CZ373289A3 - Cleansing agent and use thereof - Google Patents

Cleansing agent and use thereof Download PDF

Info

Publication number
CZ373289A3
CZ373289A3 CS893732A CS373289A CZ373289A3 CZ 373289 A3 CZ373289 A3 CZ 373289A3 CS 893732 A CS893732 A CS 893732A CS 373289 A CS373289 A CS 373289A CZ 373289 A3 CZ373289 A3 CZ 373289A3
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
r225ca
cleaning
weight
agent
carbon atoms
Prior art date
Application number
CS893732A
Other languages
English (en)
Inventor
Teruo Asano
Naohiro Watanabe
Kazuki Jinushi
Shunichi Samejima
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP63152276A external-priority patent/JPH0813994B2/ja
Priority claimed from JP63152271A external-priority patent/JPH0794678B2/ja
Priority claimed from JP63152277A external-priority patent/JPH024268A/ja
Priority claimed from JP63152274A external-priority patent/JPH0824805B2/ja
Priority claimed from JP15227388A external-priority patent/JPH07107160B2/ja
Priority claimed from JP63152272A external-priority patent/JPH024266A/ja
Priority claimed from JP63152275A external-priority patent/JPH01319597A/ja
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Publication of CZ373289A3 publication Critical patent/CZ373289A3/cs
Publication of CZ279988B6 publication Critical patent/CZ279988B6/cs

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D12/00—Displacing liquid, e.g. from wet solids or from dispersions of liquids or from solids in liquids, by means of another liquid
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50—Solvents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C19/00—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms
    • C07C19/08—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms containing fluorine
    • C07C19/10—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms containing fluorine and chlorine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/43—Solvents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50—Solvents
    • C11D7/5004—Organic solvents
    • C11D7/5018—Halogenated solvents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
    • C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
    • C23G5/02809—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
    • C23G5/02825—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine containing hydrogen
    • C23G5/02841—Propanes
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B5/00—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
    • F26B5/005—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by dipping them into or mixing them with a chemical liquid, e.g. organic; chemical, e.g. organic, dewatering aids
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/325—Non-aqueous compositions
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42—Stripping or agents therefor
    • G03F7/422—Stripping or agents therefor using liquids only
    • G03F7/426—Stripping or agents therefor using liquids only containing organic halogen compounds; containing organic sulfonic acids or salts thereof; containing sulfoxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/24—Hydrocarbons
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
    • C11D7/264—Aldehydes; Ketones; Acetals or ketals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
    • C11D7/266—Esters or carbonates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/28—Organic compounds containing halogen

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Description

χředložený vynález se týká nových halogenovaných uhlovodíkových rozpouštědel a jejich použití.
1,1,2-’i'richlor-1,2 ,2-trifluorethan /dále označovaný jako R113/ je nehořlavý, neexplozivní a stabilní, má nízkou toxicitu a jako takový je v širokém rozsahu používán jako čistící prostředek pro tavidla používaná při montáži elektronických součástek nebo přesném obrábění strojových součástek, nebo pro řezné oleje nebo jako čistící látka pro oděvy jako jsou kabáty a obleky. Dále R113 je v širokém rozsahu používán pro odstranění usazené vody z displejů z tekutých krystalů po jejich promývání vodou, elektronických součástek nebo přesném obrábění strojních součástek. Dále se užívá oplachovací činidlo jako je trichlorethylen k odstranění zbytků ochranných prostředků naazených na membránách. 1,1,1-'xri chlor ethan se také užívá jako čistící činidlo k odstranění leštících činidel usazených při dokončování kovových součástek nebo dekorativních částí za použití leštících prostředků. Dále se 1,1,1-trichlorethan používá při přípravě ochranných prostředků při výrobě tištěných spojů nebo polovodičových spojů a methylenchlorid nebo perchlorethylen se pmužívá pro odstranění zbytků chránícího prostředku po provedeném leptání.
Kromě těchto různých použití bylo u R113 zjištěno, že rozrušuje ozon ve stratosféře, což muže vyvolávat rakovinu kůže. Dále methylenchlorid, trichlorethylen, perchlorethyv len a 1,1,1-trichlorethan pravděpodobně zněoištují spodní vody a požaduje se jejich minimální používáni.
Uvedené nedostatky jsou z převážné části odstraněné
při používání sloučenin podle tohoto vynálezu jako čisticích
rozpouštědel.
F ř e d m é t e m v y n á 10 z u je použití sloučeniny vybrané ze sku
piny zahrnující, sloučeni ny obecného vzorce I
Cn Cl. F CiuCH Cl i' s d c z x y z u:
ve kter >
b + y - 2, nebo když b + y - 1, c + z = O nebo 3, a , b, c, x, y;
3, jako čisticí rozpouštědlo.
čisticí rozpouštědlo obsahuje 10 až ICC % hmotnostních uvedené sloučeniny obecného vzorce I, O až 80 # hmotnostních organického rozpouštědla vybraného ze skupiny zahrnující uhlovodík, alkohol, keton, chlorovaný uhlovodík, ester s aromatickou sloučeninu a O až 10 % hmotnostních povrchově aktivního činidla.
Jako sloučeniny shora uvedeného obecného vzorce I se s výhodou používá CF-.CF/CHC1^ nebo CC1FOCFOCHC1F.
Čisticí rozpouštědle je použitelné pro suché čištění, odmastování, odstraňování leštícího prostředku, jako tekutý čisticí prostředek, oplachovací prostředek nebo jako rozpouštědlo k odstraňování ulpělé vody.
Vynález je dále podrobněji popisován s přihlédnutím k jeho výhodným provedením.
Jako jednotlivé příklady sloučenin shora uvedeného obecného vzorce I lze uvést následující sloučeninv:
~a
O
CO '<
(_ m >.
«V r-< m
N
-<
<-0
ΓΌ í
I
CC^F2CF2CHCť2 (R224ca) CC22FCF2CHC2F(R224cb) C F 3 C F 2 C H C 2 2 ( R 2 2 5 c a)
CC2FzCF2CHC2F(R225cb)
CC2F2CFZCHZC2 ( R 2 3 4 c c )
CHFzCF2CHC2F(R235ca)
CH3CF2CC22F ( R 2 4 3 c c ) CHF 2CF 2CH ZC2 (R 2 4 4 ca) CHZC2CF2CHZC2(R252ca)
CHCQzCFzCHa ( R 2 5 2 c b) CH3CF2CH2C2 ( R 2 6 2 c a ) CHFzCFzCC22F(R225cc)
CHC2FCFzCHC2F(R234ca) CHF2CFZCHC2Z ( R 2 3 4 cb) CH2FCF2CC22F(R234cd) CF3CF2CH2C2 ( R 2 3 5 c b) CC2F2CF2CH2F(R235cc) CHzC2CF2CHC2F(R243ca) CH2FCFzCHC22 ( R 2 4 3 c b) CH2FCF2CHC2F(R244cb)
CC2F2CFzCH3 ( R 2 4 4 c c)
CH z FC F 2 CH z C 2 ( R 2 5 3 ca ) CH3CF2CHC2F(R253cb) CF3CFzCHC2F(R226ca) CCSFiCFzCHFz { R 2 2 6 cb) CCe3CF2CHCS2 ( R 2 2 2 c) CChFCFjCHCh ( R 2 2 3 c a ) CC23CF2CHC2F(R223cb) CChCFjCHFz ( R 2 2 4 c c ) CHC22CF2CHC22 ( R 2 3 2 c a) CC23CF2CH2C2 ( R 2 3 2 c b) CC22FCF2CH2C2(R233cb) CHC2 2 CF2CHC2F (R 2 3 3 ca) CCQ3CF2CH2F(R233cc)
C C 2 3C F 2 CH 3 ( R 2 4 2 c b)
C H C 2 2 C F 2 C H 2 C 2 ( R 2 4 2 c a )
-5Sloučeniny obecného vzorce I podle předloženého vynálezu mohou být použity samotné nebo v kombinaci jako směs dvou nebo více látek. Jsou vhodné jako různá čistící činidla zahrnující čistící látky pro suché čištění, odmašťovací prostředky, čistící prostředky pro odstranění leštidel, činidla pro odstranění tavidel a oplachovací činidla, nebo v
při přípravě ochranných prostředků nebo jako odstraňovače ochranných prostředků nebo jako rozpouštědla pro odstranění usazené vody. íísou také vhodné pro následující různé účely:
Jako rozpouštědla pro extrakci nikotinu obsaženého v tabákových listech nebo pro extrakci farmaceutických substancí ze živočišných nebo rostlinných orgánů, jako ředidlo pro různé chemické látky včetně povrchových ochran, mazadel, vodných a olejových repelentů, povhků pdolných vůči vodě a vlhkosti, leštících a antistatických činidel, k dispergaci nebo rozpuštění těchto látek pro usnadnění jejich aplikace na dané objekty, jako aerosolové rozpouštědlo pro rozpouštění chemického činidla nebo účinné látky rozpuštěné v aerosolu, například povlakové látky, insekticidu, farmaceutika, prostředku proti pocení, deodorantů, vlasových kondicionérů nebo kosmetik, jako izolačních medií pro izolaci a chlazení například v olejových transformátorech nebo plynem izolovaných transformátorech.
Při použití sloučenin podle předloženého vynálezu pro výše uvedené účely je výhodné začlenění dalších sloučenin podle uvažovaných účelů.
Například může být začleněno organické rozpouštěglo jako je uhlovodík, alkohol, keton, chlorovaný uhlovodík, ester
-6nebo aromatická sloučenina, nebo povrchově aktivní látka pro zvýšení Čistícího účinku přx použití jako čistící rozpouštědlo nebo pro zvýšení účinku při jiném použiti. Takové organické rozpouštědlo může týt začleněno obvykle v množství od O do 80 % hmotnostních, výhodně od 0 do 50 % hmotnostních, zvláště výhodně v množství od 10 do 40 % hmotnostních, do prostředku. xovrchově aktivní látka může týt odvykle použita v množství od 0 do 10 % hmotnostních, výhodně od 0,1 do 5 % hmotnostních, zvláště výhodně od 0,2 do 1 % hmotnostního.
Uhlovodíky jsou výhodně lineární nebo cyklické nasycené nebo nenasycené uhlovodíky mající od 1 do 15 atomů uhlíku a jsou obvykle vybrány ze skupiny zahrnující n-pentan, isopentan, n-hexan, isohexan, 2-methylpentan, 2,2-dimethylbutan, 2,3-dimethylbutan, n-heptan, isoheptan, 3-methylhexan,
2,4-dimethylpentan, n-oktan, 2-methylheptan, 3-methylheptan, 4-methylheptan, 2,2-dimethylhexan, 2,5-dimethylhexan, 3,3dimethylhexan, 2-methyl-3-ethylpentan, 3-methyH-ethylpentan, 2,3,3-trimethylpentan, 2:, 3,4-trimethylpentan, 2,2,3trimethylpentan, isooktan, nonan, 2,2,5-trimethylhexan, děkan, ďodekan, 1-penten, 2-penten, 1-hexen, 1-okten, 1-nonen, 1-decen, cyklopentan, methylcyklopentan, cyklohexan, methylcyklohexan, ethylcyklohexan, bicyklohexan, cyklohexen, oč -pinen, dipenten, dekalin, tetralin, amylen a amylnaftalen. ^vláště výhodné jsou n-pentan, n-hexan, cyklohexan a n-heptan.
Alkoholem je výhodně alifatický nebo cyklický nasycený nebo nenasycený alkohol mající od 1 do 17 atomů uhlíku a je
-7obvykle vybrán ze skupiny zahrnující methanol, ethanol, npropylalkohol, isopropylalkohol, n-butylalkohol, sek.butylalkohol, isobutylalkohol, terc.butylalkohol, pentylalkohol, sek.amylalkohol, 1-ethyl-1-propanol, 2-methyl-1-butanol, isopentylalkohol, terc.pentylalkohol, 3-methyl-2-butanol, neopentylalkohol, 1-hexanol-2-methyl-1-pentanol, 4-methyl2-pentanol, 2-ethyl-1-butanol, 1-heptanol, 2-heptanol, 3heptanol, 1-oktanol, 2-oktanol, 2-ethyl-1-hexanol, 1-nonanol,
3, 5,5-trxmethyl-1-hexanol, 1-dekanol, 1-undekanol, 1-dodekanol, allylalkohol, propargylalkohol, benzylalkohol, cyklohexanol, 1-methylcyklohexanol, 2-methylcyklohexanol, 3-methylcyklohexanol, 4-methylcyklohexanol, -terpineol, abietinol, 2,6-dimethyl-4-heptanol, trimethylnonylalkohol, tetradecylalkohol a heptadecylalkohol. Zvláště výhodnými jsou methanol, ethanol a isopropylalkohol.
keton je obvykle představován jedním ze vzorců
R-CO-R*
dý ze substituentů R, R*a R” znamená nasycenou nebo nenasycenou uhlovodíkovou skupinu mající od 1 do S atomů uhlíku a je obvykle vybrán ze skupiny zahrnující aceton, methylethylketon, 2-pentanon, 3- pentanon, 2-hexanon, methyl-n-butylketon, methylbutylketon, 2-heptanon, 4-heptanon, diisobutylketon, acetonitril, aceton, mesityloxid, foron, rcethyl-n-amylketon, ethylbutylketon, methyIhexylketon, cyklohexanon, methylcykiohexanon, isoíoron, 2,4-pentanuion, diacetonalkohol, acetofenon a fenchon. zvláště výhodnými jsou aceton a methylethylketon.
-8Chlorovaným uhlovodíkem je výhodně nasycený nebo nenasycený chlorovaný uhlovodík mající 1 nebo 2 atomy uhlíku a je obvykle volen ze skupiny zahrnující methylenchlorid, chlorid uhličitý, 1,1-dichlorethan, 1,2-dichlorethan, 1,1,1trichlorethan, 1,1,2-trichlorethan, 1,1,1,2-tetrachlorethan, pentachlorethan, 1,1-drchlorethylen, 1,2-dichlorethylen, trichlorethylen a tetrachlorethylen. Zvláště výhodný je methylenchlorid, 1,1,1-tríchlorethan, trichlorethylen a tetrachlorethylen.
povrchově aktivní látka pro rozpouštědlo pro odstranění usazené vody je výhodně vybrána ze skupiny zahrnující polyoxyethylenalkylether, polyoxyethylenpolyoxypropylenalkylether, polyoxyethylenalkylester, polyoxyethylenpolyoxypropylenalkylester, polyoxyethylenalkylfenol, polyoxyethylenpolypropylenalkylfenol, polyoxyethylensorhitanester, polyxyethylenp»ly«xypropylenserbitg>ester,kaprylové kyselinakaprylamin a polyoxyethylenalkylamid. Zvláště výhodné jsou kyselina kaprylová-kaprylamifc a polyoxyethylenalkylamid. dako povrchově aktivná látka pro Čistící prostředek pro suché čištění mohou být použity různé povrchově aktivní látky zahrnující neionogenní, kationogenní, anionogenní a amfoterní povrchově aktivní látky. Je výhodné je volit ze skupiny zahrnující lineární alkylbenzensalfonát, sulfát alkoholu s dlouhým řetězcem, polyoxyethylenethersulfat, polyoxyethylenalkyletherfosfát, polyoxyethylenalkylethersulfát, polyoxyethylenalkylfenyletherfosfát, -olefinsulfonát, alkylsulfosukcinát, polyoxyethylenalkylester, polyoxyethylenalkylallylether, diethanolamidjřimastné kyseliny, polyoxyethylen-9alkylamid, sorbitsnový ester mastné kyseliny, polyoxyethylenester mastné kyseliny, kvartérní amoniová sůl, hydroxysulfobetain, polyoxyethylenlaurylether, polyoxyethylenlaurylether sulfát sonný, dodecylbenzensulfonát sodný, a sulfát sodný vyššího alkoholu. Zvláště výhodné jsou polyoxyethylenlauřylether, polyoxyethylenlaurylether sulfát sodný, dodecyltenzensulfonát sodný a sodný sulfát vyššího alkoholu.
Aromatickou sloučeninu výhodně představuje derivát benzenu nebo naftalenu a je obvykle vybrán ze skupiny zahrnující benzen, toluen, xylen, ethylbenzen, isopropylbenzen, diethylbenzen, sek.butylbenzen, triethylbenzen, diisopropylbenzen, styren, alkylbenzensulfonová kyselina, fenol, mesitylen, naftalen, tetralin, butylbenzen, p-cymen, cyklohexylbenzen, pentylbenzen, dipentylbenzen, dodecylbenzen, bifenyl, o-kresol, m-kresol a xylenol. Zvlášxě výhodné jsou alkylbenzensulfonová kyselina a fenol.
Ester je výhodně představován následujícími vzorci:
í^-COO-Rg Í2 , R.-C-Ra-COO-R., 1 | 5 4’ R1-C-C00R2 , R.j-C00-R2-C0a-R. I
BR5 r5
1. O COO-R. R1-COO-R2
1 i I R(r*“C—Ro /cocr1/2 , 5 | á Rc- Ioo-R,
R1 - CO , 6 I 5 , I a
R<-C-Rx I R4-CCOR5
1 COOR, 4
kde každý ze substituentů Rj» ^2* ^3» ^4* a ^6 znamená
H, Og. nebo nasycenou nebo nenasycenou uhlovodíkovou skupinu mající od 1 do 19 axomů uhlíku, konkrétně je vybrán ze skupiny tahrnující mravenčan methylnatý, mravenčan ethylnatý, mravenčan propylnatý, mravenčan butylnatý, mravenčan isobutylnatý, mravenčan pentylnatý, methylacetát, exhylacetát, propylacetát, isopropylacetát, butylacexát, isobutylacetát, sek.butylacetát, pentylacexát, isopentylacetát, 3-methoxybutylacetát,. sek.hexylacetát, 2-ethylbutylacetát, 2-ethylhexylacetát, cyklohexylacexát, benzylacexát, methylpropionát, exhylpropionát, butylpropionát, isopentyl·propionát, methylbutyrát, exhylbutyrát, butylbutyrát, ísopentylbutyrát, isobutylisobutyrát, ethyl-2-hydroxy-2~methylpropionát, butylstearát, methylbenzoát, ethylbenzoát, propylbenzoát, butylbenzoát, isopentylbenzoát, benzylbenzoát , ethylabiexát, benzylabietát, bis-2-ethylhexyladipát, butyrolakton, diethyloxalát, dibutyloxalát, dipentyloxalát, diethylmalonát,dimethylmaleát, diethylmaleát, dibutylmaleát, dibutyltartrát, tributyleitrat, dibutylsebakát, bis-2-exhylhexylsebakát, dimethylftalát, diethylitalát, dibutylftalát, bis-2-ethylhexylftalát a dioktylftalát, Zvlášxě výhodné jsou methylacexát a ethylacexát.
^hlorfluorovaný uhlovodík jiný než sloučenina vzorce I může být začleněn ke sloučenině podle předloženého vynálezu.
-11Jestliže existuje azeotropie nebo pseudoazeotropie s prostředkem získaným kombinací sloučeniny podle předloženého vynálezu s jinou sloučeninou, je výhodné používám je za azeotropních nebo pseudoazeotropních podmínek tak, že se nebudou měnit v prostředku, jestliže se použije při recyklizaci, nebo se nebudou výrazně měnit pří použití běžné techniky»
Čistící prostředek pro suché čištění podle předloženého vynálezu může obsahovat různé přísady jako je antistatické činidlo, změkčovadlo, činidlo pro odstraňování skvrn, činidlo zpomalující hoření, vodní nebo olejový repelent nebo stabilizátor. Jako stabilizátory se používají různé typy běžně používané pro čistící prostředky pro suché čištění, zahrnující nitroalkany, epoxidy, aminy nebo fenoly.
£ odmašťovacímu činidlu, Činidlu pro odstanění leštidel nebo odstraňovači tavidel mohou být přidány různé Čistící přísady nebo stabilizátory. V případě čistícího prostředku pro odstranění leštidla lze začlenit vodu. okud jde o metodu čištění, může být použito ruční stírání, máčení, postřik, třepání, čištění ultrazvukem, čištění parou ne do jakákoli jiná další vhodná metody.
uestliže je nutné promývací složku stabilizovat, je výhodné použít kombinaci s nitroalkanem jako je nitromethan, nitroethan nebo nitropropan, nebo cyklický ether jako je propylenoxid, 1,2-butyIenoxid, 2,3-butylenoxid, epichlorhydrin, styrenoxid, butylglycidylether, fenylglycidylether, glycidol, 1,4-dioxan, 1,3,5-tnoxan, 1,3-dioxolsn, dimethoxymethan nebo 1,2-dimethoxyethan v množství od 0,0C1 do 5,0 % hmotnostních v prostředku.
Neexistují žádná zvláštní omezení, pokud se jedná ochranný o/povlak ,který je vyvíjen nebo odstraňován postupem podle vynálezu» Ochranný povlak může mít pozitivní nebo negativní odezvu vůči expozici a to jako povlak pro expozici se vzdálenými UV paprsky nebo povlak pro expozici rentgenovým paprskům nebo elektronovým paprskům. Povlaky pro expozici světlu zahrnují fenolové a kresolové novolakové pryskyřice chinondiazidového typu jako základní materiály, kaučuky cyklického typu mající jako hlavní složku cis1,4-polyisopren a polycinnamátového typu» Podobně, povlaky pro expozici vzdáleným ultrafialovým paprskům zahrnují polymethylmethakrylát a polymethylisopropenylketon. Povlaky pro expozici elektronovým paprskům nebo společně s rentgenovými paprsky zahrnují poly/methylmethakrylát/, kopolymer glycidylmethakrylát- ethylakrylát a kopolymer methylmethakrylát- kyselina methylakrylová.
*ro odstranění usazené vody pomocí rozpouštědla podle vynálezu je možno použít postřiku nebo sprchy nebo stírání ♦
v chladné, horké, parní nebo ultrazvukové lázni nebo potírání v kombinaci s těmito lázněmi.
Izolační media podle vynálezu mohou být použita v kombinaci s minerálními oleji typu izolačních medií, s plně halogenovaným uhlovodíkem typu izolačního media nebo se silikonovým olejem typu izolačního media, který se běžně používá v této oblasti. Dále mohou být pro účely stabilizace začleněny stabilizační přísady jako jsou fosforitany, fosfinsulfid nebo glycidylether nebo fenolové nebo aminové antioxidanty nebo kombinace těchto látek.
-13Jále je předložený vynález blíže popsán v následujících příkladech, které jej vsak žádným způsobem neomezují.
Příklady 1-1 az 1-16
-esty čistící schopnosti byly převezeny za použití suchých čistících látek uvedených v tabulce 1. Vlněná látka znečištěná uhlíkem /5x5 cm/, kde znečištění bylo fixováno metodou Yukagaku Kyokai byla umístěna do Scrub-Cmeterjá čistícího stroje a prána při 25 °C po dobu 5 minut přičemž čistící účinky byly měřeny pomocí EIRiPHO fotoelek trického reflekčního přístroje. Výsledky jsou uvedeny v tabulce 1.
/i i- 'i.: * w
Tabulka Příklad 1 č. -14- suchý čistící prostředek čistící účinek
Příklad 1-1 R225ca /100/ ©
příklad 1-2 R225cb /100/ ©
příklad 1-3 R224ca /100/ ©
příklad 1-4 R224cb /100/ ©
příklad 1-5 R235ca /100/ ©
příklad 1-6 R234cc /100/ ©
příklad 1-7 R244ca /100/ ©
příklad 1-8 R243cc /100/ ©
příklad 1-9 R252ca /100/
příklad 1-10 R252cb /100/ ©
příklad 1-11 R262ca /100/ ©
příklad 1-12 R225ca/75//n-heptan/25/ ©
příklad 1-13 R225ca/75//ethanol/25/ ©
příklad 1-14 R22 5ca/75//p erchlorethy- ©
příklad 1-15 len /25/ R225ca/75//aceton /25/ ©
příklad 1-16 R225ca/75//dodecylbenzen- ©
--------------- — ....... ' súlfonátsodný/25/ ------------- —
hodnoty v závorkách vyjadřují poměry /% hmotnostní/.
Hodnocení:
(Q) skvrna uspokojivě odstraněna φ skvrna v podstatě uspokojivě odstraněna skvrna slabě zůstává Σ skvrna v podstatě zůstává
- 1' rri oři:lad 2-7 >16, př •<>1;
z-t =row£ vsci
Testy čištění od řezného oleje tyly pro
M i · \ / OČ Γ3 3 Š Έ O V Θ C í 01*1 f* i Γ; Č Ί. V; V £ Č* £ T ·* O V t £ l· U jL ' £ i ·
Zvážený testovací vzorek SUS-3C4 se poncří do vřetenového leje a potom se zváží. Výsledný testovací vzorek se tor ponoří do odnaštov&cího činidla pro odstraňování vře nov'ho oleje a takto vyčištěný testovací vzorek se znovu zváží. Stupeň vyčištění se stanoví podle následující rovnice. Výsledky jsou uvedené v tatulce 2. « hmotnost ponořeného vzorku před čište
Stupen vyčištění = ním - hmotnost vzorku po vyčištění x 1C hmotnost ponořeného vzorku před čistě ním - hmotnost původního vzorku *
Tabulka 2
Odmaštovací činidla pro od-
y; :1 ,d č. Stupeň vyčištění
stranovaní vřetenového oleje
. . ; K 2-1 R22>ca (100) = cr.
íťk'ad 2-2 P225cb (100) = 90
2-3 rí224ca (100) = 90
v(klad 2-4 R224cb (100) = 90
Příklad 2-5 P235ca (ICO) = 90
Příklad 2-6 R234cc (100) = 90
Srovnávací
příklad 2-7 R244ca (100) 00
Fříklad 2-8 R243cc (100) > =. 90
Příklad 2-9 R252ca (100) = 90
Příklad 2-10 R252cb (ICO) = 90
Příklad 2-11 R262ca (100) = 90
Příklad 2-12 R225ca(75)/n-heptan(25) % 90
Příklad 2-13 R225ca(75)/ethanol(25) = 90
Příklad 2-14 R225ca(75)/aceton(25) = 90
Příklad 2-15 R225ca(75)/trichlorethylene 25) = 90
Příklad 2-16 R225ca(75)/ethylacetát(25) 90
Hodnoty v závorce ( ) znamenají poměr (;.· hmotnostních).
- 1? Příklady 3-1 až 3-16, příklady 3-8 až 3-16 a srovnávací příklad 3-7
Testy odstraňování -leštícího činidla se provádějí za použití čistících činidel uvedených v tabulce 3·
Zvážené pouzdro náramkových hodinek se vyleští leštícím činidlem a vyleštěný testovací vzorek se zváží. Zvážený testovací vzorek se potom ponoří do čistícího činidla pro odstraňování leštícího činidla za působení ultrazvukem. Takto vyčištěný testovací vzorek se potom znovu zváží. Stupeň vyčištění se stanoví podle následující rovnice. Výsledky jsou shrnuté v následující tabulce 3·.
Stupen vyčištění =
ΙΗπιο t nos t leštěného vzorku před čištěním - hmotnost leštěného vzorku po čištění hmotnost leštěného vzorku před čištěním - hmotnost původního vzorku x ICO
Tabulka 3
Příklad
Příklad 3-1 Příklad 3-2 Příklad 3-3 Příklad 3-4 Příklad 3-5 Příklad 3-6
Srovnávací příklad 3-7 Příklad 3-8 Příklad 3-9
Příklad 3-16
> Čisticí činidla pro odstraňování leštícího činidla Stupeň vyčištění
1225ca (ICO) oq
P225cb (ICO) > < Γ > > v
.12 24 ca (100) > oq
H224ch (100) ·> Qfj
l235ca (ICO) 90
2234cc (100) > 90
a 244ca (100) so
1241cc (ICC) 90
R252ca (ICC) >
0 1252cb (ICO) > 90
1 k 262ca (100) 7 90
2 R22?cs(75)/n-hexan(25) > 90
3' H225ca( 75)/ethanol( 25) > 90
4 R225ca(7?)/aceton(25) > 90
5 R225cs.(75)/l,l,lvtrichlor- > 90
e than(25)
6 R225ca( 75)/eth./lacetát(25) > 90
Hodnoty v závorce ( ) znamenají pc-měr (O hmotnostních)
-19Příklady 4-1 až 4-15
Testy k odstranění tavidel byly provedeny za použití činidel odstraňujících tavídla jak je uvedeno v tabulce 4·
Tavidlo /Tamura P-A1-4/, vyrobené Kabushiji Kaisha Tamura ^eisakusho/ bylo naneseno na celý povrch desky tištěného spoje /laminát krytý mědí/ a pak byla tato deska umístě na do elektrické pece na 2 minuty při teplotě 200 °C. ^otom byla deska umístěna do činidla odstaňujícího tavidlo na dobu 1 minuty. Stupeň odstranění favídla je uveden v tabulce 4.
-20£abulka 4
E říklad č· činidlo odstraňujiící tavidlo výsledky čištění
příklad 4-1 R225ca /100/ ©
příklad 4-2 R225cb /100/ ©
příklad 4-5 R224ca /100/ ©
příklad 4-4 R224cb /100/ ©
příklad 4-5 R235ca /100/ ©
příklad 4-6 R234cc /100/ ©
příklad 4-7 R244ca /100/ ©
příklad 4-8 R245cc /100/ ©
příklad 4-9 R252ca /100/ ©
příklad 4-10 R252cb /100/ ©
příklad 4-11 R262ca /100/ ©
příklad 4-12 R225ca/75//n-heptan/25/ ©
příklad 4-15 R225ca/75//methanol/25/ ©
příklad 4-14 R225ca/75//aceton/25/ ©
příklad 4-15 R225ea/75//trichlorethylen/2 5/ ©
Hodnoty v závorkách // znamenají poměry /% hmotnostní/.
Hodnocení:
tavidlo tavičio tavidlo
X tavidlo uspokojivě odstraněno v podstatě uspokojivě odstraněno slabě zůstává v podstatě zůstává
-21Příklady 5-1 až 5-7
Pozitivní ochranný povlak /01PR-8C0, vyrobený Tokyo
T>
Okasha/ nebo negativní povlak /OKR-83, vyrobený Tokyo Okasha/ byl nanesen na silikonovou membránu, následovalo leptání a pak byla silikonová membrána ponořena do roztoku o~ dichlorbenzenového typu odstraňujícího povlak /roztok odstranující povlak-502, vyrobený Tokyo Okasha/ na dobu 10
Λ minut při teplotě 120 °C a pak ponořen do promývacího činidla, jak je uvedeno v tabulce 5 při teplotě 25 °C na dobu 3 minut* Dále byl vzorek ponořen a čištěn ve směsném roz toku IPA/MEK a dále byl povrch sledován za pomoci mikroskopu.
-22í'abulka 5
£ říklad č. promývací činidlo p oměry /% hmotn./ výsledky
příklad Γ ** R22?ca 100 na povrchu nebyly zjištěny žádné jemné částice
příklad R22-:; b 100 na povrchu nebyly zjištěny žádné jemné částice
příklad 5-3 R243co 100 na povrchu nebyly zjištěny žádné jemné částice
příklad 5-4 R244ca 100 na povrchu nebyly zjištěny žádné jemné Částice
příklad 5-5 R262ca 100 na povrchu nebyly zjištěny žádné jemné částice
příklad 5—6 R225ca heptan 90 10 na povrchu nebyly zjištěny žádné jemné částice
přiklaď 5-7 R244ca heptan 90 10 na povrchu nebyly zjištěny žádné jemné částice
-23Příklady 6-1 az 6-16
Syly provedeny testy pro tvorbu ochranných povlaků za použití činidel uvedených v tabulce 6.
^eska tištěného spoje /laminát krytý mědí/ mající fotoresistentní povlak /^aminer vyrobený Dynachem Co./ byla exponovaná tak, aby na ni byly přeneseny předem stanovené obvody a pak zpracována s činidlem vytvářejícím povlak, přičemž byl povrch hodnocen mikroskopicky aby bylo zřejmé* je-li povrch spojů správně vytvořen. Výsledky jsou uvedeny v tabulce 6.
-24Tabulka 6
Příklad č. činidlo vytvářející povlak výsledky hodnocení
příklad 6-1 R225ca /100/ ®
příklad 6-2 R225ch /100/ ©
příklad 6-3 R224ca /100/ ©
příklad 6-4 R224cb /100/ ©
příklad 6-5 R235ca /100/ ©
příklad 6-6 R234cc /100/ ©
příklad 6-7 R244ca /100/ ®
příklad 6-8 R243cc /100/ ©
příklad 6-9 R252ca /100/ ©
příklad 6-10 R252ch /100/ ©
příklad 6-11 R262ca /100/ ©
příklad 6-12 R225ca/75//n-pentan/25/ ®
příklad 6-13 R225ca/75//ethanol/25/ ®
příklad 6-14 R225ca/75//a ceton/25/ ©
příklad. 6-15 R225ca/75//1 ,1ř1-trichlorethan /25/ (o)
příklad 6-16 R225/75//methylacetát/25/ Θ
srovnávací přiklaď
6-1 1*1,1-trichlorethan/100/ O
Hodnoty v závorkách / / představují poměry /% hmotnostní/. Hodnocení:
ζο) uspokojivě vyvinuto © v podstatě uspokojivě vyvinuto
Δ mírně neuspokojivé X neuspokojivé
-25Rříklady 7-1 az 7-17 ,j-'esty odstranění povlaků, byly provedeny za použití c nidel odstraňujících povlaky jak je uvedeno v tabulce 7.
Destička tištěného spoje /laminát krytý mědí s naneseným fotorezistentním filmem /Laminer, vyrobeno ^ynachec. Co·/ byla vystavena expozici, vývoji a leptání pro vytvoření tištěného spoje a pak ponořena do roztoku odstraňujícího povlak při teplotě místnosti na dobu 15 minut· ^estičkj.
pak byla vyjmuta a prozkoumána mikroskopicky za účelem zjištění stavu odstranění filmu» Výsledky jsou uvedeny v tabulce 7.
-26ϊδbulka 7 l-říklad δ» činidlo odstraňující povlak_výsledky
příklad 7-1 R225ca /100/ ®
Příklad 7-2 R225cb /100/ ®
příklad 7-3 R224ca /100/ ©
příklad 7-4 R224cb /100/ ®
. '.klad 7-5 R235ca /100/ Θ
příklad 7-6 R234cc /100/ ®
příklad 7-7 R244ca /100/ ®
příklad 7-8 R243ec /100/ ®
příklad 7-9 R252ca /100/ ©
příklad 7-10 R252cb /100/ ©
příklad 7-11 R262ca /100/ ©
příklad 7-12 R225ca/75//n-pentan/15/ ©
alkylbenzensulfonova kyselina/10/ příklad 7-13 R225ca/75//ethanol/l5/ © alkylbenzensulfonová kyselina/10/ příklad 7-14 R225ca/75//aceton/15/ (δ) fenol/10/ příklad 7-15 R225ca/75//methylenehlorid/15/ © fenol/25/
příklad 7-16 R225ca/75//fenol/25/ ©
příklad 7-17 R225ca/75//methylacetát/25/ ©
srovnávací příklad 7-1 tetrachlorethylen/100/ o
srovnávací
příklad 7-2 o-dichlorbenzen/100/ 0
hodnoty v závorkách / / představují poměry /% hmotnostní/.
Hodnocení:
©P ovlak je usppkojivě odstraněn
O povlak je v podstatě uspokojivě odstraněn
-27lka 7 /pokračování/
A povlak slabě zůstává Σ. povlak v podstatě zůstává i iíklady 8-1 az 8-16
Testy odstranění usazené vody byly provedeny za pouzí tí rozpouštědel pro odstranění usazené vody jak je uvedeno v tabulce 8.
Skleněná destička o rozměrech 30 mm x 18 mm x 5 mm byla ponořena do čisté vody a pak do rozpouštědla pro odstranění usazené vody na dobu 20 sekund, otom byla skleT>
něná destička vyjmuta a ponořena do suchého methanolu, při čemž odstranění usazené vody bylo stanoveno za pomoci stanovení zvýšení obsahu vody. Výsledky jsou uvedeny v tabulce 8.
((Ι^ήΙΛ^Λ,.,,ΙΛ
-28Tabulka 8
Příklad č. rozpouštědla pro oáetraně- účinek odstranění ni usazené vody usazené vody
příklad 8-1 R225ca /100/ Θ
příklad 8-2 R225cb /100/ ©
příklad 8-3 R224ca /100/ ©
příklad 8-4 R224cb /100/ ©
příklad 8-5 R235ca /100/ ©
příklad 8-6 R234cc /100/ ®
příklad 8-7 R244ca /100/ ©
příklad 8-8 R245cc /100/ ©
příklad 8-9 R252ca /100/ ©
příklad 8-10 R252cb /100/ ©
příklad 8-11 8- R262ca /100/ ©
příklad/12 R225ca/75//methanol/25/ ©
příklad 8-13 R225ca/75//aceton/5/ ®
is op r op y la lkoho 1/2 0/ příklad 8-14 R225ca/75//trichlorethylen/5/ Θ ethanol/20/
příklad S-15 R225ca/75//n-heptan/15/ methanol/20/ Θ
příklad 8-16 R225ca/99,5//kaprylamin kaprylová kyselina/0,5/ Θ
^odnoty v závorkách / / představují poměry /% hmotnostní/, hodnocení:
usazená voda je uspokojivě odstraněna usazená voda je v podstatě uspokojivě odstraněna usazená voda slabě zůstává usazená voda v podstatě zůstává
-29“
Iříklady 9-1 9-11 xesty pro extrakci nikotinu obsazeného v listech tabáku byly provedeny za použití extrakčního rozpouštědla /směsí extrakčních rozpouštědel/ podle vynálezu, jak je uvedeno v taoulce 9.
Předem stanovené množství vzorku tabáku /Hilite, obchpd ní produkt/ bylo vneseno do ^oxhlexova extraktoru a refluxováno. za použití extrakčního činidla podle vynálezu po dobu 8 hodin za zahřívání· o reíluxování bylo rozpouštědlo odpařeno do sucha a bylo stanoveno množství extraktu· Výsled ky jsou uvedeny v tabulce 9. Současně byl proveden srovnávací test zá použití methanolu jako extrakčního činidla.
V tomto případě bylo množství extraktu hodnoceno jako 100 a výsledky ostatních testů byly vztaženy na tuto hodnotu, •'ako další srovnávací příklady byly provedeny stejné testy s acetonem a hexanem.
Zbytky z těchto testů po odpaření byly hodnoceny metodou plynové chromátografie za účelem zjištění obsahu nikotinu v každém zbytku.
Tabulka 9 složeni extrakční směsí extrakční poměry
příklad. 9-1 R224ca 150
příklad 9-2. R224cb 150
příklad 9-3 R225ca 140
přiklaď 9-4 R225cb 140
přiklaď 9-5 R234cc 140
přiklaď 9-6 R235ca 150
přiklaď 9-7 R243cc 150
přiklaď 9-8 R244ca 160
přiklaď 9-9 R252ca 160
přiklaď 9-10 R252cb 150
přiklaď 9-11 R262ca 150
příklad 9-1t srovnávací methanol 100
srovnávací příklad
9-2 aceton 90
srovnávací přiklaď hexan 90
9-3
-51Pří klady 10-1 až 10-51
Za použití ředidel uvedených v tabulkách 10-1 až 10-5 bylo hodnoceno použití činidel chránících, před vlhkostí za ložených na bázi polymerů obsahujících polyfluoralkylové skupiny· Přípravky získané ředěním těchto látek byly naneseny na povrch tištěných spojů, vysušeny ve vzduchu tak, aby vznikl povrch chránící proti vlhkosti na povrchu tištěných spojů· Vizuálně byl hodnocen vzhled těchto povljéaků chránících proti vlhkosti·
-32Tabulka 10-1 ředidla vlastnosti vytvořeného filmu
příklad 10-1 R224ca /100/ ©
příklad 10-2 R224cb /100/ ©
příklad 10-3 R225ca /100/ ©
příklad 10-4 R225cb /100/ ©
příklad 10-5 R234cc /100/ ©
příklad 10-6 R235ca /100/ ©
příklad 10-Ϊ R243cc /100/ ©
příklad 10-8 R244ca /100/
příklad 10-9 R252ca /100/ ©
příklad 10-11 R262ca /100/ ©
příklad 10-12 R225ca/75//n-heptan/25/ ©
přikladl 0-13 R225ca/75//ethanol/25/ ©
přikladl 0-14 R225ca/75//aceton/25/ ©
příklad 10-15 R225ca/75//trichlorethylen ©
fvž>t
příklad 10-16 R225ca/75//ethylacexát/25/ ©
Hodnoty v závorkách / / znamenají poměry /% hmotnosxní/.
Hodnoceni:
© výborné © dobré
Λ pozorována slabá nehomogeflita
X v podstatě nehomogenní povrch
-Ύ5Tabulka 10-2
Ředidla vlastnosti vytvořeného *
filmu
příklad 1017 R225cc /100/ Θ
příklad 10-18 R234ca /100/ ©
příklad 10-19 R254cb /100/ ©
příklad 1020 R234cd /100/ ©
příklad 1021 R235cb /100/
příklad 1022 R235cc /100/
příklad 1023 R243ca /100/
příklad 1024 R243cb /100/ Θ
příklad 1025 R244cb /100/ ©
příklad 1026 R244cc /100/ ©
příklad 1027 R253ca /100/ ©
příklad 1028 R253cb /100/ ©
příklad/29 R244cb/75//n-hep tan/2 5/ Θ
příklad 1030 R244cb/75//ethanol/25/ ©
příklad 1031 R244cb/75//aceton/25/ ©
příklad 1032 R244cb/75//trrchlorethylen /25/ ©
příklad 1033 R244cb/75//ethylacetát/25/
Hodnoty v závorkách / / představují poměry /% hmotnostní/»
Hodnocení:
© výborné
O dobré pozorována slabánnehomogenita Σ v podstatě nehomogenní povrch
-54·
Tabulka 10-3
Ředidla vlastně xi vyncře__ného filmu_______
příklad 10-34 R226ca /100/ . -. \ , k· .
příklad 10-35 R226cb /100/ o
přikladl0-36 R222c /100/ ©
příklad 10-37 R223ca /100/ j»*
příklad 10-38 R223cb /100/ ©
příklad 10-39 R224.cc /100/ ©
přikladl 0-40 R252ca /100/ ©
příklad 10-41 R252ch /100/ Θ
příklad 10-42 R235cb /100/ ©
příklad 10-45 R235ca /100/ Θ
příklad 10-44 R235cc /100/ ©
příklad 10-45 R242cb /100/ ©
příklad 10-46 R242ca /100/ ©
příklad 10-47 R22$ca/75//n-heptan/25/ ©
příklad 10-48 R226ca/75//ethanol/25/ ©
příklad 10-49 R226ca/75//a ceton/25/ ©
příklad 10-50 R226ca/75//trichlorethylen/25/ (o)
příklad 10-51 R226ca/75//ethylacetát/25/ ©
Hodnoty v závorkách představují poměry /% hmotnostní/. Hodnocení:
výborné dobré pozorovaná slabá nehomogenita X v podstatě nehomogenní povrch
-35Příklady 11Ů1 až 11-51
Přípravek se získá smísením 3 dílů rcspoustědlové směsi uvedené v tabulkách 11-1 až 11-3, St4 dílů čiscé vody, 0,4 dílů povrchově aktivní látky, 1 ,ó dílu isopropylmyrisxátu, θ,4 dílů talkového prasku, 0,2 dílů χ: srí nu :
dílů propelentu /1,1-díchlor-2,2,2-tri: luorethanr f *
Směs se naplní do aerosolového kontejneru a několikrát se promíchá, přičemž byla vizuálně hodnocena dispersibilita aerosolové směsi. Výsledky jsou uvedeny v tabulkách 11-1 až 11-3.
Složení rozpouštědel di sperzní účinek
příklad 11-1 R224ca /100/ ©
příklad 11-2 R224cb /100/ ©
příklad 11-3 R225ca /100/ Θ
příklad 11-4 R225cb /100/ ©
příklad 11-5 R234cc /100/ ©
příklad 11-6 R235ca /100/ ©
příklad 11-7 R243cc /100/ ©
příklad 11-8 R244ca /100/ ©
příklad 11-9 R252ca /100/ ©
příklad 11-10 R252cb /100/ ©
příklad 11-11 R262ca /100/ ©
příklad 11-12 R225ca/75//n-heptan/25/ ©
příklad 11-13 R225ca/75//ethanol/25/ ©
příklad 11-14 R225ca/75//aceron/25/ ©
příklad 11-15 R225ca/75//tnchlorethylen/25/(o)
příklad 11-1$ R225ca/75//ethylacexát/25/ ©
Hodnoty v závorkách / / představují poměry /% hmotnostní/
Hodnocení:
© homogenně dispergováno
O v podstatě homogenně dispergováno pozorována slabá nehomogenita
X v podstatě nehomogenní
-3ΊTabulka 11—2
Složení rozpouštědel disperzní účinek
příklad 11-17 R225cc /100/ ©
příklad 11-18 R254ca /1C0/ ©
příklad 11-19 R254cb /100/ ®
příklad 11-20 R254cd /100/ ©
příklad 11-21 R255cb /100/ ®
příklad 11-22 R255cc /100/ ©
příklad 11-25 R243ca /100/
příklad 11-24 R-243cb /100/ ©
příklad 11-25 R244cb /100/ ©
příklad 11-26 R244cc /100/ ©
příklad 11-27 R253ca /100/ ©
příklad 11-28 R253cb /100/ ©
přiklaď 11-29 R244cb/75//a-hep tan/2 5/ ©
příklad 11-50 R244eb/75//ethanol/25/ ©
příklad 11-51 R244cb/75//aceton/25/ ©
příklad příklad 11-52 11-35 R244cb/75//trichlorethylen/2 5/ R244cb/75//ethylacetát/25/
Hodnoty v závorkách / / představují poměry /% hmotnostní/
Hodnocení:
ζο) homogenně dispergováno θ v podstatě homogenně dispergováno
A pozorována slabá nehomogenita X v podstatě nehomogenní
-38Tabulka 11-3
Složení rozpouštědel_disperzní účinek
přiklaď 11-34 R226ca /100/
přiklaď 11-35 > R226cb /100/ ©
příklad 11-36 R222C /100/ ©
příklad 11-37 R223ca /100/ ©
příklad 11-38 R223cb /100/ ©
příklad 11-39 R224cc /100/ ©
přiklaď 11-40 R232ca /100/ Θ
přiklaď 11-41 R232cb /100/ ©
příklad 11-42 R233cb /100/ ©
příklad 11-43 R233ca /100/ ©
příklad 11-44 R233cc /100/ ©
přiklaď 11-45 R242cb /100/ ©
přiklaď 11-46 R242ca /100/ ©
příklad 11-47 R226ca/75//n-heptan/25/ ©
přiklaď 11-48 R226ca/75//ethanol/25/ ©
příklad 11-49 R226ca/75//aceton/25/ ©
přiklaď 11-50 R226ca/75//trichlorethylen/25/ ζο)
příklad 11-51 E226ca/75//ethgrlacetát/25/ ©
Hodnoty v závorkách / /představují poměry /% hmotnostní/ Hodnocení:
homogenně dispergováno θ v podstatě homogenně dispergováno
A pozorována slabá nehomogenita
X v podstatě nehomogenní
-39Iříklady 12-1 az 12-11
Mezi nejdůležitější izolační vlastnosti izolačního media patří měrný odpor. Obecně je uznáváno, že medium jako izolační látka je vhodné tehdy, jestliže má měrný odpor nejméně 1.10^ $ cm.
Měrné odpory izolačních medií vytvořených podle vynálezu jsou uvedeny v tabulce 12 přičemž je zřejmé, že hodnoty odporu jsou v souladu s výše uvedenými normami.
-40T . ..'.ka -,2
Izolační medium měrný
příxlad 12-1 R224ca ©
příxlad 12-2 R224cb ©
příklad 12-5 R225ca ©
příklad 12-4 R225cb Θ
příklad, i2-5 R234cc ®
příklad 12-6 R235ca ©
příklad 12-7 R245cc ©
příklad 12-8 R244ca ®
příklad 12-9 R252ca ®
příklad 12-10 R252cb Θ
příklad 12-11 R262ca Θ
(o) směrný odpor nejméně 1.10^11 cm.
-41Hová halogenovaná uhlovodíková rozpouštědla podle vynálezu jsou výborná v tom, že jejich schopnost rozrušovat * ozon je poměrně malá ve srovnání s R113 běžně používaným ja l ko rozpouštědlo a jejich toxicita je menší, než u běžně uží váných chlorovaných uhlovodíků jako je trichlorethylen nebo perchlorethylen, přičemž se nevyskytují žádné podstatné problémy se znečištěním podzemních vod»
Dále tyto látky mají při použití pro různé účely v pod statě stejnou nebo vyšší účinnost ve srovnání s běžným R113 nebo jiným chlorovaným uhlovodíkovým rozpouštědlem·

Claims (4)

  1. PATENTOVÉ NÁROKY
    1. Čistící prostředek vyznačující se tím, že jako účinnou složku obsahuje sloučeniny vybrané ze skupiny zahrnující sloučeniny obecného vzorce I ,
    CHaClbFoCF2CHxClyFz (I) ve kterém a + b + c = 3, x + y + z = 3, a + x 1, b + y á 2, nebo když b + y = 1, c + z = O nebo 3, a 0 έ a, b, c, x, y, z * 3.
    uhlovodíkové skupiny o uhlovodík mající 1 až 2
  2. 2. Čistící prostředek podle nároku 1, vyznačuj ící se tím, že obsahuje 10 až 90 % hmotnostních uvedené sloučeniny obecného vzorce I, 10 až 80 % hmotnostních organického rozpouštědla vybraného ze skupiny zahrnující uhlovodík mající 1 až 15 atomů uhlíku, alkohol mající 1 až 17 atomů uhlíku, keton mající nasycené nebo nenasycené 1 až 9 atomech uhlíku, chlorovaný atomy uhlíku, ester mající nasycenou nebo nenasycenou uhlovodíkovou skupinu o 1 až 19 atomech uhlíku a benzenový nebo naftalenový derivát a/nebo 0.1 až 10 % hmotnostních polyoxyalkylenového, aminového nebo amidového typu povrchově aktivního činidla.
  3. 3. Čistící prostředek podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že sloučeninou obecného vzorce I je CF3CF2CHC1z nebo CCIF2CF2CHCIF. *
  4. 4. Použití čistícího prostředku podle nároku 1 až 3 jako í čistícího prostředku pro suché čištění, jako odmašťovacího prostředku, jako prostředku pro odstraňování leštícího přípravku, jako tekutého čistícího prostředku, oplachovacího prostředku nebo prostředku na odstraňování ulpělé vody.
CS893732A 1988-06-22 1989-06-21 Čisticí prostředek a jeho použití CZ279988B6 (cs)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63152276A JPH0813994B2 (ja) 1988-06-22 1988-06-22 フラツクス洗浄剤
JP63152271A JPH0794678B2 (ja) 1988-06-22 1988-06-22 ドライクリーニング用洗浄剤
JP63152277A JPH024268A (ja) 1988-06-22 1988-06-22 レジスト剥離剤
JP63152274A JPH0824805B2 (ja) 1988-06-22 1988-06-22 付着水除去用溶剤
JP15227388A JPH07107160B2 (ja) 1988-06-22 1988-06-22 脱脂洗浄剤
JP63152272A JPH024266A (ja) 1988-06-22 1988-06-22 レジスト現像剤
JP63152275A JPH01319597A (ja) 1988-06-22 1988-06-22 バフ研磨洗浄剤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CZ373289A3 true CZ373289A3 (en) 1995-04-12
CZ279988B6 CZ279988B6 (cs) 1995-09-13

Family

ID=27566159

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS893732A CZ279988B6 (cs) 1988-06-22 1989-06-21 Čisticí prostředek a jeho použití

Country Status (14)

Country Link
US (1) US5116426A (cs)
EP (2) EP0347924B1 (cs)
KR (1) KR950013923B1 (cs)
CN (1) CN1035116C (cs)
AT (2) ATE187542T1 (cs)
AU (1) AU615309B2 (cs)
CA (1) CA1339150C (cs)
CZ (1) CZ279988B6 (cs)
DE (2) DE68925155T2 (cs)
ES (2) ES2141183T3 (cs)
GR (2) GR3019361T3 (cs)
HU (1) HU207700B (cs)
NO (1) NO176443C (cs)
WO (1) WO1989012674A1 (cs)

Families Citing this family (81)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0374780A1 (en) * 1988-12-20 1990-06-27 Daikin Industries, Limited Solvents containing dichlorotetrafluoropropane
AU623748B2 (en) * 1989-02-01 1992-05-21 Asahi Glass Company Limited Hydrochlorofluorocarbon azeotropic or azeotropic-like mixture
DK0381216T3 (da) * 1989-02-01 1996-05-13 Asahi Glass Co Ltd Azeotrop eller azeotroplignende chlorfluorcarbonhydridblanding
DE69019183D1 (de) * 1989-02-06 1995-06-14 Asahi Glass Co Ltd Azeotrope oder azeotropähnliche Zusammensetzung auf der Basis von Wasserstoff enthaltenden Chlorfluorkohlenwasserstoffen.
US5320683A (en) * 1989-02-06 1994-06-14 Asahi Glass Company Ltd. Azeotropic or azeotropic-like composition of hydrochlorofluoropropane
US4947881A (en) * 1989-02-24 1990-08-14 Allied-Signal Inc. Method of cleaning using hydrochlorofluorocarbons
EP0394992A3 (en) * 1989-04-27 1991-01-09 Daikin Industries, Limited Solvent composition
IE902926A1 (en) * 1989-10-06 1991-04-10 Allied Signal Inc Azeotrope-like compositions of dichloropentafluoropropane¹and 1,2-dichloroethylene
IE66347B1 (en) * 1989-10-06 1995-12-27 Allied Signal Inc Azeotrope-like compositions of dichloropentafluoropropane and a hydrocarbon containing sex carbon atoms
IE64912B1 (en) * 1989-10-06 1995-09-20 Allied Signal Inc Azetrope-like compositions of 1,3-dichloro-1,1,2,2,3-pentafluoropropane and 2-methyl-2-propanol
US5124065A (en) * 1989-10-06 1992-06-23 Allied-Signal Inc. Azeotrope-like compositions of dichloropentafluoropropane and an alkanol having 1-4 carbon atoms
US4988455A (en) * 1989-10-06 1991-01-29 Allied-Signal Inc. Azeotrope-like compositions of 1,1-dichloro-1,2,2-trifluoropropane and alkanol having 1 to 4 carbon atoms
US5116526A (en) * 1989-10-06 1992-05-26 Allied-Signal Inc. Azeotrope-like compositions of dichloropentafluoropropane and 1,2-dichloroethylene
DE4017492A1 (de) * 1989-11-06 1991-12-05 Kali Chemie Ag Reinigungszusammensetzungen aus wasserstoffhaltigen fluorchlorkohlenwasserstoffen und partiell fluorierten alkanolen
US5118437A (en) * 1989-12-21 1992-06-02 Allied-Signal Inc. Azeotrope-like compositions of dichloropentafluoropropane, ethanol and a hydrocarbon containing six carbon atoms
US5116525A (en) * 1990-03-12 1992-05-26 E. I. Du Pont De Nemours And Company Ternary azeotropic compositions of dichloropentafluoropropane and trans-1,2-dichloroethylene with methanol or ethanol or isopropanol
DE4022927A1 (de) * 1990-04-03 1992-01-23 Kali Chemie Ag Zusammensetzungen aus dichlorpentafluorpropanen und aceton
GB9007579D0 (en) * 1990-04-04 1990-05-30 Ici Plc Solvent cleaning of articles
GB9007578D0 (en) * 1990-04-04 1990-05-30 Ici Plc Solvent cleaning of articles
FR2661918B1 (fr) * 1990-05-10 1992-07-17 Atochem Composition nettoyante a base de 1,1,1,2,2-pentafluoro-3,3-dichloro-propane et de methyl tert-butyl ether.
AU7781891A (en) * 1990-06-06 1991-12-31 Allied-Signal Inc. Azeotrope-like compositions of dichloropentafluoropropane, methanol and 1,2-dichloroethylene
WO1991018967A1 (en) * 1990-06-06 1991-12-12 Allied-Signal Inc. Azeotrope-like compositions of dichloropentafluoropropane, ethanol and 1,2-dichloroethylene
US5106526A (en) * 1990-06-06 1992-04-21 Allied-Signal Inc. Azeotrope-like compositions of dichloropentafluoropropane, methanol and a hydrocarbon containing six carbon atoms
US5104565A (en) * 1990-06-25 1992-04-14 Allied-Signal Inc. Azeotrope-like compositions of dichloropentafluoropropane, 2-propanol and a hydrocarbon containing six carbon atoms
US5064559A (en) * 1990-10-11 1991-11-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Binary azeotropic compositions of (CF3 CHFCHFCF2 CF3) with methanol or ethanol or isopropanol
US5064560A (en) * 1990-10-11 1991-11-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Ternary azeotropic compositions of 43-10mee (CF3 CHFCHFCH2 CF.sub.
AU9177891A (en) * 1990-12-18 1992-07-22 Allied-Signal Inc. Azeotrope-like compositions of dichloropentafluoropropane, an alkanol having 1-3 carbon atoms and 2-methyl-2-propanol
US5152845A (en) * 1991-03-18 1992-10-06 Allied-Signal Inc. Method of cleaning using 1-chloro-3,3,3-trifluoropropane
US5158617A (en) * 1991-04-18 1992-10-27 Allied-Signal Inc. Method of cleaning using hydrochlorofluorocarbons having 3 to 5 carbon atoms
DE4124246A1 (de) * 1991-07-22 1993-01-28 Henkel Kgaa Reinigungsmittel fuer elektronische und elektrische baugruppen
US5424002A (en) * 1991-08-26 1995-06-13 Daikin Industries, Ltd. Solvent composition comprising mixture of polyfluoroalkane and lower alcohol
US5264044A (en) * 1991-09-27 1993-11-23 Alliedsignal Inc. Method of cleaning using hydrochlorofluorocarbons having a tertiary structure
US5146015A (en) * 1991-09-27 1992-09-08 Allied-Signal Inc. Hydrochlorofluorocarbons having a tertiary structure and OH rate constants which do not contribute substantially to ozone depletion and global warming
US5250208A (en) * 1992-04-02 1993-10-05 E. I. Du Pont De Nemours And Company Ternary azeotropic compositions
US5304322A (en) * 1992-05-15 1994-04-19 The Boeing Company Cleaning solvent for aircraft hydraulic fluid
JP3619261B2 (ja) * 1993-06-15 2005-02-09 三菱レイヨン株式会社 溶剤組成物
DE19506404C1 (de) * 1995-02-23 1996-03-14 Siemens Ag Verfahren zum Freiätzen (Separieren) und Trocknen mikromechanischer Komponenten
US5849680A (en) * 1996-10-31 1998-12-15 Lucent Technologies Inc. Cleaning with limonene, BHT, and acetylacetonate
US6045588A (en) 1997-04-29 2000-04-04 Whirlpool Corporation Non-aqueous washing apparatus and method
US7534304B2 (en) 1997-04-29 2009-05-19 Whirlpool Corporation Non-aqueous washing machine and methods
US5938856A (en) * 1997-06-13 1999-08-17 International Business Machines Corporation Process of removing flux residue from microelectronic components
JP3661361B2 (ja) * 1997-07-24 2005-06-15 旭硝子株式会社 溶剤組成物
DE10026029B4 (de) * 2000-05-25 2006-03-02 Solvay Fluor Gmbh Verfahren zum Ablösen von Photoresistlacken
US6939837B2 (en) * 2000-06-05 2005-09-06 Procter & Gamble Company Non-immersive method for treating or cleaning fabrics using a siloxane lipophilic fluid
US6691536B2 (en) 2000-06-05 2004-02-17 The Procter & Gamble Company Washing apparatus
US6706076B2 (en) 2000-06-05 2004-03-16 Procter & Gamble Company Process for separating lipophilic fluid containing emulsions with electric coalescence
US6706677B2 (en) 2000-06-05 2004-03-16 Procter & Gamble Company Bleaching in conjunction with a lipophilic fluid cleaning regimen
US6670317B2 (en) 2000-06-05 2003-12-30 Procter & Gamble Company Fabric care compositions and systems for delivering clean, fresh scent in a lipophilic fluid treatment process
US6828292B2 (en) 2000-06-05 2004-12-07 Procter & Gamble Company Domestic fabric article refreshment in integrated cleaning and treatment processes
US6930079B2 (en) * 2000-06-05 2005-08-16 Procter & Gamble Company Process for treating a lipophilic fluid
US6855173B2 (en) 2000-06-05 2005-02-15 Procter & Gamble Company Use of absorbent materials to separate water from lipophilic fluid
US6840069B2 (en) 2000-06-05 2005-01-11 Procter & Gamble Company Systems for controlling a drying cycle in a drying apparatus
US6840963B2 (en) 2000-06-05 2005-01-11 Procter & Gamble Home laundry method
US6673764B2 (en) 2000-06-05 2004-01-06 The Procter & Gamble Company Visual properties for a wash process using a lipophilic fluid based composition containing a colorant
US6564591B2 (en) 2000-07-21 2003-05-20 Procter & Gamble Company Methods and apparatus for particulate removal from fabrics
US7513132B2 (en) 2003-10-31 2009-04-07 Whirlpool Corporation Non-aqueous washing machine with modular construction
US20050112165A1 (en) * 2000-10-02 2005-05-26 Tommy Taylor Insect eradication system
US20050096246A1 (en) 2003-11-04 2005-05-05 Johnson Robert C. Solvent compositions containing chlorofluoroolefins
US20050152936A1 (en) * 2001-10-02 2005-07-14 Tommy Taylor Eradication system for nesting insects
JP4350364B2 (ja) * 2002-12-12 2009-10-21 昭和電工株式会社 洗浄剤組成物、半導体ウェーハの洗浄方法および製造方法
US20050003988A1 (en) * 2003-06-27 2005-01-06 The Procter & Gamble Company Enzyme bleach lipophilic fluid cleaning compositions
US20050003987A1 (en) * 2003-06-27 2005-01-06 The Procter & Gamble Co. Lipophilic fluid cleaning compositions
US7365043B2 (en) * 2003-06-27 2008-04-29 The Procter & Gamble Co. Lipophilic fluid cleaning compositions capable of delivering scent
US7345016B2 (en) * 2003-06-27 2008-03-18 The Procter & Gamble Company Photo bleach lipophilic fluid cleaning compositions
US7739891B2 (en) 2003-10-31 2010-06-22 Whirlpool Corporation Fabric laundering apparatus adapted for using a select rinse fluid
US7695524B2 (en) 2003-10-31 2010-04-13 Whirlpool Corporation Non-aqueous washing machine and methods
US7300468B2 (en) * 2003-10-31 2007-11-27 Whirlpool Patents Company Multifunctioning method utilizing a two phase non-aqueous extraction process
US20050183208A1 (en) * 2004-02-20 2005-08-25 The Procter & Gamble Company Dual mode laundry apparatus and method using the same
US20050224099A1 (en) * 2004-04-13 2005-10-13 Luckman Joel A Method and apparatus for cleaning objects in an automatic cleaning appliance using an oxidizing agent
EP1740757A1 (en) 2004-04-29 2007-01-10 Unilever N.V. Dry cleaning method
US7966684B2 (en) 2005-05-23 2011-06-28 Whirlpool Corporation Methods and apparatus to accelerate the drying of aqueous working fluids
KR101444799B1 (ko) * 2007-12-31 2014-09-29 동원이엠 주식회사 난연성 고리형 탄화수소 세정용제 조성물 및 그 제조방법
US20130220159A1 (en) * 2012-02-28 2013-08-29 Sony Corporation Offset printing blanket cleaning liquid, method of cleaning offset printing blanket, method of manufacturing display unit, method of manufacturing printed material, and ink composition and printing method using the same
CN102977672A (zh) * 2012-09-29 2013-03-20 吴雅萍 一种铝合金表面处理剂
CN102993818A (zh) * 2012-09-29 2013-03-27 蔡丛荣 铝合金表面处理剂
CN105177615A (zh) * 2015-10-30 2015-12-23 深圳市辛骏翔科技有限公司 金属清洗剂
GB2547685A (en) * 2016-02-26 2017-08-30 Reckitt Benckiser Laundry Detergents Composition
US10233410B2 (en) 2017-06-15 2019-03-19 Eastman Chemical Company Minimum boiling azeotrope of n-butyl-3-hydroxybutyrate and n-undecane and application of the azeotrope to solvent cleaning
CN107723725A (zh) * 2017-10-26 2018-02-23 苏州创新达成塑胶模具有限公司 一种金属模具的表面处理工作液
CN112736213B (zh) * 2020-12-18 2022-12-27 重庆莱宝科技有限公司 用于拆解柔性光学器件的溶剂组合物及应用
EP4098729A1 (en) 2021-06-01 2022-12-07 Cipelia Non-flammable, volatile and aqueous cleaning composition

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2462402A (en) * 1945-06-30 1949-02-22 Du Pont Fluorinated hydrocarbons
US3080430A (en) * 1960-01-26 1963-03-05 Du Pont Fluorine-containing compounds
US3336189A (en) * 1966-02-02 1967-08-15 Baxter Laboratories Inc Composition and method of inducing 3, 3, 3-trichloro-1, 1, 2, 2-tetrafluoropropane anesthesia
US3377392A (en) * 1966-02-18 1968-04-09 Squibb & Sons Inc Process for preparing 1, 1, 1, 2, 2-pentafluoro-3-chloropropane and 1, 1, 1, 2, 2-pentafluoro-3-bromopropane
US3381042A (en) * 1967-01-27 1968-04-30 Squibb & Sons Inc Process for preparing halogenated propanes
GB1321375A (en) * 1971-03-03 1973-06-27 Ici Ltd Solvent compositions
IT1140207B (it) * 1981-09-25 1986-09-24 Montedison Spa Composizione a base di solvente fluoroidrocarburico, idonea ad eliminare l'acqua dalla superficie di manufatti
JPS58204100A (ja) * 1982-05-24 1983-11-28 ダイキン工業株式会社 表面清浄化用組成物
FR2527625A1 (fr) * 1982-05-27 1983-12-02 Chloe Chemie Composition a base de fluorochlorohydrocarbure, d'ester phosphorique et d'acide carboxylique
DE3609426C2 (de) * 1986-03-20 1997-04-24 Kali Chemie Ag Lösungsmittelgemische
US4828751A (en) * 1987-08-28 1989-05-09 Pcr, Inc. Solvent composition for cleaning silicon wafers
JPH01156934A (ja) * 1987-09-22 1989-06-20 Daikin Ind Ltd ハロゲン化アルカンの製造方法
EP0374780A1 (en) * 1988-12-20 1990-06-27 Daikin Industries, Limited Solvents containing dichlorotetrafluoropropane
DK0381216T3 (da) * 1989-02-01 1996-05-13 Asahi Glass Co Ltd Azeotrop eller azeotroplignende chlorfluorcarbonhydridblanding
DE69019183D1 (de) * 1989-02-06 1995-06-14 Asahi Glass Co Ltd Azeotrope oder azeotropähnliche Zusammensetzung auf der Basis von Wasserstoff enthaltenden Chlorfluorkohlenwasserstoffen.
US4947881A (en) * 1989-02-24 1990-08-14 Allied-Signal Inc. Method of cleaning using hydrochlorofluorocarbons

Also Published As

Publication number Publication date
ATE131863T1 (de) 1996-01-15
KR950013923B1 (ko) 1995-11-18
NO900824D0 (no) 1990-02-21
DE68929111D1 (de) 2000-01-13
HU207700B (en) 1993-05-28
ATE187542T1 (de) 1999-12-15
ES2141183T3 (es) 2000-03-16
DE68929111T2 (de) 2000-03-23
NO176443B (no) 1994-12-27
HUT56333A (en) 1991-08-28
AU3668589A (en) 1990-01-04
CN1038635A (zh) 1990-01-10
NO176443C (no) 1995-04-05
EP0347924A1 (en) 1989-12-27
US5116426A (en) 1992-05-26
EP0631190A2 (en) 1994-12-28
CZ279988B6 (cs) 1995-09-13
GR3032905T3 (en) 2000-07-31
DE68925155D1 (de) 1996-02-01
AU615309B2 (en) 1991-09-26
KR900701996A (ko) 1990-12-05
EP0347924B1 (en) 1995-12-20
GR3019361T3 (en) 1996-06-30
EP0631190B1 (en) 1999-12-08
WO1989012674A1 (en) 1989-12-28
ES2083368T3 (es) 1996-04-16
NO900824L (no) 1990-04-11
CA1339150C (en) 1997-07-29
CN1035116C (zh) 1997-06-11
EP0631190A3 (en) 1995-11-22
DE68925155T2 (de) 1996-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CZ373289A3 (en) Cleansing agent and use thereof
US5302313A (en) Halogenated hydrocarbon solvents
US5271775A (en) Methods for treating substrates by applying a halogenated hydrocarbon thereto
DE60311093T2 (de) Reinigungsmittel mit dichlorethylen und durch alkoxy substituierten perfluorverbindungen mit insgesamt sechs kohlenstoffatomen
DE60305759T2 (de) Lösungsmittelzusammensetzung
JP4556669B2 (ja) 溶剤組成物
US10829722B2 (en) Azeotrope-like composition
TWI661042B (zh) 含氟化界面活性劑之組成物及相關程序
JP4755987B2 (ja) フッ素化炭化水素と第二ブタノールとを基剤とする電子基板デフラクシング組成物
JP3560269B2 (ja) 非引火性工業用洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法
JP4292348B2 (ja) パーフルオロブチルメチルエーテル含有共沸様組成物
JPH10324652A (ja) 含フッ素エーテルと塩素系有機溶剤からなる共沸及び共沸様組成物
JPH04224899A (ja) フルオロ炭化水素とアセトンとからなる共沸混合物様組成物、清浄剤、溶剤、表面の清浄化法、及びトナーの定着法
JPH0551597A (ja) 共沸溶剤組成物
JP3556793B2 (ja) 非引火性工業用洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法
JPH05148498A (ja) デカフルオロペンタンを含む溶剤組成物
JP2003327999A (ja) 溶剤組成物
DD289556A5 (de) Loesungsmittel
RU1838449C (ru) Обезжиривающее средство, очищающее средство, средство дл удалени полировочного состава, средство дл удалени флюса, средство дл удалени остаточной воды, средство дл удалени резиста и средство дл про влени резиста
JP2005281326A (ja) 溶剤組成物
JPH04234497A (ja) 清浄化組成物、および清浄化および水分離の方法
JPH0649492A (ja) 洗浄溶剤の組成物
JPH02202598A (ja) フラックス洗浄剤
JP2005307221A (ja) 溶剤組成物
JPH09111295A (ja) 擬共沸溶剤組成物

Legal Events

Date Code Title Description
IF00 In force as of 2000-06-30 in czech republic
MM4A Patent lapsed due to non-payment of fee

Effective date: 20040621