DE10036976A1 - Verfahren zum Verbinden und Verbindungsaufbau eines thermoplastischen Harzmaterials - Google Patents

Verfahren zum Verbinden und Verbindungsaufbau eines thermoplastischen Harzmaterials

Info

Publication number
DE10036976A1
DE10036976A1 DE10036976A DE10036976A DE10036976A1 DE 10036976 A1 DE10036976 A1 DE 10036976A1 DE 10036976 A DE10036976 A DE 10036976A DE 10036976 A DE10036976 A DE 10036976A DE 10036976 A1 DE10036976 A1 DE 10036976A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
thermoplastic resin
resin material
substrate
film
substance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE10036976A
Other languages
English (en)
Other versions
DE10036976B4 (de
Inventor
Toshihiro Miyake
Katsuaki Kojima
Hiroyasu Iwama
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Denso Corp filed Critical Denso Corp
Publication of DE10036976A1 publication Critical patent/DE10036976A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE10036976B4 publication Critical patent/DE10036976B4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/281Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyimides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/285Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyethers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/288Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyketones
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J5/00Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
    • C09J5/06Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers involving heating of the applied adhesive
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/36Assembling printed circuits with other printed circuits
    • H05K3/361Assembling flexible printed circuits with other printed circuits
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2367/00Polyesters, e.g. PET, i.e. polyethylene terephthalate
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2371/00Polyethers, e.g. PEEK, i.e. polyether-etherketone; PEK, i.e. polyetherketone
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2379/00Other polymers having nitrogen, with or without oxygen or carbon only, in the main chain
    • B32B2379/08Polyimides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/08PCBs, i.e. printed circuit boards
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2467/00Presence of polyester
    • C09J2467/006Presence of polyester in the substrate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2471/00Presence of polyether
    • C09J2471/006Presence of polyether in the substrate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2479/00Presence of polyamine or polyimide
    • C09J2479/08Presence of polyamine or polyimide polyimide
    • C09J2479/086Presence of polyamine or polyimide polyimide in the substrate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0104Properties and characteristics in general
    • H05K2201/0129Thermoplastic polymer, e.g. auto-adhesive layer; Shaping of thermoplastic polymer
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/10Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
    • H05K2201/10613Details of electrical connections of non-printed components, e.g. special leads
    • H05K2201/10954Other details of electrical connections
    • H05K2201/10977Encapsulated connections
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/06Lamination
    • H05K2203/065Binding insulating layers without adhesive, e.g. by local heating or welding, before lamination of the whole PCB
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/12Using specific substances
    • H05K2203/122Organic non-polymeric compounds, e.g. oil, wax, thiol
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4688Composite multilayer circuits, i.e. comprising insulating layers having different properties
    • H05K3/4691Rigid-flexible multilayer circuits comprising rigid and flexible layers, e.g. having in the bending regions only flexible layers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31536Including interfacial reaction product of adjacent layers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31721Of polyimide
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31786Of polyester [e.g., alkyd, etc.]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

Ein PEI-Film (12), der verbunden werden soll, wird über einen Alkanfilm (20) auf ein Glas-Epoxy-Substrat (10) aufgebracht, und ein Bereich, welcher verklebt werden soll, wird auf eine Temperatur erhitzt, die nicht unter der Glasübergangstemperatur T g des PEI-Films liegt, wodurch an der Grenzfläche zum Glas-Epoxy-Substrat eine Haftverbesserungsschicht (15) gebildet wird, in der das Alkan im PEI-Film dispergiert ist. D. h., der PEI-Film ist über die Haftverbesserungsschicht mit dem Glas-Epoxy-Substrat verbunden. Das die Haftverbesserungsschicht einen Elastizitätsmodul aufweist, der geringer als der Elastizitätsmodul des PEI-Films ist, ergibt sich eine verbesserte Haftfestigkeit.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG 1. Gebiet der Erfindung
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ver­ binden bzw. Bondieren eines thermoplastischen Harzmateri­ als, welches z. B. zum Verkleben eines thermoplastischen Harzfilms mit einem Verklebungspartner verwendet werden kann, sowie einen Verbindungsaufbau.
2. Beschreibung des verwandten Standes der Technik
Es ist allgemein übliche Praxis, einen thermoplastischen Harzfilm zu verbinden bzw. zu bondieren, indem der Film zu­ erst geschmolzen wird und der geschmolzene Film anschlie­ ßend mit einen Verklebungspartner verbunden wird. Dieses Verfahren bringt jedoch das Problem mit sich, daß beim Ver­ binden des thermoplastischen Harzfilms, wenn dieser über einer Kupferfolie oder über einem Glas-Epoxy-Substrat ange­ ordnet wird, die Haftfestigkeit nicht mehr ausreicht.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Im Hinblick auf die obigen Probleme besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, ein Verfahren zum Verbin­ den eines thermoplastischen Harzmaterials, welches die Haftfestigkeit an einen Verklebungspartner verbessern kann, sowie einen Verbindungsaufbau bereitzustellen.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein thermoplastisches Harzmaterial auf einen Verklebungspartner über einen Film aufgebracht, welcher aus einer Dispersionssubstanz besteht, welche einen Elastizitätsmodul des thermoplastischen Harz­ materials verringert, wenn sie in dem thermoplastischen Harzmaterial dispergiert wird, und ein zu verklebender Be­ reich wird auf eine Temperatur, welche nicht unter einem Glasübergangspunkt des thermoplastischen Harzmaterials liegt, erhitzt, wodurch eine Haftverbesserungsschicht ge­ bildet wird, in welcher die Dispersionssubstanz in dem thermoplastischen Harzmaterial an einer Grenzfläche mit dem Verklebungspartner dispergiert wird. Dies bedeutet, daß das thermoplastische Harzmaterial über die Haftverbesserungs­ schicht mit dem Verklebungspartner verbunden ist. Somit wird die Haftfestigkeit zwischen dem thermoplastischen Harzmaterial und dem Verklebungspartner verbessert.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
Weitere Aufgaben und Vorteile der vorliegenden Erfindung ergeben sich noch deutlicher aus der nachfolgenden detail­ lierten Beschreibung einer bevorzugten Ausführungsform, die anhand der beigefügten Zeichnungen erläutert ist.
Es zeigt:
Fig. 1 eine perspektivische Ansicht eines Teils einer elek­ tronischen Vorrichtung gemäß einer bevorzugten Ausführungs­ form der vorliegenden Erfindung;
Fig. 2A eine vergrößerte Ansicht zur Illustration eines verklebten Bereichs gemäß der Ausführungsform, Fig. 2B eine Querschnittansicht entlang der Linie IIB-IIB in Fig. 2A und Fig. 2C eine Querschnittansicht entlang der Linie IIC-IIC in Fig. 2A;
Fig. 3A, 3B und 3C Querschnittsansichten zur Illustration eines Verbindungsverfahrens nach der Ausführungsform;
Fig. 4A, 4B, 4C und 4D Ansichten zur Illustration eines Verklebungsmechanismus nach der Ausführungsform;
Fig. 5 eine Ansicht zur Illustration eines thermoplasti­ schen Harzmaterials gemäß einer Modifikation der Ausfüh­ rungsform;
Fig. 6 eine grafische Darstellung zur Illustration von Meß­ ergebnissen der Haftfestigkeit nach der Ausführungsform mit und ohne Verwendung eines Alkans;
Fig. 7A, 7B, 7C und 7D Ansichten zur Illustration der Her­ stellungsschritte für eine Probe nach der Ausführungsform;
Fig. 8 eine grafische Darstellung von Meßergebnissen des Prozentsatzes der gegenseitigen Durchdringung nach der Aus­ führungsform; und
Fig. 9 eine grafische Darstellung zur Illustration von Meß­ ergebnissen des Elastizitätsmoduls nach der Ausführungs­ form.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORM
Im folgenden wird eine bevorzugte Ausführungsform der vor­ liegenden Erfindung anhand der beigefügten Zeichnungen be­ schrieben. Fig. 1 zeigt einen Teil einer elektronischen Vorrichtung gemäß dieser Ausführungsform. Eine starre Lei­ terplatte 1 und eine starre Leiterplatte 2 sind im Inneren dieser elektronischen Vorrichtung getragen angeordnet. Ver­ schiedene Arten von elektronischen Bauelementen sind auf der starren Leiterplatte 1 montiert. In der Fig. 1A ist ein IC 3 mit DIP-Gehäuse mittels Pin 3a in die starre Leiter­ platte 1 eingesteckt und auf dieser montiert. In ähnlicher Weise sind verschiedene Arten von elektronischen Bauelemen­ ten 4 auf die starre Leiterplatte 2 montiert. Als Isolier­ substrat der starren Leiterplatten 1 und 2 wird ein Epoxyd­ harz auf Glasgewebebasis eingesetzt.
Eine flexible Leiterplatte 5 ist mit der starren Leiter­ platte 1 und der starren Leiterplatte 2, welche in horizon­ taler Lage parallel angeordnet sind, elektrisch verbunden. In Fig. 1 ist die flexible Leiterplatte 5 jeweils mit der rechten Seite der starren Leiterplatten 1 und 2 verklebt. Als Basisfilm der flexiblen Leiterplatte 5 wird ein Polyetherimid (PEI) verwendet, welches ein thermoplasti­ sches Harz darstellt.
Fig. 2A stellt eine vergrößerte Ansicht dar, welche einen Bereich illustriert, an dem die starre Leiterplatte 2 und die flexible Leiterplatte 5 verklebt sind. Wie in den Fig. 2A, 2B und 2C gezeigt ist, sind auf der oberen Oberflä­ che des Glas-Epoxy-Substrats 10 der starren Leiterplatte 2 eine Mehrzahl von Leiterbildern 11 aufgebracht, und eine Anschlußfläche (z. B. eine quadratische Anschlußfläche) 11a ist am Ende des Glas-Epoxy-Substrats 10 angeordnet. Ein PEI-Film 12 auf der flexiblen Leiterplatte 5 weist eine Dicke von 100 µm auf. Eine Mehrzahl von Leiterbildern 13 ist auf der Oberfläche des PEI-Films 12 ausgebildet, und eine Anschlußfläche (z. B. eine quadratische Anschlußfläche) 13a ist am Ende des PEI-Films 12 aufgebracht. An der Ver­ bindungsposition der starren Leiterplatte 2 und der flexi­ blen Leiterplatte 5 sind die Anschlußfläche 11a des Leiter­ bilds 11 und die Anschlußfläche 13a des Leiterbilds 13 durch das Lot 14 verbunden, wie in der Fig. 2B gezeigt wird. Gleichzeitig ist das Glas-Epoxy-Substrat 10 der star­ ren Leiterplatte 2 an den PEI-Film 12 der flexiblen Leiter­ platte 5 gebunden.
In dem Verbindungsbereich, in welchem das Glas-Epoxy- Substrat 10 und der PEI-Film 12 verbunden sind, wird an der Grenzfläche zum Glas-Epoxy-Substrat 10 eine Haftverbesse­ rungsschicht 15 auf dem 100 µm dicken PEI-Film 12 gebildet. In der Haftverbesserungsschicht 15 ist eine Kohlenwasser­ stoffverbindung dispergiert. Als Kohlenwasserstoffverbin­ dung wird Tetradecan (C14H30), d. h. eines der Alkane, ein­ gesetzt. Die Haftverbesserungsschicht 15 weist eine Dicke von etwa 20 µm auf. Der PEI-Film 12 ist fest mit dem Glas- Epoxy-Substrat 10 verklebt, wobei sich an der dazwischen liegenden Grenzschicht die Haftverbesserungsschicht 15 bil­ det, in welcher Tetradecan dispergiert ist. Da die Kohlen­ wasserstoffverbindung hydrophob ist, weist sie im verkleb­ ten Bereich eine ausgezeichnete Feuchtigkeitsbeständigkeit auf.
Anhand der Figuren Fig. 3A bis 3C ist im nachfolgenden ein Verfahren zum Verkleben des PEI-Films 12 mit dem Glas- Epoxy-Substrat 10 beschrieben, welches einen Verklebungs­ partner darstellt.
Unter Bezugnahme auf Fig. 3A werden zuerst der PEI-Film 12 als ein thermoplastisches Harzmaterial und das Glas-Epoxy- Substrat 10 zur Verfügung gestellt. Auf diesem PEI-Film 12 und dem Glas-Epoxy-Substrat 10 wird jeweils ein Leiterbild ausgebildet. Tetradecan (C14H30), welches ein Alkan ist, wird auf den zu verklebenden Bereichen des PEI-Films 12 aufgebracht, um den entsprechenden Film 20 zu bilden (im nachfolgenden als "ein Alkanfilm" bezeichnet). Der Siede­ punkt des Tetradecan (C14H30) beträgt 250°C.
Bevorzugte Beispiele des Alkans umfassen C9-30-Alkane, ins­ besondere Nonan (C9H20), Decan (C10H22), Undecan (C11H24), Dodecan (C12H26), Tridecan (C13H28), Pentadecan (C15H32), Hexadecan (C16H34), Heptadecan (C17H36), Octadecan (C18H38), Nonadecan (C19H40), Icosan (C20H42), Henicosan (C21H44). Docosan (C22H46), Tricosan (C23H48), Tetracosan (C24H50), Pentacosan (C25H52), Hexacosan (C26H54), Heptaco­ san (C27H56), Octacosan (C28H58), Nonacosan (C29H60) sowie Triacontan (C30H62).
Anschließend wird, wie in Fig. 3B illustriert ist, der PEI- Film 12 auf das Glas-Epoxy-Substrat 10 aufgebracht, wobei der Alkanfilm 20 dazwischenliegend angeordnet ist.
Wie in Fig. 3C illustriert ist, wird der Heizkopf H eines Heizwerkzeuges gegen den zu verklebenden Bereich gedrückt, um diesen Bereich auf 270°C zu erhitzen, d. h. auf eine Tem­ peratur, die über 240°C, d. h. dem Glasübergangspunkt Tg von Polyetherimid (PEI), liegt. Gleichzeitig wird ein vom Heiz­ kopf H abwärts gerichteter Druck von 0,5 MPa zwischen dem PEI-Film 12 und dem Glas-Epoxy-Substrat 10 ausgeübt. Erhit­ zen und Ausüben von Druck werden 10 Sekunden lang durchge­ führt.
Infolgedessen, wie in Fig. 3C gezeigt ist, erfolgen das Schmelzen des PEI-Films 12 und das Sieden des Alkans des Alkanfilms 20 gleichzeitig, wodurch eine Haftverbesserungs­ schicht 15 mit darin dispergiertem Alkan 20a an der Grenz­ fläche zu dem Glas-Epoxy-Substrat 10 auf dem geschmolzenen PEI-Film 12 ausgebildet wird. In diesem Zustand wird der PEI-Film 12 mit dem Glas-Epoxy-Substrat 10 verklebt.
Eine hohe Haftfestigkeit wird erreicht, indem der PEI-Film 12 unter Verwendung der Haftverbesserungsschicht 15, in der das Alkan 20a dispergiert ist, an der zu verklebenden Grenzfläche verklebt wird. Infolgedessen wird eine Verkle­ bung von hoher Stärke und einer sehr zuverlässigen Isolie­ rung erreicht. Darüberhinaus bringt aufgrund der hydropho­ ben Eigenschaft der Kohlenwasserstoffverbindung, z. B. des Alkans, das erfindungsgemäße Verfahren ausgezeichnete Feuchtigkeitsisolierung mit sich. Darüberhinaus weist die Schicht 15 mit im PEI-Film 12 dispergiertem Alkan einen verringerten Elastizitätsmodul auf, was zu einer guten Ver­ klebung mit dem darüber liegenden Glas-Epoxy-Substrat 10 führt.
Unter Bezugnahme auf Fig. 4A bis 4D wird nachfolgend ein Verklebungsmechanismus beschrieben.
Wenn das Polyetherimid PEI auf eine Temperatur oberhalb seines Glasübergangspunktes Tg erhitzt wird, wird das Alkan des Alkanfilms 20, wie in Fig. 4A illustriert, im PEI-Film 12 dispergiert (bzw. dringt in diesen ein). Alternativ be­ schleunigt die durch das Sieden und die Volumenzunahme des Alkans bewirkte Energie eine Dispersion (Durchdringung) des Alkans im bzw. in den PEI-Film 12 (bzw. die Energie, die durch die Volumenzunahme erzeugt wird, entfernt effektiv die an der Oberfläche des PEI-Films 12 adsorbierten fehler­ haften Stellen (Flecken/Spannung)), wie in Fig. 4B illustriert ist.
Wie in Fig. 4C illustriert ist, erniedrigt sich ein Elasti­ zitätsmodul in einem Bereich (einer Schicht von 20 µm Dicke) des PEI-Films 12, in die das Alkan eingedrungen ist, was die Benetzung der Oberfläche des Glas-Epoxy-Substrats 10 verbessert. Im Endeffekt ist das Produkt (Laminat) nach der Aushärtung des PEI zu hoher Haftfestigkeit und Zuver­ lässigkeit der Isolierung befähigt.
Als thermoplastisches Harzmaterial kann nicht nur Poly­ etherimid (PEI) eingesetzt werden, sondern auch Polyether­ etherketon (PEEK) oder ein Material, welches Polyetherimid (PEI) oder Polyether-etherketon (PEEK) enthält. Genauer ge­ sagt kann eine thermoplastische Harzzusammensetzung einge­ setzt werden, die 65 bis 35 Gew.-% eines Polyether-etherke­ ton-Harzes und 35 bis 65 Gew.-% eines amorphen Polyether­ imid-Harzes enthält. Alternativ kann als thermoplastisches Harzmaterial (als Basisfilm für die flexible Leiterplatte) Polyethylennaphthalat (PEN) oder Polyethylenterephthalat (PET) verwendet werden. Kurz gesagt kann ein Material, wel­ ches zumindest eine aus PEI, PEEK, PEN und PET ausgewählte Verbindung enthält, verwendet werden.
Alternativ kann als thermoplastisches Harzmaterial ein Substrat verwendet werden, welches mittels Anordnen (Laminieren) mindestens einer Schicht 41, ausgewählt aus PEEK, PEI, PEN und PET, über einer Polyimid(PI)-Basis 40 erhalten wird, wie in Fig. 5 illustriert ist. Beim überein­ ander Anordnen können sowohl die Basis 40 als auch die Schicht 41 unter Verwendung eines Klebstoffs verklebt wer­ den. Die Polyimidbasis 40 besitzt einen Wärmeausdehnungs­ koeffizienten von etwa 15 bis 20 ppm, welcher nahe an dem von Kupfer (17 bis 20 ppm) liegt, welches häufig als Ver­ drahtung verwendet wird, so daß Ablösung bzw. Abblättern oder Verziehen der flexiblen Leiterplatte verhindert werden kann. Ein Alkan dringt in die Oberfläche von PEEK-PEI, PEI oder Glas-Epoxy-Substrat ein, während es nur geringfügig in PEN eindringt. Im letzteren Falle wird eine hohe Bindungs­ stärke erreicht, weil das siedende Alkan die an der Ober­ fläche der thermoplastischen Isolierschicht adsorbierten fehlerhaften Stellen (Flecken/Spannung) entfernt und be­ wirkt, daß die polaren Gruppen des thermoplastischen Harzes an der Oberfläche freiliegen.
Nachfolgend werden die Ergebnisse verschiedener Tests, die im Hinblick auf die Verklebung durchgeführt wurden, be­ schrieben.
Fig. 6 zeigt Meßergebnisse für die Haftfestigkeit bei Ände­ rung der Grenzflächentemperaturen. Für diesen Test wird die Verklebung mit und ohne Verwendung eines Alkanfilms (C14H30) durchgeführt. Aus Fig. 6 geht hervor, daß eine Haftfestigkeit von 1,5 N/mm unter Verwendung eines Alkan­ films bei Verklebung bei 270°C erreicht wird. Mit anderen Worten kann bei Verwendung eines Alkanfilms dieselbe Haft­ fähigkeit mittels Erhitzen auf eine niedrigere Temperatur erhalten werden. Insbesondere wird zum Erreichen einer Haftfestigkeit von 1,5 N/mm in Fig. 6 ein Erhitzen auf etwa 300°C benötigt, wenn kein Alkan verwendet wird, wohingegen lediglich etwa 270°C ausreichend sind, falls ein Alkan ver­ wendet wird.
Nachfolgend wird das Eindringen eines Alkans in ein Poly­ etherimid beschrieben. Wie in Fig. 7A illustriert wird, wird ein Alkan 31 in einen Behälter 30 eingefüllt. Sodann wird, wie in Fig. 7B illustriert wird, ein PEI-Film 32, welcher ein Teststück darstellt, in das Alkan 31 eingelegt. Wie in Fig. 7C illustriert wird, wird der Behälter 30 auf eine Heizplatte 33 gestellt und erhitzt. Der PEI-Film 32 wird aus dem Alkan 31 entnommen, wie in Fig. 7D illustriert wird, und anschließend gewogen. Unter der Annahme, daß das Gewicht des PEI-Films 32, bevor es in das Alkan 31 einge­ legt wurde, W1 ist, und nach seiner Entnahme aus dem Alkan 31 W2 ist, wird die eingedrungene Menge (d. h., der Prozent­ satz der gegenseitigen Durchdringung) durch den Ausdruck (W2-W1)/W1 × 100 ausgedrückt.
Fig. 8 illustriert die Meßergebnisse des Prozentsatzes (%) der gegenseitigen Durchdringung beim Variieren der Tempera­ tur. Als das Alkan werden die C14-, C16- und C22-Alkane verwendet, und ihre Siedepunkte betragen 250, 280 bzw. 360°C. Wie in Fig. 8 gezeigt wird, findet das Eindringen in das Polyetherimid bei einer Temperatur oberhalb dessen Glasübergangspunktes Tg statt. Somit erhöht sich die einge­ drungene Menge bei einer Temperatur oberhalb des Glasüber­ gangspunktes Tg des Polyetherimids, so daß sich die Haftfe­ stigkeit erhöht.
Fig. 9 illustriert die Meßergebnisse der Temperaturabhän­ gigkeit des Elastizitätsmoduls. Als das Alkan werden die C14-, C16- und C22-Alkane verwendet. Der Elastizitätsmodul eines PET-Films wird gemessen, nachdem dieser in ein Alkan eingelegt, auf einer Heizplatte erhitzt und anschließend aus dem Alkan entnommen wurde.
Wie in Fig. 9 gezeigt wird, war bei einem Erhitzen auf un­ gefähr 200°C oder darüber die Verringerung des Elastizi­ tätsmoduls des PEI-Films größer als bei dem PEI-Film, der nicht in das Alkan eingelegt war. Der Elastizitätsmodul verringert sich durch die Eindringung eines Alkans, so daß eine Verbesserung der Benetzung der Oberfläche des Glas- Epoxy-Substrats 10 erreicht wird.
Gemäß der Ausführungsform wird der PEI-Film 12 mit dem Glas-Epoxy-Substrat 10 verklebt, indem der PEI-Film 12 über den Alkanfilm 20 auf dem Glas-Epoxy-Substrat 10 angeordnet wird, und ein zu verklebender Bereich auf eine Temperatur erhitzt wird, die nicht unter dem Glasübergangspunkt Tg von PEI liegt. Daher wird die Haftverbesserungsschicht 15, in welcher das Alkan dispergiert wurde, auf dem PEI-Film 12 an der Grenzfläche zum Glas-Epoxy-Substrat 10 gebildet. Das Verkleben des PEI-Films 12 mittels der Haftverbesserungs­ schicht 15 bringt eine Verbesserung der Haftfestigkeit mit sich.
Obwohl die vorliegende Erfindung im Zusammenhang mit ihrer bevorzugten Ausführungsform unter Bezugnahme auf die beige­ fügten Zeichnungen vollständig beschrieben wurde, muß ange­ merkt werden, daß verschiedene Änderungen und Modifikatio­ nen für den Fachmann ersichtlich sind.
Beispielsweise werden in der oben beschriebenen Ausfüh­ rungsform Alkane als Beispiel für die Kohlenwasserstoffver­ bindung eingesetzt. Es können jedoch Substanzen mit einer Seitenkette einer Kohlenstoffbindung, Alkene mit einer Koh­ lenstoffdoppelbindung im Kohlenwasserstoffgerüst, Alkine mit einer Dreifachbindung und aromatische oder cyclische Kohlenwasserstoffgruppen, die keine funktionelle Gruppe aufweisen, ebenfalls eingesetzt werden. Des weiteren können auch Silikonöle eingesetzt werden. Mit anderen Worten kann jede Substanz eingesetzt werden, die zur Verringerung des Elastizitätsmoduls befähigt ist.
Als der Verklebungspartner wird ein Glas-Epoxy-Substrat verwendet. Des weiteren kann auch ein thermoplastisches oder wärmeaushärtbares Harz sowie ein metallisches Material wie z. B. Kupferfolie eingesetzt werden.
Wenn die Verklebung durchgeführt wird, ist es nicht in je­ dem Fall notwendig, die Kohlenwasserstoffverbindung auf ih­ ren Siedepunkt zu erhitzen. Falls z. B. Tetradecan (C14H30) verwendet wird, kann die Erhitzungstemperatur 250°C oder weniger betragen, sofern sie den Glasübergangspunkt Tg von PEI, welcher 240°C beträgt, übersteigt.
In Fig. 2 ist die Anschlußfläche 11a oder 13a eine quadra­ tische Anschlußfläche, jedoch kann die Anschlußfläche jede Form aufweisen, zum Beispiel eine kreisförmige Anschlußflä­ che oder eine Anschlußfläche mit unterschiedlicher Form.
Derartige Änderungen und Modifikationen sind als im Schutz­ bereich der vorliegenden Erfindung liegend aufzufassen, so wie er in den beigefügten Ansprüchen definiert wird.

Claims (15)

1. Verfahren zum Verbinden eines thermoplastischen Harz­ materials (12) mit einem Verklebungspartner (10), welches umfaßt, daß:
das thermoplastische Harzmaterial über einen Film (20) auf den Verklebungspartner aufgebracht wird, wo­ bei der Film aus einer Dispersionssubstanz gebildet wird, die einen Elastizitätsmodul des thermoplasti­ schen Harzmaterials verringert, wenn sie im ther­ moplastischen Harzmaterial dispergiert wird; und
ein Bereich, welcher verklebt werden soll, auf eine Temperatur erhitzt wird, die nicht unter einem Glas­ übergangspunkt des thermoplastischen Harzmaterials liegt, wodurch an einer Grenzfläche zum Verklebungs­ partner eine Haftverbesserungsschicht (15) gebildet wird, in welcher die Dispersionssubstanz im ther­ moplastischen Harzmaterial dispergiert ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, welches weiter umfaßt, daß während des Erhitzens ein Druck ausgeübt wird, um das thermoplastische Harzmaterial an den Verklebungspart­ ner anzudrücken.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 und 2, wobei die Dispersionssubstanz eine Kohlenwasserstoffverbindung ist.
4. Verfahren nach Anspruch 3, wobei die Kohlenwasser­ stoffverbindung eine aus einem Alkan, einem Alken und einem Alkin ausgewählte Verbindung ist.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 und 2, wobei das thermoplastische Harzmaterial mindestens eine Sub­ stanz, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Polyetherimid, Polyether-etherketon, Polyethylen­ naphthalat und Polyethylenterephthalat, umfaßt.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 und 2, welches weiter umfaßt, daß aus dem thermoplastischen Harzma­ terial ein Substrat gebildet wird, indem eine Schicht, welche aus mindestens einer Substanz, ausge­ wählt aus der Gruppe bestehend aus Polyether-ether­ keton, Polyetherimid, Polyethylennaphthalat und Polyethylenterephthalat, gebildet wird, über einer Polyimidbasis angeordnet wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 und 2, wobei die Haftverbesserungsschicht einen Elastizitätsmodul auf­ weist, der geringer als der Elastizitätsmodul des thermoplastischen Harzmaterials ist.
8. Verbindungsaufbau, umfassend:
einen Verklebungspartner (10);
ein thermoplastisches Harzmaterial (12) zur Verkle­ bung mit dem Verklebungspartner; und
eine Haftverbesserungsschicht (15), welche im ther­ moplastischen Harzmaterial an der Grenzfläche zum Verklebungspartner mittels Dispersion einer Disper­ sionssubstanz im thermoplastischen Harzmaterial ge­ bildet ist, wobei die Haftverbesserungsschicht einen Elastizitätsmodul aufweist, der geringer als der Elastizitätsmodul des thermoplastischen Harzmaterials ist,
wobei das thermoplastische Harzmaterial über die Haftverbesserungsschicht mit dem Verklebungspartner verbunden ist.
9. Verbindungsaufbau nach Anspruch 8, wobei die Disper­ sionssubstanz eine Kohlenwasserstoffverbindung ist.
10. Verbindungsaufbau nach Anspruch 9, wobei die Kohlen­ wasserstoffverbindung eine aus einem Alkan, einem Alken und einem Alkin ausgewählte Verbindung ist.
11. Verbindungsaufbau nach Anspruch 8, wobei das ther­ moplastische Harzmaterial mindestens eine Substanz, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Polyether­ imid, Polyether-etherketon, Polyethylennaphthalat und Polyethylenterephthalat, umfaßt.
12. Verbindungsstruktur nach Anspruch 8, wobei ein Substrat aus dem thermoplastischen Harzmaterial durch Anorden einer Schicht, gebildet aus mindestens einer Substanz, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Polyether-Etherketon, Polyetherimid, Polyethylen­ naphthalat und Polyethylenterephthalat, über einer Polyimidbasis gebildet ist.
13. Verbindungsaufbau nach einem der Ansprüche 8 bis 12, wobei der Verklebungspartner ein Glas-Epoxy-Substrat ist.
14. Verbindungsaufbau nach einem der Ansprüche 8 bis 12, wobei der Verklebungspartner ein metallisches Material ist.
15. Verbindungsaufbau nach einem der Ansprüche 8 bis 12, wobei die Haftverbesserungsschicht durch Erhitzen der Dispersionssubstanz und des thermoplastischen Harzma­ terials gebildet ist.
DE10036976A 1999-07-28 2000-07-28 Verfahren zum Verbinden und Verbindungsaufbau eines thermoplastischen Harzmaterials Expired - Fee Related DE10036976B4 (de)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21422299 1999-07-28
JPP11-214222 1999-07-28
JPP00-161821 2000-05-31
JP2000161821A JP3649087B2 (ja) 1999-07-28 2000-05-31 熱可塑性樹脂材料の接着方法および接着構造体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE10036976A1 true DE10036976A1 (de) 2001-03-08
DE10036976B4 DE10036976B4 (de) 2010-02-25

Family

ID=26520200

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10036976A Expired - Fee Related DE10036976B4 (de) 1999-07-28 2000-07-28 Verfahren zum Verbinden und Verbindungsaufbau eines thermoplastischen Harzmaterials

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6605357B1 (de)
JP (1) JP3649087B2 (de)
DE (1) DE10036976B4 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1350759A2 (de) * 2002-04-02 2003-10-08 Agilent Technologies Inc. (a Delaware Corporation) Verfahren zum Prägen und Verbinden von PAEK für mikrofluidische Geräte
DE102005025083A1 (de) * 2005-05-30 2006-12-07 Infineon Technologies Ag Thermoplast-Duroplast-Verbund und Verfahren zum Verbinden eines thermoplastischen Materials mit einem duroplastischen Material

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6598780B2 (en) * 1999-12-24 2003-07-29 Denso Corporation Method of connecting circuit boards
JP4238879B2 (ja) * 2006-04-03 2009-03-18 エプソンイメージングデバイス株式会社 照明装置及び液晶表示装置
US8580174B2 (en) * 2006-12-29 2013-11-12 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Method for texturing polymeric films and articles comprising the same
CN102090159B (zh) * 2008-07-16 2013-07-31 揖斐电株式会社 刚挠性电路板以及其电子设备
KR20100106749A (ko) * 2009-03-24 2010-10-04 삼성전자주식회사 회로기판 접속구조 및 이를 이용한 회로기판 접속방법

Family Cites Families (65)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1153885B (de) * 1955-12-28 1963-09-05 Du Pont Verfahren zum Befestigen eines vorgeformten Kunststoffilms auf einem chemisch andersartigen Traeger
DE1679900A1 (de) * 1967-09-07 1971-04-08 Agfa Gevaert Ag Verfahren zum Verkleben von Polyesterfilmen
US3755886A (en) 1971-10-22 1973-09-04 Magnavox Co Method for soldering electrical conductors
US4143005A (en) 1977-09-19 1979-03-06 Rca Corporation Extrudable, non-flowing and non-aqueous solvent soluble hold down compound for printed wiring board assembly
US4165244A (en) 1977-10-21 1979-08-21 Jacobs Norman L Soldering flux and method of using same
JPS56141997A (en) 1980-03-17 1981-11-05 Multicore Solders Ltd Solder material for forming solder bath
US4278479A (en) 1980-06-18 1981-07-14 Hughes Aircraft Company Organic acid activated liquid solder flux
EP0077622A1 (de) 1981-10-16 1983-04-27 Multicore Solders Limited Flüssige Schmelzmittel zur Verwendung beim Löten
JPS58209497A (ja) 1982-05-31 1983-12-06 Matsushita Electric Works Ltd ハンダペ−スト
JPS59153595A (ja) 1983-02-21 1984-09-01 Nippon Genma:Kk はんだ付用フラツクス
US4460414A (en) 1983-10-31 1984-07-17 Scm Corporation Solder paste and vehicle therefor
JP2620498B2 (ja) 1983-12-22 1997-06-11 株式会社ニホンゲンマ はんだ付用フラックス
JPS60187465A (ja) 1984-03-08 1985-09-24 Mitsubishi Heavy Ind Ltd アルミニウム材のろう付け方法
JPS626795A (ja) 1985-07-02 1987-01-13 Metsuku Kk ハンダ付け用フラツクス
JPS6333196A (ja) 1986-07-28 1988-02-12 Sony Corp クリ−ムはんだ用フラツクス
JPS63299888A (ja) 1987-05-30 1988-12-07 Toshiba Corp 金属−セラミックス接合用ろう材ペ−スト
JPS645039A (en) 1987-06-27 1989-01-10 Nippon Denso Co Manufacture of protruding electrode
JPS6418600A (en) 1987-07-13 1989-01-23 Nippon Almit Kk Flux for soldering
JPH01157767A (ja) 1987-12-15 1989-06-21 Showa Alum Corp アルミニウム材のろう付方法
US4919729A (en) 1988-06-08 1990-04-24 International Business Machines Corporation Solder paste for use in a reducing atmosphere
JPH02290693A (ja) 1989-04-27 1990-11-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd はんだペーストおよびそれを用いた印刷配線板のはんだ付け方法
US5064480A (en) 1989-08-04 1991-11-12 Quantum Materials, Inc. Water washable soldering paste
JPH0394995A (ja) 1989-09-05 1991-04-19 Nakajima All Purishijiyon Kk 研摩剤および水溶性はんだフラックス
JP2746277B2 (ja) * 1989-09-07 1998-05-06 三井化学株式会社 環状オレフィン系重合体の接着方法
JPH03106594A (ja) 1989-09-14 1991-05-07 Sanei Kagaku Kk ハンダ付け用フラックス組成物
US5004508A (en) 1989-12-12 1991-04-02 International Business Machines Corporation Thermally dissipated soldering flux
JPH03207569A (ja) 1990-01-09 1991-09-10 Seiko Epson Corp ロー付方法
JP3043452B2 (ja) * 1990-03-28 2000-05-22 三井化学株式会社 油面接着性のホットメルト接着剤組成物、およびそれを用いた金属製足場板のスリップ防止加工方法
US5011546A (en) 1990-04-12 1991-04-30 International Business Machines Corporation Water soluble solder flux and paste
US5004509A (en) 1990-05-04 1991-04-02 Delco Electronics Corporation Low residue soldering flux
US4995921A (en) 1990-05-11 1991-02-26 Motorola, Inc. Solder pastes using alcohol blends as rheological aids
JP2864664B2 (ja) * 1990-05-22 1999-03-03 セイコーエプソン株式会社 プラスチックインクジェットヘッドの製造方法
JPH04135092A (ja) 1990-09-21 1992-05-08 Mitsubishi Electric Corp プリント基板はんだ付け用液体フラックス
JPH058085A (ja) 1990-11-30 1993-01-19 Nippondenso Co Ltd はんだ付け用フラツクス
US5177134A (en) * 1990-12-03 1993-01-05 Motorola, Inc. Tacking agent
JP2977292B2 (ja) * 1991-02-06 1999-11-15 三井化学株式会社 ホットメルト接着剤組成物
US5338619A (en) 1991-05-16 1994-08-16 Fukuda Metal Foil And Powder Co., Ltd. Copper foil for printed circuits and method of producing same
JPH04351288A (ja) 1991-05-27 1992-12-07 Metsuku Kk はんだ付け用フラックス及びクリームはんだ
US5150832A (en) 1991-06-28 1992-09-29 At&T Bell Laboratories Solder paste
JPH0542388A (ja) 1991-08-14 1993-02-23 Nippon Genma:Kk フラツクス組成物
JP3163507B2 (ja) 1991-09-10 2001-05-08 ニホンハンダ株式会社 クリームハンダ
JP3163506B2 (ja) 1991-09-10 2001-05-08 ニホンハンダ株式会社 クリームハンダ
US5125560A (en) 1991-11-04 1992-06-30 At&T Bell Laboratories Method of soldering including removal of flux residue
JPH05177385A (ja) 1991-12-26 1993-07-20 Nippon Superiashiya:Kk クリームはんだ並びにそのはんだ付け方法
US5196070A (en) 1991-12-31 1993-03-23 International Business Machines Corporation Thermally stable water soluble solder flux and paste
JPH05185285A (ja) 1992-01-14 1993-07-27 Metsuku Kk はんだ付け用フラックス及びクリームはんだ
JPH05185282A (ja) 1992-01-14 1993-07-27 Sanei Kagaku Kk はんだ付け用フラックス組成物
JPH05200585A (ja) 1992-01-27 1993-08-10 Toyota Motor Corp 半田付用水溶性フラックス
JPH066020A (ja) 1992-06-17 1994-01-14 Fujitsu Ltd 端子接合方法
JP2500018B2 (ja) 1992-08-24 1996-05-29 千住金属工業株式会社 低残渣はんだペ―スト
JP3222950B2 (ja) 1992-10-26 2001-10-29 旭化成株式会社 強固なはんだ付け可能な導電性ペースト
JPH06226485A (ja) 1993-01-29 1994-08-16 Mitsubishi Materials Corp コーティングはんだおよびコーティングはんだを貼付けた半導体パッケージ封止用リッド
JPH06269988A (ja) 1993-03-19 1994-09-27 Asahi Glass Co Ltd 半田ペースト組成物
US5477086A (en) 1993-04-30 1995-12-19 Lsi Logic Corporation Shaped, self-aligning micro-bump structures
JPH0788687A (ja) 1993-09-27 1995-04-04 Tamura Kaken Kk はんだ付用フラックス
JP2692029B2 (ja) 1993-10-08 1997-12-17 日本アルミット株式会社 はんだ付用フラックス
JPH07144292A (ja) 1993-11-22 1995-06-06 Sanei Kagaku Kk クリームはんだ
JPH0841439A (ja) * 1994-08-01 1996-02-13 Fuji Photo Film Co Ltd ポリエステル系接着剤
JPH08118661A (ja) * 1994-10-21 1996-05-14 Fuji Electric Co Ltd インクジェット記録ヘッドの製造方法およびその装置
US5919317A (en) 1994-12-07 1999-07-06 Nippondenso Co., Ltd. Soldering flux, soldering paste and soldering method using the same
JP3104606B2 (ja) 1995-03-24 2000-10-30 株式会社デンソー 基板と被接続材との接続方法及びその接続構造及びその接続用補助材料
US6060160A (en) * 1996-10-09 2000-05-09 Compac Corporation Pressure sensitive adhesive tape for golf and sport grip binding
JPH1110254A (ja) * 1997-06-27 1999-01-19 Nagayama Denshi Kogyo Kk 金属部材の加工方法
DE19746834A1 (de) * 1997-10-23 1999-04-29 Huels Chemische Werke Ag Polyethylenwachs als Verarbeitungshilfe für Schmelzklebermassen
JP4048550B2 (ja) * 1997-12-26 2008-02-20 日立化成工業株式会社 接着剤層付き基材及び接着フィルム

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7314599B2 (en) 2001-07-17 2008-01-01 Agilent Technologies, Inc. Paek embossing and adhesion for microfluidic devices
EP1350759A2 (de) * 2002-04-02 2003-10-08 Agilent Technologies Inc. (a Delaware Corporation) Verfahren zum Prägen und Verbinden von PAEK für mikrofluidische Geräte
EP1350759A3 (de) * 2002-04-02 2004-07-28 Agilent Technologies Inc. (a Delaware Corporation) Verfahren zum Prägen und Verbinden von PAEK für mikrofluidische Geräte
DE102005025083A1 (de) * 2005-05-30 2006-12-07 Infineon Technologies Ag Thermoplast-Duroplast-Verbund und Verfahren zum Verbinden eines thermoplastischen Materials mit einem duroplastischen Material
DE102005025083B4 (de) * 2005-05-30 2007-05-24 Infineon Technologies Ag Thermoplast-Duroplast-Verbund und Verfahren zum Verbinden eines thermoplastischen Materials mit einem duroplastischen Material

Also Published As

Publication number Publication date
JP2001098229A (ja) 2001-04-10
DE10036976B4 (de) 2010-02-25
US6605357B1 (en) 2003-08-12
JP3649087B2 (ja) 2005-05-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE10037183B4 (de) Verfahren zum Verbinden von Leiterplatten und Verbindungsaufbau
AT503191B1 (de) Leiterplattenelement mit wenigstens einem eingebetteten bauelement sowie verfahren zum einbetten zumindest eines bauelements in einem leiterplattenelement
DE102011006489B4 (de) Leiterplatte mit eingebautem Halbleiterchip und Verfahren zur Herstellung derselben
DE69229489T2 (de) Herstellungsverfahren einer Halbleiterpackung mit Drähten und eine Oberfläche mit planarisierter Dünnfilmdecke
DE69818185T2 (de) Halbleiterverpackung und deren Herstellungsmethode
DE112004001727B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Moduls
DE69412405T2 (de) Leiterplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE60224611T2 (de) Leiterplatte mit eingebetteter elektrischer Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Leiterplatte mit eingebetteter elektrischer Vorrichtung
AT503718B1 (de) Herstellung einer eine komponente umfassenden schicht
AT398877B (de) Zwei- oder mehrlagige leiterplatte, verfahren zum herstellen einer solchen leiterplatte und laminat für die herstellung einer solchen leiterplatte nach einem solchen verfahren
DE4422216A1 (de) Mehrlagige metallische Leiterplatte und gegossener Baustein
DE10136524A1 (de) Verbindungsverfahren und Verbindungsstruktur von gedruckten Leiterplatten
DE3616494A1 (de) Integrierte schaltungspackung und verfahren zur herstellung einer integrierten schaltungspackung
DE19848834A1 (de) Verfahren zum Montieren eines Flipchips und durch dieses Verfahren hergestellte Halbleiteranordnung
DE10236689A1 (de) Halbleitervorrichtung
EP3231262B1 (de) Semiflexible leiterplatte mit eingebetteter komponente
DE60032067T2 (de) Mehrschichtige Leiterplatte und Verfahren zu deren Herstellung
DE102008000842A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer elektronischen Baugruppe
DE102007058497A1 (de) Laminierte mehrschichtige Leiterplatte
DE102006036728B4 (de) Verfahren zur elektrischen Kontaktierung mikroelektronischer Bauelemente auf einer Leiterplatte
EP0610360B1 (de) Verfahren zur herstellung einer gedruckten schaltung sowie gedruckte schaltung
DE19522338B4 (de) Chipträgeranordnung mit einer Durchkontaktierung
DE10036976A1 (de) Verfahren zum Verbinden und Verbindungsaufbau eines thermoplastischen Harzmaterials
DE2640613A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum kontaktieren von schaltungsbausteinen in eine schichtschaltung
DE3536431A1 (de) Loeten von oberflaechenmontierbaren bauelementen

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8125 Change of the main classification

Ipc: C09J 5/06 AFI20000728BHDE

8364 No opposition during term of opposition
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee