JP2019123238A - 電波透過性金属光沢部材、これを用いた物品、及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）のみならず、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属が、様々な材料から成る連続面に金属層として形成された、製造が容易な電波透過性金属光沢部材、及びそれを用いた物品を提供することを目的とする。また、クロム又はインジウムのみならず、例えば、アルミニウム等その他の金属を、様々な材料から成る連続面に、金属層として容易に形成することができる、電波透過性金属光沢部材又は該電波透過性金属光沢部材を用いた物品の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】電波透過性を有する基体１０と、基体の連続面に直接形成されたアルミニウム層１２と、を備える。アルミニウム層１２は、互いに不連続の複数の分離区分を含む不連続領域を有する。【選択図】図１

Description

本発明は、電波透過性金属光沢部材、これを用いた物品、及びその製造方法に関する。

例えば、フロントグリル、エンブレムといった自動車のフロント部分に搭載されるミリ波レーダーのカバー部材を装飾するために、光輝性と電波透過性の双方を兼ね備えた金属光沢部材が求められている。

ミリ波レーダーは、ミリ波帯の電磁波（周波数約７７ＧＨｚ、波長約４ｍｍ）を自動車の前方に送信し、ターゲットからの反射波を受信して、反射波を測定、分析することで、ターゲットとの距離や、ターゲットの方向、サイズを計測することができるものである。計測結果は、車間計測、速度自動調整、ブレーキ自動調整などに利用することができる。このようなミリ波レーダーが配置される自動車のフロント部分は、いわば自動車の顔であり、ユーザに大きな印象を与える部分であるから、金属光沢調のフロント装飾で高級感を演出等するのが好ましい。しかしながら、自動車のフロント部分に金属を使用した場合には、ミリ波レーダーによる電磁波の送受信が実質的に不可能、或いは、妨害されてしまう。したがって、ミリ波レーダーの働きを妨げることなく、自動車の意匠性を損なわせないために、光輝性と電波透過性の双方を兼ね備えた金属光沢部材が必要とされている。

この種の金属光沢部材は、ミリ波レーダーのみならず、通信を必要とする様々な機器、例えば、スマートキーを設けた自動車のドアハンドル、車載通信機器、携帯電話、パソコン等の電子機器等への応用が期待されている。更に、近年では、ＩｏＴ技術の発達に伴い、従来は通信等行われることがなかった、冷蔵庫等の家電製品、生活機器等、幅広い分野での応用も期待されている。

金属光沢部材に関して、特開２００７−１４４９８８号公報（特許文献１）には、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）より成る金属被膜を含む樹脂製品が開示されている。この樹脂製品は、樹脂基材と、当該樹脂基材の上に成膜された無機化合物を含む無機質下地膜と、当該無機質下地膜の上に物理蒸着法により成膜された光輝性及び不連続構造のクロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）よりなる金属皮膜を含む。無機質下地膜として、特許文献１では、（ａ）金属化合物の薄膜、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ、ＴｉＯ₂、Ｔｉ₃Ｏ₅等）等のチタン化合物；酸化ケイ素（ＳｉＯ、ＳｉＯ₂等）、窒化ケイ素（Ｓｉ₃Ｎ₄等）等のケイ素化合物；酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）等のアルミニウム化合物；酸化鉄（Ｆｅ₂Ｏ₃）等の鉄化合物；酸化セレン（ＣｅＯ）等のセレン化合物；酸化ジルコン（ＺｒＯ）等のジルコン化合物；硫化亜鉛（ＺｎＳ）等の亜鉛化合物等、（ｂ）無機塗料の塗膜、例えば、シリコン、アモルファスＴｉＯ₂等（その他、上記例示の金属化合物）を主成分とする無機塗料による塗膜が使用されている。しかしながら、この樹脂製品では、金属皮膜として、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）のみを用いるものであって、これらに比べて価格や光輝性において優れる、例えば、アルミニウム（Ａｌ）を金属皮膜として用いることはできない。

一方、特開２００９−２９８００６号（特許文献２）には、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）のみならず、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、ニッケル（Ｎｉ）をも金属膜として形成することができる電磁波透過性光輝樹脂製品が開示されている。これらの金属膜は、不連続構造の下地膜を設けることによって形成されるものであるが、下地膜を不連続層とするために、スパッタの基材傾斜角度を０°又は７０°に設定しなければならない等の制約があることから、製造が煩雑であるといった問題がある。また、特許文献２によっては、例えば、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、又はこれらの合金を金属膜として形成することもできない。

特開２００７−１４４９８８号公報 特開２００９−２９８００６号公報

本願発明は、これら従来技術における問題点を解決するためになされたものであり、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）のみならず、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属が、様々な材料から成る連続面に金属層として形成された、製造が容易な電波透過性金属光沢部材、及びそれを用いた物品を提供することを目的とする。また、本願発明は、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）のみならず、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属を、様々な材料から成る連続面に、金属層として容易に形成することができる、電波透過性金属光沢部材又は該電波透過性金属光沢部材を用いた物品の製造方法を提供することを目的とする。

本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、ＡＣ（交流）スパッタリングを用いることによって、通常は不連続構造になり難い、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属が、様々な材料から成る連続面において不連続構造を発現させることを見出し、本発明を完成するに至った。

上記の課題を解決するため、本発明の一態様による電波透過性金属光沢部材は、電波透過性を有する基体と、前記基体の連続面に直接形成されたアルミニウム層と、を備え、前記アルミニウム層は、互いに不連続の複数の分離区分を含む不連続領域を有する。
この態様の電波透過性金属光沢部材によれば、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）のみならず、例えば、アルミニウム（Ａｌ）が、様々な材料から成る連続面に金属層として形成された、製造が容易な電波透過性金属光沢部材が提供される。
上記態様の電波透過性金属光沢部材において、前記アルミニウム層のシート抵抗は９０Ω／□以上であるのが好ましい。

また、上記の課題を解決するため、本発明の他の態様による電波透過性金属光沢部材は、電波透過性を有する基体と、前記基体の連続面に直接形成されたアルミニウム層と、を備え、シート抵抗が９０Ω／□以上である。
この態様の電波透過性金属光沢部材によれば、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）のみならず、例えば、アルミニウム（Ａｌ）が、様々な材料から成る連続面に金属層として形成された、製造が容易な電波透過性金属光沢部材が提供される。

上記態様の電波透過性金属光沢部材において、前記連続面は、誘電性樹脂材料、又は、ガラス材料から成っていてもよい。ここで、前記誘電性樹脂材料は、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル系ポリマー、ポリカーボネートのいずれかから構成されていてもよい。
また、上記態様の電波透過性金属光沢部材において、前記連続面は、酸化インジウム含有材料を利用して形成されていてもよい。

また、上記態様の電波透過性金属光沢部材において、前記基体が、フィルム、樹脂成型品、ガラス製品、又は金属光沢を付与すべき物品そのものであってもよい。

更に、上記態様の電波透過性金属光沢部材において、前記アルミニウム層の最大の厚さが１５〜８０ｎｍであるのが好ましい。

また、上記態様の電波透過性金属光沢部材において、前記アルミニウム層の電波透過減衰量が１０ｄＢ以下であるのが好ましい。

また、上記態様の電波透過性金属光沢部材において、前記アルミニウム層は、アルミニウム（Ａｌ）又はアルミニウム（Ａｌ）の合金のいずれかであってもよい。ここで、前記アルミニウム（Ａｌ）の合金における全金属成分中のアルミニウム含有比率が５０％以上であるのが好ましい。

また、上記態様の電波透過性金属光沢部材において、前記基体の連続面を利用して形成された透明な筐体の内面に前記アルミニウムが設けられていてもよい。

本発明の一態様による電波透過性金属光沢部材又は該電波透過性金属光沢部材を用いた物品の製造方法は、電波透過性を有する基体に、ＡＣスパッタリングを用いて、互いに不連続の複数の分離区分を含む不連続領域を有するアルミニウム層を直接形成する段階を含む。
また、本発明の他の態様による電波透過性金属光沢部材又は該電波透過性金属光沢部材を用いた物品の製造方法は、電波透過性を有する基体に、ＡＣスパッタリングを用いて、シート抵抗が９０Ω／□以上となるようにアルミニウム層を直接形成する段階を含む。
これらの態様の電波透過性金属光沢部材又は該電波透過性金属光沢部材を用いた物品の製造方法によれば、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）のみならず、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属を、様々な材料から成る連続面に、金属層として容易に形成することができる。

上記態様の電波透過性金属光沢部材の製造方法において、前記アルミニウム層は前記基体の連続面に直接形成されてもよい。ここで、前記連続面は、誘電性樹脂材料、又は、ガラス材料から成っていてもよいし、また、酸化インジウム含有材料を利用して形成されていてもよい。

上記態様の電波透過性金属光沢部材の製造方法において、前記ＡＣスパッタリングは１．５Ｐａ以上の圧力下で行われるのが好ましい。

また、上記態様の電波透過性金属光沢部材の製造方法において、前記ＡＣスパッタリングを行う際の前記基体の温度が２０℃以上であるのが好ましい。

本発明によれば金属層が形成される面が連続面であってもよく、且つ、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）だけでなく、例えば、アルミニウム（Ａｌ）等その他の金属をも金属層として用いることができる、製造が容易な電波透過性金属光沢部材、それを用いた物品、及びその製造方法電波透過性が提供される。

図１の（ａ）、（ｂ）ともに、本発明の一実施形態による電波透過性金属光沢部材の概略断面図を示す図である。 図２の（ａ）、（ｂ）ともに、本発明の一実施形態による電波透過性金属光沢部材の表面の電子顕微鏡写真である。 実施例及び比較例における金属層の厚さの測定方法を説明する図である。 図２の（ｂ）の一部領域における断面の画像である。

以下、添付図面を参照しつつ、本発明の一つの好適な実施形態について説明する。説明の便宜のため本発明の好適な実施形態のみを示すが、勿論、これによって本発明を限定しようとするものではない。

＜１．基本構成＞
図１の（ａ）、（ｂ）に、それぞれ、本発明の一実施形態による電波透過性金属光沢部材（以下、「金属光沢部材」という。）１、１Ａの概略断面図を示す。これらの図及び他の図を含め、同様の又は対応する部材には、同じ参照番号を付している。

金属光沢部材１、１Ａは、共に、電波透過性を有する基体１０と、基体１０の連続面１０ａ、１１ａに直接形成された金属層１２を含む。金属光沢部材１と金属光沢部材１Ａとの相違は、金属光沢部材１Ａには、金属光沢部材１と異なり、基体１０に下地層１１が設けられている点にある。下地層１１は、金属層１２と基体１０との間の濡れ性を小さくするために設けられているものであって、このような下地層１１を設けることにより、金属層１２は不連続となり易くなる。下地層１１を設けているため、金属光沢部材１Ａにおける連続面１１ａは、金属光沢部材１における連続面１０ａと異なり、基体１０そのものの面１０ａによって形成されていることにはならず、正確には、基体１０に設けた下地層１１の面１１ａによって形成されていることになる。この下地層１１は、薄膜状のものであるため、不連続部分１１ｂが生じてしまうこともあるが、仮にそのような不連続部分１１ｂが生じたとしても、下地層１１は、厚さ１０ｎｍ程度以下の薄いものであるため、金属層１２が、それらの不連続部分１１ｂに起因して不連続となることはない。換言すれば、仮に下地層１１に不連続部分１１ｂが存在するとしても、基体１０は、金属層１２との関係では、下地層１１を含んでいるにも拘らず実質的に連続面１１ａを形成しているものと解してよい。よって、本明細書中の「基体の連続面」の語には、基体そのものの連続面１０ａのみならず、下地層を含んだ連続面１１ａも含まれる。このように、これら金属光沢部材１、１Ａのいずれにおいても、金属層１２は、基体１０の連続面１０ａ、１１ａに直接形成されていることから、それらの平滑性や耐食性は大きく改善されており、また、それらの金属層１２を面内にばらつきなく配置することが容易なものとなっている。

＜２．基体＞
＜２−１．基体を構成する物品＞
基体１０は、電波透過性を有することを要し、例えば、フィルム、樹脂成型品、ガラス製品の他、金属光沢を付与すべき物品そのものであってもよい。

基体１０がフィルムの場合、該フィルムは、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ナイロン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリスチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリシクロオレフィン、ポリウレタン、アクリル（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳなどの単独重合体や共重合体等の材料で形成される。これらの材料によれば、光輝性や電波透過性に影響を与えることもない。これらのフィルムは透明であることが好ましい。また、金属層１２を後に形成する観点から、スパッタリングを行う際の高温に耐え得るものであることが好ましく、従って、上記材料の中でも、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリプロピレン、ポリウレタン、アクリル、ＡＢＳが好ましい。なかでも、耐熱性とコストとのバランスがよいことから、ポリエチレンテレフタレートやシクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリルが好ましい。基体１０は、単層フィルムでもよいし積層フィルムでもよい。加工のし易さ等から、厚さは、例えば、６μｍ〜２５０μｍ程度が好ましい。

基体１０がガラス製品の場合、例えば、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、化学強化ガラスなどを用いることができるが、これに限定されることはない。

基体１０が樹脂成形品の場合、例えば、ＡＢＳ、ＰＣ、ＰＭＭＡ、ＰＰ、ＰＥ、ポリフタルアミド（ＰＰＡ）、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）を用いることができるが、これに限定されることはない。

基体１０が金属光沢を付与すべき物品そのものである場合として、例えば、基体１０によって、自動車のエンブレム、スマートキーを設けた自動車のドアノブ、携帯電話やパソコン等の通信機器の筐体、冷蔵庫の筐体を形成した場合がある。通信機器等の筐体が透明である場合には、金属層１２は、そのような筐体の外面に設けてもよいし、内面に設けてもよい。但し、金属光沢を付与すべき物品は、基体がフィルム、ガラス製品、樹脂成型品の場合と同様の材質、条件を満たしていることが好ましい。

＜２−２．基体の連続面＞
基体１０の連続面１０ａは、例えば、誘電性樹脂材料、ガラス材料から形成することができ、また、基体１０の連続面１１ａは、例えば、誘電性樹脂材料、ガラス材料、及び酸化インジウム含有材料のいずれか１つの材料から形成することができる。必ずしも連続面１０ａ、１１ａの全ての領域をこれらの材料のいずれか１つから形成する必要はなく、一部の領域と他の領域を、それぞれ異なる材料で形成してもよい。また、連続面１０ａ、１１ａの一部のみが、これらの材料で形成されていてもよい。

誘電性樹脂材料として、例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル系ポリマー、ポリカーボネートを使用することができる。誘電性樹脂材料には、Ａｌ₂Ｏ₃やＳｉＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂などの誘電性金属酸化物材料や、ＡｌＮ、ＳｉＮなどの誘電性金属窒化物材料を、フィルム等の樹脂成形品上に形成したものも含まれる。例えば、図１の（ａ）に示すように、基体１０が樹脂成型品の場合、基体１０の連続面１０ａをこれらの材料で形成することにより、金属光沢を付与すべき物品そのものによって連続面１０ａを形成することができる。換言すれば、金属層１２を、基体１０に直接形成することができる。

ガラス材料として、例えば、無アルカリガラスを使用することができる。例えば、図１の（ａ）に示すように、基体１０がガラス製品の場合、基体１０の連続面１０ａをこれらの材料で形成することにより、金属光沢を付与すべき物品そのものによって連続面１０ａを形成することができる。換言すれば、金属層１２を、基体１０に直接形成することができる。

酸化インジウム含有材料としては、例えば、酸化インジウム（Ｉｎ₂Ｏ₃）そのものを使用することもできるし、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）や、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のような金属含有物を使用することもできる。但し、第二の金属を含有したＩＴＯやＩＺＯの方が、スパッタリング工程での放電安定性が高い点で、より好ましい。ＩＴＯにおけるＩｎ₂Ｏ₃の重量に対する錫（Ｓｎ）の含有率は特に限定されないが、例えば、２．５ｗｔ％〜３０ｗｔ％、より好ましくは、３ｗｔ％〜１０ｗｔ％であり、また、ＩＺＯにおけるＩｎ₂Ｏ₃の重量に対する酸化亜鉛（ＺｎＯ）の含有率は、例えば、２ｗｔ％〜２０ｗｔ％である。これらの酸化インジウム含有材料は、図１の（ｂ）に示すように、金属層１２と基体１０との間の濡れ性を小さくするために下地層１１として付与されるため、実質的には、基体１０の連続面１１ａを形成し得る。但し、このように連続面１１ａが誘電性樹脂材料で形成される場合、金属光沢を付与すべき物品そのものによっては、基体１０の連続面１１ａを形成することはできない。下地層１１としての酸化インジウム含有層１１は、基体１０の面に直接設けられていてもよいし、基体１０の面に設けられた保護膜等を介して間接的に設けられてもよい。酸化インジウム含有層１１の厚さは、シート抵抗や電波透過性、生産性の観点から、通常１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましい。一方、積層される金属層１２が不連続状態となるように、１ｎｍ以上であることが好ましく、確実に不連続状態にするために２ｎｍ以上であることがより好ましく、５ｎｍ以上であることが更に好ましい。

＜３．金属層＞
＜３−１．金属層の構造＞
金属層１２は、基体１０の連続面１０ａ、１１ａに、例えば４０ｋＨｚの中間周波数領域を利用したＭＦ−ＡＣスパッタリング等のＡＣスパッタリングを用いて付与される。ＡＣスパッタリングを用いて金属層１２を付与することにより、金属層１２は、連続面１０ａ、１１ａの少なくとも一部の領域において、互いに不連続の状態、更に言えば、隙間１２ｂによって隔てられた複数の分離区分１２ａを含む不連続領域を形成し得る。隙間１２ｂによって隔てられるため、分離区分１２ａにおけるシート抵抗は大きくなり、また、電波透過減衰量は小さくなり、この結果、電磁波との相互作用が低下し、電磁波を透過させることができる。これらの分離区分１２ａは、それぞれ、金属をＡＣスパッタリングすることによって形成されたスパッタ粒子の集合体である。金属層１２が連続面１０ａ、１１ａの上で不連続状態となるメカニズムの詳細は必ずしも明らかではないが、おおよそ、次のようなものであると推測される。即ち、金属層１２の薄膜形成プロセスにおいて、不連続構造の形成し易さは、金属層１２が付与される被付与部材（本件では、連続面１０ａ、１１ａを形成する部材）上での表面拡散と関連性があり、被付与部材の温度が高く、被付与部材に対する金属層の濡れ性が小さく、金属層の材料の融点が低い方が不連続構造を形成しやすい、というものである。従って、以下の実施例で特に使用したアルミニウム（Ａｌ））以外の金属についても、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）などの比較的融点の低い金属については、同様の手法で不連続構造を形成し得ると考えられる。尚、本明細書でいう「不連続の状態」とは、隙間１２ｂによって互いに隔てられており、この結果、互いに電気的に絶縁されている状態を意味する。電気的に絶縁されることにより、シート抵抗が大きくなり、所望とする電波透過性が得られることになる。不連続の形態は、特に限定されるものではなく、例えば、島状、クラック等が含まれる。ここで「島状」とは、図１の（ｂ）に示されているように、スパッタ粒子の集合体である粒子同士が各々独立しており、それらの粒子が、互いに僅かに離間し又は一部接触した状態で敷き詰められてなる構造を意味する。

＜３−２．金属層の材料＞
金属層１２は、十分な光輝性を発揮し得ることは勿論、融点が比較的低いものであることが望ましい。金属層１２は、スパッタリングを用いた薄膜成長によって付与されるためである。このような理由から、金属層１２としては、融点が約１０００℃以下の金属が適しており、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉛（Ｐｂ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）から選択された少なくとも一種の金属、および該金属を主成分とする合金のいずれかを含むことが好ましい。特に、物質の光輝性や安定性、価格等の理由からアルミニウムおよびその合金が好ましい。アルミニウムの合金については、合金における全金属成分中のアルミニウム含有比率が５０％以上が好ましく、６０％以上のより好ましく、７５％以上が更に好ましい。

＜３−２−１．連続面が基体そのものによって形成される場合＞
図１の（ａ）に示すように、連続面が基体１０そのものの面１０ａによって形成され、金属層１２がそのような連続面１０ａに直接形成される場合、金属層１２の厚さは、十分な光輝性を発揮するように、通常１５ｎｍ以上が好ましく、一方、シート抵抗や電波透過性の観点から、通常８０ｎｍ以下が好ましい。例えば、２０ｎｍ〜７５ｎｍが好ましく、２５ｎｍ〜７０ｎｍがより好ましい。この厚さは、均一な膜を生産性良く形成するのにも適しており、また、最終製品である樹脂成形品の見栄えも良い。

また、金属層１２のシート抵抗は、十分な電波透過性を発揮するように、１００〜１０００００Ω／□であるのが好ましい。この場合、電波透過減衰量は、１ＧＨｚの波長において、１０〜０．０１［−ｄＢ］程度となる。更に好ましくは、１０００〜５００００Ω／□である。

＜３−２−２．連続面が下地層によって形成される場合＞
図１の（ｂ）に示すように、連続面１１ａが下地層１１の面によって形成され、金属層１２がそのような基体１０の連続面１１ａに直接形成される場合、金属層１２の厚さは、十分な光輝性を発揮するように、通常２０ｎｍ以上が好ましく、一方、シート抵抗や電波透過性の観点から、通常１００ｎｍ以下が好ましい。例えば、２０ｎｍ〜１００ｎｍが好ましく、３０ｎｍ〜７０ｎｍがより好ましい。好ましい値が、上記＜３−２−１＞と比較して大きな値とすることができるのは、下地層１１を設けたことにより、金属層１２と基体１０との間の濡れ性が小さくなり、金属層１２が不連続層を形成しやすくなっているため、従って、厚膜化が可能になっているためである。尚、下地層１１は、薄膜状のものであるから、光輝性やシート抵抗等に実質的に影響を与えることはない。この厚さは、均一な膜を生産性良く形成するのにも適しており、また、最終製品である樹脂成形品の見栄えも良い。

また、同様の理由から、例えば、下地層１１が酸化インジウム含有層の場合、金属層の厚さと酸化インジウム含有層の厚さとの比（金属層の厚さ／酸化インジウム含有層の厚さ）は、０．１〜１００の範囲が好ましく、０．３〜３５の範囲がより好ましい。

更に、金属層１２と下地層１１との積層体としてのシート抵抗は、１００〜１０００００Ω／□であるのが好ましい。この場合、電波透過減衰量は、１ＧＨｚの波長において、１０〜０．０１［−ｄＢ］程度となる。更に好ましくは、１０００〜５００００Ω／□である。

＜４．金属光沢部材の製造方法＞
金属光沢部材１、１Ａの製造方法の一例を説明する。
＜４−１．連続面が基体そのものによって形成される場合＞
図１の（ａ）に示すように、連続面１０ａが基体１０そのものの面によって形成されており、金属層１２をそのような連続面１０ａに直接形成する場合は、連続面１０ａを形成する工程を経ることなく、連続面１０ａにＡＣスパッタリングを用いて、直接、金属層１２が積層される。

＜４−２．連続面が下地層によって形成される場合＞
図１の（ｂ）に示すように、連続面１１ａが下地層１１によって形成されており、金属層１２をそのような連続面１１ａに直接形成する場合には、少なくとも２つの工程が必要となる。
（１）酸化インジウム含有層を成膜する工程
基体１０に対し、酸化インジウム含有層１１を成膜する。酸化インジウム含有層１１は、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等によって形成することができる。但し、大面積でも厚さを厳密に制御できる点から、スパッタリングが好ましい。

（２）金属層を積層する工程
次いで、酸化インジウム含有層１１によって形成された連続面１１ａに、直接、金属層１２を積層する。金属層１２の積層には、ＡＣスパッタリングを用いる。尚、酸化インジウム含有層１１と、金属層１２との間には、他の層を介在させずに直接接触させるのが好ましいが、上に説明した酸化インジウム含有層１１上における金属層１２の表面拡散のメカニズムが確保されるのであれば、他の層を介在させることもできる。

＜５．実施例及び比較例＞
＜５−１．連続面が基体そのものによって形成される場合＞
実施例及び比較例では、フィルムを基体１０として用いて各種試料を準備した。準備した各種試料について、シート抵抗、電波透過減衰量、及び光沢度を評価した。シート抵抗と電波透過減衰量は、電波透過性に関する評価、光沢度は、光輝性に関する評価である。光沢度とシート抵抗の値は大きい方が好ましく、電波透過減衰量の値は小さい方が好ましい。
評価方法の詳細は以下のとおりである。

（１）シート抵抗
ナプソン社製非接触式抵抗測定装置ＮＣ−８０ＭＡＰを用い、ＪＩＳ−Ｚ２３１６に従って渦電流測定法により金属層のシート抵抗を測定した。
このシート抵抗は、９０Ω／□以上であることが必要であり、２００Ω／□以上であるのが好ましく、２５０Ω／□以上であるのがより好ましく、６００Ω／□以上であることが更に好ましい。９０Ω／□より小さいと、充分な電波透過性が得られないという問題がある。

（２）電波透過減衰量
1GHzにおける電波透過減衰量をKEC法測定評価治具およびアジレント社製スペクトルアナライザCXA signal Analyzer NA9000Aを用いて評価した。ミリ波レーダーの周波数帯域（76〜80GHz）における電磁波透過性と、マイクロ波帯域（1GHz）における電磁波透過性には相関性があり、比較的近い値を示すことから、今回の評価では、マイクロ波帯域（1GHz）における電波透過性、即ち、マイクロ波電界透過減衰量を指標とした。
このマイクロ波電界透過減衰量は、１０［−ｄＢ］以下であることが必要であり、５［−ｄＢ］以下であるのが好ましく、２［−ｄＢ］以下であることがより好ましい。１０［−ｄＢ］以上であると、９０％以上の電波が遮断されるという問題がある。

（３）光沢度
日本電色工業社製ハンディ型光沢計PG-II Mを用い、ＪＩＳ−Ｚ８７４１に従って、金属層の２０°鏡面光沢度を測定した。光沢度は、下記＜５−２．＞で使用した可視光反射率と、相関関係にあり実質的には同じ評価を行っているということができるが、ここでは、金属光沢の定量的表現に優れる光沢度を使用した。
この光沢度は、十分な光輝性を有するために５００以上が必要であり、７５０以上であるのが好ましく、更に好ましくは１０００以上である。光沢度が、５００より小さいと、光輝性が低下し、外観に優れないという問題がある。
（４）金属層の厚さ
実施例及び比較例においては、金属層におけるバラツキ、更に詳細には、図１に示す分離区分１２ａ間の厚さにおけるバラツキを考慮して、分離区分１２ａの厚さの平均値を金属層の厚さとした。以下、この平均値を、便宜上、「最大の厚さ」と呼ぶ。尚、個々の分離区分１２ａの厚さは、下地（図１における連続面１０ａ、１１ａに相当）から垂直方向に最も厚いところの厚さとした。
図２に、電波透過性金属光沢部材の表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）の一例を示す。図２の（ａ）のＳＥＭ画像における画像サイズは１．１６μm×０．８５μm、図２の（ｂ）のＳＥＭ画像における画像サイズは、１．１６μm×０．８５μmである。最大の厚さを求めるに際し、先ず、図２に示すような電波透過性金属光沢部材の表面に現れた金属層において、図３に示すような一辺５ｃｍの正方形領域３を適当に抽出し、該正方形領域３の縦辺及び横辺それぞれの中心線Ａ、Ｂをそれぞれ４等分することによって得られる計５箇所の点「ａ」〜「ｅ」を測定箇所として選択した。
次いで、選択した測定箇所それぞれにおける、図４に示すような断面画像（透過型電子顕微鏡写真（ＴＥＭ画像））において、おおよそ５個の分離区分１２ａが含まれる視野角領域を抽出した。
これら計５箇所の測定箇所それぞれにおける、おおよそ５個の分離区分１２ａ、即ち、約２５個（５個×５箇所）の分離区分１２ａの個々の厚さを求め、それらの平均値を「最大の厚さ」とした。

以下の表１に、評価結果を示す。

[実施例１]
基体１０としてのフィルム（以下、「基材フィルム」と呼ぶ。）として、三菱樹脂社製ＰＥＴフィルム（厚さ１２５μｍ）を準備した。また、金属層には、アルミニウム層を用いた。基材フィルムの連続面に、ＡＣスパッタリング（４０ｋＨｚの中間周波数領域を利用したＭＦ−ＡＣスパッタリング）を用いて、２０ｎｍの最大の厚さのアルミニウム（Ａｌ）層を直接形成し、金属光沢部材（以下、「金属フィルム」と呼ぶ。）を得た。Ａｌ層を形成する際の基材フィルムの温度は１３０℃に設定し、基材フィルムを収容するチャンバにおけるアルゴン（Ａｒ）ガスの圧力は２Ｐａに設定した。

実施例１の構成において、基材フィルムの連続面は高い平滑性と耐食性を発揮し、その一方で、この連続面においてアルミニウム層は不連続な状態に形成された複数の分離区分１２ａを含むことから、そのシート抵抗は大きな値となり、また、電波透過減衰量は比較的良好な結果を示した。尚、表１では、便宜上、電波透過減衰量の「評価」結果として、当該電波透過減衰量が２［−ｄＢ］より小さい場合を「◎」で、２［−ｄＢ］以上で且つ５［−ｄＢ］より小さい場合を「○」で、５［−ｄＢ］以上で且つ１０［−ｄＢ］より小さい場合を「△」で、１０［−ｄＢ］以上を「×」で、それぞれ表している。
また、実施例１の構成においては、光輝性についても実用に十分耐え得る結果が得られた。尚、便宜上、表１では、光沢度の「評価」結果として、当該光沢度が１０００以上である場合を「◎」で、７５０以上で且つ１０００より小さい場合を「○」で、５００以上で且つ７５０より小さい場合を「△」で、５００より小さい場合を「×」で、それぞれ表している。更に、電波透過性と光輝性の「総合評価」として、いずれかの評価に「×」があれば「×」とし、それ以外については「○」とした。結果、実施例１について、総合評価は「○」となり、電波透過性と光輝性の双方を兼ね備えた良好な金属光沢部材、或いは、金属フィルムが得られた。

[実施例２]〜［実施例６］
実施例２〜６については、基材フィルムの連続面に形成するアルミニウム層の最大の厚さを、実施例１の最大の厚さより大きくなるように段階的に増やした。また、実施例４〜６については、アルゴンガスの圧力を実施例１よりも大きな値に設定した。その他の条件は実施例１と同じである。
シート抵抗に関して、実施例２〜４では、実施例１と同様に、３ｋΩ／□を超える大きな値となり、一方、実施例５、６では、実施例２〜４ほどではないが、実用上は十分な大きな値が得られた。実施例５、６において、シート抵抗が実施例１より低い値となったのは、アルミニウムの堆積量が多くなり、不連続領域が減少したことによるものと考えられる。電波透過減衰量に関して、実施例２〜６の全てにおいて、実施例１の値と同等又はそれを上回る結果が得られた。一方、光沢度に関しては、当然のことながら、実施例２〜６の全てにおいて、実施例１の値を上回る結果が得られた。

図２の（ａ）に、実施例６によって得られた金属光沢部材（金属フィルム）表面のＳＥＭ画像を示す。

[実施例７]〜［実施例１１］
実施例７〜１１の全てにおいて、連続面に形成されるアルミニウム層の最大の厚さを、実施例２の最大の厚さと同じとし、且つ、基材フィルムの温度以外のスパッタ条件を揃えた。基材フィルムの温度は、実施例２よりも低温に設定した。実施例７〜１１の間においては、基材フィルムの材質を変更した。実施例７では、ポリエチレンテレフタレート（三菱ケミカル社製ＰＥＴフィルム、厚さ１２５μｍ）、実施例８では、アクリル（三菱ケミカル社製ＰＭＭＡ、厚さ１２５μｍ）、実施例９では、ポリカーボネート（住友化学社製ＰＣ、厚さ１２５μｍ）、実施例１０では、無アルカリガラス（コーニング社製、厚さ４００μｍ）、実施例１１では、ＩＴＯ／ＰＥＴ（ＩＴＯにおけるＩｎ₂Ｏ₃の重量に対する錫（Ｓｎ）の含有率は１０ｗｔ％、膜厚は５ｎｍである）を、それぞれ使用した。このように、実施例７〜１１では、基材フィルムの材質を変更したにも関わらず、それらの全てにおいて、電波透過性及び光輝性ともに、実施例１〜６と少なくとも同等か、又は、それらを上回る結果が得られた。よって、実施例７〜１１の結果から、基材フィルムの材質に拘らず、電波透過性と光輝性の双方を兼ね備えた金属光沢部材、或いは、金属フィルムが得られることは明らかである。

[比較例１]〜[比較例２]
比較例１では、基材フィルムの連続面に形成されるアルミニウム層の最大の厚さを、実施例１〜１１の最大の厚さより薄くし、これとは逆に、比較例２では、厚くした。また、アルゴンガスの圧力を、実施例１〜１１の圧力よりも低い値に設定した。その他の条件については、実施例１〜６と同じである。

比較例１では、アルミニウム層の厚さが薄いため、シート抵抗や電波透過減衰量については良好な結果が得られたが、その一方で、光沢性については不十分な結果となった。一方、比較例２では、アルミニウム層の厚さが厚いため、光沢性については十分な結果が得られたが、シート抵抗や電波透過減衰量の値は悪化し、実用に耐え得るものではなかった。

[比較例３]
スパッタリングの方法とアルゴンガスの圧力以外の条件については、実施例２と同じ条件とした。アルゴンガスの圧力は、比較例１、２と同様に、実施例１〜１１より低い値に設定した。また、スパッタリングの方法として、ここでは、ＤＣスパッタを用いた。ＤＣスパッタ装置は、実施例１と同様の装置であり、電源のみ直流方式に変更したものを使用した。この場合、電波透過性及び光輝性ともに不十分な結果となった。

[比較例４]
製膜方法として、ここでは、真空蒸着を用いた。より詳細には、アルバック社製高真空蒸着装置EX-550を用い、基材をチャンバー内にセットし、10^-4Paまで真空引き後、抵抗加熱方式にてアルミを1nm/secのレートで30nm製膜した。この場合、電波透過性及び光輝性ともに不十分な結果となった。

＜５−２．連続面が下地層によって形成される場合＞
実施例及び比較例では、フィルムを基体１０として用いて各種試料を準備した。準備した各種試料について、シート抵抗、電波透過減衰量、及び可視光反射率を評価した。ここで、シート抵抗と電波透過減衰量は、電波透過性に関する評価、可視光反射率は、光輝性に関する評価である。可視光反射率とシート抵抗の値は大きい方が好ましく、電波透過減衰量の値は小さい方が好ましい。
評価方法の詳細は以下のとおりである。

（１）シート抵抗
上記「＜５−１＞（１）」と同様の方法で測定した。
このシート抵抗は、９０Ω／□以上であることが必要であり、２００Ω／□以上であるのが好ましく、２５０Ω／□以上であるのがより好ましく、６００Ω／□以上であることが更に好ましい。９０Ω／□より小さいと、充分な電波透過性が得られないという問題がある。

（２）電波透過減衰量
上記「＜５−１＞（２）」と同様の方法で測定、評価した。更に詳細には、ミリ波レーダーの周波数帯域（76〜80GHz）における電磁波透過性と、マイクロ波帯域（1GHz）における電磁波透過性には相関性があり、比較的近い値を示すことから、今回の評価では、マイクロ波帯域（1GHz）における電波透過性、即ち、マイクロ波電界透過減衰量を指標とした。
このマイクロ波電界透過減衰量は、１０［−ｄＢ］以下であることが必要であり、５［−ｄＢ］以下であるのが好ましく、２［−ｄＢ］以下であることがより好ましい。１０［−ｄＢ］以上であると、９０％以上の電磁波が遮断されるという問題がある。

（３）可視光反射率
日立ハイテクノロジーズ社製分光光度計Ｕ４１００を用い、５５０ｎｍの測定波長における反射率を測定した。基準として、Ａｌ蒸着ミラーの反射率を反射率１００％とした。 この可視光反射率は、十分な光輝性を有するために２０％以上が必要であり、４０％以上であるのが好ましく、更に好ましくは５０％以上である。可視光反射率が、２０％より小さいと、光輝性が低下し、外観に優れないという問題がある。
（４）金属層の厚さ
上記「＜５−１＞（４）」と同様の方法で「最大の厚さ」として測定した。

以下の表２に、評価結果を示す。

[実施例１２]
基材フィルムとして、三菱樹脂社製ＰＥＴフィルム（厚さ１２５μｍ）を用いた。
先ず、ＤＣマグネトロンスパッタリングを用いて、基材フィルムの面に沿って、５０ｎｍの厚さのＩＴＯ層をその上に直接形成した。ＩＴＯ層を形成する際の基材フィルムの温度は、１３０℃に設定した。ＩＴＯは、Ｉｎ２Ｏ３に対してＳｎを１０ｗｔ％含有させたものである。

次いで、ＡＣスパッタリング（４０ｋＨｚの中間周波数領域を利用したＭＦ−ＡＣスパッタリング）を用いて、ＩＴＯ層の上に、５０ｎｍの最大の厚さのアルミニウム（Ａｌ）層を形成し、金属光沢部材（金属フィルム）を得た。Ａｌ層を形成する際の基材フィルムの温度は、１３０℃に設定し、基材フィルムを収容するチャンバにおけるアルゴン（Ａｒ）ガスの圧力を０．２２Ｐａに設定した。

図２の（ｂ）は、これらの処理の結果得られた金属光沢部材（金属フィルム）表面のＳＥＭ画像であり、図４は、この図２の（ｂ）の一部領域における断面の画像である。画像サイズは１．１６μm×０．８５μmである。実施例１等についても、これと同様の断面が得られると考えてよい。

これらの図から明らかなように、本実施例では、金属光沢部材のＩＴＯ層は、基材フィルムの面に沿って連続状態で設けられていることから高い平滑性と耐食性を発揮し、その一方で、アルミニウム層は、ＩＴＯ層に積層されることによって不連続な状態に形成された複数の部分１２ａを含むことから、そのシート抵抗は２６０Ω／□となり、その電波透過減衰量は１ＧＨｚの波長において４．５［−ｄＢ］となり、電波透過性について良好な結果が得られた。尚、表１では、便宜上、電波透過減衰量の「評価」結果として、当該電波透過減衰量が２［−ｄＢ］より小さい場合を「◎」で、２［−ｄＢ］以上で且つ５［−ｄＢ］より小さい場合を「○」で、５［−ｄＢ］以上で且つ１０［−ｄＢ］より小さい場合を「△」で、１０［−ｄＢ］以上を「×」で、それぞれ表している。
また、この金属光沢部材の可視光反射率は５６％となり、光輝性についても良好な結果が得られた。尚、便宜上、表１では、可視光反射率の「評価」結果として、当該可視光反射率が５０％より大きい場合を「◎」で、５０％以下で且つ４０％より大きい場合を「○」で、４０％以下で且つ２０％より大きい場合を「△」で、２０％以下を「×」で、それぞれ表している。更に、電波透過性と光輝性の「総合評価」として、両者が同じ評価結果の場合には同じ評価結果を、一方が片方より悪い結果の場合には悪い方の評価結果を、それぞれ示している。結果、実施例１１について、総合評価は「○」となり、電波透過性と光輝性の双方を兼ね備えた良好な金属光沢部材、或いは、金属フィルムが得られた。

[実施例１３]〜［実施例１５］
ＩＴＯ層の上に積層するアルミニウム層の最大の厚さを、実施例１３、１４については実施例１２のそれよりも薄くなるように変更し、一方、実施例１５については実施例１２のそれよりも厚くなるように変更した。その他の条件については実施例１２と同じである。
この場合、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例１３〜１５の全てにおいて、実施例１２と同様の値及び結果が得られた。一方、可視光反射率については、アルミニウム層の最大の厚さが実施例１２のそれより薄い実施例１３、１４については若干劣る結果となったが、実施例１５については、実施例１２よりも良好な結果が得られた。但し、実施例１３、１４についても、実用に十分耐え得るものである。

[実施例１６]〜［実施例１７］
ＩＴＯ層の厚さを、実施例１２よりも薄くなるように設定した。その他の条件については、実施例１２と同じである。
この場合、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例１６〜１９の全てにおいて、実施例１２よりも良好な結果が得られた。また、可視光反射率については、実施例１６〜１９の全てにおいて、実施例１２と同様の値及び結果が得られた。これらの実施例により、ＩＴＯ層の厚さは薄くてもよいことが明らかとなり、ＩＴＯ層の厚さを薄くすることにより、材料コストを抑制できることが明らかとなった。

[実施例２０]〜［実施例２３］
ＩＴＯ層におけるＳｎの含有率を、実施例２０については実施例１２のそれより大きくなるように変更し、一方、実施例２１〜２３については実施例１２のそれより小さくなるように変更した。尚、実施例２３のＩＴＯ層ではＳｎをゼロとしていることから、より正確には、ＩＴＯ層ではなく、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）層となっている。その他、実施例２３では、アルミニウム層は４０ｎｍとした。その他の条件については、実施例１２と同じである。
この場合、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例２０〜２２において、実施例１２と同様の結果が得られ、実施例２３においては、実施例１２より若干劣る結果となった。また、可視光反射率については、実施例２０〜２２において、実施例１２と同様の値及び結果が得られ、実施例２３において、実施例１２より若干劣る結果となった。これの結果から、ＩＴＯ層は、Ｓｎを含有するのがより好ましいことが明らかとなった。

[実施例２４]
ＩＴＯではなく、酸化インジウムにＺｎＯを含有させたＩＺＯを用いた。ＺｎＯは、Ｉｎ２Ｏ３に対して１１ｗｔ％含有する。その他の条件については、実施例１２と同じである。
この場合、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例１２よりも若干劣る結果となった。一方、可視光反射率については、実施例１２と同様の値及び結果が得られた。実施例１２より総合評価は劣るものの、ＺｎＯを含有させた場合でも、十分に実用可能であることが明らかとなった。

[比較例５]
ＩＴＯ層の上に積層するアルミニウム層の最大の厚さを、実施例１２のそれよりも厚くなるように変更した。その他の条件については、実施例１２と同じである。
この場合、可視光反射率については、厚さを増した分、実施例１１よりも良好な結果が得られた。一方、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例１２のそれらよりも大きく劣る結果となり、実用不可能なものとなった。

[比較例６]
ＩＴＯ層を設けることなく、基材フィルム上にアルミニウム層を直接成膜した。その他の条件については、実施例１２と同じである。
この場合、可視光反射率については、実施例１２と同様の値及び結果が得られたが、シート抵抗及び電波透過減衰量については、実施例１２のそれらよりも大きく劣る結果となり、実用不可能なものとなった。

＜６．金属薄膜の利用＞
金属光沢部材１Ａに形成された金属層１２は、厚さ２０ｎｍ〜１００ｎｍ程度の薄いものであって、これのみを金属薄膜として使用することもできる。例えば、基体１０のような基体に積層されたインジウム酸化物含有層１１の上に、スパッタリングで金属層１２を形成して、フィルムを得る。また、これとは別に、接着剤を基材の上に塗工して接着剤層付きの基材を作成する。フィルムと基材を、金属層１２と接着剤層が接するように貼り合せ、十分に密着させた後にフィルムと基材を剥離させることで、フィルムの最表面に存在した金属層（金属薄膜）１２を基材の最表面に転写させることができる。

本発明は前記実施例に限定されるものではなく、発明の趣旨から逸脱しない範囲で適宜変更して具体化することもできる。

本発明に係る金属フィルムや金属光沢部材は、例えば、フロントグリル、エンブレム、といった自動車のフロント部分に搭載されるミリ波レーダーのカバー部材を装飾するために好適に用いることができる。また、例えば、携帯電話やスマートフォン、タブレット型ＰＣ、ノート型ＰＣ、冷蔵庫など、意匠性と電波透過性の双方が要求される様々な用途にも利用できる。

１ 金属光沢部材
３ 金属フィルム
１０ 基材フィルム
１０ａ 連続面
１１ 下地層（酸化インジウム含有層）
１１ａ 連続面
１２ 金属層

Claims (21)

1. 電波透過性を有する基体と、
   前記基体の連続面に直接形成されたアルミニウム層と、
   を備え、
   前記アルミニウム層は、互いに不連続の複数の分離区分を含む不連続領域を有することを特徴とする電波透過性金属光沢部材。
2. 前記アルミニウム層のシート抵抗が９０Ω／□以上である、請求項１に記載の電波透過性金属光沢部材。
3. 電波透過性を有する基体と、
   前記基体の連続面に直接形成されたアルミニウム層と、
   を備え、
   シート抵抗が９０Ω／□以上であることを特徴とする電波透過性金属光沢部材。
4. 前記連続面が、誘電性樹脂材料、又は、ガラス材料から成る、請求項１乃至３のいずれかに記載の電波透過性金属光沢部材。
5. 前記誘電性樹脂材料が、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル系ポリマー、ポリカーボネートのいずれかから構成されている、請求項４に記載の電波透過性金属光沢部材。
6. 前記連続面が酸化インジウム含有材料を利用して形成されている、請求項１乃至３のいずれかに記載の電波透過性金属光沢部材。
7. 前記基体が、フィルム、樹脂成型品、ガラス製品、又は金属光沢を付与すべき物品そのものである請求項１乃至６のいずれかに記載の電波透過性金属光沢部材。
8. 前記アルミニウム層の最大の厚さが１５〜８０ｎｍである、請求項１乃至７のいずれかに記載の電波透過性金属光沢部材。
9. 前記アルミニウム層の電波透過減衰量が１０ｄＢ以下である、請求項１乃至８のいずれかに記載の電波透過性金属光沢部材。
10. 前記アルミニウム層は、アルミニウム（Ａｌ）又はアルミニウム（Ａｌ）の合金のいずれかである、請求項１乃至９のいずれかに記載の電波透過性金属光沢部材。
11. 前記アルミニウム（Ａｌ）の合金における全金属成分中のアルミニウム含有比率が５０％以上である、請求項１０に記載の電波透過性金属光沢部材。
12. 前記基体の連続面を利用して形成された透明な筐体の内面に前記アルミニウムが設けられている、請求項１乃至１１のいずれかに記載の電波透過性金属光沢部材。
13. 請求項１乃至１２のいずれかに記載の電波透過性金属光沢部材を用いた物品。
14. 前記物品が通信機器である、請求項１３に記載の物品。
15. 電波透過性を有する基体に、ＡＣスパッタリングを用いて、互いに不連続の複数の分離区分を含む不連続領域を有するアルミニウム層を直接形成する段階を含むことを特徴とする電波透過性金属光沢部材又は該電波透過性金属光沢部材を用いた物品の製造方法。
16. 電波透過性を有する基体に、ＡＣスパッタリングを用いて、シート抵抗が９０Ω／□以上となるようにアルミニウム層を直接形成する段階を含むことを特徴とする電波透過性金属光沢部材又は該電波透過性金属光沢部材を用いた物品の製造方法。
17. 前記アルミニウム層は前記基体の連続面に直接形成される、請求項１５又は１６に記載の電波透過性金属光沢部材又は該電波透過性金属光沢部材を用いた物品の製造方法。
18. 前記連続面が、誘電性樹脂材料、又は、ガラス材料から成る、請求項１７に記載の電波透過性金属光沢部材又は該電波透過性金属光沢部材を用いた物品の製造方法。
19. 前記連続面が酸化インジウム含有材料を利用して形成されている、請求項１７に記載の電波透過性金属光沢部材又は該電波透過性金属光沢部材を用いた物品の製造方法。
20. 前記ＡＣスパッタリングは１．５Ｐａ以上の圧力下で行われる、請求項１５乃至１９のいずれかに記載の製造方法。
21. 前記ＡＣスパッタリングを行う際の前記基体の温度が２０℃以上である、請求項１５乃至２０のいずれかに記載の製造方法。