材膜の塗布状態、(c)はクロム膜成膜の状態、(d)はつき回り性を向上させたクロム膜成膜の状態、(e)はクラック膜の形成状態である。図3は実施例1の絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法で処理した各処理工程における樹脂成形品を示す断面図であり、(f)は緩衝膜成膜の状態、(g)は高明度クロム膜成膜の状態、(h)はトップコート膜成膜の状態である。なお、図2と図3で示す樹脂成形品の断面図は積層の順序を説明するもので、各成膜の膜厚は実際のものとは相違する。
実施例1の絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法は、スパッタリング装置内において、真空雰囲気状態で樹脂成形品Wの表面をプラズマ処理で金属薄膜を成膜する処理方法である。金属薄膜としてはクロム膜(Cr)を成膜する。このクロム膜(Cr)は、樹脂成形品にクロムめっき調の金属意匠であるが絶縁性と電波透過性を有するように、更に数段階の処理工程を経る成膜方法である。
続いて、スパッタリング装置内において、樹脂成形品W表面とのつき回り性を向上させるためにクロム膜を成膜するつき回り性向上工程S4と、この樹脂成形品Wを加熱し、クラック基礎材膜とクロム膜の熱膨張率の相違によりクロム膜にクラックを生じさせるクラック膜形成工程S5から成る。
次に、このクロム膜が成膜された樹脂成形品Wに、緩衝膜としての透明保護膜を薄く形成する緩衝膜形成工程S6と、続いて、スパッタリング装置内において、膜厚が調整された樹脂成形品W表面のクロム膜の明るさを確保するために、スパッタリングにより、更にクロム膜(Cr)を成膜する高明度クロム膜成膜工程S7と、から成る成膜方法である。
あるいは、熱乾燥とUV乾燥を併用することも可能である。これは1コート目を10μm施した後、60℃、5分の熱乾燥を行い、その上から2コート目を10μm施し、80℃、5分熱乾燥後更にUV乾燥を積算光量400〜2000mJ/cm2(UV照度40〜120mW/cm2)で行う方法である。この方法では膜厚が20μmのトップコート膜になる。トップコート処理工程S8に用いる樹脂(塗料)の種類は、これらに限定されず、その処理条件もこれらの数値に限定されないことは勿論である。
図4は実施例1の絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法とスパッタリング装置内の真空度との関係を示す工程図である。
本発明の実施例1の絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法により成膜する際の真空度と膜厚の関係を説明する。表1は真空度と膜厚の関係について、評価項目は、明るさ(L値≧83)、つき回り性(側面部透け無きこと)及び絶縁性(抵抗値≧1MΩ)である。
また、高明度クロム膜成膜工程S7は、クロム膜成膜工程S3より高真空度(程度の高い減圧状態)で処理することが好ましい。
クラック膜形成工程S5は、有機膜の上にクロム膜が成膜された樹脂成形品Wについて、部分的に加熱することができる。クロム膜の成膜層において部分的に電波透過性成膜にすることができる。スマートキー用のドアハンドルは、常に全方向から送受信を行うものではなく、例えば特定の方向から電波を受信又は送信したときにのみ作動させる構成にすることがある。そこで、クロム膜の成膜層の一部のみをクラックして電波透過性成膜にすることも可能である。
実施例2の絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法は、実施例1と同様に、樹脂成形品Wの表面に、クロムと熱膨張率が異なる基礎材料を塗布してクラック基礎材膜を形成するクラック基礎材膜形成工程S22と、このクラック基礎材膜に、スパッタリングによりクロム膜を成膜するクロム膜成膜工程S23から成る。更に、同じくスパッタリング装置内において、樹脂成形品W表面とのつき回り性を向上させるためにクロム膜を成膜するつき回り性向上工程S24と、次に、このクロム膜が成膜された樹脂成形品Wに、緩衝膜としての透明保護膜を薄く形成する緩衝膜形成工程S25と、から成る。
図8は実施例2の絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法とスパッタリング装置内の真空度との関係を示す工程図である。
本発明の実施例2の絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法は、図8に示すように、スパッタリング装置内において処理する際の真空雰囲気が、つき回り性向上工程S24は、クロム膜成膜工程S23より低真空度(程度の低い減圧状態)においてクロム膜を成膜することが好ましい。
また、高明度クロム膜成膜工程S27は、クロム膜成膜工程S23より高真空度(程度の高い減圧状態)で処理することが好ましい。
実施例3の絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法は、実施例1,2と同様に、主に樹脂成形品Wの表面に、クロムと熱膨張率が異なる基礎材料を塗布してクラック基礎材膜を形成するクラック基礎材膜形成工程S32と、このクラック基礎材膜に、スパッタリングによりクロム膜を成膜するクロム膜成膜工程S33、この樹脂成形品Wを加熱し、クラック基礎材膜とクロム膜の熱膨張率の相違によりクロム膜にクラックを生じさせるクラック膜形成工程S34と、から成る。
スパッタリング装置内において、膜厚が調整された樹脂成形品W表面のクロム膜の明るさを確保するために、スパッタリングにより、更にクロム膜(Cr)を成膜する高明度クロム膜成膜工程S37と、から成る成膜方法である。
実施例4のスマートエントリー解錠・施錠構造用樹脂成形品の一例であるドアハンドル1は、受信と送信の機能を有するスマートキーを用いて、ドア又はロッカー等の開閉構造の解錠と施錠をすることができる。このドアハンドル1は、樹脂成形品に形成されたクラック基礎材膜表面に、クロム膜が成膜された状態で加熱し、クラック基礎材膜とクロム膜の熱膨張率の相違によりクロム膜にクラックが生じ、表面にクロムめっき調の金属意匠であるが絶縁性と電波透過性を有するクロム膜が成膜された合成樹脂製のスマートエントリー用の合成樹脂製本体部2と、電波透過性成膜が成膜された合成樹脂製本体部2内に取り付けられた、静電容量の変化を検知する静電容量センサ3と、静電容量センサ3が人の接触を感知すると、スマートキーに電波を発信する、合成樹脂製本体部2内に取り付けられた発信機と、から成るものである。
S2 クラック基礎材膜形成工程
S3 クロム膜成膜工程
S4 つき回り性向上工程
S5 クラック膜形成工程
S6 緩衝膜形成工程
S7 高明度クロム膜成膜工程
S8 トップコート処理工程
S21 前処理工程
S22 クラック基礎材膜形成工程
S23 クロム膜成膜工程
S24 つき回り性向上工程
S25 緩衝膜形成工程
S26 クラック膜形成工程
S27 高明度クロム膜成膜工程
S28 トップコート処理工程
S31 前処理工程
S32 クラック基礎材膜形成工程
S33 クロム膜成膜工程
S34 クラック膜形成工程
S35 つき回り性向上工程
S36 緩衝膜形成工程
S37 高明度クロム膜成膜工程
S38 トップコート処理工程
W 樹脂成形品
1 ドアハンドル
2 合成樹脂製本体部
3 静電容量センサ
Claims (11)
- 樹脂成形品(W)にクロムめっき調の金属意匠ではあるが、絶縁性と電波透過性を有するクロム膜の成膜を施す絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法であって、
樹脂成形品(W)の表面に、クロムと熱膨張率が異なる基礎材料を塗布してクラック基礎材膜を形成するクラック基礎材膜形成工程(S2)と、
スパッタリング装置内において、樹脂成形品(W)表面に成膜されたクラック基礎材膜に、スパッタリングによりクロム膜を成膜するクロム膜成膜工程(S3)と、
スパッタリング装置内において、クロム膜と樹脂成形品(W)表面とのつき回り性を向上させるために、真空雰囲気が前記クロム膜成膜工程(S3)より低真空度(程度の低い減圧状態)においてクロム膜を成膜するつき回り性向上工程(S4)と、
クラック基礎材膜の上にクロム膜が成膜された樹脂成形品(W)を加熱し、前記クロム膜成膜工程(S3)及び前記つき回り性向上工程(S4)において成膜されたクロム膜とクラック基礎材膜の熱膨張率の相違によりクロム膜にクラックを生じさせるクラック膜形成工程(S5)と、
次に、薄膜形成装置において、クロム膜が成膜された樹脂成形品(W)に、緩衝膜としての透明保護膜を形成する緩衝膜形成工程(S6)と、
スパッタリング装置内において、前記緩衝膜形成工程(S6)により膜厚が調整された樹脂成形品(W)表面のクロム膜の明るさを確保するために、スパッタリングにより、更にクラックしたクロム膜部分を成膜する高明度クロム膜成膜工程(S7)と、から成る、ことを特徴とする絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法。 - 樹脂成形品(W)にクロムめっき調の金属意匠ではあるが、絶縁性と電波透過性を有するクロム膜の成膜を施す絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法であって、
樹脂成形品(W)の表面に、クロムと熱膨張率が異なる基礎材料を塗布してクラック基礎材膜を形成するクラック基礎材膜形成工程(S22)と、
スパッタリング装置内において、樹脂成形品(W)表面に成膜されたクラック基礎材膜に、スパッタリングによりクロム膜を成膜するクロム膜成膜工程(S23)と、
スパッタリング装置内において、クロム膜と樹脂成形品(W)表面とのつき回り性を向上させるために、真空雰囲気が前記クロム膜成膜工程(S23)より低真空度(程度の低い減圧状態)においてクロム膜を成膜するつき回り性向上工程(S24)と、
次に、薄膜形成装置において、クロム膜が成膜された樹脂成形品(W)に、緩衝膜としての透明保護膜を形成する緩衝膜形成工程(S25)と、
クラック基礎材膜の上にクロム膜が成膜された樹脂成形品(W)を加熱し、前記クロム膜成膜工程(S23)及び前記つき回り性向上工程(S24)において成膜されたクロム膜とクラック基礎材膜の熱膨張率の相違によりクロム膜にクラックを生じさせるクラック膜形成工程(S26)と、
スパッタリング装置内において、前記緩衝膜形成工程(S25)により膜厚が調整された樹脂成形品(W)表面のクロム膜の明るさを確保するために、スパッタリングにより、更にクラックしたクロム膜部分を成膜する高明度クロム膜成膜工程(S27)と、から成る、ことを特徴とする絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法。 - 樹脂成形品(W)にクロムめっき調の金属意匠ではあるが、絶縁性と電波透過性を有するクロム膜の成膜を施す絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法であって、
樹脂成形品(W)の表面に、クロムと熱膨張率が異なる基礎材料を塗布してクラック基礎材膜を形成するクラック基礎材膜形成工程(S32)と、
スパッタリング装置内において、樹脂成形品(W)表面に成膜されたクラック基礎材膜に、スパッタリングによりクロム膜を成膜するクロム膜成膜工程(S33)と、
前記クロム膜成膜工程(S33)により、クラック基礎材膜の上にクロム膜が成膜された樹脂成形品(W)を加熱し、クラック基礎材膜とクロム膜の熱膨張率の相違によりクロム膜にクラックを生じさせるクラック膜形成工程(S34)と、
スパッタリング装置内において、樹脂成形品(W)表面とのつき回り性を向上させるためにクラックしたクロム膜部分を成膜するつき回り性向上工程(S35)と、
次に、薄膜形成装置において、クロム膜が成膜された樹脂成形品(W)に、緩衝膜としての透明保護膜を形成する緩衝膜形成工程(S36)と、
同じくスパッタリング装置内において、前記緩衝膜形成工程(S36)により膜厚が調整された樹脂成形品(W)表面のクロム膜の明るさを確保するために、スパッタリングにより、更にクラックしたクロム膜部分を成膜する高明度クロム膜成膜工程(S37)と、から成る、ことを特徴とする絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法。 - 前記クラック基礎材膜形成工程(S2、S22、S32)において、樹脂成形品(W)の表面に塗布する基礎材料が有機系材料である、ことを特徴とする請求項1、2又は3のいずれか1項に記載の絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法。
- スパッタリング装置内において処理する際の真空雰囲気が、
前記高明度クロム膜成膜工程(S7,S27、S37)は、前記クロム膜成膜工程(S3,S23,S33)より高真空度(程度の高い減圧状態)で処理する、ことを特徴とする請求項1、2又は3のいずれか1項に記載の絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法。 - 前記クラック膜形成工程(S5、S26、S34)は、基礎材料の上にクロム膜が成膜された樹脂成形品(W)について、部分的に加熱する、ことを特徴とする請求項1、2、3又は4のいずれか1項に記載の絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法。
- 受信と送信の機能を有するスマートキーを用いて、ドア又はロッカー等の開閉構造の解錠と施錠をするスマートエントリー解錠・施錠構造用樹脂成形品であって、
樹脂成形品(W)の表面に、クラック基礎材膜形成工程(S2)により、クロムと熱膨張率が異なる基礎材料を塗布してクラック基礎材膜が形成され、
スパッタリング装置内においてクロム膜成膜工程(S3)により、樹脂成形品(W)表面に成膜されたクラック基礎材膜に、スパッタリングによりクロム膜が成膜され、
スパッタリング装置内においてつき回り性向上工程(S4)により、クロム膜と樹脂成形品(W)表面とのつき回り性を向上させるために、真空雰囲気が前記クロム膜成膜工程(S3)より低真空度(程度の低い減圧状態)においてクロム膜を成膜され、
クラック基礎材膜の上にクロム膜が成膜された樹脂成形品(W)を、クラック膜形成工程(S5)により加熱し、前記クロム膜成膜工程(S3)及び前記つき回り性向上工程(S4)において成膜されたクロム膜とクラック基礎材膜の熱膨張率の相違によりクロム膜にクラックが生じ、
薄膜形成装置において緩衝膜形成工程(S6)により、クロム膜が成膜された樹脂成形品(W)に、緩衝膜としての透明保護膜が形成され、
スパッタリング装置内において高明度クロム膜成膜工程(S7)により、前記緩衝膜形成工程(S6)により膜厚が調整された樹脂成形品(W)表面のクロム膜の明るさを確保するために、スパッタリングにより、更にクラックしたクロム膜部分にクロム膜が成膜され、表面にクロムめっき調の金属意匠であるが絶縁性と電波透過性を有するクロム膜が成膜された合成樹脂製のスマートエントリー用の合成樹脂製本体部(2)と、
電波透過性成膜が成膜された前記合成樹脂製本体部(2)内に取り付けられた、静電容量の変化を検知する静電容量センサ(3)と、
前記静電容量センサ(3)が人の接触を感知すると、前記スマートキーに電波を発信する、前記合成樹脂製本体部(2)内に取り付けられた発信機と、から成り、
前記スマートキーを持った人がドア又はロッカー等の開閉構造に近づき、その人が前記合成樹脂製本体部(2)に触れると、前記静電容量センサ(3)が感知し、その感知したことを前記発信機のアンテナから解錠又は施錠の電波を発信し、この電波を受信したスマートキーが合成樹脂製本体部(2)の解錠信号又は施錠信号を開閉構造側へ発信し、この信号を受信した開閉構造を人が解錠又は施錠できるように構成した、ことを特徴とするスマートエントリー解錠・施錠構造用樹脂成形品。 - 受信と送信の機能を有するスマートキーを用いて、ドア又はロッカー等の開閉構造の解錠と施錠をするスマートエントリー解錠・施錠構造用樹脂成形品であって、
樹脂成形品(W)の表面に、クラック基礎材膜形成工程(S22)により、クロムと熱膨張率が異なる基礎材料を塗布してクラック基礎材膜が形成され、
スパッタリング装置内においてクロム膜成膜工程(S23)により、樹脂成形品(W)表面に成膜されたクラック基礎材膜に、スパッタリングによりクロム膜が成膜され、
スパッタリング装置内においてつき回り性向上工程(S24)により、クロム膜と樹脂成形品(W)表面とのつき回り性を向上させるために、真空雰囲気が前記クロム膜成膜工程(S23)より低真空度(程度の低い減圧状態)においてクロム膜が成膜され、
薄膜形成装置において緩衝膜形成工程(S25)により、クロム膜が成膜された樹脂成形品(W)に、緩衝膜としての透明保護膜が形成され、
クラック膜形成工程(S26)により、クラック基礎材膜の上にクロム膜が成膜された樹脂成形品(W)を加熱し、前記クロム膜成膜工程(S23)及び前記つき回り性向上工程(S24)において成膜されたクロム膜とクラック基礎材膜の熱膨張率の相違によりクロム膜にクラックが生じ、
スパッタリング装置内において高明度クロム膜成膜工程(S27)により、前記緩衝膜形成工程(S25)により膜厚が調整された樹脂成形品(W)表面のクロム膜の明るさを確保するために、スパッタリングにより、更にクラックしたクロム膜部分にクロム膜が成膜され、表面にクロムめっき調の金属意匠であるが絶縁性と電波透過性を有するクロム膜が成膜された合成樹脂製のスマートエントリー用の合成樹脂製本体部(2)と、
電波透過性成膜が成膜された前記合成樹脂製本体部(2)内に取り付けられた、静電容量の変化を検知する静電容量センサ(3)と、
前記静電容量センサ(3)が人の接触を感知すると、前記スマートキーに電波を発信する、前記合成樹脂製本体部(2)内に取り付けられた発信機と、から成り、
前記スマートキーを持った人がドア又はロッカー等の開閉構造に近づき、その人が前記合成樹脂製本体部(2)に触れると、前記静電容量センサ(3)が感知し、その感知したことを前記発信機のアンテナから解錠又は施錠の電波を発信し、この電波を受信したスマートキーが合成樹脂製本体部(2)の解錠信号又は施錠信号を開閉構造側へ発信し、この信号を受信した開閉構造を人が解錠又は施錠できるように構成した、ことを特徴とするスマートエントリー解錠・施錠構造用樹脂成形品。 - 受信と送信の機能を有するスマートキーを用いて、ドア又はロッカー等の開閉構造の解錠と施錠をするスマートエントリー解錠・施錠構造用樹脂成形品であって、
樹脂成形品(W)の表面に、クラック基礎材膜形成工程(S32)により、クロムと熱膨張率が異なる基礎材料を塗布してクラック基礎材膜が形成され、
スパッタリング装置内においてクロム膜成膜工程(S33)により、樹脂成形品(W)表面に成膜されたクラック基礎材膜に、スパッタリングによりクロム膜が成膜され、
前記クロム膜成膜工程(S33)により、クラック基礎材膜の上にクロム膜が成膜された樹脂成形品(W)をクラック膜形成工程(S34)により加熱し、クラック基礎材膜とクロム膜の熱膨張率の相違によりクロム膜にクラックが生じ、
スパッタリング装置内においてつき回り性向上工程(S35)により、樹脂成形品(W)表面とのつき回り性を向上させるためにクラックしたクロム膜部分にクロム膜が成膜され、
薄膜形成装置において緩衝膜形成工程(S36)により、クロム膜が成膜された樹脂成形品(W)に、緩衝膜としての透明保護膜が形成され、
スパッタリング装置内において高明度クロム膜成膜工程(S37)により、前記緩衝膜形成工程(S36)により膜厚が調整された樹脂成形品(W)表面のクロム膜の明るさを確保するために、スパッタリングにより、更にクラックしたクロム膜部分にクロム膜が成膜され、表面にクロムめっき調の金属意匠であるが絶縁性と電波透過性を有するクロム膜が成膜された合成樹脂製のスマートエントリー用の合成樹脂製本体部(2)と、
電波透過性成膜が成膜された前記合成樹脂製本体部(2)内に取り付けられた、静電容量の変化を検知する静電容量センサ(3)と、
前記静電容量センサ(3)が人の接触を感知すると、前記スマートキーに電波を発信する、前記合成樹脂製本体部(2)内に取り付けられた発信機と、から成り、
前記スマートキーを持った人がドア又はロッカー等の開閉構造に近づき、その人が前記合成樹脂製本体部(2)に触れると、前記静電容量センサ(3)が感知し、その感知したことを前記発信機のアンテナから解錠又は施錠の電波を発信し、この電波を受信したスマートキーが合成樹脂製本体部(2)の解錠信号又は施錠信号を開閉構造側へ発信し、この信号を受信した開閉構造を人が解錠又は施錠できるように構成した、ことを特徴とするスマートエントリー解錠・施錠構造用樹脂成形品。 - 前記スマートエントリー解錠・施錠構造用樹脂成形品が自動車用ドアハンドルである、ことを特徴とする請求項7、8又は9の何れかに記載のスマートエントリー解錠・施錠構造用樹脂成形品。
- 前記スマートエントリー解錠・施錠構造用樹脂成形品が家屋のドアノブである、ことを特徴とする請求項7、8又は9の何れかに記載のスマートエントリー解錠・施錠構造用樹脂成形品。
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