DD298364A5 - Elektrochemisches granulieren von aluminium - Google Patents

Elektrochemisches granulieren von aluminium Download PDF

Info

Publication number
DD298364A5
DD298364A5 DD90341254A DD34125490A DD298364A5 DD 298364 A5 DD298364 A5 DD 298364A5 DD 90341254 A DD90341254 A DD 90341254A DD 34125490 A DD34125490 A DD 34125490A DD 298364 A5 DD298364 A5 DD 298364A5
Authority
DD
German Democratic Republic
Prior art keywords
acid
aluminum
plate
electrolyte
anodic oxidation
Prior art date
Application number
DD90341254A
Other languages
English (en)
Inventor
Osvaldo Gobbetti
Original Assignee
��������@�K@�K@�Kk��
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ��������@�K@�K@�Kk�� filed Critical ��������@�K@�K@�Kk��
Publication of DD298364A5 publication Critical patent/DD298364A5/de

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/16Pretreatment, e.g. desmutting
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F3/00Electrolytic etching or polishing
    • C25F3/02Etching
    • C25F3/04Etching of light metals
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/03Chemical or electrical pretreatment
    • B41N3/034Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/382Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/44Manufacturing insulated metal core circuits or other insulated electrically conductive core circuits

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Sealing Battery Cases Or Jackets (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Electric Double-Layer Capacitors Or The Like (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

Elektrochemisches Koernen von Aluminium- oder Aluminiumlegierungsflaechen. Aluminium oder seine Legierungen werden elektrochemisch durch Anwendung von Wechselstrom und einem waeszrigen Elektrolyt gekoernt, der spezifische Mengen von Salzsaeure und einer Oxysaeure und/oder einer Dikarbonsaeure, vorzugsweise Milchsaeure und/oder bzw. Bernsteinsaeure, einschlieszt. So gekoerntes Aluminium (oder eine Legierung davon) kann mit einer fotoempfindlichen Schicht beschichtet werden, wodurch eine Druckplatte erhalten wird. Vor der Beschichtung mit der fotoempfindlichen Schicht kann die Platte mit Hilfe von an sich bekannten Verfahren anodisch oxydiert werden.{Koernen, elektrochemisch; Aluminium; Elektrolyt; Salzsaeure; Oxysaeure; Dikarbonsaeure; Milchsaeure; Bernsteinsaeure; Beschichtung, fotoempfindlich; Druckplatte}

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft die Verfahren der Körnung einer Aluminiumoberfläche durch Anwendung von Wechselstrom und Einsatz geeigneter Elektrolyte für die Herstellung von Druckmatrizen.
Wie im Bereich der Behandlung von Aluminiumoberflächen, besser als Körnen bezeichnet, bekannt ist, umfaßt ein derartiges Verfahren das Aufrauhen der Metalloberfläche, um sie einerseits für das Festhalten der fotoempfindlichen Schicht, die auf diese Weise besser am Substrat während des Drückens haften wird, und andererseits für das Festhalten von Wasser bei den nichtdruckenden Flächenanteilen vorbehandeln. Das Prinzip des Offsetdruckens basiert auf dem chemisch-physikalischen Gleichgewicht zwischen den hydrophilen und hydrophoben Teilen, und die Basis eines derartigen Gleichgewichtes wird durch ein gutes Aufrauhen der Metallsubstratoberfläche bestimmt.
Mit einem „guten Aufrauhverfahren" meint man ein Verfahren, das in der Lage ist, gleichmäßig auf die Aluminiumoberfläche einzuwirken, um eine Reihe von Löchern zu erzeugen, die einen gleichen Abstand voneinander aufweisen, und die eine Häufigkeit pro Flächeneinheit aufweisen, die so hoch wie möglich ist, und die Tiefen aufweisen, die so homogen wie möglich sind. Der Urund für diese Forderungen ist in der Tatsache zu suchen, daß, je größer die Häufigkeit der Löcher ist, die durch das Körnen bewirkt werden, desto stärker wird die Adhäsion der fotoempfindlichen Schicht am Metall sein und desto größer wird daher die Anzahl der Kopien sein, die die Druckplatte liefern kann. Außerdem wird aus dem gleichen Grund die Benetzbarkeit der nichtdruckenden Flächenanteile mit Wasser größer sein.
Das wird unverkennbar im äußersten Fall bis zur Trennung des lipophilen Anteils, d. h., des druckenden Anteils, und des hydrophilen nichtdruckenden Anteils beitragen. Das ist der Fall, weil die Druckfarbe während des Drückens auf den lipophilen Flächen fixiert wird, die wie gesagt wurde, din fotoempfindliche Schicht bilden.
ein weiterer sehr wichtiger Parameter schließt bei der gleichen Häufigkeit der Anzahl von Löchern, die pro Flächeneinheit gebildet werden, die mittlere Tiefe der gleichen ein. In dieser Hinsicht muß dargelegt werden, daß die Hersteiler von Druckplatten versuchen, einen Kompromiß zwischen flachen Löchern, die das sogenannte feine Korn bewirken, das eine bessere Reproduktion dos zu druckenden Bildes gestattet, kleine Mengen an Wasser erfordert, aber gleichzeitig leichter den Schleier des absorbierten Wassers löst, und zwar mit dem Risiko der Bildung des sogenannten Farbschleiers, und tiefen Löchern zu erreichen, die das sogenannte grobe Korn bewirken, und die, wenn sie einerseits nicht die gleiche gute Reproduktion wie das feine Korn gestatten, eine größere Befeuchtbarkeit der nichtdruckenden Flächenanteile erlauben und schließlich eine größere Zuverlössigekeit für den Drucker.
Die Tiefe der Löcher, die beim Körnen erhalten werden, wird mit einer Vorrichtung gemessen, die als »Rauheitsmesser" (Oberflächenmeßgerät) bezeichnet wird, und die eine sehr empfindliche Spitze besitzt, die auf der grobgemachten Oberfläche bewegt wird. Das Signal, das durch diese Spitze aufgenommen wird, wird elektronisch verstärkt und liefert ein Maß für die Lochtiefe.
Der am meisten verwendete Wert für die Rauigkeitsmessung ist Ra (mittlere Rauhigkeit), und dieser zeigt den Mittelwert der Abstände des Oberflächenprofils oberhalb und unterhalb einer Bezugslinie, die als eine Linie definiert wird, die so gezogen
wurde, daß die Summe der Flächen, die durch das Oberflächenprofil über der Linie eingeschlossen wird, gleich der Summe jener unterhalb der Linie ist.
Ra wird normalerweise in Mikrometern gemessen. Wie den Fachleuten bekannt ist, kann jetzt der vorangehend aufgezeigte Effekt des Vergröberns, besser als Körnen bekannt, mit
einer einfachen wäßrigen Lösung von Salzsäure (HCI) mit Konzentrationen von 3 bis 15g/l durch Hindurchgehen von
Wechselstrom zwischen der Aluminiumplatte und einer Gegenelektrode mit einer Stromdichte von 2 bis 5 Ampere/dm2 über 30"
bis 120" erhalten werden.
Durch Verändern der verschiedenen angeführten Parameter ist es tatsächlich möglich, bei diesem System eine Varä nderung der Tiefe der Körnungslöcher zu erhalten, um aber eine akzeptable Homogenität der Oberfläche zu erhalten, ist es erforderlich, sehr
sorgfältig die Konzentration der Säure und des aufgelösten Aluminiums, das in Chloridform vorhanden ist, zu überwachen.
Außerdem ist bei den unteren Konzentrationsgrenzen von HCI das erhaltene Korn fein, aber es gibt ausreichend Flächen, die
vollständig und inhomogen flach sind. Bei hohen Konzentrationen ist die Homogenität der Vergröberung größer, aber es sind große Wahrscheinlichkeiten der Bildung von ,Metallstaub" zu verzeichnen, der dann schwer zu beseitigen ist.
Gemischte Elektrolyte, wie beispielsweise HCI und Phosphorsäure, liefern bessere Ergebnisse, und zwar darin, daü ein
niedrigerer Ra-Wert und eine höhere Homogenität erhalten werden können, aber sie bringen ziemlich große Probleme der
Bildung von schwarzem Aluminiummetallpulver mit sich, der eben im Gebiet als „Staub" bezeichnet wird. Ein weiterer Elektrolyt, der mit guten Ergebnissen eingesetzt wird, ist die Salpetersäure, die jedoch ernsthafte Probleme einer Urnweltverschmutzung insoweit mit sich bringt, wie es sich um die Behandlung von gasförmigen und flüssigen abgehenden Medien handelt, d. h. um Abgase und Abwasser. Bestimmte Patente, siehe Gb 1598701, zitieren anstelle dessen Elektrolyte, die noch Salzsäure einschließen und die ebenfalls Monokarbonsäuren mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen enthalten. Nach jenem Patent ist das so erhaltene Korn zufriedenstellender, kann besser angesichts des Erhaltene von höheren Werten auf
der Ra-Skala kontrolliert werden und ist homogener als das, das mittels der bisher bekannten Verfahren erhalten wird; jedoch bringen die Elektrolyte einen Geruch mit sich, dor unangenehm ist, und sie sind daher vom hygienischen Standpunkt aus unerwünscht.
Ein Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, wäßrige Elektrnlytlösungen zu liefern, die gestatten, daß eine noch feinere Trennung
hinsichtlich der Rauhigkeitswerte Ra erhalten wird als das mit den vorangehend erwähnten bekannten Verfahren möglich ist.
Ein weiteres Ziel dieser Erfindung Ist es, wäßrige Lösungen von Elektrolyten auf der Basis von Verbindungen zu liefern, die im
allgemeinen in Pulverform vorliegen, und die eine weit geringere Verunreinigung mit sich bringen, zumindestens vom
Gesichtspunkt ihres Geruches aus, und zwar verglichen mit den Lösungen der Karbonsäuren. Entsprechend einem ersten Merkmal dieser Erfindung wird eine wäßrige Lösung von Elektrolyten zur Vr rfügung gestellt, die Salzsäure in einer Konzentration von 2,5 bis 20g/l und mindestens eine Säure, ausgewählt aus der Gruppe der Oxysäuren, Dikarbonsäuren und deren Derivate und Mischungen, in einer Konzentration von 1 bis 100g/l einschließt. Vorteilhafterweise umfassen die Oxysäuren: Glykolsäure, Milchsäure, Alphaoxybuttersäure, Mandelsäure, Glyzerinsäure, Apfelsäure, Weinsäure, Mesoweinsäure, Zitronensäure. Die Dikarbonsäuren und ihre Derivate umfassen: Oxalsäure, Malonsäure, Bernsteinsäure, Glutarsäure, Adipinsäure, Pimelinsäure, Korksäure, Azelainsäure, Sebazinsäure, Maleinsäure, Fumarsäure, Phthalsäure, Isophthalsäure, Terephthalsäure, Hamimellitsäure, Trimellitsäure, Trimesonensäure
sowie Bernsteinsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid und Phthalsäureanhydrid.
Ensprechönd einem weiteren Merkmal der Erfindung wird ein Verfahren der Aufrauhung der Oberfläche oder Körnung vorgelegt,
das das elektrolytische Behandeln von Aluminiumplatten in einer wäßrigen Lösung von Elektrolyten, wie vorangehend erwähnt wurde, einschließt, indem Wech«"'strom mit einer Spannung von 5 bis 42 Volt, vorzugsweise 10 bis 30 Volt, und mit einer
Stromdichte von 1,5 bis 10 Ampere/dm2 über eine Dauer von 30" bis 5' und bei einem Abstand zwischen der Platte un i der Elektrode zwischen 10 und 250mm und bei einer Temperatur zwischen 10 und 40°C, vorzugsweise zwischen 15 und 3O0C,
hindurchgeht.
Vorteilhafterweise kann, wenn eine Metallplatte oder Matrize in Übereinstimmung mit dem vorangehend aufgezeigten Verfahren erst einmal behandelt wurde, sie in wäßrigen Lösungen anodisch oxydiert werden, die Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure oder andere Säuren enthalten, einzeln oder in unterschiedlichen Kombinationen miteinander, und
zwar entsprechend einem bereits in großem Umfang bekannten Verfahren, und sie kann mit fotoeriipfindlichen Schichten beschichtet werden, wie den Fachleuten bekannt ist.
Die Erfindung wird weiter mittels der folgenden Beispiele der praktischen Ausführungen veranschaulicht. Beispiel 1
Zwei Platten, die jeweils eine Oberfläche von 3dm2 aufweisen, hergestellt aus einer Aluminiumlegierung, die 99,52% Aluminium, 0,11 %Silizium,0,32%Eisen,0,018%Kupfer,0,006%Mangan, 0,001 %Chrom,0,003%Nickel,0,005%Zink,0,019%Titan enthält, wurden in einer wäßrigen Lösung getaucht, die Salzsäure mit einer Konzentration von 10g/l und Zitronensäure mit 6iner Konzentration von 20g/l enthält. Der Abstand zwischen den zwei Platten betrug 160mm. Der Strom wurde über 2' mit den folgenden Ergebnissen angelegt.
Volt A/dm2 Ra (u) Oberflächenaussehen
15 5,1 0,42 fein, ausreichend homogenes Korn
18 6,3 0,70 mittlere Körnigkeit, gut homogen
21 7 0,85 ausreichend grob und homogene Körnigkeit
Konzentrationen Volt /Vdm2 Ra (u)
HC112 g/l
Milchsäure 10g/l 18 4,2 0,53
HCI12g/l
Glykolsäure20g/I 18 7,8 0,77
HCI12g/l
Glykolsäure20g/I 20 9,1 0,92
Konzentrationen Volt A/dm' Ra (u)
HCI3,5g/l
Milchsäure 10g/l 20 2,1. 0,32
HCI3,5g/l
Milchsäure 20g/l 20 2,7 0,55
HCI10g/l
Milchsäure 40g/l 20 6,5 0,63
Beispiel 2
Zwei Platten aus der Aluminiumlegierung, die die Zusammensetzung des Beispiels 1 aufweist, wurden in einer wäßrigen Lösung getaucht, die Salzsäure und Glycolsäure einschließt, indem sie mit einem gegenseitigen Abstand von 200mm angeordnet und elektrochemisch übar 1*45" m't folgenden Ergebnissen gekörnt wurden:
Oberflächenaussehen feine und homogene Körnigkeit mittlere, sehr homogene Körnigkeit grobe, sehr homogene Körnigkeit
Beispiel 3
Zwei Platten aus der Aluminiumlegierung, die 97,98% Aluminium, 0,30% Silizium, 0,54% Eisen, 0,006% Kupfer, 1,15% Mangan, 0,002% Magnesium, 0,003% Chrom, 0,005% Zink, 0,009% Titan enthält, wurden in einer wäßrigen Lösung angeordnet, die Salzsäure und Milchsäure enthält, und zwar bei einem gegenseitigen Abstand von 180mm. Wechselstrom wurde über 2'30" mit den folgenden Ergebnissen angelegt:
Oberflächenaussehen
sehr feine Körnigkeit, ziemlich homogen feine Körnigkeit, gut homogen mittlere Körnigkeit, außergewöhnlich homogen
Beispiel 4
Zwei Platten aus der Aluminiumlegierung dergleichen Zusammensetzung wie im Beispiel 3 wurden in einer wäßrigen Lösung, die Salzsäure und Bernsteinsäure enthält, bei oinem gegenseitigen Abstand von 160 mm angeordnet. Wechselstrom wurde über 2' mit den folgenden Ergebnissen angelegt:
Oberflächenaussehen
ziemlich feine Körnigkeit, sehr homogen mitt'ere, sehr homogene Körnigkeit mittlere Körnigkeit, außergewöhnlich homogen
Beispiel 5
Zwei Platten aus der Aluminiumlegierung, die aus 98,55% Aluminium, 0,066% Silizium, 0,67% Eisen, 0,070% Kupfer, 0,004% Mangan, 0,60% Magnesium, 0,001 % Chrom, 0,004% Nickel, 0,006% Zink, 0,024% Titan besteht, wurden in einer wäßrigen Lösung, die Salzsäure, Milchsäure und Bernsteinsäure enthält, bei einem gegenseitigen Abstand von 200 mm angeordnet. Wechselstrom wurde über 1 '25" mit den folgenden Ergebnissen angelegt:
Konzentrationen Volt A/dm2 Ra (u) Oberflächenaussehen
HCI12g/l
Milchsäure 10g/l Bernsteinsäure 5g/l 21 5,3 0,51 ausreichend fein und homogen
HCI12g/l
Milchsäure 10g/l Bernsteinsäure 10g/l 21 7,4 0,67 mittlere, sehr homogene Körnigkeit
HCI12g/l
Milchsäure lOg/l Bernsteinsäure 10g/l 25 8,8 0,77 ziemlich grobe körnigkeit, sehr homogen In den Beispielen 1 bis 5 wurden die Ra-Werte durch Benutzung eines Taylor Hobson Subtronic 3P (Dänemark) Oberflächenmeßgerätes (Rauhigkeitsmeßgerät) ermittelt. Nach ihrer elektrolytischen Behandlung kann die Platte, die wie vorangehend angeführt ,gekörnt" ist, einer anodischen Oxydation unterworfen werden, indem Gleichstrom durch eine weitere wäßrige Elektrolytlösung, wie beispielsweise von Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure oder einer Mischung dieser, geführt wird. Schließlich kann die so anodisch oxydierte Platte mit einer iutoempfindlichen Schicht beschichtet werden, wie es im allgemeinen
im Fachgebiet durchgeführt wird.
Konzentrationen Volt A/dm2 Ra(u)
HCMOg/l
Bernsteinsäure 10g/l 18 6,5 0,54
HCI10g/l
Bernsteinsäure 20g/l 18 8,5 0,69
HCI10g/l
Bernsteinsäure 40g/l 18 11,2 0,71

Claims (7)

1. Elektrolyt für das elektrolytische Körnen von Aluminium oder Aluminiumlegierungen, der eine wäßrige Lösung von Salzsäure in einer Konzentration von 2,5 bis 20g/l und mindestens einer weiteren Säure, die unter mindestens einer Oxysäure, zumindestens einer Dikarbonsäure oder ihrer Derivate und deren Mischungen ausgewählt wird, mit einer Konzentration von 1 bis 100g/l einschließt.
2. Elektrolyt nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die besagte Oxysäure aus der Gruppe ausgewählt wird, die Glykolsäure, Milchsäure, Al phaoxybuttersäure, Mandelsäure, Glycerinsäure, Apfelsäure, Weinsäure, Mesoweinsäure und Zitronensäure einschließt.
3. Elektrolyt nach Patentanspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die besagte Dikarbonsäure aus der Gruppe ausgewählt wird, die Oxalsäure, Malonsäure, Bernsteinsäure, Glutarsäure, Adipinsäure, Pimelinsäure, Korksäure, Azelainsäure, Sebazinsäure, Maleinsäure, Fumarsäure, Phthalsäure, Isophthalsäure, Hamimellitsäure, Trimellitsäure, und Trimesonensäure einschließt.
4. Elektrolyt nach einem jeden der vorangegangenen Patentansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das besagte Derivat einer Dikarbonsäure aus der Gruppe ausgewählt wird, die Bernsteinsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid und Phthalsäureanhydrid einschließt.
5. Verfahren des Aufrauhens oder Körnens der Oberfläche, das die elektrolytische Behandlung einer oder mehrerer Aluminiumplatten in einer wäßrigen Lösung der Elektrolyte nach einem jeden der vorangegangenen Patentansprüche einschließt, indem Wechselstrom mit einer Spannung von 5 bis 42 Volt, vorzugsweise 10 bis 30 Volt, und mit einer Stromdichte von 1,5 bis 10 Ampere/dm2 über eine Dauer von 30" bis 5' und bei einer Temperatur von 10 bis 4O0C, vorzugsweise von 15 bis 3O0C, angelegt wird, wobei der Abstand zwischen der Platte und einer entsprechenden Elektrode zwischen 10 und 250 mm zu finden ist.
6. Verfahren nach Patentanspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß es oine Stufe der anodischen Oxydation der gekörnten Platte einschließt, die das Tauchen der Platte in einem anodischen Oxydationsbad umfaßt, das einen anodischen Oxydationselektrolyten aufweist, der unter der Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure und einer Mischung davon ausgewählt wird, und das Hindurchführen von Gleichstrom durch das Bad.
7. Verfahren nach Patentanspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß es eine Stufe der Beschichtung der anodisch oxydierten Platte mit mindestens einer fotoempfindlichen Schicht einschließt.
DD90341254A 1989-06-05 1990-06-01 Elektrochemisches granulieren von aluminium DD298364A5 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IT8984942A IT1235332B (it) 1989-06-05 1989-06-05 Granitura elettrochimica di superfici in alluminio o in lega di alluminio

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DD298364A5 true DD298364A5 (de) 1992-02-20

Family

ID=11326178

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DD90341254A DD298364A5 (de) 1989-06-05 1990-06-01 Elektrochemisches granulieren von aluminium

Country Status (13)

Country Link
US (1) US5064511A (de)
EP (1) EP0401601B1 (de)
JP (1) JPH0324289A (de)
KR (1) KR910001093A (de)
AT (1) ATE114740T1 (de)
AU (1) AU5617690A (de)
BR (1) BR9002643A (de)
CA (1) CA2018180A1 (de)
DD (1) DD298364A5 (de)
DE (1) DE69014418T2 (de)
HU (1) HUT54316A (de)
IT (1) IT1235332B (de)
ZA (1) ZA904194B (de)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06275473A (ja) * 1993-03-19 1994-09-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd アルミ電解コンデンサ用陽極箔の製造方法
US7964085B1 (en) 2002-11-25 2011-06-21 Applied Materials, Inc. Electrochemical removal of tantalum-containing materials
KR20040071381A (ko) * 2003-02-06 2004-08-12 임병식 금속표면 전해연마용 전해액 조성물
US20060105182A1 (en) * 2004-11-16 2006-05-18 Applied Materials, Inc. Erosion resistant textured chamber surface
JP2005056786A (ja) 2003-08-07 2005-03-03 Denso Corp スパークプラグ
US7910218B2 (en) * 2003-10-22 2011-03-22 Applied Materials, Inc. Cleaning and refurbishing chamber components having metal coatings
US7618769B2 (en) * 2004-06-07 2009-11-17 Applied Materials, Inc. Textured chamber surface
EP1616959A1 (de) 2004-07-07 2006-01-18 Icon Genetics AG Biologisch sichere transiente Proteinexpression in Pflanzen
US7670436B2 (en) 2004-11-03 2010-03-02 Applied Materials, Inc. Support ring assembly
US7579067B2 (en) 2004-11-24 2009-08-25 Applied Materials, Inc. Process chamber component with layered coating and method
US8617672B2 (en) 2005-07-13 2013-12-31 Applied Materials, Inc. Localized surface annealing of components for substrate processing chambers
US7762114B2 (en) 2005-09-09 2010-07-27 Applied Materials, Inc. Flow-formed chamber component having a textured surface
US9127362B2 (en) 2005-10-31 2015-09-08 Applied Materials, Inc. Process kit and target for substrate processing chamber
US20070113783A1 (en) * 2005-11-19 2007-05-24 Applied Materials, Inc. Band shield for substrate processing chamber
US20070125646A1 (en) 2005-11-25 2007-06-07 Applied Materials, Inc. Sputtering target for titanium sputtering chamber
DE602006003856D1 (de) * 2006-02-28 2009-01-08 Agfa Graphics Nv Verfahren zur Herstellung eines lithographischen Druckplattenträgers
US20080003411A1 (en) * 2006-06-29 2008-01-03 Joseph Hunter Aluminum lithographic substrate and method of making
US7981262B2 (en) 2007-01-29 2011-07-19 Applied Materials, Inc. Process kit for substrate processing chamber
US7942969B2 (en) 2007-05-30 2011-05-17 Applied Materials, Inc. Substrate cleaning chamber and components
JP5831440B2 (ja) 2012-12-17 2015-12-09 株式会社ダイヤメット 粉末冶金用原料粉末
US9101954B2 (en) 2013-09-17 2015-08-11 Applied Materials, Inc. Geometries and patterns for surface texturing to increase deposition retention
JP2018119184A (ja) * 2017-01-26 2018-08-02 株式会社Adeka 電解エッチング液組成物、電解エッチング方法、電解エッチングされた基材、アルミニウム電解コンデンサ用電極材、及びコンデンサ
JP6525035B2 (ja) * 2017-08-29 2019-06-05 日本軽金属株式会社 アルミニウム部材及びその製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL6613586A (de) * 1966-09-27 1968-03-28
US4052275A (en) * 1976-12-02 1977-10-04 Polychrome Corporation Process for electrolytic graining of aluminum sheet
US4174269A (en) * 1978-06-21 1979-11-13 Ppg Industries, Inc. Method of treating electrodes
JPS56135095A (en) * 1980-03-26 1981-10-22 Mitsubishi Chem Ind Ltd Manufacture of supporter for planographic process block
US4276129A (en) * 1980-06-25 1981-06-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for producing foil electrodes for electrolytic capacitor
US4396468A (en) * 1981-12-21 1983-08-02 American Hoechst Corporation Three phase graining of aluminum substrates
JPS60163423A (ja) * 1984-02-03 1985-08-26 昭和アルミニウム株式会社 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔のエツチング方法

Also Published As

Publication number Publication date
ATE114740T1 (de) 1994-12-15
EP0401601A1 (de) 1990-12-12
IT8984942A0 (it) 1989-06-05
BR9002643A (pt) 1991-08-20
DE69014418D1 (de) 1995-01-12
IT1235332B (it) 1992-06-26
DE69014418T2 (de) 1995-04-20
KR910001093A (ko) 1991-01-30
JPH0324289A (ja) 1991-02-01
CA2018180A1 (en) 1990-12-05
HUT54316A (en) 1991-02-28
ZA904194B (en) 1991-03-27
HU903321D0 (en) 1990-10-28
EP0401601B1 (de) 1994-11-30
AU5617690A (en) 1990-12-06
US5064511A (en) 1991-11-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DD298364A5 (de) Elektrochemisches granulieren von aluminium
DE3030815C2 (de) Elektrolytisches Körnungsverfahren
EP0292801B1 (de) Verfahren zur elektrochemischen Aufrauhung von Aluminium für Druckplattenträger
DE2810308C2 (de) Verfahren zum elektrolytischen Körnen von Aluminium
EP0167751B1 (de) Verfahren zur Behandlung von Aluminiumoberflächen
DE3222170C2 (de)
DE2218471C3 (de)
DE3150278C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Stahlschichtträgers für Flachdruckplatten
EP0089510B1 (de) Aluminiummaterial mit einer hydrophilen Oberflächenbeschichtung, ein Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung als Träger für Offsetdruckplatten
DE2251382B2 (de) Verfahren zur Herstellung von aluminiumhaltigen Trägern
EP0089508B1 (de) Verfahren zur elektrochemischen Aufrauhung von Aluminium und dessen Verwendung als Trägermaterial für Offsetdruckplatten
EP0268790B1 (de) Verfahren zur abtragenden Modifizierung von mehrstufig aufgerauhten Trägermaterialien aus Aluminium oder dessen Legierungen und deren Verwendung bei der Herstellung von Offsetdruckplatten
DE3217552A1 (de) Verfahren zur elektrochemischen aufrauhung von aluminium fuer druckplattentraeger
EP0050216B1 (de) Verfahren zur anodischen Oxidation von Aluminium und dessen Verwendung als Druckplatten-Trägermaterial
EP0097301B1 (de) Verfahren zur abtragenden Modifizierung von elektrochemisch aufgerauhten Trägermaterialien aus Aluminium und deren Verwendung bei der Herstellung von Offsetdruckplatten
CH635619A5 (de) Verfahren zum elektrolytischen aufrauhen von aluminiumoberflaechen und anwendung des verfahrens.
DE69818204T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumträgers für eine Flachdruckplatte
DE3503926A1 (de) Verfahren zur elektrochemischen aufrauhung von aluminium fuer druckplattentraeger
EP0086957B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Trägermaterialien für Offsetdruckplatten
EP0086956B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Trägermaterialien für Offsetdruckplatten
DE3910450C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Druckplattenträgers aus Aluminium
DE69938214T2 (de) Träger für eine lithographische Druckplatte
DE1956795A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Offsetdruckplatten aus eloxiertem Aluminium
EP0095581B1 (de) Verfahren zur Nachbehandlung von Aluminiumoxidschichten mit Alkalisilikat enthaltenden wässrigen Lösungen und dessen Verwendung bei der Herstellung von Offsetdruckplattenträgern
EP0161461A2 (de) Verfahren zur anodischen Oxidation von Aluminium und dessen Verwendung als Trägermaterial für Offsetdruckplatten

Legal Events

Date Code Title Description
ENJ Ceased due to non-payment of renewal fee