JP2011529134A - 基材上に層システムを製造するための方法、並びに層システム - Google Patents
基材上に層システムを製造するための方法、並びに層システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011529134A JP2011529134A JP2011519083A JP2011519083A JP2011529134A JP 2011529134 A JP2011529134 A JP 2011529134A JP 2011519083 A JP2011519083 A JP 2011519083A JP 2011519083 A JP2011519083 A JP 2011519083A JP 2011529134 A JP2011529134 A JP 2011529134A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- substrate
- layer system
- metal layer
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0015—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterized by the colour of the layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/024—Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
- C23C14/025—Metallic sublayers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/006—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterized by the colour of the layer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
ρ□=ρ/d
と定義される。
・例えば窒化物、カルボニトリド、酸化物、及びこれらの化学量論未満の変異体を含む、部分吸収性の高屈折性層を有する反射板、
・誘電性層を有する反射板、並びに半透過性反射層。
ΔE*=[L* s−L*)2+(a* s−a*)2+(b* s−b*)2]1/2>2.0
であり、ここで層システムの色調は
F層=(L* s,a* s,b* s)であり、
基材の色調は
F=(L*,a*,b*)である。L*は明度に対する基準であり、a*は色調の赤−緑の値に対する基準、そしてb*は色調の黄−青の値に対する基準である。ここで色調は、さらなる層の層厚次第で変えることができる。
ΔE*=[L* s−L*)2+(a* s−a*)2+(b* s−b*)2]1/2>2.0
である。ここで層システムの色調は
F層=(L* s,a* s,b* s)であり、
基材の色調は
F=(L*,a*,b*)である。
ΔE*=[L* s−L*)2+(a* s−a*)2+(b* s−b*)2]1/2
を有することができ、この値は好ましくは2より大きい。ここで、層システムの色調は、
F層=(L* s,a* s,b* s)であり、
基材の色調は
F=(L*,a*,b*)である。
以下、スズからの金属層14と、窒化チタンからのさらなる層24(Sn/TixNy、ただし1<x<1.5、及び0.5<y<2)の製造方法を記載する。基材を被覆装置、例えばLeyboldのAluMet 900Hの真空チャンバに入れる。モリブデンコイルを、スズペレットで充填する。被覆カートに取り付けられた試料ホルダに、基材を設置する。被覆カートを、真空チャンバへと移動させる。真空チャンバは、5×10-3Paに脱気する。
Claims (17)
- 被覆工程(110)で、平面抵抗が>10Mオームであり、かつ平均反射率が>50%である金属層(14)が基材(12)上に施与され、それに引き続いてさらなる被覆工程(140)で所定の層厚を有するさらなる層(24)が施与される、誘電性基材(12)上に層システムを製造するための方法において、
さらなる層(24)がさらなる被覆工程(140)で同じ層厚で基材(12)上に施与された場合、さらなる層(24)の平面抵抗が<1Mオームであり、かつ金属層(14)とさらなる層(24)からの層システム(10)の平面抵抗が>10Mオームである、前記製造方法。 - 金属層(14)が>30nm〜<100nmの層厚で、かつ/又はさらなる層(24)が>20nm〜<300nmの層厚で施与されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 金属層(14)が、スズ、インジウム、鉛、ビスマス、アルミニウム、セリウム、クロム、ガリウム、又はイリジウムの群のうち少なくとも1つの元素から製造されることを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。
- 金属層(14)が、スズ、インジウム、鉛、ビスマス、アルミニウム、セリウム、クロム、ガリウム、又はイリジウムの群のうち少なくとも2つの元素からの合金から製造されることを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法。
- 前記金属層が、真空法、とりわけPVD法若しくはPECVD法によって施与され、かつ/又はさらなる層(24)が、真空法、とりわけ反応性PVD法若しくはPECVD法によって施与されることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項に記載の方法。
- さらなる層(24)が、チタン、ジルコニウム、セリウム、アルミニウム、イリジウム、クロムの群のうち少なくとも1つの元素を、窒素、炭素、酸素、ホウ素、ケイ素、ニオブ、タンタルの群のうち少なくとも1つの元素を含む反応性ガスで反応性スパッタリングすることにより施与されることを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- 層システム(10)の平均反射率が、好適には400MHz〜5GHzの周波数範囲で、層システム(10)を有さない基材(12)の相応する平均反射率と<25%異なることを特徴とする、請求項1から6までのいずれか1項に記載の方法。
- 施与された層システム(10)を有する基材(12)の色調と、層システムを有さない基材(12)の色調との間の色距離が
ΔE*=[L* s−L*)2+(a* s−a*)2+(b* s−b*)2]1/2>2.0
であり、
ここで、層システムの色調が
F層=(L* s,a* s,b* s)であり、
基材(12)の色調が
F=(L*,a*,b*)である
ことを特徴とする、請求項1から7までのいずれか1項に記載の方法。 - 被覆工程(110)で、平面抵抗が>10Mオームであり、かつ平均反射率が>50%である金属層(14)が基材(12)上に施与され、それに引き続いてさらなる被覆工程(140)で所定の層厚を有するさらなる層(24)が施与されている誘電性基材(12)上の層システムにおいて、
さらなる層(24)がさらなる被覆工程(140)で同じ層厚で基材(12)上に施与された場合、さらなる層(24)の平面抵抗が<1Mオームであり、かつ金属層(14)とさらなる層(24)からの層システム(10)の平面抵抗が>10Mオームである、前記層システム。 - 金属層(14)の層厚が、>30nm〜100nmであり、かつ/又はさらなる層(24)の層厚が>20nm〜300nmであることを特徴とする、請求項9に記載の層システム。
- 金属層(14)が、スズ、インジウム、鉛、ビスマス、ガリウム、アルミニウム、セリウム、クロム、又はイリジウムの群のうち少なくとも1つの元素から成ることを特徴とする、請求項9又は10に記載の層システム。
- 金属層(14)が、スズ、インジウム、鉛、ビスマス、ガリウム、アルミニウム、セリウム、クロム、又はイリジウムの群のうち少なくとも2つの元素からの合金から成ることを特徴とする、請求項9から11までのいずれか1項に記載の層システム。
- 前記金属層が、真空法、とりわけPVD法若しくはPECVD法によって施与され、かつ/又はさらなる層(24)が、真空法、とりわけ反応性PVD法若しくはPECVD法によって施与されていることを特徴とする、請求項9から12までのいずれか1項に記載の層システム。
- さらなる層(24)が、チタン、ジルコニウム、セリウム、アルミニウム、イリジウム、クロムの群のうち少なくとも1つの元素を、窒素、炭素、酸素、ホウ素、ケイ素、ニオブ、タンタルの群のうち少なくとも1つの元素を含む反応性ガスで反応性スパッタリングすることにより施与されていることを特徴とする、請求項13に記載の層システム。
- 層システム(10)の平均反射率が、好適には400MHz〜5GHzの周波数範囲で、層システム(10)を有さない基材(12)の相応する平均反射率と<25%異なることを特徴とする、請求項9から14までのいずれか1項に記載の層システム。
- 施与された層システム(10)を有する基材(12)の色調と、層システムを有さない基材(12)の色調との間の色距離が
ΔE*=[L* s−L*)2+(a* s−a*)2+(b* s−b*)2]1/2>2.0
であり、
この際、層システムの色調が
F層=(L* s,a* s,b* s)であり、
基材(12)の色調が
F=(L*,a*,b*)である
ことを特徴とする、請求項9から15までのいずれか1項に記載の層システム。 - 誘電性基材として役立つジャケットと、請求項9から16までのいずれか1項に記載の層システムとを有する、ケース。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102008034991.7 | 2008-07-25 | ||
DE102008034991A DE102008034991A1 (de) | 2008-07-25 | 2008-07-25 | Verfahren zur Herstellung eines Schichtsystems auf einem Substrat, sowie Schichtsystem |
PCT/EP2009/005368 WO2010009889A1 (de) | 2008-07-25 | 2009-07-23 | Verfahren zur herstellung eines schichtsystems auf einem substrat, sowie schichtsystem |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011529134A true JP2011529134A (ja) | 2011-12-01 |
JP5570507B2 JP5570507B2 (ja) | 2014-08-13 |
Family
ID=41376299
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011519083A Expired - Fee Related JP5570507B2 (ja) | 2008-07-25 | 2009-07-23 | 基材上に層システムを製造するための方法、並びに層システム |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20110220382A1 (ja) |
EP (1) | EP2307588B1 (ja) |
JP (1) | JP5570507B2 (ja) |
KR (1) | KR20110042195A (ja) |
CN (1) | CN102165088A (ja) |
DE (1) | DE102008034991A1 (ja) |
WO (1) | WO2010009889A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021182381A1 (ja) * | 2020-03-09 | 2021-09-16 | 日東電工株式会社 | 電磁波透過性金属光沢部材、及びその製造方法 |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101730409A (zh) * | 2008-10-17 | 2010-06-09 | 深圳富泰宏精密工业有限公司 | 壳体及其制造方法 |
TW201023716A (en) * | 2008-12-12 | 2010-06-16 | Fih Hong Kong Ltd | Housing for electronic device and method for making the same |
CN101959378A (zh) * | 2009-07-14 | 2011-01-26 | 深圳富泰宏精密工业有限公司 | 壳体的制作方法及由该方法制得的壳体 |
TW201125741A (en) * | 2010-01-19 | 2011-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Casing having color and the related surface-treating method |
TW201125751A (en) * | 2010-01-19 | 2011-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Casing having color and the related surface-treating method |
TW201125752A (en) * | 2010-01-19 | 2011-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Casing having color and the related surface-treating method |
TW201125744A (en) * | 2010-01-19 | 2011-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Casing having color and the related surface-treating method |
TW201127247A (en) * | 2010-01-19 | 2011-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Casing having color and the related surface-treating method |
TW201125748A (en) * | 2010-01-19 | 2011-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Casing having color and the related surface-treating method |
TW201125753A (en) * | 2010-01-19 | 2011-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Casing having color and the related surface-treating method |
TW201127253A (en) * | 2010-01-19 | 2011-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Casing having color and the related surface-treating method |
TW201127248A (en) * | 2010-01-19 | 2011-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Casing having color and the related surface-treating method |
TW201125746A (en) * | 2010-01-19 | 2011-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Casing having color and the related surface-treating method |
TW201125745A (en) * | 2010-01-19 | 2011-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Casing having color and the related surface-treating method |
TW201127249A (en) * | 2010-01-19 | 2011-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Casing having color and the related surface-treating method |
TW201125743A (en) * | 2010-01-19 | 2011-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Casing having color and the related surface-treating method |
TW201127254A (en) * | 2010-01-19 | 2011-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Casing having color and the related surface-treating method |
TW201127255A (en) * | 2010-01-19 | 2011-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Casing having color and the related surface-treating method |
TW201125747A (en) * | 2010-01-19 | 2011-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Casing having color and the related surface-treating method |
TW201125742A (en) * | 2010-01-19 | 2011-08-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Casing having color and the related surface-treating method |
US10202679B2 (en) * | 2013-03-08 | 2019-02-12 | Vapor Technologies | Coated article having a vivid color |
AT518492B1 (de) * | 2015-10-13 | 2018-06-15 | Hueck Rheinische Gmbh | Presswerkzeug mit einer trennfähigen und abriebfesten Oberfläche |
KR102558253B1 (ko) * | 2016-08-29 | 2023-07-24 | 한국재료연구원 | 이중층 금속 박막 기판 및 이의 제조방법 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0565650A (ja) * | 1991-09-10 | 1993-03-19 | Alps Electric Co Ltd | 光学機能素子の製造方法 |
WO2003013842A1 (en) * | 2001-08-10 | 2003-02-20 | Soliant Llc | Formable bright, reflecttive film having discontinuous metallic layers |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3665599A (en) * | 1970-04-27 | 1972-05-30 | Corning Glass Works | Method of making refractory metal carbide thin film resistors |
GB1449835A (en) * | 1973-12-07 | 1976-09-15 | Nat Res Dev | Composite metal polymer films |
US4433025A (en) * | 1979-04-10 | 1984-02-21 | Pusch Guenter | Heat reflecting wall or ceiling covering |
US4431711A (en) | 1980-03-25 | 1984-02-14 | Ex-Cell-O Corporation | Vacuum metallizing a dielectric substrate with indium and products thereof |
JPH09202963A (ja) * | 1995-08-25 | 1997-08-05 | Abcor Inc | エッチングを行わずに金属化アイランド被覆製品を製造する方法 |
US5925225A (en) * | 1997-03-27 | 1999-07-20 | Applied Materials, Inc. | Method of producing smooth titanium nitride films having low resistivity |
US6855437B2 (en) * | 2000-02-02 | 2005-02-15 | Enthone Inc. | Decorative coatings having resistance to corrosion and wear |
US20020081450A1 (en) * | 2000-12-21 | 2002-06-27 | Dimitris Katsamberis | Coated article with polymeric basecoat |
JP4706596B2 (ja) * | 2005-10-31 | 2011-06-22 | 豊田合成株式会社 | 樹脂製品及びその製造方法並びに金属皮膜の成膜方法 |
JP5061539B2 (ja) * | 2005-11-21 | 2012-10-31 | 豊田合成株式会社 | 樹脂製品及びその製造方法並びに金属皮膜の成膜方法 |
JP4732147B2 (ja) * | 2005-11-21 | 2011-07-27 | 豊田合成株式会社 | 樹脂製品及びその製造方法並びに金属皮膜の成膜方法 |
JP2008080712A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Toyoda Gosei Co Ltd | 光輝性及び不連続構造の金属皮膜を有する樹脂製品 |
DE102007033665A1 (de) * | 2007-07-17 | 2009-01-22 | Leybold Optics Gmbh | Nichtleitende Metallschichten |
JP2009078458A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Toyoda Gosei Co Ltd | 干渉色膜を有する機器用筐体及び機器用装飾体 |
EP2222887B1 (en) * | 2007-11-30 | 2013-11-06 | Anna University - Chennai | Non-stoichiometric titanium nitride films |
US20090191355A1 (en) * | 2008-01-28 | 2009-07-30 | Hee Hyun Lee | Methods for forming a thin layer of particulate on a substrate |
-
2008
- 2008-07-25 DE DE102008034991A patent/DE102008034991A1/de not_active Ceased
-
2009
- 2009-07-23 WO PCT/EP2009/005368 patent/WO2010009889A1/de active Application Filing
- 2009-07-23 CN CN2009801374822A patent/CN102165088A/zh active Pending
- 2009-07-23 US US13/055,748 patent/US20110220382A1/en not_active Abandoned
- 2009-07-23 JP JP2011519083A patent/JP5570507B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-07-23 KR KR1020117004102A patent/KR20110042195A/ko active IP Right Grant
- 2009-07-23 EP EP20090777408 patent/EP2307588B1/de not_active Not-in-force
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0565650A (ja) * | 1991-09-10 | 1993-03-19 | Alps Electric Co Ltd | 光学機能素子の製造方法 |
WO2003013842A1 (en) * | 2001-08-10 | 2003-02-20 | Soliant Llc | Formable bright, reflecttive film having discontinuous metallic layers |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021182381A1 (ja) * | 2020-03-09 | 2021-09-16 | 日東電工株式会社 | 電磁波透過性金属光沢部材、及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110220382A1 (en) | 2011-09-15 |
CN102165088A (zh) | 2011-08-24 |
EP2307588B1 (de) | 2015-04-22 |
EP2307588A1 (de) | 2011-04-13 |
WO2010009889A1 (de) | 2010-01-28 |
DE102008034991A1 (de) | 2010-01-28 |
JP5570507B2 (ja) | 2014-08-13 |
KR20110042195A (ko) | 2011-04-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5570507B2 (ja) | 基材上に層システムを製造するための方法、並びに層システム | |
Colombel et al. | Ultrathin metal layer, ITO film and ITO/Cu/ITO multilayer towards transparent antenna | |
Sahu et al. | Study on the electrical and optical properties of Ag/Al-doped ZnO coatings deposited by electron beam evaporation | |
JP6090467B2 (ja) | 金属調皮膜の製造方法及び車両用アウトサイドドアハンドル | |
CN104919340A (zh) | 光吸收层系统、其生产及适用于其的溅射靶材 | |
JP6366578B2 (ja) | ラッカー被膜に埋め込まれたpvd被膜 | |
JP6504335B2 (ja) | 金属調皮膜の製造方法 | |
JP2007144988A (ja) | 樹脂製品及びその製造方法並びに金属皮膜の成膜方法 | |
JP5017206B2 (ja) | 電波透過性装飾部材 | |
EP0516248B1 (en) | Multilayered film | |
JP2012533514A (ja) | 低放射ガラス及びその製造方法 | |
SA519402231B1 (ar) | مادة مطلية لاستخدامها في نافذة المراقبة أو ما شابه وطريقة صنع مادة مثلها | |
TW201934782A (zh) | 電波透過性金屬光澤構件、使用此之物品、及其製造方法 | |
JP2013086469A (ja) | 電波透過性装飾部材およびその製造方法 | |
Taeschner et al. | Scratch resistant optical coatings on polymers by magnetron-plasma-enhanced chemical vapor deposition | |
CN111763915B (zh) | 非导电性薄膜及其制备方法、镀膜基材 | |
WO2009017376A2 (en) | Process for manufacturing multi-layered thin film by dry vacuum vapor deposition | |
KR100848288B1 (ko) | 내구성 및 신뢰성이 우수한 고저항의 금속 박막을 가지는적층형 구조물 및 그 형성방법 | |
JPH06251632A (ja) | 屈曲性に優れた透明導電性フィルムおよびその製造法 | |
JP5438355B2 (ja) | 光学薄膜積層体及び電子機器用ケース | |
KR101200302B1 (ko) | 간헐적 스퍼터링을 이용한 고저항 금속박막 제조방법 | |
US11821074B2 (en) | High-frequency-transparent component and method for producing the same | |
KR20190052825A (ko) | 다크티탄 색상 도금방법 | |
JP2010072347A (ja) | 光学干渉薄膜 | |
Solov’ev et al. | Properties of multilayer ZnO: Ga/Ag/ZnO: Ga coatings applied by magnetron sputtering |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130415 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130716 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131105 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20140128 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20140204 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140430 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140526 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140624 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5570507 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |