JPH06269988A - 半田ペースト組成物 - Google Patents

半田ペースト組成物

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JPH06269988A
JPH06269988A JP8533793A JP8533793A JPH06269988A JP H06269988 A JPH06269988 A JP H06269988A JP 8533793 A JP8533793 A JP 8533793A JP 8533793 A JP8533793 A JP 8533793A JP H06269988 A JPH06269988 A JP H06269988A
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JP
Japan
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solder paste
paste composition
flux
cleaning
r225cb
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JP8533793A
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English (en)
Inventor
Masaaki Tsuzaki
真彰 津崎
Yukio Otoshi
幸男 大歳
Kazuo Oishi
和男 大石
Naohiro Watanabe
直洋 渡辺
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】R225ca(CF3 CF2 CHCl2 )およ
び/またはR225cb(CClF2 CF2 CHCl
F)を主成分とする洗浄溶剤でも容易に洗浄可能なプリ
ント回路基板用などの半田ペースト組成物を提供する。 【構成】ロジン系フラックス含有の半田ペーストにn−
プロピルアミンなどのアミン類を配合してなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ロジン系フラックス含
有の半田ペースト組成物に関し、特に洗浄性の良好なプ
リント回路基板用半田ペースト組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、洗浄溶剤としてのクロロフルオロ
カーボン類(CFC)は、特に種々の工業分野において
広く用いられており、なかでもプリント回路基板の製造
においては半田フラックスの除去用洗浄剤として採用さ
れていた。
【0003】半田フラックスは組成上、ロジン系フラッ
クスと水溶性フラックスとに分類されているが、一般に
耐久性や精密性を要求される分野ではロジン系フラック
スが用いられている。ロジン系フラックスは、半田付け
後に完全にプリント回路基板から除去されないと回路に
腐食を発生せしめ、回路を破損してしまう。このため半
田処理後に従来は1,1,2−トリクロロ−1,2,2
−トリフロロエタン等のCFC、あるいはこれらCFC
とアルコールなどとの混合溶剤で洗浄を行っていた。し
かるにかかるCFCは、オゾン層の破壊を引き起こす恐
れがあり、製造禁止の方向にある。
【0004】このような状況のなかで、これらCFCに
替わる新規溶剤および洗浄方法が検討されており、3,
3−ジクロロ−1,1,1,2,2−ペンタフルオロプ
ロパン(以下、R225caという)および1,3−ジ
クロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン
(以下、R225cbという)等の水素含有クロロフル
オロカーボン類(HCFC)が提案されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】これらR225ca、
R225cbは単独でフラックスの洗浄用に用いること
は少なく、洗浄効果を高めるために一般にエタノール等
のアルコールを混合して用いている。これら混合溶剤
は、液状ロジンフラックスに対しては有効な洗浄効果を
示すが、半田用金属とロジン系フラックスが一体となっ
た半田ペーストに対しては、イオン性残渣は少ないが白
色残渣が多く、外観上問題となっていた。したがって、
本発明の目的は、R225caやR225cbを主成分
とする洗浄溶剤などによってもフラックス洗浄可能なロ
ジン系フラックス含有の半田ペースト組成物を提供する
ことにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、前述の課題を
解決すべくなされたものであり、第一に、ロジン系フラ
ックス含有の半田ペーストにアミン類が配合されてなる
ことを特徴とする半田ペースト組成物を提供する。
【0007】第二に本発明は、ロジン系フラックス含有
の半田ペーストにアミン類が配合されてなる半田ペース
ト組成物であって、R225caおよびR225cbか
らなる群から選ばれるジクロロペンタフルオロプロパン
の少なくとも一種を主成分とする洗浄溶剤にてフラック
ス洗浄が可能であることを特徴とする半田ペースト組成
物を提供する。
【0008】本発明の半田ペースト組成物は、R225
caおよびR225cbからなる群から選ばれるジクロ
ロペンタフルオロプロパンの少なくとも一種を主成分と
する洗浄溶剤により容易に洗浄できる。好ましい洗浄溶
剤は、R225caまたはR225cbの単独あるいは
R225caとR225cbの混合物を主成分とし、メ
タノール、エタノール、2−プロパノールなどのアルコ
ール類および/またはシクロヘキサンなどの炭化水素類
などを含有する。これらのアルコール類および/または
炭化水素類を含有せしめることにより、ロジン系フラッ
クスの溶解性を高めて良好な洗浄力を発揮し得る。
【0009】上記好適なフラックス洗浄溶剤は、主成分
であるR225caおよび/またはR225cbが50
〜100重量%、アルコール類が0〜50重量%、炭化
水素類が0〜50重量%であって、好ましくはR225
caおよび/またはR225cbが80〜98重量%、
シクロヘキサンなどの炭化水素類が1〜10重量%、エ
タノールなどのアルコール類が1〜10重量%である。
特に、R225caおよび/またはR225cbが9
0.5重量%、シクロヘキサンが5重量%、エタノール
が4.5重量%からなる洗浄溶剤は、共沸組成物となる
ので好適な具体例である。
【0010】上記の洗浄溶剤には、ニトロメタン、ベン
ゾトリアゾールなどの安定剤その他が添加されていても
よく、また上記アルコール類や炭化水素類以外の溶剤が
併用されてもよい。
【0011】本発明におけるアミン類としては、1級、
2級、3級すべてのアミン類が挙げられ、具体的には、
アリルアミン、ジアリルアミン、トリアリルアミン、n
−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピ
ルアミン、イミノビスプロピルアミン、エチルアミン、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、t−ブチルアミ
ン、sec−ブチルアミン、2−エチルヘキシルアミ
ン、2−エチルヘキシルオキシプロピルアミン、3−エ
トキシプロピルアミン、ジイソブチルアミン、3−ジエ
チルアミノプロピルアミン、ジ−2−エチルヘキシルア
ミン、ジブチルアミノプロピルアミン、テトラメチルエ
チレンジアミン、トリエチレンジアミン、トリ−n−オ
クチルアミン、メチルアミノプロピルアミン、ジメチル
アミノプロピルアミン、メチルイミノビスプロピルアミ
ン、3−メトキシプロピルアミン、N−メチルエタノー
ルアミン、N,N−ジエチルエタノールアミン、N,N
−ジメチルエタノールアミン、N−メチル−N,N−ジ
エタノールアミン、N,N−ジブチルエタノールアミ
ン、アミノエチルエタノールアミン、2−ピコリンなど
のピコリン類、ビスアミノプロピルピペラジン、ヒドロ
キシエチルピペラジン、ピリジン、2−ピペコリンなど
のピペコリン類、ピペラジン、ピペリジン、ピラジン、
ピリジンメタノール、ピロリジン、ヘキサメチレンイミ
ンなどが例示され得る。
【0012】これらアミン類は単独で用いても混合して
用いてもよく、ロジン系フラックス含有の半田ペースト
に対して、0.001重量%〜30重量%程度の濃度で
配合され得るものであり、好ましくは0.1重量%〜1
0重量%程度の濃度が選定される。
【0013】本発明における半田ペーストとしては、半
田粉末とロジン系フラックスとが混練されてなるもので
あれば、特に限定されない。典型的な半田ペーストの具
体例を挙げると、錫/鉛合金の半田粉末:90重量%
を、ロジン樹脂/グリコール系溶剤/チキソ剤/界面活
性剤/その他=50/40/5/3/2(重量%)から
なるロジン系フラックス:10重量%程度に分散させた
粘度30×104 センチポイズのものがある。
【0014】本発明における半田ペースト組成物は、プ
リント回路基板のハンダ付けに好適に適用され、特にR
225caおよびR225cbからなる群から選ばれる
ジクロロペンタフルオロプロパンの少なくとも一種を主
成分とする洗浄溶剤にてフラックス洗浄が可能である。
半田用金属とロジンフラックスが一体となったクリーム
半田に対しても良好な洗浄力を示し、洗浄後にイオン性
残渣および白色残渣をともに少なくできる。プリント基
板の洗浄に適用した場合、フラックスが効果的に洗浄除
去され、プリント基板の仕上がり外観も非常に優れたも
のとなる。
【0015】本発明においては、上記特定の洗浄溶剤を
用いる以外の洗浄方式、洗浄装置、洗浄操作、あるいは
洗浄条件などについては、特に限定されることなく、公
知ないしは周知の範囲から適宜選定され得る。しかし、
本発明において配合されるアミン類は、ロジン系フラッ
クスの成分であるアビエチン酸などと反応して、フラッ
クスを洗浄溶剤に溶解し易い形態にしているものと考え
られる。
【0016】
【実施例】50mm×50mmのプリント基板に、表1
および表2に示すアミン類を濃度1重量%になるように
添加したロジンフラックス系半田ペーストA、B、また
はCを塗布し、160℃で60秒加熱した後に240℃
以上で10秒間の半田付けを行ったものを試験片とし
た。半田ペーストAは商品名SPT−60−63(千住
金属工業製)であり、Bは商品名CA−00−620M
(弘輝製)であり、またCは商品名HQ−1025CP
−H(タムラ製作所製)である。R225caとR22
5cbの重量比1:1の混合物(主成分)90.5重量
%、エタノール4.5重量%、およびシクロヘキサン5
重量%からなる洗浄溶剤を用いて試験片を洗浄した。洗
浄方法は、沸騰浴洗浄、冷浴洗浄、蒸気洗浄の順に各3
0秒間で行った。なお、比較例では、実施例と同条件で
アミン類を添加しない半田ペーストを使用した。
【0017】このように洗浄した試験片の外観観察評価
結果(○:良好、△:ほぼ良好、×:不良)を表1およ
び表2に示す。
【0018】
【表1】
【0019】
【表2】
【0020】
【発明の効果】本発明の半田ペースト組成物は、プリン
ト回路基板のハンダ付けに好適に用いられ、実施例から
も明らかなように、R225caやR225cbなどの
ジクロロペンタフルオロプロパンを主成分とする洗浄溶
剤による洗浄性に優れている。また、フラックス洗浄後
の外観評価も良好な結果が得られるとともに、回路の腐
食や破損を生じせしめることもない。
フロントページの続き (72)発明者 渡辺 直洋 千葉県市原市五井海岸10番地 旭硝子株式 会社千葉工場内

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ロジン系フラックス含有の半田ペーストに
    アミン類が配合されてなることを特徴とする半田ペース
    ト組成物。
  2. 【請求項2】ロジン系フラックス含有の半田ペーストに
    アミン類が配合されてなる半田ペースト組成物であっ
    て、3,3−ジクロロ−1,1,1,2,2−ペンタフ
    ルオロプロパンおよび1,3−ジクロロ−1,1,2,
    2,3−ペンタフルオロプロパンからなる群から選ばれ
    るジクロロペンタフルオロプロパンの少なくとも一種を
    主成分とする洗浄溶剤にてフラックス洗浄が可能である
    ことを特徴とする半田ペースト組成物。
  3. 【請求項3】洗浄溶剤がジクロロペンタフルオロプロパ
    ンからなる主成分の他にアルコール類を含有する請求項
    2の半田ペースト組成物。
  4. 【請求項4】洗浄溶剤がジクロロペンタフルオロプロパ
    ンからなる主成分の他に炭化水素類を含有する請求項2
    または3の半田ペースト組成物。
  5. 【請求項5】洗浄溶剤がジクロロペンタフルオロプロパ
    ンからなる主成分の他にアルコール類および炭化水素類
    を含有する請求項2〜4のいずれか一項の半田ペースト
    組成物。
  6. 【請求項6】洗浄溶剤が、3,3−ジクロロ−1,1,
    1,2,2−ペンタフルオロプロパンおよび/または
    1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオ
    ロプロパンの80〜98重量%、炭化水素類の1〜10
    重量%、およびアルコール類の1〜10重量%からなる
    請求項5の半田ペースト組成物。
  7. 【請求項7】炭化水素類がシクロヘキサンであり、アル
    コール類がエタノールである請求項6の半田ペースト組
    成物。
  8. 【請求項8】半田ペースト組成物がプリント回路基板用
    半田ペースト組成物である請求項1〜7のいずれか一項
    の半田ペースト組成物。
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Cited By (5)

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